JP3463236B2 - 直動機構 - Google Patents

直動機構

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JP3463236B2
JP3463236B2 JP36515498A JP36515498A JP3463236B2 JP 3463236 B2 JP3463236 B2 JP 3463236B2 JP 36515498 A JP36515498 A JP 36515498A JP 36515498 A JP36515498 A JP 36515498A JP 3463236 B2 JP3463236 B2 JP 3463236B2
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一敬 原
雅彦 堀内
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、直動機構に関し、
特に、真空容器内で処理対象物を所定方向に移動させる
ための直動機構に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザアニーリングは、加工対象物を真
空容器内に導入して、真空容器内を真空または低圧ガス
雰囲気とした上で、真空容器に設けられた石英窓等から
加工対象物にレーザ光を照射して、加工対象物のアニー
リングを行う技術である。このようなレーザアニーリン
グを、加工対象物の表面の広い範囲にわたって行うため
には、真空容器内で加工対象物を移動させるための手段
が必須である。
【0003】従来から上記のような加工対象物の移動を
実現するものとして、直動機構が有る。従来の直動機構
は、2本のリニアガイドによって、一軸方向に移動可能
に保持された、加工対象物を保持するための保持台と、
一端が保持台に固定されるとともに他端が真空容器外に
導出された駆動軸と、駆動軸と真空容器との間の機密を
保持するベローズとを有している。
【0004】従来の直動機構では、駆動軸を駆動するこ
とにより、保持台をリニアガイドに沿った方向に移動さ
せることができる。つまり、保持台に保持された加工対
象物を、保持台を移動させることにより、リニアガイド
に沿った方向に移動させることができる。これにより、
加工対象物の広範囲にわたる加工が可能になる。
【0005】ところで、レーザアニーリングを安定して
行うためには、加工対象物を加熱する必要が生じる場合
がある。このような場合に対応するため、従来の直動機
構の保持台には、ヒータが埋め込まれている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
直動機構では、ヒータを使用して保持台を加熱した場合
に、保持台及びリニアガイドに熱歪みが発生し、保持台
の耐久性及び信頼性に重大な悪影響を与えるという問題
点がある。
【0007】また、保持台とリニアガイドの摺動によ
り、保持台及びリニアガイドの一方または両方が削ら
れ、摩耗屑が発生し、真空容器内をクリーンな雰囲気に
維持できないという問題点も有る。
【0008】さらに、従来の直動機構は、保持台を微小
回転(表面に対して垂直な軸(以下、θ軸という)に平
行な軸を回転軸とする回転)させる回転機構を組み込み
ことができず、真空容器外に設置した回転機構では、高
精度の回転制御を実現できないという問題点がある。
【0009】本発明は、リニアガイドを持たず、高速高
精度で長寿命で、また、保持台のθ軸に関する微小回動
が高精度で可能な、直動機構を提供することを目的とす
る。
【0010】
【0011】
【課題を解決するための手段】 本発明によれば、互いに
平行に配置された2本の駆動用ロッドと、該2本の駆動
用ロッドを互いに独立してその延在方向に駆動できる駆
動手段と、前記2本の駆動用ロッドの各々に対し、前記
延在方向に平行な面内で回動可能に保持された保持台と
を備え、前記駆動手段が、 前記2本の駆動用ロッドの端
部にそれぞれ設けられる4台のリニアモータであること
を特徴とする直動機構が得られる
【0012】また、本発明によれば、互いに平行に配置
された2本の駆動用ロッドと、該2本の駆動用ロッドを
互いに独立してその延在方向に駆動できる駆動手段と、
前記2本の駆動用ロッドの各々に対し、前記延在方向に
平行な面内で回動可能に保持された保持台とを備え、
記保持台、当該保持台を回動可能に前記2本の駆動用
ロッドにそれぞれ固定する1対の第1の保持部材と、前
記2本の駆動用ロッドにそれぞれ固定され、前記保持台
を載置する一対の第2の保持部材とによって、前記2本
の駆動用ロッドの各々に対し、前記延在方向に平行な面
内で回動可能に保持されていることを特徴とする直動機
構が得られる。
【0013】また、本発明によれば、前記2本の駆動用
ロッドが、真空容器を貫通して配置され、前記保持台
が、前記真空容器の内部に位置するように配置されてい
ることを特徴とする直動機構が得られる。
【0014】前記真空容器の気密は、前記駆動用ロッド
の端部にプレートを固定し、前記真空容器と前記プレー
トの間にベローズを配設することにより実現できる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。
【0016】図1(a)及び(b)に、本発明の一実施
の形態による直動機構を、レーザ加工装置に適用した例
を示す。ここで、図1(a)は、図1(b)におけるA
1−A1線断面図であり、図1(b)は、図1(a)お
けるB1-B1線断面図である。
【0017】図1(a)及び(b)に示すように、本実
施の形態による直動機構は、レーザ加工装置の真空容器
11を貫通して、両端部を真空容器11の外部に位置さ
せる、互いに平行に配置された駆動用ロッド12a及び
12bと、駆動用ロッド12a及び12bの端部または
端部付近にそれぞれ固定された4個のプレート13と、
各プレート13を駆動用ロッド12a及び12bの延在
方向に直線移動させる4台のリニアモータ14と、真空
容器11の機密を確保するために真空容器11の外壁と
各プレート13との間に配設されたベローズ15とを有
している。
【0018】4台のリニアモータ14のうち、駆動用ロ
ッド12a及び12bの一方の端部付近(図1の右側)
に設けられた2台のリニアモータには、駆動用ロッド1
2a及び12bの位置をそれぞれ検出するためのリニア
エンコーダ16が設けられている。4台のリニアモータ
14は、駆動用ロッド12aと12bとを、それぞれ駆
動する2組に分けられ、互いに独立して動作させること
が可能である。
【0019】2本の駆動用ロッド12a及び12bに
は、真空容器内11において、加工対象物を保持するた
めの保持台17が固定されている。その保持台17の表
面には、複数のピン18が突出しており、これらのピン
の上に、例えばガラス板のような加工対象物19が載置
される。なお、保持台17の内部には、ヒータ20が設
けられている。
【0020】以上の構成において、この直動機構は、通
常の動作では、4台のリニアモータ14が、各プレート
13を並進させるように動作する。つまり、4台のリニ
アモータが協動して駆動用ロッド12aと12bとを同
一方向に、同一量だけ移動させるように動作する。これ
により、保持台17は、駆動用ロッド12a及び12b
の延在方向に直線的に移動し、石英窓21から入射する
レーザ光を、加工対象物の表面に広範囲にわたり照射さ
せることができる。ここで、真空容器11内には、摺動
部のようにクリーン度を低下させるような機械要素がな
いので、高速で高精度、しかも長寿命を実現することが
できる。
【0021】さて、本実施の形態による緒駆動機構で
は、上述したように、駆動用ロッド12aと12bと
を、互いに独立して動作させることができるように構成
されている。従って、これらの駆動用ロッド12a及び
12bへの保持台17の固定方法に工夫を加えること
で、保持台17を、θ軸に平行な軸を回転の中心として
微小回転させることができる。図2を参照して、保持台
17の駆動用ロッド12a及び12bへの固定方法を説
明する。
【0022】図2(a)及び(b)に示すように、駆動
用ロッド12a及び12bには、それぞれ保持台17を
固定するための保持部材25a,25bが固定されてい
る。
【0023】保持部材25aは、図2(c)に示すよう
に、上部材26と下部材27とを有し、これらで駆動用
ロッド12a,12bを挟み込むとともに、これらを互
いにネジにより締結することにより、駆動用ロッド12
a,12bに固定される。上部材26の上面には、固体
潤滑されたセラミックボール28が取り付けられてお
り、保持台17は、このセラミックボール28の上に載
置される。つまり、保持部材25aは、駆動用ロッド1
2a,12bには固定されるが、保持台17を駆動用ロ
ッド12a,12bに固定するものではない。
【0024】一方、保持部材25bは、図2(d)に示
すように、上部材29と、下部材30と、回動支持部材
31とを有している。上部材29及び下部材30は、保
持部材25aの場合と同様、駆動用ロッド12a,12
bを挟み、ネジにより互いに締結されている。そして、
下部材30は、回動支持部材31により、θ軸に平行な
軸を回転軸として回動可能に保持されている。
【0025】保持部材25bの拡大図(一部断面図)を
図3に示す。図3に示すように、回動支持部材31は、
真空用軸受け32を有し、下部材30に固定された回動
軸33を保持している。これにより、保持部材25bの
上部材29及び下部材30は、θ軸を回転軸として回転
可能となっている。
【0026】以上のように、保持部材25a及び25b
を用いて保持台17を保持させ、2組のリニアモータを
互いに逆方向に(あるいは、一方の組のみ)駆動する
と、保持台17は、θ軸と平行な軸を回転軸としてわず
かに回転する。この場合において、保持台17の回転角
度は、リニアモータに取り付けられているリニアエンコ
ーダを用いて、各駆動用ロッドの位置を検出することで
求められる。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、2本の駆動用ロッドに
駆動手段を設け、さらに、支持台をこれらの駆動用ロッ
ドに取り付けるようにしたことで、支持台の加熱による
影響がなく、また、支持台の移動に伴う摩耗屑の発生が
なく、高速高精度、クリーンな状態でレーザアニール等
の処理を行うことができる。
【0028】また、本発明によれば、2本の駆動用ロッ
ドを互いに独立して駆動できるようにするとともに、支
持台を2本の駆動用ロッドに対して回動可能に保持させ
るようにしたことで、特別な回転機構を設けることな
く、支持台を微小回転させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す概略図である。
【図2】図1の直動機構における保持台17及び保持部
材25a,25bを説明するための、(a)は、平面
図、(b)は、正面図、(c)は、(a)のC1−C1
線断面図、及び(d)は、(a)のD1−D1線断面図
である。
【図3】図2の保持部材25bの拡大図である。
【符号の説明】
11 真空容器 12 駆動用ロッド 13 プレート 14 リニアモータ 15 ベローズ 16 リニアエンコーダ 17 保持台 18 ピン 19 加工対象物 20 ヒータ 21 石英窓 25a,25b 保持部材 26 上部材 27 下部材 28 セラミックボール 29 上部材 30 下部材 31 回動支持部材 32 真空用軸受け 33 回動軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−216138(JP,A) 特開 昭61−267245(JP,A) 特開 平9−123034(JP,A) 特開 平8−211173(JP,A) 特開2001−62682(JP,A) 特開 平10−277379(JP,A) 特開 平2−105094(JP,A) 実開 昭62−25325(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16H 21/00 - 21/44 B23Q 5/00 - 5/58 B23Q 1/00 - 1/30 G12B 1/00 - 17/08 H01L 21/268

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに平行に配置された2本の駆動用ロ
    ッドと、該2本の駆動用ロッドを互いに独立してその延
    在方向に駆動できる駆動手段と、前記2本の駆動用ロッ
    ドの各々に対し、前記延在方向に平行な面内で回動可能
    に保持された保持台とを備え、 前記駆動手段が、前記2本の駆動用ロッドの端部にそれ
    ぞれ設けられる4台のリニアモータであることを特徴と
    する直動機構
  2. 【請求項2】 互いに平行に配置された2本の駆動用ロ
    ッドと、該2本の駆動用ロッドを互いに独立してその延
    在方向に駆動できる駆動手段と、前記2本の駆動用ロッ
    ドの各々に対し、前記延在方向に平行な面内で回動可能
    に保持された保持台とを備え、 前記保持台が、当該保持台を回動可能に前記2本の駆動
    用ロッドにそれぞれ固定する1対の第1の保持部材と、
    前記2本の駆動用ロッドにそれぞれ固定され、前記保持
    台を載置する一対の第2の保持部材とによって、前記2
    本の駆動用ロッドの各々に対し、前記延在方向に平行な
    面内で回動可能に保持されていることを特徴とする直動
    機構
  3. 【請求項3】 前記2本の駆動用ロッドが、真空容器を
    貫通して配置され、前記保持台が、前記真空容器の内部
    に位置するように配置されていることを特徴とする請求
    1または2の直動機構。
  4. 【請求項4】 前記駆動用ロッドの端部にプレートが固
    定されており、前記真空容器と前記プレートの間にベロ
    ーズを配設して、前記真空容器の気密を維持するように
    したことを特徴とする請求項の直動機構。
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