JP3457288B2 - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネル及びその製造方法

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JP3457288B2
JP3457288B2 JP2001088923A JP2001088923A JP3457288B2 JP 3457288 B2 JP3457288 B2 JP 3457288B2 JP 2001088923 A JP2001088923 A JP 2001088923A JP 2001088923 A JP2001088923 A JP 2001088923A JP 3457288 B2 JP3457288 B2 JP 3457288B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(以下、P
DPと記載する)は、小さい奥行きで大画面を実現する
ことが可能なディスプレイとして注目されており、大別
して直流型(DC型)と交流型(AC型)とに分けられ
るが、現在ではAC型が主流となっている。
【0003】図4は、一般的な交流型のPDPの一例を
示す概略断面図である。本図において、41は前面ガラ
ス基板(フロントカバープレート)であって、この前面
ガラス基板41の表面上に表示電極42が形成され、そ
の上から、誘電体ガラス層43及び酸化マグネシウム
(MgO)誘電体保護層44がコートされている。
【0004】また、45は背面ガラス基板(バックプレ
ート)であって、この背面ガラス基板45の表面上に
は、アドレス電極46および隔壁47、蛍光体層50〜
52が設けられている。この蛍光体層50〜52は、カ
ラー表示のために、赤50,緑51,青52の3色の蛍
光体層が順に配置されている。前面ガラス基板41と背
面ガラス基板45とは、電極42,46どうしが対向す
るように配されて封着されており、隔壁47間には放電
ガスが封入されて放電空間49が形成されている。
【0005】各放電空間49では、表示電極42間の放
電によって波長の短い紫外線(波長147nm)を発生
し、各蛍光体層50〜52を励起発光させることによっ
て、赤,緑,青の各色を発光するようになっている。こ
のようなPDPにおいて、蛍光体層は、紫外線で励起発
光する蛍光体粒子を含むインキやシートをパネル基板上
に配設し、その後、500℃前後で焼成し、インキやシ
ート中に存在する有機バインダー成分を焼失させる工程
を通して形成される。各色の蛍光体粒子としては、母体
材料を構成する金属元素が部分的にEuやMnなどの付
活剤で置換された構造のものが多く用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
焼成プロセスにおいて、蛍光体層を形成する蛍光体粒子
は熱変化を起こし、蛍光体層の輝度や色度が劣化するこ
とが知られている。特に、付活剤としてEu2+イオンを
含む青色蛍光体は、焼成による輝度や発光色度の劣化が
顕著である。
【0007】このような問題に対して、蛍光体の熱劣化
を改善する工夫もなされている。例えば、光技術コンタ
クトVol.34 No.1(1996)P.23〜2
4には、従来からBaMgAl14O23:Eu2+が優れた
青色蛍光体として知られていたが、パネル動作中の劣化
と色度変化が問題となっていたことや、この点を改善す
るものとしてBaMgAl1017:Eu2+が開発され、
パネル製作時の焼成による輝度劣化も改善されたことが
記載されている。
【0008】しかしながら、ディスプレイの高品位化へ
の要求が高まる中で、PDPにおいても、輝度や画質を
向上させるために、更に蛍光体層の輝度や色度の劣化を
抑えて、発光強度(輝度を色度のy値で割った値)を向
上させる技術が望まれている。本発明は、このような背
景のもとになされたものであって、輝度や発光強度の良
好な蛍光体層の形成を可能とし、PDP等の高輝度化や
高画質化を実現することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、PDPにおいて、母体材料中の置換対象
の元素がEu2+イオンで置換された蛍光体材料、特に組
成式がBaMgAl10 17:Eu2+またはBaMgAl
1423:Eu2+で表される蛍光体を用い、置換対象の元
素(Ba)に対するEu2+イオンの置換量を8at%以
下(好ましくは1〜6at%)に設定した。
【0010】組成式がBaMgAl1017:Eu2+で表
される蛍光体をはじめとして、母体材料中の置換対象の
元素が付活剤としてのEu2+イオンで置換された構造の
青色蛍光体材料において、従来は、置換対象の元素に対
するEu2+イオンの置換量が10〜15at%のものが
用いられてきたが、上記本発明の蛍光体材料を用いて蛍
光体層を形成することによって、従来よりも輝度並びに
発光強度を向上させることができる。そして、このよう
な蛍光体材料を青色蛍光体材料として用いると、PDP
の画質及び輝度を向上が可能となる。
【0011】これは、PDPを作製する際に、蛍光体材
料を塗布した後、焼成してバインダを焼失させて蛍光体
層を形成するが、その後パネルを封着する工程でも焼成
がなされるので、蛍光体材料は2度以上焼成にさらされ
ることになり、このような条件下では、Eu2+イオンの
置換量を上記のように従来より小さい範囲に設定してお
く方が、高輝度及び高発光強度が得られるためである。
【0012】
【発明の実施の形態】先ず、本発明の概要を説明する。
上述したように、PDPの蛍光体層には、母体材料を構
成する金属元素が部分的に付活剤で置換された構造の蛍
光体材料が多く用いられている。例えば、BaMgAl
1017:Eu2+で表される青色蛍光体材料においては、
母体材料であるBaMgAl1017を構成するBa元素
がEu2+イオンで置換された構造となっている。
【0013】従来、このようなタイプの青色蛍光体材料
において、上記したとおり、置換対象の元素(Ba)に
対するEu2+イオンの置換量が10〜15at%程度に
設定されていたが、その理由は以下のように考察され
る。蛍光体層は、基本的に、蛍光体材料からなる粒子を
バインダと混合して塗布し、その後、500℃前後で焼
成を行いバインダを焼失させるという工程を通して行わ
れる。
【0014】ここで、BaMgAl1017:Eu2+のよ
うな蛍光体材料においては、Eu2+イオンの置換量を大
きく設定するほど、蛍光体材料の初期の輝度は向上する
一方、耐熱性が低下するため焼成に伴う蛍光体の輝度や
発光強度の低下が大きくなる傾向があるので、この点を
考慮した上で、焼成後の蛍光体層の輝度及び発光強度が
優れた値をとるように、Eu2+イオンの置換量が上記範
囲(10〜15at%)に設定されていたものと考えら
れる。
【0015】ところで、実際にPDPを作製する際に
は、蛍光体層を形成した後に、前面パネルと背面パネル
と封着するために通常400℃程度の温度で焼成が行わ
れる。即ち、蛍光体層の蛍光体は、2度焼成にさらされ
ることになる。従来は、この封着時の焼成は、蛍光体層
を形成するときの焼成温度(500℃前後)と比べると
かなり低い温度でなされるので、蛍光体にあまり影響を
及ぼないと考えられていたが、本発明者等は、この2度
目の焼成によっても蛍光体層の発光強度にかなり影響が
及ぶことを発見した。
【0016】そして、このように2度にわたって蛍光体
材料が焼成にさらされる場合には、蛍光体材料のEu.
2+イオンの置換量を従来より低い8at%以下に設定し
たものを用いる方が、蛍光体層の輝度及び発光強度が優
れ、特にEu2+イオンの置換量を1〜6at%の範囲に
設定することが好ましいことがわかった。以下、本発明
の実施の形態について説明する。
【0017】図1は、本発明の一実施形態にかかる交流
面放電型PDPの概略を示す断面図である。図1ではセ
ルが1つだけ示されているが、赤,緑,青の各色を発光
するセルが多数配列されてPDPが構成されている。こ
のPDPは、前面ガラス基板(フロントカバープレー
ト)11上に表示電極12と誘電体ガラス層13、保護
層14が配された前面パネルと、背面ガラス基板(バッ
クプレート)15上にアドレス電極16、可視光反射層
17、隔壁18および蛍光体層19が配された背面パネ
ルとが貼り合わせられ、前面パネルと背面パネルとの間
に形成される放電空間内に放電ガスが封入された構成と
なっており、以下に示すように作製される。
【0018】(前面パネルの作製)前面パネルは、前面
ガラス基板11上に表示電極12を形成し、その上を鉛
系の誘電体ガラス層13で覆い、更に誘電体ガラス層1
3の表面に保護層14を形成することによって作製す
る。本実施の形態では、表示電極12は銀電極であっ
て、銀電極用のペーストをスクリーン印刷で塗布した後
に焼成する方法で形成する。
【0019】また、誘電体ガラス層13は、鉛系のガラ
ス材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布し焼成
することによって形成する。ガラス材料の組成は、例え
ば、酸化鉛[PbO]70重量%,酸化硼素[B23
15重量%,酸化硅素[SiO2]15重量%とする。次
に、上記の誘電体ガラス層13上に、CVD法(化学蒸
着法)で酸化マグネシウム(MgO)の保護層14を形
成する。
【0020】(背面パネルの作製)背面ガラス基板15
上に、銀電極用のペーストをスクリーン印刷しその後焼
成する方法によってアドレス電極16を形成し、その上
に、TiO2粒子と誘電体ガラス粒子とを含むペーストを
スクリーン印刷法で塗布して焼成することによって可視
光反射層17を形成し、同じくガラス粒子を含むペース
トをスクリーン印刷法を用いて所定のピッチで繰返し塗
布した後、焼成することによって隔壁18を形成する。
【0021】そして、隔壁18に挟まれた各空間内に、
赤色蛍光体,緑色蛍光体,青色蛍光体の中の1つをバイ
ンダと共に配設し、空気中で焼成してバインダを焼失さ
せることによって、蛍光体粒子が膜状に結着してなる蛍
光体層19を形成する。この蛍光体層19の形成方法お
よび用いる蛍光体材料については後で詳述する。尚、本
実施の形態では、40インチクラスのハイビジョンテレ
ビに合わせて、誘電体ガラス層13の膜厚は約20μ
m、保護層14の膜厚は1.0μm程度とする。また、
隔壁18の高さは0.1〜0.15mm、隔壁ピッチは
0.15〜0.3mm、蛍光体層19の膜厚は5〜50
μmとする。
【0022】(パネル張り合わせによるPDPの作製)
次に、このように作製した前面パネルと背面パネルと
を、前面パネルの表示電極と背面パネルのアドレス電極
とが直交するように重ね合わせると共に、封着用ガラス
を介挿させ、450℃前後で10〜20分間焼成して封
着する。そして、一旦パネル内部のガスを抜くために、
パネル内を高真空(8×10-7Torr)に排気しなが
らパネルを焼成する(例えば、350℃程度で1時
間)。そして、放電ガスを封入することによってPDP
が作製される。
【0023】なお、本実施の形態で用いる放電ガスは、
Ne−Xe系で、Xeの含有量は5体積%とし、封入圧
力は500〜800Torrの範囲に設定する。 (蛍光体層の形成方法及び用いる蛍光体について)図2
は蛍光体層19を形成する際に用いるインキ塗布装置2
0の概略構成図である。図2に示されるように、インキ
塗布装置20において、サーバ21には蛍光体インキが
貯えられており、加圧ポンプ22は、このインキを加圧
してヘッダ23に供給する。ヘッダ23には、インキ室
23aおよびノズル24が設けられており、加圧されて
インキ室23aに供給されたインキは、ノズル24から
連続的に噴射されるようになっている。
【0024】また、ヘッダ23は、背面ガラス基板15
上を走査されるようになっている。このヘッダ23の走
査は、本実施の形態ではヘッダ23を直線駆動するヘッ
ダ走査機構(不図示)によってなされるが、ヘッダ23
を固定して背面ガラス基板15を直線駆動してもよい。
ヘッダ23を走査しながら、ノズル24からインキを連
続的なインキ流25(ジェットライン)を形成するよう
に噴射することによって、背面ガラス基板15上の隔壁
18と隔壁18の間に、蛍光体インキが均一的に塗布さ
れる。
【0025】ここで用いる蛍光体インキは、各色蛍光体
粒子と有機バインダーと溶剤とが混合され適度な粘度
(25℃で10〜1000センチポアズ)となるように
調合されたものであり、必要に応じて、更に界面活性
剤,シリカ等を添加混合してもよい。赤色蛍光体として
は、例えば、 YBO3:Eu3+や(YaGd1-a)B
3:Eu3+を挙げることができる。
【0026】YBO3:Eu3+は、母体材料であるYB
3を構成するY元素がEu3+で置換された構造であ
り、(YaGd1-a)BO3:Eu3+は、母体材料である
(YaGd 1-a)BO3を構成するY元素及びGd元素が
Eu3+で置換された構造である。緑色蛍光体としては、
例えば、Zn2SiO4:Mn2+やBaAl1219:Mn
2+を挙げることができる。
【0027】Zn2SiO4:Mn2+は、母体材料である
Zn2SiO4を構成するZn元素がMn2+イオンで置換
された構造であり、BaAl1219:Mn2+は、母体材
料であるBaAl1219を構成するBa元素がMn2+
置換された構造である。これらの赤色,緑色蛍光体は、
PDPにおいて一般的に用いられているものをそのまま
用いる。
【0028】一方、青色蛍光体としては、BaMgAl
1017:Eu2+で表わされるものを用いる。母体材料で
あるBaMgAl1017を構成するBa元素に対するE
2+の置換量が10〜15%程度のものはPDPにおい
ても既に用いられているが、本実施の形態では、Ba元
素に対するEu2+の置換量が、従来よりも低い8at%
以下に設定されたものを用いる。
【0029】これらの赤,緑,青の各色蛍光体は、平均
粒径1〜7μmの粒子状のものを用いる。バインダとし
ては、エチルセルローズやアクリル樹脂を用い(インキ
の0.1〜10重量%)、溶剤としてターピネオール
(C1018O)を用いることが好ましい。また、これ以
外にも、バインダーとしてはPMMAやポリビニルアル
コールなどの高分子を、溶剤としてはジエチレングリコ
ールメチルエーテルなどの有機溶剤や水を用いる事がで
きる。
【0030】このようにして、赤,青,緑の各色蛍光体
を配設した後、背面ガラス基板15を焼成炉に入れて、
500℃前後の温度で10〜20分間焼成する。この焼
成によって、蛍光体インキ,ペーストに含まれる有機バ
インダあるいはシートの樹脂が焼失し、蛍光体粒子が膜
状に結着してなる蛍光体層19が形成される。
【0031】なお、ここでは、蛍光体インキをノズルか
ら吐出させながら走査する方法で蛍光体を配設したが、
これ以外に、蛍光体ペーストをスクリーン印刷法で塗布
する方法でも蛍光体を配設することはできる。またこの
他に、各色の蛍光体材料を含有する感光性樹脂のシート
を作製し、これを背面ガラス基板15の隔壁18を配し
た側の面に貼り付け、フォトリソグラフィでパターニン
グし現像することにより不要な部分を除去する方法によ
っても蛍光体を配設することができる。
【0032】(蛍光体材料の製法について)上記の各色
蛍光体は、例えば以下の方法で製造することができる。 青色蛍光体であるBaMgAl1017:Eu2+の製法:
原料として、炭酸バリウム(BaCO3),炭酸マグネ
シウム(MgCO3),酸化アルミニウム(α−Al2
3)及び酸化ユーロピウム(Eu23)を、(Baのモ
ル数とEuのモル数の和)とMgのモル数とAlのモル
数の比が、1:1:10となるように混合する。
【0033】ここで、Baのモル数とEuのモル数との
比率は、目的とする蛍光体のBa元素に対するEu2+
オンの置換量に基づいて設定する。例えば、Ba元素に
対するEu2+イオンの置換量を8at%に設定する場
合、Baのモル数とEuのモル数との比率は、92:8
である。従って、配合する炭酸バリウムと酸化ユーロピ
ウムと炭酸マグネシウムと酸化アルミニウムのモル比
は、92:4:100:500に定める。
【0034】そして、上記の混合物に、適量のフラック
ス(AlF2,BaCl2)を加えてボールミルで混合す
る。そして、弱還元性雰囲気(H2,N2中)の下で、1
400℃〜1650℃の温度で所定時間(例えば0.5
時間)焼成することによって、所定のEu2+イオンの置
換量を持つBaMgAl1017:Eu2+の粒子が得られ
る。
【0035】赤色蛍光体であるYBO3:Eu3+の製
法:原料として水酸化イットリウムY2(OH)3と硼酸
(H3BO3)と酸化ユーロピウム(Eu23)を、(Y
のモル数とEuのモル数の和)とBのモル数との比が、
1:1となるように配合する。ここで、Yのモル数とE
uのモル数との比率は、目的物である蛍光体のY元素に
対するEu3+イオンの置換量に基づいて設定する。
【0036】そして、上記の混合物に、適量のフラック
スを加えてボールミルで混合する。そして、空気中で、
1200℃〜1450℃の温度で所定時間(例えば1時
間)焼成することによって、所定のEu3+イオン置換量
を持つYBO3:Eu3+の粒子が得られる。緑色蛍光体
であるZn2SiO4:Mn2+の製法:原料として、酸化
亜鉛(ZnO)、酸化珪素(Si02)及び酸化マンガン
(Mn23)を、(Znのモル数とMnのモル数との
和)とSiのモル数との比が、2:1になるように配合
する。
【0037】ここで、Znのモル数とMnのモル数との
比率は、目的物である蛍光体のZn元素に対するMn2+
の置換量に基づいて定める。次に、ボールミルで混合す
る。その後、空気中で1200℃〜1350℃の温度で
所定時間(例えば0.5時間)焼成することによって、
所定のMn2+の置換量を持つZn2SiO4:Mn2+の粒
子が得られる。
【0038】
【実施例】上記実施の形態に基づいて、実施例のPDP
を作製した。緑色蛍光体は、Zn2SiO4:Mn2+(M
nの含有量は2.3重量%)、赤色蛍光体は、YB
3:Eu3+(Y元素に対するEu3+の置換量は0.
1)を用いた。
【0039】青色蛍光体は、BaMgAl1017:Eu
2+であって、母体材料のBa元素に対するEu2+イオン
の置換量は、表1のNo.1〜4に示すように、0.5
,2.0 ,5.0 ,8.0at%の各値に設定し
たものを用いた。なお、表1においては、青色蛍光体の
組成が、Ba1-xMgAl1017:Euxと表現されてい
る。これはBaMgAl1017:Eu2+と同じ蛍光体を
表わすが、母体材料のBa元素に対するEu2+イオンの
置換量を示すx値が式中に記載されているものである。
【0040】
【表1】
【0041】各色蛍光体の平均粒径は約3μm、蛍光体
層作製後の焼成は520℃で10分間、パネル張り合わ
せ時の焼成は460℃で10分間行った。また、蛍光体
層の膜厚は20μm、放電ガス圧は500Torrに設
定した。なお、表1のパネルNo.5は、比較例のPD
Pに関するものであって、Ba元素に対するEu2+イオ
ンの置換量を0.100at%に設定した以外は実施例
と同様に作製したPDPである。
【0042】〈実験1〉このようにして作製した実施例
及び比較例の各PDPについて、色温度無調整輝度並び
に色温度調整輝度を測定した。色温度無調整輝度とは、
3色に同じ信号を入力させて(即ち3色の各放電空間で
同等の紫外線を発生させて)白色表示した場合の輝度で
あり、色温度調整輝度は、各色の信号を調整して色温度
9500度の白色を表示した場合の輝度である。
【0043】これらの輝度の測定は、放電維持電圧15
0V、周波数30kHzの放電条件で行った。そして、
その測定結果は上記表1に示されている。表1の測定結
果を見ると、色温度無調整輝度については、No.1〜
4(x=0.005〜0.080)と比べてNo.5
(x=0.100)の方が高い値を示しているが、色温
度調整輝度については、No.5(x=0.100)と
比べてNo.1〜4(x=0.005〜0.080)の
方が高い値を示している。
【0044】この結果は、PDPにおいて、青色蛍光体
のx値を従来よりも小さい0.08以下に設定すること
によって、従来よりもパネル輝度を向上できることを示
している。特にNo.2(x=0.020)及びNo.
3(x=0.050)の色温度調整輝度は高い値を示し
ている。
【0045】この色温度調整輝度の測定は、実際のPD
Pにおいて画質を向上させるためには白バランスを取る
必要があることを考慮して行っており、色温度調整輝度
が高いほど画質を保ちながら高い輝度が得られる。そし
て、上記のように青色蛍光体のx値を0.08以下に設
定することにより高いパネル輝度が得られるようになっ
たのは、青色蛍光体の発光強度が高くなったためと考え
られる。
【0046】即ち、PDPで良好な画質を得るには、白
バランスで色温度を9000度以上とすることが要求さ
れるが、青色蛍光体は、通常、他の色の蛍光体と比べて
輝度が低いので、すべての色を同じ信号で点灯させた場
合、色温度は6000度前後となり良好な画質が得られ
ない。色温度を9000度以上とするためには、信号調
整を行って、青色と比べて緑色と赤色の輝度を落とす必
要があるが、青色の蛍光体の発光強度が高いほど、緑色
と赤色の輝度を落とす度合は少なくなり、色温度調整輝
度は高い値を得ることができる。
【0047】なお、No.1(x=0.005)では、
No.2(x=0.020)よりも色温度調整輝度は低
くなっているが、これは、青色蛍光体のEu2+イオンの
量が少なすぎて、紫外線の励起確率が低いためと考えら
れる。 〈実験2〉青色蛍光体材料であるBaMgAl1017
Eu2+について、以下のようにして、Eu2+イオンの置
換量と耐熱性との関係を調べた。
【0048】上述した製法でBaMgAl1017:Eu
2+を作製するに際して、酸化ユーロピウム(Eu23
の添加量を変化させることによって、様々なx値(Eu
2+イオンの置換量)を持つBa1-xMgAl1017:E
uxを作製した。そして、作製した各蛍光体材料を用い
て、蛍光体ペーストを作製して基板上に塗布し、空気中
で520℃にて10分間焼成することによって、蛍光体
層を形成した。そして、形成した蛍光体層を、更に空気
中で460℃にて10分間焼成した。
【0049】ここで、520℃で焼成する前(未焼成
時)、520℃で焼成した後(1回焼成後)、460℃
で焼成した後(2回焼成後)において、蛍光体層にUV
ランプで紫外線を照射しながら蛍光体層の輝度及び発光
強度を調べた。輝度は、輝度計を用いて測定した。発光
強度は、分光光度計を用いて蛍光体層からの発光スペク
トルを測定し、この測定値から色度のy値を算出し、こ
の色度のy値と輝度の測定値とから求めた(輝度/色度
のy値)。
【0050】図3は、この測定結果を示すものであっ
て、(a)はx値と相対輝度との関係、(b)はx値と
相対発光強度を示す特性図である。各図中において、実
線は未焼成時、破線は1回焼成後、一点鎖線は2回焼成
後の特性を示している。また図3(a),(b)におけ
る相対輝度および相対発光強度の値はいずれも、x=
0.1の蛍光体で未焼成時についての値を100とした
ときの指標で表示してある。
【0051】図3(a),(b)の特性図より、以下の
ことがわかる。 *未焼成時では、x値が大きいほど輝度も高くなってい
るが、発光強度はx値が0.1付近で最高となってい
る。 *1回焼成後では、輝度はx値が0.1より少し大きい
ところで最高となっており、発光強度は、x値が0.1
以下の範囲ではほぼ一定の値であるが、x値が0.1を
越えるとx値が増加するに従って低下している。
【0052】これより、1回焼成後の測定結果に基づい
て判定する場合には、従来のようにx値を0.1〜0.
15程度に設定することが、高性能の蛍光体層を得るの
適しているということが導かれる。 *2回焼成後では、輝度は、x値が0.1より少し小さ
いところで最高値を示し、x値がかなり小さい0.01
程度まで高い値を保っている。発光強度は、x=0.0
3〜0.06付近で最も高く、x=0.08を越えた範
囲ではかなり低下する。
【0053】これより、2回焼成後では、x値は0.0
8以下、特に0.01〜0.06、その中でも0.03
〜0.06の範囲が好ましいことがわかる。 *特に注目すべきことは、x値が0.08より大きい範
囲と0.08以下の範囲とでは、焼成により発光強度に
及ぶ影響が逆の傾向を示していることである。即ち、x
値が0.08より大きい範囲では、未焼成時に比べて焼
成後の方が発光強度が低くなっているのに対して、x値
が0.08以下の範囲ではむしろ、未焼成時よりも焼成
後の方が発光強度が高くなっており、更に1回焼成後よ
りも2回焼成後の方が輝度及び発光強度が高くなってい
る。
【0054】このような傾向の違いは、蛍光体を焼成す
るのに伴って、Eu2+イオンが酸化される一方、水分な
どの不純物が除去されたり結晶性が向上し、これが発光
強度の向上に寄与するが、x値が0.08より大きい範
囲では、前者の影響の方が大きいのに対して、x値が
0.08以下では、後者の影響が大きいために生じるも
のと考えられる。
【0055】なお、本実験では、520℃で焼成した後
に460℃で焼成する場合について調べたが、500℃
程度で焼成した後に350℃程度で焼成する場合や、同
程度の温度(例えば460℃)で2回焼成を行う場合に
おいても、ほぼ同様の結果が得られる。また、図3で
は、520℃で焼成した後に460℃焼成するという2
回焼成後までの測定結果を示したが、更に、460℃以
下の温度で3回目の焼成を行ってその後に測定を行った
場合にも、2回焼成後の結果と同様の傾向を示す結果が
得られた。
【0056】即ち、図3の一点鎖線で示されるような2
回焼成後の輝度及び発光強度の傾向は、更に焼成を加え
てもあまり変動しないことがわかった。 (その他の事項)上記実施の形態では、Eu2+イオンを
付活剤として含有する青色蛍光体の例として、BaMg
Al1017:Eu2+で表される蛍光体を示したが、本発
明はこれに限られず、BaMgAl1423:Eu2+やB
aSr1-aMgAl1017:Eu 2+といった青色蛍光体
を用いる場合においても適用可能である。
【0057】即ち、BaMgAl1423:Eu2+では、
Ba元素に対するEu2+イオンの置換量を、BaaSr
1-aMgAl1017:Eu2+では、Ba元素とSr元素
の和に対するEu2+イオンの置換量を、8at%以下
(好ましくは1〜6at%)に設定することによって、
同様の効果を得ることができる。また、上記実施の形態
では、AC型のPDPを例にとって説明したが、DC型
のPDPについても同様のことが言える。
【0058】また、上記実施の形態で説明した青色蛍光
体は、必ずしもPDPだけに用いられるものではなく、
例えば蛍光燈にも用いることができる。そして、その場
合も同様の効果を奏する。
【0059】
【発明の効果】以上のように本発明は、PDPにおい
て、母体材料中の置換対象の元素がEu 2+イオンで置換
された蛍光体材料、特に組成式がBaMgAl1017
Eu2+或はBaMgAl1423:Eu2+で表される蛍光
体を用い、置換対象の元素(Ba)に対するEu2+イオ
ンの置換量を8at%以下、好ましくは1〜6at%に
設定することによって、従来よりも耐熱性の高い蛍光体
膜を形成し、蛍光体層の輝度並びに発光強度を向上させ
ることを可能とした。
【0060】そして、このような蛍光体材料を青色蛍光
体材料として用いると、PDP作製時の焼成プロセスに
おける蛍光体層の熱劣化が抑えられ、PDPの画質及び
輝度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態に係る交流面放電型PDPの構成を
示す概略断面図である。
【図2】実施の形態で蛍光体層を形成する際に用いるイ
ンキ塗布装置の概略構成図である。
【図3】実施例の蛍光体材料を用いた実験結果を示す特
性図である。
【図4】従来の交流面放電型PDPの一例を示す概略断
面図である。
【符号の説明】
11 前面ガラス基板 12 表示電極 13 誘電体ガラス層 14 保護層 15 背面ガラス基板 16 アドレス電極 17 可視光反射層 18 隔壁 19 蛍光体層 20 インキ塗布装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 一ノ宮敬治 他,プラズマディスプレ イ用蛍光体,第263回蛍光体同学会講演 予稿,日本,1996年 9月13日,第9〜 13頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 11/02 C09K 11/64 CPM H01J 9/227

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 前面パネルと背面パネルとの間に形成さ
    れる放電セル内で紫外線を放射し蛍光体層で可視光に変
    換するプラズマディスプレイパネルであって、前記蛍光
    体層の中の少なくとも一色の蛍光体層は、 BaMgAl1423:Eu2+で表され、且つBaMgA
    1423のBa元素に対するEu2+イオンの置換量が8
    at%以下である蛍光体材料により形成されているプラ
    ズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】 前記前面パネルと前記背面パネルとは、 ガラスによって封着された請求項記載のプラズマディ
    スプレイパネル。
  3. 【請求項3】 前記BaMgAl1423のBa元素に対
    するEu2+イオンの置換量が1〜6at%である請求項
    または記載のプラズマディスプレイパネル。
  4. 【請求項4】 第1のパネル基板上に、BaMgAl10
    17:Eu2+で表され、且つBaMgAl1017のBa
    元素に対するEu2+イオンの置換量が8at%以下であ
    る蛍光体材料を、バインダと共に配設する蛍光体配設ス
    テップと、 前記蛍光体材料を配設した第1のパネル基板を焼成する
    焼成ステップと、 前記焼成ステップ後の第1のパネル基板に第2のパネル
    基板を封着剤を介して重ね、焼成することによって封着
    する封着ステップとを備えるプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  5. 【請求項5】 前記BaMgAl1017のBa元素に対
    するEu2+イオンの置換量が1〜6at%である請求項
    記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  6. 【請求項6】 第1のパネル基板上に、BaMgAl14
    23:Eu2+で表され、且つBaMgAl1423のBa
    元素に対するEu2+イオンの置換量が8at%以下であ
    る蛍光体材料を、バインダと共に配設する蛍光体配設ス
    テップと、 前記蛍光体材料を配設した第1のパネル基板を焼成する
    焼成ステップと、 前記焼成ステップ後の第1のパネル基板に第2のパネル
    基板を封着剤を介して重ね、焼成することによって封着
    する封着ステップとを備えるプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  7. 【請求項7】 前記BaMgAl1423のBa元素に対
    するEu2+イオンの置換量が1〜6at%である請求項
    記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  8. 【請求項8】 前記蛍光体配設ステップでは、 前記蛍光体材料からなる粒子とバインダとを混合したイ
    ンキまたはシートを、前記第1の基板上に配設する請求
    のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
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