JP3452343B2 - 多色発光装置およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、多色発光装置およ
びその製造方法に関する。さらに詳しくは各種発光型の
マルチカラーまたはフルカラーの薄型ディスプレイに好
適に用いられる多色発光装置およびその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子（以下Ｅ
Ｌ素子という）は、自己発光のため視認性が高く、また
完全固体のため耐衝撃性に優れるという特徴を有してお
り、現在、無機、有機化合物を発光層に用いた様々なＥ
Ｌ素子が提案され、実用化が試みられている。この実用
化の一つとして、ＥＬ素子を用いた多色発光装置を挙げ
ることができる。この多色発光装置としては、まず白色
発光のＥＬ素子に三原色（赤，緑，青）のカラーフィル
タを設置したもの、が考えられる。

【０００３】たとえば第８図に示す、基板２上に下部電
極１ｃと透光性の上部電極１ａとによって挟まれたＥＬ
発光層１ｂを設け、前記透光性電極１ａを介して取り出
されたＥＬ光を、前記透光性電極１ａと対向して透光性
基板８上に設けられたカラーフィルタ３を介して前記透
光性基板８外に取り出すことを特徴とするカラーＥＬデ
ィスプレイ装置が開示されている（特開昭６４−４０８
８８号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この装
置では、ＥＬ（素子）とカラーフィルタが対向すること
により、カラーフィルタから発生する水蒸気、酸素また
は有機物のモノマー、低分子成分等のガスによって、Ｅ
Ｌ素子の発光寿命が低下することを避けることができな
かった。

【０００５】一方、無機ＥＬ素子のガラス基板の裏面に
カラーフィルタを印刷したガラス板を載置する方法が開
示されている（特開昭５７−１１９４９４号公報）。し
かし、この方法では、無機ＥＬ素子とカラーフィルタと
を独立して製造するため、例えば無機ＥＬ素子の基板の
厚さを厚くしないと（おおよそ７００μｍ以上）、基板
のそり、ゆがみの問題が発生し、安定してＥＬ素子を作
製することができなかった。しかもその基板を厚くした
結果、カラーフィルタとＥＬ素子とのギャップが広が
り、多色発光させる場合、所望の発光色以外の発光色が
漏れ出て、視野角が著しく低下するという問題があっ
た。

【０００６】本発明は上述の問題に鑑みなされたもので
あり、優れた発光寿命を有するとともに、優れた視野角
特性を有する有機ＥＬ素子を用いた多色発光装置を提供
し、またこの多色発光装置を安定に、効率よく製造する
ことができる方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本願の第１発明によれば、支持基板と、この支持基
板上に配設した白色に発光する有機エレクトロルミネッ
センス（ＥＬ）素子と、この有機ＥＬ素子からの発光を
透過して異なった可視光を発光し得るようにこの有機Ｅ
Ｌ素子の透明電極または電極に対応して配設したカラー
フィルタとを備えた多色発光装置において、前記有機Ｅ
Ｌ素子とカラーフィルタとの間に、有機ＥＬ素子と間隙
を保持しながらカラーフィルタを配置する透明無機酸化
物基板を配設し、この透明無機酸化物基板と前記支持基
板との間で有機ＥＬ素子を封止手段によって封止してな
ることを特徴とする多色発光装置が提供される。

【０００８】また、その好ましい態様として、前記カラ
ーフィルタが、前記透明無機酸化物基板上に平面的に分
離配置されてなることを特徴とする多色発光装置が提供
される。

【０００９】また、その好ましい態様として、前記カラ
ーフィルタ上に、さらに保護層および／または透明基板
を配設したことを特徴とする多色発光装置が提供され
る。

【００１０】また、その好ましい態様として、前記透明
無機酸化物基板の板厚が、１〜２００μｍであることを
特徴とする多色発光装置が提供される。

【００１１】また、さらに好ましい態様として、前記無
機酸化物基板が透明なガラス板であることを特徴とする
多色発光装置が提供される。

【００１２】また、本願の第２発明によれば、透明支持
基板と、その透明支持基板上に平面的に分離配置したカ
ラーフィルタと、そのカラーフィルタの上面または上方
に配設した白色に発光する有機エレクトロルミネッセン
ス（ＥＬ）素子とを有し、そのカラーフィルタのそれぞ
れが有機ＥＬ素子からの発光を透過して異なった可視光
を発光し得るようにカラーフィルタと有機ＥＬ素子の透
明電極又は電極とを対応して配設した多色発光装置にお
いて、前記カラーフィルタと有機ＥＬ素子との間に、厚
さが０．０１〜５０．０５μｍの透明な絶縁性無機酸化
物層を配設してなることを特徴とする多色発光装置が提
供される。さらに、透明支持基板と、その透明支持基板
上に平面的に分離配置したカラーフィルタと、そのカラ
ーフィルタの上面または上方に配設した白色に発光する
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子とを有し、
そのカラーフィルタのそれぞれが有機ＥＬ素子からの発
光を透過して異なった可視光を発光し得るようにカラー
フィルタと有機ＥＬ素子の透明電極又は電極とを対応し
て配設した多色発光装置において、前記カラーフィルタ
と有機ＥＬ素子との間に、水蒸気または酸素のガス透過
係数が１０^−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以
下である、厚さが０．０１〜２００μｍの透明な絶縁性
無機酸化物層（但し、ガラス板は除く）を配設してなる
ことを特徴とする多色発光装置が提供される。

【００１３】また、その好ましい態様として、前記カラ
ーフィルタと透明な絶縁性無機酸化物層との間に、透明
な保護層および／または透明な接着層を配設してなるこ
とを特徴とする多色発光装置が提供される。

【００１４】また、その好ましい態様として、前記透明
な絶縁性無機酸化物が、透明な絶縁性のガラス板である
ことを特徴とする多色発光装置が提供される。

【００１５】また、その好ましい態様として、前記透明
な絶縁性無機酸化物が、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、および酸化チタンからなる群から選ばれる一種以上
の化合物であることを特徴とする多色発光装置が提供さ
れる。

【００１６】また、その好ましい態様として、前記透明
な絶縁性無機酸化物が、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、および酸化チタンからなる群から選ばれる一種以上
の化合物を、透明な絶縁性のガラス板の上面または下面
の少なくとも一方に製膜してなるものであることを特徴
とする多色発光装置が提供される。

【００１７】さらに、本願の第３発明によれば、透明支
持基板上に、白色に発光する有機ＥＬ素子の発光を透過
して異なった可視光を発光するカラーフィルタを平面的
に分離配置し、このカラーフィルタの上面または上方に
有機ＥＬ素子をその透明電極又は電極がカラーフィルタ
に対応するように配設する多色発光装置の製造方法にお
いて、（Ａ）透明支持基板上にカラーフィルタを平面的
に分離配置する工程、（Ｂ）カラーフィルタ上、および
カラーフィルタが平面的に分離配設された透明支持基板
上に、透明な保護層および／または透明な接着層を配設
する工程、（Ｃ）有機ＥＬ素子の透明電極を形成した、
又は透明電極を形成する予定の、厚さ１〜２００μｍの
透明な絶縁性のガラス板、または酸化ケイ素、酸化アル
ミニウム、および酸化チタンからなる群から選ばれる一
種以上の化合物を、透明な絶縁性のガラス板の上面また
は下面の少なくとも一方に製膜したものを、前記透明な
保護層または透明な接着層上に接合する工程、および
（Ｄ）透明電極が形成されたガラス板上に有機ＥＬ素子
の有機物層および電極を順次積層する工程、を有するこ
とを特徴とする多色発光装置（但し、光拡散性を有する
拡散層を含む装置は除く）の製造方法が提供される。本
願の第１〜第３発明によって、優れた発光寿命を有する
とともに、優れた視野角特性を有する有機ＥＬ素子を用
いた多色装置を提供することができる。また、この多色
発光装置を安定に、効率よく製造する方法を提供するこ
とができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の多色発光装置およ
びその製造方法の実施の形態を具体的に説明する。本発
明の有機ＥＬ多色発光装置としては、有機ＥＬ素子の白
色発光が減衰，散乱されず、効率よくカラーフィルタを
透過し、かつ、発光した可視光が減衰，散乱されず、外
部へ取り出せる構成であることが必要である。なお、有
機ＥＬ素子の白色発光領域は、図１６のＣＩＥ座標に示
す。

【００１９】Ｉ．多色発光装置（第１発明） 上記観点からすると、本願の第１発明は、具体的には、
以下の構成（１）〜（３）を挙げることができる。この
構成（１）〜（３）は、それぞれ図１〜図３に示され
る。 （１）支持基板２／有機ＥＬ素子１（電極１ｃ／有機物
層１ｂ／透明電極１ａ）／間隙６／透明無機酸化物基板
４／カラーフィルタ３ （２）支持基板２／有機ＥＬ素子１（電極１ｃ／有機物
層１ｂ／透明電極１ａ／間隙６／透明無機酸化物基板４
／カラーフィルタ３／保護膜７） （３）支持基板２／有機ＥＬ素子１（電極１ｃ／有機物
層１ｂ／透明電極１ａ／間隙６／透明無機酸化物基板４
／カラーフィルタ３／透明基板８） なお、本発明の装置においては、透明無機酸化物基板４
と支持基板２をたとえば接着剤で接合した封止手段５に
よって有機ＥＬ素子１を封止している。

【００２０】さらに図４に示すように、上記構成
（１），（２），（３）において、異なった光を発光す
るカラーフィルタを平面的に分離配置して、ＲＧＢ三原
色の発光を得ることができる。この場合、透明無機酸化
物基板４の板厚は１μｍ以上２００μｍ以下が好まし
い。また、各カラーフィルタの間に漏れ光を防止して多
色発光の視認性を高めるために、ブラックマトリックス
９を配置してもよい（図５）。

【００２１】以下、本願の第１発明の、多色発光装置を
各構成要素ごとに具体的に説明する。なお、この構成要
素に用いられる材料は必要最小限のものを記載するもの
であり、これに限定されるものではない。

【００２２】１．有機ＥＬ素子 本発明に用いられる有機ＥＬ素子においては、有機化合
物層として、再結合領域および発光領域を少なくとも有
するものが用いられる。この再結合領域および発光領域
は、通常発光層に存在するため、本発明においては、有
機化合物層として発光層のみを用いてもよいが、必要に
応じ、発光層以外に、たとえば正孔注入層，電子注入
層，有機半導体層，電子障壁層，付着改善層なども用い
ることができる。

【００２３】次に本発明に用いられる有機ＥＬ素子の代
表的な構成例を示す。もちろん、これに限定されるもの
ではない。 （１）透明電極（たとえば陽極）／発光層／電極（たと
えば陰極） （２）透明電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電極
（陰極） （３）透明電極（陽極）／発光層／電子注入層／電極
（陰極） （４）透明電極（陽極）／正孔注入層／発光層／電子注
入層／電極（陰極） （５）透明電極（陽極）／有機半導体層／発光層／電極
（陰極） （６）透明電極（陽極）／有機半導体層／電子障壁層／
発光層／電極（陰極） （７）透明電極（陽極）／正孔注入層／発光層／付着改
善層／電極（陰極） などの構造を挙げることができる。これらの中で、通常
（４）の構成が好ましく用いられる。

【００２４】透明電極（たとえば陽極） 透明電極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金
属，合金，電気伝導性化合物またはこれらの混合物を電
極物質とするものが好ましく用いられる。このような電
極物質の具体例としては、Ａｕ等の金属、ＣｕＩ，ＩＴ
Ｏ，ＳｎＯ₂ ，ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられ
る。透明電極は、これらの電極物質を蒸着法やスパッタ
リング法等の方法で、薄膜を形成させることにより作製
することができる。このように発光層からの発光を透明
電極から取り出す場合、透明電極の発光に対する透過率
が１０％より大きくすることが好ましい。また、透明電
極のシート抵抗は、数百Ω／□以下が好ましい。透明電
極の膜厚は材料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ、１
０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。

【００２５】発光層 本発明に用いられる発光層としては、特に制限はないが
下記のものを挙げることができる。 （１）有機ＥＬ積層構造体の各層のエネルギー準位を規
定し、トンネル注入を利用して発光させるもの（ヨーロ
ッパ公開特許第０３９０５５１号公報） （２）（１）と同じくトンネル注入を利用する素子で実
施例として白色発光素子が記載されているもの（特開平
３−２３０５８４号公報） （３）二層構造の発光層が記載されているもの（特開平
２−２２０３９０号公報および特開平２−２１６７９０
号公報） （４）発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異な
る材料で構成されたもの（特開平４−５１４９１号公
報） （５）青色発光体（蛍光ピーク３８０ｎｍ〜４８０ｎ
ｍ）と緑色発光体（４８０ｎｍ〜５８０ｎｍ）とを積層
させ、さらに赤色蛍光体を含有させた構成のもの（特開
平６−２０７１７０号公報） （６）青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層
が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、さらに緑色蛍光
体を含有する構成のもの（特開平７−１４２１６９号公
報） 中でも、（５）の構成のものが好ましく用いられる。た
とえば固体状態で蛍光ピーク波長が３８０ｎｍ以上４８
０ｎｍ未満である有機化合物を含有する第一発光層と、
固体状態の蛍光ピーク波長が４８０ｎｍ以上５８０ｎｍ
未満である有機化合物を含有する第二発光層とが透明電
極または陽極側から順次積層された積層構造からなり、
かつ溶液状態での蛍光ピーク波長が５８０ｎｍ以上６５
０ｎｍ以下である有機化合物を、有機化合物層の少なく
とも一層に、その層を形成する有機化合物に対して０．
１〜１０モル％の割合で含有させたものを挙げることが
できる。ここで 第一発光層に用いる有機化合物は、特
に限定されず、例えば特開平３−２３１９７０号公報あ
るいは国際公開特許ＷＯ９２／０５１３１号公報、特願
平５−１７０３５４号明細書、特願平５−１２９４３８
号明細書に記載されている有機化合物の中で、上記第一
発光層の蛍光条件を満足するものが挙げられる。好まし
いものとしては、特開平３−２３１９７０号公報、国際
公開特許ＷＯ９２／０５１３１号公報、特願平５−１７
０３４５号明細書に記載されている上記第一発光層の蛍
光条件を満たすものと、特願平５−１２９４３８号明細
書に記載されている適当な化合物との組合せ、さらには
後述する正孔注入輸送層に用いる化合物のなかで、上記
第一発光層の蛍光条件を満足するものを挙げることがで
きる。次に、特開平３−２３１９７０号公報、国際公開
特許ＷＯ９２／０５１３１号公報に記載されている上記
第一発光層の蛍光条件を満たす化合物としては、前記一
般式（Ｉ）

【００２６】

【化１】

【００２７】［式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は、それぞれ水素原
子，炭素数１〜６のアルキル基，炭素数１〜６のアルコ
キシ基，炭素数７〜１８のアラルキル基，置換もしくは
無置換の炭素数６〜１８のアリール基，置換もしくは無
置換の芳香族複素環式基，置換もしくは無置換のシクロ
ヘキシル基，置換もしくは無置換の炭素数６〜１８のア
リールオキシ基，置換もしくは無置換のピリジル基を示
す。ここで、置換基は炭素数１〜６のアルキル基，炭素
数１〜６のアルコキシ基，炭素数７〜１８のアラルキル
基，炭素数６〜１８のアリールオキシ基，炭素数１〜６
のアシル基，炭素数１〜６のアシルオキシ基，カルボキ
シル基，スチリル基，炭素数６〜２０のアリールカルボ
ニル基，炭素数６〜２０のアリールオキシカルボニル
基，炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基，ビニル
基，アニリノカルボニル基，カルバモイル基，フェニル
基，ニトロ基，水酸基あるいはハロゲン原子を示す。こ
れらの置換基は単一でも複数でもよい。また、Ｒ¹ 〜Ｒ
⁴ は同一でも、また互いに異なっていてもよく、Ｒ¹ と
Ｒ² 及びＲ³ とＲ⁴ は互いに置換している基と結合し
て、置換もしくは無置換の飽和又は不飽和の五員環ある
いは置換もしくは無置換の飽和又は不飽和の六員環を形
成してもよい。Ａｒは置換もしくは無置換の炭素数６〜
２０のアリーレン基を表し、単一置換されていても、複
数置換されていてもよく、また結合部位は、オルト，パ
ラ，メタいずれでもよい。なお、置換基は前記と同じで
ある。また、アリーレン基の置換基同士が結合して、置
換もしくは無置換の飽和又は不飽和の五員環あるいは置
換もしくは無置換の飽和又は不飽和の六員環を形成して
もよい。但し、Ａｒが無置換フェニレンの場合、Ｒ¹ 〜
Ｒ⁴ は、それぞれ炭素数１〜６のアルコキシ基，炭素数
７〜１８のアラルキル基，置換もしくは無置換のナフチ
ル基，ビフェニル基，シクロヘキシル基，アリールオキ
シ基より選ばれたものである。］で表されるジスチリル
アリレーン系化合物，一般式（II） Ａ−Ｑ−Ｂ ・・・（II） ［式中、Ａ及びＢは、それぞれ上記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物から１つの水素原子を除いた一価基を示し、
同一であっても異なってもよい。また、Ｑは共役系を切
る二価基を示す。］で表される芳香族メチリディン化合
物及び一般式（III）

【００２８】

【化２】

【００２９】［式中、Ａ¹ は置換もしくは無置換の炭素
数６〜２０のアリーレン基又は二価の芳香族複素環式基
を示す。結合位置はオルト，メタ，パラのいずれでもよ
い。Ａ² は置換もしくは無置換の炭素数６〜２０のアリ
ール基又は一価の芳香族複素環式基を示す。Ｒ⁵ 及びＲ
⁶ は、それぞれ水素原子，置換もしくは無置換の炭素数
６〜２０のアリール基，シクロヘキシル基，一価の芳香
族複素環式基，炭素数１〜１０のアルキル基，炭素数７
〜２０のアラルキル基又は炭素数１〜１０のアルコキシ
基を示す。なお、Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ は同一でも異なってもよ
い。ここで、置換基とは、アルキル基，アリールオキシ
基，アミノ基又はこれらの基を有するもしくは有しない
フェニル基であり、該置換基は単一でも複数でもよい。
Ｒ⁵ の各置換基はＡ¹ と結合して、飽和もしくは不飽和
の五員環又は六員環を形成してもよく、同様にＲ⁶ の各
置換基はＡ² と結合して、飽和もしくは不飽和の五員環
又は六員環を形成してもよい。また、Ｑ¹ は前記と同じ
である。］で表される芳香族メチリディン化合物が挙げ
られる。

【００３０】ここで、一般式（Ｉ）中のＲ¹ 〜Ｒ⁴ は前
述の如く同一でも異なってもよく、それぞれ水素原子，
炭素数１〜６のアルキル基（メチル基，エチル基，ｎ−
プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチ
ル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基，イソペ
ンチル基，ｔ−ペンチル基，ネオペンチル基，イソヘキ
シル基），炭素数１〜６のアルコキシ基（メトキシ基，
エトキシ基，プロポキシ基，ブトキシ基等），炭素数１
〜８のアラルキル基（ベンジル基，フェネチル基等，炭
素数６〜１８のアリール基（フェニル基，ビフェニル
基，ナフチル基等），シクロヘキシル基，芳香族複素環
式基（ビリジル基，キノリル基），炭素数６〜８のアリ
ールオキシ基（フェノキシ基，ビフェニルオキシ基，ナ
フチルオキシ基等）を示す。

【００３１】また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は、これらに置換基の結
合したものでもよい。即ち、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ はそれぞれ置換
基含有フェニル基，置換基含有アラルキル基，置換基含
有シクロヘキシル基，置換基含有ビフェニル基，置換基
含有ナフチル基を示す。ここで、置換基は炭素数１〜６
のアルキル基，炭素数１〜６のアルコキシ基，炭素数７
〜１８のアラルキル基，炭素数６〜１８のアリールオキ
シ基，炭素数１〜６のアシル基，炭素数１〜６のアシル
オキシ基，カルボキシル基，スチリル基，炭素数６〜２
０のアリールカルボニル基，炭素数６〜２０のアリール
オキシカルボニル基，炭素数１〜６のアルコキシカルボ
ニル基，ビニル基，アニリノカルボニル基，カルバモイ
ル基，フェニル基，ニトロ基，水酸基あるいはハロゲン
原子であり、複数置換されていてもよい。したがって、
例えば、置換基含有アラルキル基は、アルキル基置換ア
ラルキル基（メチルベンジル基，メチルフェネチル基
等），等），アリールオキシ基置換アラルキル基（フェ
ノキシベンジル基，ナフチルオアルコキシ基置換アラル
キル基（メトキシベンジル基，エトキシフェネチル基
等），アリールオキシ基置換アラルキル基（フェノキシ
ベンジル基，ナフチルオキシフェネチル基等），フェニ
ル基置換アラルキル基（フェニルフェネチル基等）、上
記置換基含有フェニル基は、アルキル基置換フェニル基
（トリル基，ジメチルフェニル基，エチルフェニル基な
ど）、アルコキシ基置換フェニル基（メトキシフェニル
基，エトキシフェニル基など）アリールオキシ基置換フ
ェニル基（フェノキシフェニル基，ナフチルオキシフェ
ニル基等）あるいはフェニル基置換フェニル基（つま
り、ビフェニリル基）である。また、置換基含有シクロ
ヘキシル基は、アルキル基置換シクロヘキシル基（メチ
ルシクロヘキシル基，ジメチルシクロヘキシル基，エチ
ルシクロヘキシル基等），アルコキシ基置換シクロヘキ
シル基（メトキシシクロヘキシル基，エトキシシクロヘ
キシル基等）あるいはアリールオキシ基置換シクロヘキ
シル基（フェノキシシクロヘキシル基，ナフチルオキシ
シクロヘキシル基），フェニル基置換シクロヘキシル基
（フェニルシクロヘキシル基）である。置換基含有ナフ
チル基は、アルキル基置換ナフチル基（メチルナフチル
基，ジメチルナフチル基等），アルコキシ基置換ナフチ
ル基（メトキシナフチル基，エトキシナフチル基等）あ
るいはアリールオキシ基置換ナフチル基（フェノキシナ
フチル基，ナフチルオキシナフチル基），フェニル基置
換ナフチル基（フェニルナフチル基）である。

【００３２】上記Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ としては、上述したものの
うち、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基，アリールオ
キシ基，フェニル基，ナフチル基，ビフェニル基，シク
ロヘキシル基が好ましい。これらは置換あるいは無置換
のいずれでもよい。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は同一でも、また
互いに異なっていてもよく、Ｒ¹ とＲ² 及びＲ³ とＲ⁴
は互いに置換している基と結合して、置換もしくは無置
換の飽和又は不飽和の五員環あるいは置換もしくは無置
換の飽和又は不飽和の六員環を形成してもよい。

【００３３】一方、一般式（Ｉ）中のＡｒは置換もしく
は無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基を表し、置換
もしくは無置換のフェニレン基，ビフェニレン基，ｐ−
テルフェニレン基，ナフチレン基，ターフェニレン基，
ナフタレンジイル基，アントラセンジイル基，フェナン
トレンジイル基，フェナレンジイル基等のアリーレン基
であり、無置換でも置換されていてもよい。又、メチリ
ディン（＝Ｃ＝ＣＨ−）の結合位置はオルト，メタ，パ
ラ等どこでもよい。但し、Ａｒが無置換フェニレンの場
合、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は炭素数１〜６のアルコキシ基，炭素数
７〜１８のアラルキル基，置換あるいは無置換のナフチ
ル基，ビフェニル基，シクロヘキシル基，アリールオキ
シ基より選ばれたものである。置換基はアルキル基（メ
チル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，
ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−
ブチル基，イソペンチル基，ｔ−ペンチル基，ネオペン
チル基，イソヘキシル基等），アルコキシ基（メトキシ
基，エトキシ基，プロポキシ基，イソプロポキシ基，ブ
チルオキシ基，イソブチルオキシ基，ｓｅｃ−ブチルオ
キシ基，ｔ−ブチルオキシ基，イソペンチルオキシ基，
ｔ−ペンチルオキシ基），アリールオキシ基，（フェノ
キシ基，ナフチルオキシ基等），アシル基（ホルミル
基，アセチル基，プロピオニル基，ブチリル基等），ア
シルオキシ基，アラルキル基（ベンジル基，フェネチル
基等），フェニル基，水酸基，カルボキシル基，アニリ
ノカルボニル基，カルバモイル基，アリールオキシカル
ボニル基，メトキシカルボニル基，エトキシカルボニル
基，ブトキシカルボニル基，ニトロ基，ハロゲン原子で
あり、単一置換でも複数置換されていてもよい。

【００３４】前記一般式（Ｉ）で表されるメチリディン
芳香族化合物は、１分子中に２つのメチリディン（＝Ｃ
＝ＣＨ−）基を有し、このメチリディン基の幾何異性に
よって、４通りの組合せ、すなわち、シス−シス，トラ
ンス−シス，シス−トランス及びトランス−トランスの
組合せがある。本発明に用いられるＥＬ素子における第
一発光層は、それらのいずれのものであってもよいし、
幾何異性体の混合したものでもよい。特に好ましくは、
全てトランス体のものである。また、上記置換基は、置
換基の間で結合し、置換、無置換の飽和もしくは不飽和
の五員環又は六員環を形成してもよい。

【００３５】一般式（II）におけるＡ及びＢは、それぞ
れ上記一般式（Ｉ）で表される化合物から１つの水素原
子を除いた一価基を示し、同一であっても異なってもよ
いものである。ここで、一般式（II）におけるＱは共役
系を切る二価基を示す。ここで、共役とは、π電子の非
極在性によるもので、共役二重結合あるいは不対電子又
は孤立電子対によるものも含む。Ｑの具体例としては、
下記に示すものが挙げられる。

【００３６】

【化３】

【００３７】このように共役系を切る二価の基を用いる
理由は、上記で示されるＡあるはＢ（即ち、一般式
（Ｉ）の化合物）を、単独で本発明の有機ＥＬ素子とし
て用いた場合に得られるＥＬ発光色と、一般式（II）で
表される化合物を本発明の有機ＥＬ素子として用いた場
合に得られるＥＬ発光色とが変わらぬようにするためで
ある。つまり、一般式（Ｉ）又は一般式（II）で表され
る第一発光層が、短波長化あるいは長波長化したりする
ことはないようにするためである。また、共役系を切り
二価基で接続するとガラス転移温度（Ｔｇ）は、上昇す
ることが確認でき、均一なピンホールフリーの微結晶あ
るいはアモルファス性薄膜が得られることができ、発光
均一性を向上させている。更に、共役系を切る二価基で
結合していることにより、ＥＬ発光が長波長化すること
なく、また、合成あるいは精製が容易にできる長所を備
えている。

【００３８】また、一般式（III）中のＡ¹は置換もしく
は無置換の炭素数６〜２０のアリーレン基又は二価の芳
香族複素環式基，Ａ² は置換もしくは無置換の炭素数６
〜２０のアリール基（フェニル基，ビフェニル基，ナフ
チル基等）又は一価の芳香族複素環式基を示す。Ｒ⁵ 及
びＲ⁶ は、それぞれ水素原子，置換もしくは無置換の炭
素数６〜２０のアリール基，シクロヘキシル基，一価の
芳香族複素環式基，炭素数１〜１０のアルキル基（メチ
ル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ
−ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ −ブチル基，ｔｅ
ｒｔ−ブチル基，イソペンチル基，ｔ−ペンチル基，ネ
オペンチル基，イソヘキシル基等），炭素数７〜２０の
アラルキル基（ベンジル基，フェネチル基等）又は炭素
数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基，エトキシ基，
プロポキシ基，ブトキシ基等）を示す。なお、Ｒ⁵ ，Ｒ
⁶ は同一でも異なってもよい。ここで、置換基とは、ア
ルキル基，アリールオキシ基，アミノ基又はこれらの基
を有するもしくは有しないフェニル基であり、該置換基
は単一でも複数でもよい。Ｒ⁵ の各置換基はＡ¹ と結合
して、飽和もしくは不飽和の五員環又は六員環を形成し
てもよく、同様にＲ⁶ の各置換基はＡ² と結合して、飽
和もしくは不飽和の五員環又は六員環を形成してもよ
い。また、Ｑは、上記と同様に共役を切る二価基を表
す。さらに、該Ａ¹ の結合はオルト，メタ，パラのいず
れでもよい。さらに、本発明において、上記の一般式
（Ｉ），一般式（II）又は一般式（III）で表される有
機化合物は、ＣＩＥ色度座標における青紫，紫青，青，
緑青もしくは青緑の発光を呈する化合物であることが必
要である。具体的には、下記のものを挙げることができ
る。

【００３９】

【化４】

【００４０】

【化５】

【００４１】

【化６】

【００４２】

【化７】

【００４３】

【化８】

【００４４】

【化９】

【００４５】

【化１０】

【００４６】

【化１１】

【００４７】

【化１２】

【００４８】

【化１３】 他の有機化合物としては、下記に示すものが挙げられ
る。

【００４９】

【化１４】

【００５０】また、特願平５−１７０３５４号明細書に
記載されている上記第一発光層の蛍光条件を満たす化合
物としては、一般式（XI）

【００５１】

【化１５】

【００５２】［式中、Ｒ³⁷〜Ｒ⁴⁸は、それぞれ独立に水
素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を示す。但し、Ｒ
³⁷〜Ｒ⁴⁸のうち少なくとも１つは炭素数１〜６のアルキ
ル基である。また、Ｒ³⁸とＲ³⁹，Ｒ⁴⁰とＲ⁴¹，Ｒ⁴⁴とＲ
⁴⁵，Ｒ⁴⁶とＲ⁴⁷は、互いに結合して飽和もしくは不飽和
の五員環又は六員環を形成してもよい。Ｘ及びＹはそれ
ぞれ独立に置換又は無置換の炭素数６〜２０のアリール
基を示す。ＸとＹは置換基と結合して置換もしくは無置
換の飽和又は不飽和の五員環あるいは六員環を形成して
もよい。ここで、置換基としては炭素数１〜６のアルキ
ル基，炭素数１〜６のアルコキシ基，炭素数６〜１８の
アリールオキシ基，フェニル基，アミノ基，シアノ基，
ニトロ基，水酸基あるいはハロゲン原子を示す。これら
の置換基は単一でも複数置換されていてもよい。］で表
されるターフェニレン誘導体のスチリル化合物を挙げる
ことができる。

【００５３】ここで、一般式（XI）において、Ｒ³⁷〜Ｒ
⁴⁸は、それぞれ独立に水素原子あるいはメチル基，エチ
ル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル
基，イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−ブチル基，
イソペンチル基，ｔ−ペンチル基，ネオペンチル基，ｎ
−ヘキシル基，イソヘキシル基などの炭素数１〜６のア
ルキル基を示す。但し、Ｒ³⁷〜Ｒ⁴⁸のうち少なくとも１
つは炭素数１〜６のアルキル基であり、特にメチル基又
はエチル基が好ましい。また、Ｒ³⁸とＲ³⁹，Ｒ⁴⁰と
Ｒ⁴¹，Ｒ⁴⁴とＲ⁴⁵，Ｒ⁴⁶とＲ⁴⁷は、互いに結合して飽和
もしくは不飽和の五員環又は飽和もしくは不飽和の六員
環を形成してもよい。飽和もしくは不飽和の五員環又は
六員環を有するスチリル化合物の例としては、Ｒ³⁸とＲ
³⁹，及びＲ⁴⁶とＲ⁴⁷が飽和五員環を形成する場合は、下
記に示すものが挙げられる。

【００５４】

【化１６】

【００５５】Ｒ⁴⁶とＲ⁴⁷で飽和六員環を形成する場合
は、下記のものが挙げられる。

【００５６】

【化１７】

【００５７】Ｘ及びＹは、それぞれ独立に置換または無
置換のフェニル基，ナフチル基，ビフェニル基，ターフ
ェニル基，アントラリル基，フェナントリル基，ピレニ
ル基，ペリレニル基など炭素数６〜２０のアリール基を
示す。ここで、置換基としては、例えばメチル基，エチ
ル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔ−ブチル基，
イソペンチル基，ｔ−ペンチル基，ネオペンチル基，ｎ
−ヘキシル基，イソヘキシル基などの炭素数１〜６のア
ルキル基，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ
基，イソプロポキシ基，ｎ−ブチルオキシ基，イソブチ
ルオキシ基，ｓｅｃ−ブチルオキシ基，イソペンチルオ
キシ基，ｔ−ペンチルオキシ基，ｎ−ヘキシルオキシ基
などの炭素数１〜６のアルコキシ基，フェノキシ基，ナ
フチルオキシ基など炭素数６〜１８のアリールオキシ
基，フェニル基，アミノ基，シアノ基，ニトロ基，水酸
基あるいはハロゲン原子が挙げられる。これらの置換基
は単一でも複数置換されていてもよい。また、ＸとＹは
置換基と結合して置換もしくは無置換の飽和又は不飽和
の五員環あるいは飽和又は不飽和の六員環を形成しても
よい。飽和もしくは不飽和の五員環又は六員環を有する
スチリル化合物の例としては、ＸとＹが飽和五員環を形
成する場合は、下記に示すものが挙げられる。

【００５８】

【化１８】

【００５９】ＸとＹが飽和六員環形成する場合は、

【００６０】

【化１９】

【００６１】などが挙げられる。

【００６２】上記一般式（XI）で表されるスチリル化合
物は、種々の公知の方法によって製造することができ
る。具体的には、次の２つの方法が挙げられる。 方法１ 一般式（ａ）

【００６３】

【化２０】

【００６４】［式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又
はフェニル基を示し、Ｒ³⁷〜Ｒ⁴⁸は前記と同じであ
る。］で表されるホスホン酸エステルと、一般式（ｂ）

【００６５】

【化２１】

【００６６】［式中、Ｘ，Ｙは前記と同じである。］で
表されるカルボニル化合物を塩基存在下で縮合する方法
（Witting 反応又はWitting-Horner反応）により合成す
ることができる。 方法２ 一般式（ｃ）

【００６７】

【化２２】

【００６８】［式中、Ｒ³⁷〜Ｒ⁴⁸は前記と同じであ
る。］で表されるジアルデヒド化合物と一般式（ｄ）

【００６９】

【化２３】

【００７０】［式中、Ｒ，Ｘ，Ｙは前記と同じであ
る。］で表されるホスホン酸エステルを塩基存在下で縮
合する方法（Witting 反応又はWitting-Horner反応）に
より合成することができる。

【００７１】この合成で用いる反応溶媒としては、炭化
水素，アルコール類，エーテル類が好ましい。具体的に
は、メタノール；エタノール；イソプロパノール；ブタ
ノール；２−メトキシエタノール；１，２−ジメトキシ
エタン；ビス（２−メトキシエチル）エーテル；ジオキ
サン；テトラヒドロフラン；トルエン；キシレン；ジメ
チルスルホキシド；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；Ｎ
−メチルピロリドン；１，３−ジメチル−２−イミダゾ
リジノンなどが挙げられる。特に、テトラヒドロフラ
ン，ジメチルスルホキシドが好適である。また、縮合剤
としては、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム，ナトリ
ウムアミド，水素化ナトリウム，ｎ−ブチルリチウム，
ナトリウムメチラート，カリウム−ｔ−ブトキシドなど
が好ましく、特にｎ−ブチルリチウム，カリウム−ｔ−
ブトキシドが好ましい。反応温度は、用いる反応原料の
種類などにより異なり、一義的に定めることはできない
が、通常は０℃〜約１００℃までの広範囲を指定でき
る。特に好ましくは０℃〜室温の範囲である。

【００７２】以下に、本発明で用いられる上記スチリル
化合物の具体例（１）〜（２６）を挙げるが、本発明は
それらに限定されるものではない。

【００７３】

【化２４】

【００７４】

【化２５】

【００７５】

【化２６】

【００７６】

【化２７】

【００７７】

【化２８】

【００７８】その他、下記構造式に示すようなアルミニ
ウム錯体も第一発光層として好ましい。

【００７９】

【化２９】

【００８０】［式中、Ｒ¹⁷〜Ｒ¹⁹は、各々独立に、水素
原子，メチル基等のアルキル基，Ｒ²⁰〜Ｒ²²は各々独立
に水素原子，ハロゲン原子，α−ハロアルキル基，α−
ハロアルコキシ基，アミド基，カルボニル基，スルフォ
ニル基，カルボニルオキシ基，オキシカルボニル基，ア
リル基等を示す。また、Ｌ¹ 〜Ｌ⁵ は、各々独立に、水
素原子，炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｌ¹ とＬ
² ，Ｌ² とＬ³ は互いに結合して芳香環を形成していて
もよい。］等が挙げられる。

【００８１】一方、第二発光層に用いられる、固体状態
の蛍光ピーク波長が４８０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満であ
る有機化合物については、特に制限はなく、例えばヨー
ロッパ公開特許第０２８１３８１号公報に記載されてい
るレーザー色素として用いられるクマリン誘導体が挙げ
られる。具体的には、

【００８２】

【化３０】

【００８３】などである。さらに、特開平３−２３１９
７０号公報あるいは特願平２−２７９３０４号明細書に
記載されている有機化合物中で上記第二発光層の蛍光条
件を満足するものが挙げられる。さらに、好ましいもの
として、８−ヒドロキシキノリン又はその誘導体の金属
錯体を挙げることができる。具体的には、オキシン（一
般に８−キノリノール又は８−ヒドロキシキノリン）の
キレートを含む金属キレートオキサノイド化合物であ
る。このような化合物は高水準の性能を示し、容易に薄
膜形態に成形される。オキサノイド化合物の例は下記構
造式を満たすものである。

【００８４】

【化３１】

【００８５】［式中、Ｍｔは金属を表し、ｎは１〜３の
整数であり、且つ、Ｚはその各々の位置が独立であっ
て、少なくとも２以上の縮合芳香族環を完成させるため
に必要な原子を示す。］ここで、Ｍｔで表される金属
は、一価，二価又は三価の金属とすることができるもの
であり、例えばリチウム，ナトリウム又はカリウム等の
アルカリ金属，マグネシウム又はカルシウム等のアルカ
リ土類金属，ホウ素又はアルミニウム等の土類金属であ
る。一般に有用なキレート化合物であると知られている
一価，二価又は三価の金属はいずれも使用することがで
きる。

【００８６】また、Ｚは少なくとも２以上の縮合芳香族
環の一方がアゾール又はアジンからなる複素環を形成さ
せる原子を示す。ここで、もし必要であれば、上記縮合
芳香族環に他の異なる環を付加することが可能である。
また、機能上の改善が無いまま嵩ばった分子を付加する
ことを回避するため、Ｚで示される原子の数は１８以下
に維持することが好ましい。

【００８７】さらに、具体的にキレート化オキサノイド
化合物を例示すると、トリス（８−キノリノール）アル
ミニウム（以下、Ａｌｑと略記する），ビス（８−キノ
リノール）マグネシウム，ビス（８−キノリノール）亜
鉛，ビス（２−メチル−８−キノリノール）亜鉛，ビス
（ベンゾ−８−キノリノール）亜鉛，ビス（２−メチル
−８−キノリラート）アルミニウムオキシド，トリス
（８−キノリノール）インジウム，トリス（５−メチル
−８−キノリノール）アルミニウム，８−キノリノール
リチウム，トリス（５−クロロ−８−キノリノール）ガ
リウム，トリス（２−メチル−８−キノリノール）ガリ
ウム，ビス（５−クロロ−８−キノリノール）カルシウ
ム，５，７−ジクロル−８−キノリノールアルミニウ
ム，トリス（５，７−ジブロモ−８−ヒドロキシキノリ
ノール）アルミニウム，トリス（７−プロピル−８−キ
ノリノール）−キノリノール）アルミニウム，ビス（８
−キノリノール）ベリリウム，ビス（２−メチル−８ベ
リリウム）などがある。

【００８８】本発明に用いられる白色有機ＥＬ素子にお
いては、第一発光層に青色蛍光体を含有させてもよい。
青色蛍光体は溶液状態での蛍光ピーク波長が３８０ｎｍ
以上４８０ｎｍ未満である有機化合物であれば特に制限
はない。特願平５−１２９４３８号明細書に記載されて
いるスチルベン誘導体，ジスチリルアリーレン誘導体及
びトリススチリルアリーレン誘導体の中から選ばれた少
なくとも一種を含有させるのが好ましい。該スチルベン
誘導体とは、少なくとも２つの芳香族環を有し、これら
芳香族環をビニル基又は置換されたビニル基により結合
して構成され、かつ上記芳香族環又はビニル基のいずれ
かに電子供与性基を有する化合物である。ジスチリルア
リーレン誘導体とは、１つのアリーレン基に２つの芳香
族環がビニル基又は置換ビニル基を介して結合し、かつ
電子供与性基を有する化合物である。トリススチリルア
リーレン誘導体とは、１つの三価の芳香族環基に３つの
芳香族環がビニル基又は置換ビニル基を介して結合し、
かつ電子供与性基を有する化合物である。電子供与性基
を分子骨格に有する前記誘導体において該電子供与性基
とは、好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基，炭素
数６〜１０のアリールオキシ基及び炭素数１〜３０の炭
化水素基を有するアミノ基を示す。上記誘導体におい
て、特に好ましいものは下記一般式（IV）〜（X）で表
される化合物であり、（IV）及び（V）はスチルベン誘
導体，（VI）及び（VII）はジスチリルアリーレン誘導
体， （VIII）〜（X）はトリススチリルアリーレン誘導
体を表す。

【００８９】

【化３２】

【００９０】［式中、Ａｒ¹ は炭素数６〜２０のアリー
ル基を示す。Ｒ⁷ 〜Ｒ¹⁰は、それぞれ独立に水素原子又
は炭素数６〜２０のアリール基を示す。Ｄ¹ 〜Ｄ³ は、
それぞれ独立に電子供与性基で置換された炭素数６〜２
０のアリール基又は炭素数１０〜３０の縮合多環族基を
示す。ここで、Ａｒ¹ ，Ｒ⁷ 〜Ｒ¹⁰は、それぞれ独立に
無置換でもよいし、炭素数１〜１０のアルキル基，炭素
数１〜１０のアルコキシ基，炭素数６〜１０のアリール
オキシ基，炭素数６〜１０のアラルキル基又は炭素数１
〜２０の炭化水素基を有するアミノ基で置換されていて
もよい。また、この置換基が互いに結合し、飽和もしく
は不飽和の五員環ないし六員環を形成してもよい。］

【００９１】

【化３３】

【００９２】［式中、Ａｒ² 及びＡｒ³ は、それぞれ独
立に炭素数６〜２０のアリーレン基を示し、Ａｒ⁴ は炭
素数６〜２０のアリール基を示す。Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁸は、それ
ぞれ独立に水素原子又は炭素数６〜２０のアリール基を
示す。ここで、Ａｒ² 〜Ａｒ⁴ ，Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁸は、それぞ
れ独立に無置換でもよいし、炭素数１〜１０のアルキル
基，炭素数１〜１０のアルコキシ基，炭素数６〜１０の
アリールオキシ基，炭素数６〜１０のアラルキル基又は
炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基で置換さ
れていてもよい。また、これらの置換基が互いに結合し
て飽和もしくは不飽和の五員環ないし六員環を形成して
もよい。Ｄ⁴ 〜Ｄ⁶ は、それぞれ独立に電子供与性基で
置換された炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数１０
〜３０の縮合多環族基を示す。］

【００９３】

【化３４】

【００９４】［式中、Ａｒ⁵ 〜Ａｒ⁷ は、それぞれ独立
に炭素数６〜２４の三価の芳香族環基を示し、Ａｒ⁸ 〜
Ａｒ¹⁰は、それぞれ独立に炭素数６〜２０のアリール基
を示す。Ｒ¹⁹〜Ｒ³⁶は、それぞれ独立に水素原子又は炭
素数６〜２０のアリール基を示す。Ｄ⁷ 〜Ｄ¹²は、それ
ぞれ独立に電子供与性基で置換された炭素数６〜２０の
アリール基又は炭素数１０〜３０の縮合多環族基を示
す。ここで、Ａｒ⁵ 〜Ａｒ⁷ ，Ｒ¹⁹〜Ｒ³⁶は、それぞれ
独立に無置換でもよいし、炭素数１〜１０のアルキル
基，炭素数１〜１０のアルコキシ基，炭素数６〜１０の
アラルキル基，炭素数６〜１０のアリールアルキル基又
は炭素数１〜２０の炭化水素基を有するアミノ基で置換
されていてもよい。また、これらの置換基が互いに結合
し、飽和もしくは不飽和の五員環ないし六員環を形成し
てもよい。］上記一般式（IV）〜（X）におけるアリー
ル基としては、好ましくはフェニル基，ビフェニルイル
基，ナフチル基，ピレニル基，ターフェニルイル基，ア
ントラニル基，トリル基，キシリル基，スチルベニル
基，チエニル基，ビチエニル基，チオフェン基，ビチオ
フェン基，ターチオフェン基などが挙げられる。アリー
レン基としては、好ましくはフェニレン基，ビフェニレ
ン基，ナフチレン基，アントラニレン基，ターフェニレ
ン基，ピレニレン基，スチルベニレン基，チエニレン
基，ビチエニレン基などが挙げられる。三価の芳香族環
基としては、好ましくは、下記に示すものが挙げられ
る。

【００９５】

【化３５】

【００９６】また、上記置換基であるアリールオキシ基
としては、フェニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，ナ
フチルオキシ基，アントラニルオキシ基，ターフェニル
オキシ基，ピレニルオキシ基などが挙げられ、アルキル
基としては、メチル基，エチル基，イソプロピル基，タ
ーシャルブチル基，ペンチル基，ヘキシル基などが挙げ
られる。アルコキシ基としては、メトキシ基，エトキシ
基，イソプロポキシ基，ターシャルブトキシ基，ペンチ
ルオキシ基などが挙げられ、炭化水素基を有するアミノ
基としては、ジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基，ジ
フェニルアミノ基，フェニルエチルアミノ基，フェニル
メチルアミノ基，ジトリルアミノ基，エチルフェニルア
ミノ基，フェニルナフチルアミノ基，フェニルビフェニ
ルアミノ基などが挙げられる。前記一般式（IV）〜
（X）におけるＤ¹ 〜Ｄ¹² は、電子供与性基で置換され
た炭素数１〜２０のアリール基、又は炭素数１０〜３０
の縮合多環族基である。ここで、電子供与性基とは、好
ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基，炭素数６〜２
０のアリールオキシ基，炭素数１〜３０の炭化水素基を
有するアミノ基が挙げられ、特に好ましくは炭素数１〜
３０の炭化水素基を有するアミノ基が挙げられる。この
アミノ基としては、 一般式（XII）

【００９７】

【化３６】

【００９８】［式中、Ｘ¹ 及びＸ² は、それぞれ独立に
炭素数６〜２０のアリール基，炭素数１〜１０のアルキ
ル基又は炭素数６〜２０のアラルキル基を示し、互いに
結合して飽和又は不飽和の環状構造を形成してもよい。
また、Ｘ¹ ，Ｘ² には、炭素数１〜１０のアルキル基，
炭素数７〜１０のアラルキル基，炭素数６〜１０のアリ
ールオキシ基又は炭素数６〜１０のアルコキシ基が置換
してもよい。さらに、一般式（XII） で表されるアミノ
基に置換するアリール基としてのＸ¹ とＸ² が互いに結
合した含窒素芳香族環基となってもよい。］で表される
ものが挙げられる。上記電子供与性基としては、例えば
フェニルオキシ基，ビフェニルオキシ基，ナフチルオキ
シ基，アントラニルオキシ基，ターフェニルイルオキシ
基などのアリールオキシ基，メトキシ基，エトキシ基，
イソプロポキシ基，ターシャルブチルオキシ基，ペンチ
ルオキシ基などのアルコキシ基，ジメチルアミノ基，ジ
エチルアミノ基，ジフェニルアミノ基，フェニルメチル
アミノ基，フェニルエチルアミノ基，フェニルメチルエ
チルアミノ基，ジトリルアミノ基，エチルフェニルアミ
ノ基，フェニルナフチルアミノ基，フェニルビフェニル
イルアミノ基などの炭化水素基を有するアミノ基などが
挙げられる。また、Ｄ¹ 〜Ｄ¹²の具体例としては、下記
に示すものが挙げられる。

【００９９】

【化３７】

【０１００】

【化３８】

【０１０１】

【化３９】

【０１０２】

【化４０】

【０１０３】上記一般式（IV）〜（X）で表される化合
物の具体例としては、下記のものが挙げられる。

【０１０４】

【化４１】

【０１０５】

【化４２】

【０１０６】

【化４３】

【０１０７】

【化４４】

【０１０８】

【化４５】

【０１０９】

【化４６】

【０１１０】その他の青色蛍光体として好ましいものと
してにアントラセン，ペリレン，コロネン等の多環芳香
族やそのアルキル置換体がある。

【０１１１】第二発光層には、緑色蛍光体を含有させて
もよい。緑色蛍光体としては溶液状態での蛍光ピーク波
長が４８０ｎｍ以上５８０ｎｍ未満である有機化合物で
あれば特に制限はない。ドープする緑色蛍光体として
は、３−（２’−ベンジミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノクマリン（クマリン５３５）、３−（２−
ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（ク
マリン５４０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラ
ヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ−＜９，９
ａ，１−ｇｈ＞クマリン（クマリン５４０Ａ）、３−
（５−クロロ−２−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチル
アミノクマリン（クマリン３４）、４−トリフルオロメ
チル−ピペリジノ［３，２−ｇ］クマリン（クマリン３
４０）、Ｎ−エチル−４−トリフルオロメチル−ピペリ
ジノ［３，２−ｇ］クマリン（クマリン３５５）、Ｎ−
メチル−４−トリフルオロメチル−ピペリジノ［２，３
−ｈ］クマリン、９−シアノ−１，２，４，５−３Ｈ，
６Ｈ，１０Ｈ−テトラヒドロ−１−ベンゾピラノ［９，
９ａ１−ｇｈ］キノリジン−１０−オン（クマリン３３
７）等のクマリン化合物、２，７−ジクロロフルオレセ
ン等のキサンチン色素、テトラセン、キナクリドン化合
物等が挙げられる。

【０１１２】また、前記第一発光層および第二発光層並
びに前記第一発光層および第二発光層以外の有機物層に
赤色蛍光体を含有させてもよい。赤色蛍光体としては、
溶液状態のピーク波長が５８０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下
であれば特に制限はなく、例えば、ヨーロッパ公開特許
第０２８１３８１号公報に記載されている赤色発進レー
ザー色素として用いられるジシアノメチレンピラン誘導
体，ジシアノメチレンチオピラン誘導体，フルオレセイ
ン誘導体，ペリレン誘導体などが挙げられる。具体的に
は、下記に示すものが挙げられる。

【０１１３】

【化４７】

【０１１４】これらの有機化合物は、層を形成する有機
化合物に対して、０．１〜１０モル％、好ましくは０．
５〜５モル％の割合で含有させることが必要である。こ
の０．１〜１０モル％というのは、濃度消光を生じない
ための濃度範囲である。 正孔注入層 次に、正孔注入層は、必ずしも本発明に用いられる素子
に必要なものではないが、発光性能の向上のために用い
た方が好ましいものである。この正孔注入層は発光層へ
の正孔注入を助ける層であって、正孔移動度が大きく、
イオン化エネルギーが、通常５．５ｅＶ以下と小さい。
このような正孔注入層としては、より低い電界で正孔を
発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度
が、たとえば１０⁴〜１０⁶Ｖ／ｃｍの電界印加時に、
少なくとも１０^-6ｃｍ²／Ｖ・ｓｅｃであればなお好ま
しい。このような正孔注入材料については、前記の好ま
しい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、
光導伝材料において、正孔の電荷輸送材として慣用され
ているものや、ＥＬ素子の正孔注入層に使用される公知
のものの中から任意のものを選択して用いることができ
る。

【０１１５】具体例としては、例えばトリアゾール誘導
体（米国特許３，１１２，１９７号明細書等参照）、オ
キサジアゾール誘導体（米国特許３，１８９，４４７号
明細書等参照）、イミダゾール誘導体（特公昭３７−１
６０９６号公報等参照）、ポリアリールアルカン誘導体
（米国特許３，６１５，４０２号明細書、同第３，８２
０，９８９号明細書、同第３，５４２，５４４号明細
書、特公昭４５−５５５号公報、同５１−１０９８３号
公報、特開昭５１−９３２２４号公報、同５５−１７１
０５号公報、同５６−４１４８号公報、同５５−１０８
６６７号公報、同５５−１５６９５３号公報、同５６−
３６６５６号公報等参照）、ピラゾリン誘導体およびピ
ラゾロン誘導体（米国特許第３，１８０，７２９号明細
書、同第４，２７８，７４６号明細書、特開昭５５−８
８０６４号公報、同５５−８８０６５号公報、同４９−
１０５５３７号公報、同５５−５１０８６号公報、同５
６−８００５１号公報、同５６−８８１４１号公報、同
５７−４５５４５号公報、同５４−１１２６３７号公
報、同５５−７４５４６号公報等参照）、フェニレンジ
アミン誘導体（米国特許第３，６１５，４０４号明細
書、特公昭５１−１０１０５号公報、同４６−３７１２
号公報、同４７−２５３３６号公報、特開昭５４−５３
４３５号公報、同５４−１１０５３６号公報、同５４−
１１９９２５号公報等参照）、アリールアミン誘導体
（米国特許第３，５６７，４５０号明細書、同第３，１
８０，７０３号明細書、同第３，２４０，５９７号明細
書、同第３，６５８，５２０号明細書、同第４，２３
２，１０３号明細書、同第４，１７５，９６１号明細
書、同第４，０１２，３７６号明細書、特公昭４９−３
５７０２号公報、同３９−２７５７７号公報、特開昭５
５−１４４２５０号公報、同５６−１１９１３２号公
報、同５６−２２４３７号公報、***特許第１，１１
０，５１８号明細書等参照）、アミノ置換カルコン誘導
体（米国特許第３，５２６，５０１号明細書等参照）、
オキサゾール誘導体（米国特許第３，２５７，２０３号
明細書等に開示のもの）、スチリルアントラセン誘導体
（特開昭５６−４６２３４号公報等参照）、フルオレノ
ン誘導体（特開昭５４−１１０８３７号公報等参照）、
ヒドラゾン誘導体（米国特許第３，７１７，４６２号明
細書、特開昭５４−５９１４３号公報、同５５−５２０
６３号公報、同５５−５２０６４号公報、同５５−４６
７６０号公報、同５５−８５４９５号公報、同５７−１
１３５０号公報、同５７−１４８７４９号公報、特開平
２−３１１５９１号公報等参照）、スチルベン誘導体
（特開昭６１−２１０３６３号公報、同６１−２２８４
５１号公報、同６１−１４６４２号公報、同６１−７２
２５５号公報、同６２−４７６４６号公報、同６２−３
６６７４号公報、同６２−１０６５２号公報、同６２−
３０２５５号公報、同６０−９３４４５号公報、同６０
−９４４６２号公報、同６０−１７４７４９号公報、同
６０−１７５０５２号公報等参照）、シラザン誘導体
（米国特許第４，９５０，９５０号明細書）、ポリシラ
ン系（特開平２−２０４９９６号公報）、アニリン系共
重合体（特開平２−２８２２６３号公報）、特開平１−
２１１３９９号公報に開示されている導電性高分子オリ
ゴマー（特にチオフェンオリゴマー）等を挙げることが
できる。正孔注入層の材料としては上記のものを使用す
ることができるが、ポルフィリン化合物（特開昭６３−
２９５６９６５号公報等に開示のもの）、芳香族第三級
アミン化合物およびスチリルアミン化合物（米国特許第
４，１２７，４１２号明細書、特開昭５３−２７０３３
号公報、同５４−５８４４５号公報、同５４−１４９６
３４号公報、同５４−６４２９９号公報、同５５−７９
４５０号公報、同５５−１４４２５０号公報、同５６−
１１９１３２号公報、同６１−２９５５５８号公報、同
６１−９８３５３号公報、同６３−２９５６９５号公報
等参照）、特に芳香族第三級アミン化合物を用いること
が好ましい。上記ポルフィリン化合物の代表例として
は、ポルフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニ
ル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン銅（II）、１，１０，
１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフ
ィン亜鉛（II）、５，１０，１５，２０−テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフ
ィン、シリコンフタロシアニンオキシド、アルミニウム
フタロシアニンクロリド、フタロシアニン（無金属）、
ジリチウムフタロシアニン、銅テトラメチルフタロシア
ニン、銅フタロシアニン、クロムフタロシアニン、亜鉛
フタロシアニン、鉛フタロシアニン、チタニウムフタロ
シアニンオキシド、Ｍｇフタロシアニン、銅オクタメチ
ルフタロシアニン等を挙げることができる。また、前記
芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物
の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニ
ル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，
１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（以下ＴＰＤ
と略記する）、２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミ
ノフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−ト
リルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ジアミノフェニ
ル、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニ
ル）−４−フェニルシクロヘキサン、ビス（４−ジメチ
ルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン、ビス
（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（４−メトキ
シフェニル）−４，４’−ジアミノビフェニル、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノ
フェニルエーテル、４，４’−ビス（ジフェニルアミ
ノ）クオードリフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリ
ル）アミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−
［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、
４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニ
ル）ベンゼン、３−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジフェニ
ルアミノスチルベンゼン、Ｎ−フェニルカルバゾール、
米国特許第５，０６１，５６９号に記載されている２個
の縮合芳香族環を分子内に有する、例えば、４，４’−
ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビ
フェニル（以下ＮＰＤと略記する）、また、特開平４−
３０８６８８号公報で記載されているトリフェニルアミ
ンユニットが３つスターバースト型に連結された４，
４’，４''−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ
−フェニルアミノ］トリフェニルアミン（以下ＭＴＤＡ
ＴＡと略記する）等を挙げることができる。また、発光
層の材料として示した前述の芳香族ジメチリディン系化
合物の他、ｐ型−Ｓｉ，ｐ型ＳｉＣ等の無機化合物も正
孔注入層の材料として使用することができる。正孔注入
層は、上述した化合物を、例えば真空蒸着法，スピンコ
ート法，キャスト法，ＬＢ法等の公知の方法により薄膜
化することにより形成することができる。正孔注入層と
しての膜厚は、特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μ
ｍである。この正孔注入層は、上述した材料の一種また
は二種以上からなる一層で構成されていてもよいし、ま
たは、前記正孔注入層とは別種の化合物からなる正孔注
入層を積層したものであってもよい。また、有機半導体
層は、発光層への正孔注入または電子注入を助ける層で
あって、 １０^-10Ｓ／ｃｍ以上の導電率を有するものが
好適である。このような有機半導体層の材料としては、
含チオフェンオリゴマーや含アリールアミンオリゴマー
などの導電性オリゴマー、含アリールアミンデンドリマ
ーなどの導電性デンドリマーなどを用いることができ
る。 電子注入層 一方電子注入層は、発光層への電子の注入を助ける層で
あって、電子移動度が大きく、また付着改善層は、この
電子注入層の中で、特に電極との付着が良い材料からな
る層である。電子注入層に用いられる材料としては、た
とえば８−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属
錯体、あるいはオキサジアゾール誘導体が好ましく挙げ
られる。また、付着改善層に用いられる材料としては、
特に８−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯
体が好適である。上記８−ヒドロキシキノリンまたはそ
の誘導体の金属錯体の具体例としては、オキシン（一般
に８−キノリノールまたは８−ヒドロキシキノリン）の
キレートを含む金属キレートオキサノイド化合物が挙げ
られる。一方、オキサジアゾール誘導体としては、一般
式（II），（III） および（IV）

【０１１６】

【化４８】

【０１１７】［式中Ａｒ¹⁰〜Ａｒ¹³はそれぞれ置換また
は無置換のアリール基を示し、Ａｒ¹⁰とＡｒ¹¹およびＡ
ｒ¹²とＡｒ¹³はそれぞれにおいて互いに同一であっても
異なっていてもよく、Ａｒ¹⁴置換または無置換のアリレ
ーン基を示す。］で表わされる電子伝達化合物が挙げら
れる。ここで、アリール基としてはフェニル基，ビフェ
ニル基，アントラニル基，ペリレニル基，ピレニル基な
どが挙げられ、アリレーン基としてはフェニレン基，ナ
フチレン基，ビフェニレン基，アントラセニレン基，ペ
ニレニレン基，ピレニレン基などが挙げられる。また、
置換基としては炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１
〜１０のアルコキシ基またはシアノ基などが挙げられ
る。この電子伝達化合物は、薄膜形成性のものが好まし
い。上記電子伝達化合物の具体例としては、下記のもの
が挙げられる。

【０１１８】

【化４９】

【０１１９】電極（たとえば陰極） 電極としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属，
合金，電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物
質とするものが用いられる．このような電極物質の具体
例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、
マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アル
ミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂ Ｏ₃ ）、アルミニ
ウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属などが挙
げられる。この電極は、これらの電極物質を蒸着やスパ
ッタリングなどの方法により、薄膜を形成させることに
より、作製することができる。また、電極としてのシー
ト抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎ
ｍ〜１μｍ、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。な
お、本発明に用いられるＥＬ素子においては、該透明電
極または電極のいずれか一方が透明または半透明である
ことが、発光を透過するため、発光の取り出し効率がよ
いので好ましい。

【０１２０】有機ＥＬ素子の作製（例） 以上例示した材料および方法により発光層、透明電極
（陽極）、必要に応じて正孔注入層、および必要に応じ
て電子注入層を形成し、さらに電極（陰極）を形成する
ことにより、有機ＥＬ素子を作製することができる。ま
た、電極から透明電極へ、前記と逆の順序で有機ＥＬ素
子を作製することもできる。

【０１２１】以下に基板上に透明電極／正孔注入層／発
光層／電子注入層／電極が順次設けられた構成の有機Ｅ
Ｌ素子の作製例を記載する。まず、適当な基板上に、透
明電極材料からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０
〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように蒸着やスパッタ
リング等の方法により形成して、透明電極を作製する。
次に、この透明電極上に正孔注入層を設ける。正孔注入
層の形成は、前述したように真空蒸着法，スピンコート
法，キャスト法，ＬＢ法等の方法により行なうことがで
きるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが発
生しにくい等の点から、真空蒸着法により形成すること
が好ましい。真空蒸着法により正孔注入層を形成する場
合、その蒸着条件は、使用する化合物（正孔注入層の材
料）、目的とする正孔注入層の結晶構造や再結合構造等
により異なるが、一般に蒸着源温度５０〜４５０℃、真
空度１０^-7〜１０^-3ｔｏｒｒ、蒸着速度０．０１〜５０
ｎｍ／ｓｅｃ、基板温度−５０〜３００℃、膜厚５ｎｍ
〜５μｍの範囲で適宜選択することが好ましい。

【０１２２】次に正孔注入層上に発光層を設ける発光層
の形成も、所望の有機発光材料を用いて、真空蒸着法，
スパッタリング，スピンコート法，キャスト法等の方法
により有機発光材料を薄膜化することにより形成できる
が、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成し
にくい等の点から、真空蒸着法により形成することが好
ましい。真空蒸着法により発光層を形成する場合、その
蒸着条件は、使用する化合物により異なるが、一般的に
正孔注入層と同じ様な条件範囲の中から選択することが
できる。

【０１２３】次に、この発光層上に電子注入層を設け
る。正孔注入層、発光層と同様、均質な膜を得る必要か
ら真空蒸着法により形成することが好ましい。蒸着条件
は、正孔注入層、発光層と同様条件範囲から選択するこ
とができる。

【０１２４】最後に、電極を積層して有機ＥＬ素子を得
ることができる。電極は、金属から構成されるもので、
蒸着法，スパッタリングを用いることができる。しか
し、下地の有機物層を成膜時の損傷から守るためには、
真空蒸着法が好ましい。

【０１２５】これまで記載してきた有機ＥＬ素子の作製
は、一回の真空引きで一貫して透明電極から電極まで作
製することが好ましい。

【０１２６】なお、有機ＥＬ素子に直流電圧を印加する
場合、透明電極を＋、電極を−の極性にして、５〜４０
Ｖの電圧を印加すると、発光が観測できる。また、逆の
極性で電圧を印加しても電流は流れず、発光は全く生じ
ない。さらに交流電圧を印加した場合には、透明電極が
＋、電極が−の極性になったときのみ均一な発光が観測
される。印加する交流の波形は任意でよい。

【０１２７】２．支持基板 本発明に用いられる支持基板としては、有機物で構成さ
れていない材料が好ましく、透明性を問わない。むし
ろ、カラーフィルタ側から光を取り出すので、遮光さ
れ、かつ光を反射するものがより好ましい。ただし、さ
らに積層する電極パターンの電気的絶縁をとるため、少
なくとも有機ＥＬ素子側表面が絶縁体とすることが必要
である。また、後で積層する薄厚の透明ガラス板のそ
り、ゆがみ、を生じさせず、補強できる程度の支持基板
であるならば、板厚は特に問わない。

【０１２８】具体的には、たとえばセラミックス板や、
金属板等にシリカ、アルミナ等の無機酸化物で絶縁処理
したもの等、を挙げることができるが、ガラス板（ソー
ダーライムガラス、低膨張ガラス等）、石英板など透明
な材料については、有機ＥＬ素子の反対側に遮光フィル
ムや黒色塗膜反射板等を配置すればよい。

【０１２９】３．カラーフィルタ及びブラックマトリッ
クス カラーフイルタ 本発明に用いられるカラーフィルタとしては、たとえ
ば、下記の色素のみまたは、色素をバインダー樹脂中に
溶解または分散させた固体状態のものを挙げることがで
きる。

【０１３０】赤色（Ｒ）色素：ペリレン系顔料、レーキ
顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノ
ン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔
料、イソインドリノン系顔料等の単品および少なくとも
二種類以上の混合物

【０１３１】緑色（Ｇ）色素：ハロゲン多置換フタロシ
アニン系顔料、ハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔
料、トリフェルメタン系塩基性染料、イソインドリン系
顔料、イソインドリノン系顔料等の単品および少なくと
も二種類以上の混合物

【０１３２】青色（Ｂ）色素：銅フタロシアニン系顔
料、インダンスロン系顔料、インドフェノール系顔料、
シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等の単品および少
なくとも二種類以上の混合物

【０１３３】一方、バインダー樹脂は、透明な（可視光
５０％以上）材料が好ましい。たとえば、ポリメチルメ
タクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロ
キシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
の透明樹脂（高分子）が挙げられる。

【０１３４】なお、カラーフィルタを平面的に分離配置
するために、フォトリソグラフィー法が適用できる感光
性樹脂も選ばれる。たとえば、アクリル酸系、メタクリ
ル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビ
ニル基を有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。ま
た、印刷法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷
インキ（メジウム）が選ばれる。たとえば、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリ
ゴマー、ポリマーからなる組成物、また、ポリメチルメ
タクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロ
キシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等
の透明樹脂を用いることができる。

【０１３５】カラーフィルタが主に色素からなる場合
は、所望のカラーフィルタパターンのマスクを介して真
空蒸着またはスパッタリング法で成膜され、一方、色素
とバインダー樹脂からなる場合は、蛍光色素と上記樹脂
およびレジストを混合、分散または可溶化させ、スピン
コート、ロールコート、キャスト法等の方法で製膜し、
フォトリソグラフィー法で所望のカラーフィルタパター
ンでパターニングしたり、印刷等の方法で所望のカラー
フィルターのパターンでパターニングし、熱処理して硬
化させるのが一般的である。

【０１３６】それぞれのカラーフィルタの膜厚と透過率
は、下記とすることが好ましい。Ｒ：膜厚０．５〜５．
０μｍ（透過率５０％以上／６１０ｎｍ），Ｇ：膜厚
０．５〜５．０μｍ（透過率５０％以上／５４５ｎ
ｍ），Ｂ：膜厚０．２〜５．０μｍ（透過率５０％以上
／４６０ｎｍ）

【０１３７】また、特にカラーフィルタが色素とバイン
ダー樹脂からなるものは、色素の濃度が、カラーフィル
タが問題なくパターニングできて、かつ、有機ＥＬ素子
の発光を十分透過できる範囲であればよい。色素の種類
にもよるが、使用するバインダー樹脂を含めたカラーフ
ィルタ膜に色素が５〜５０重量％含まれる。

【０１３８】ブラックマトリックス 本発明に用いられるブラックマトリックスとしては、た
とえば、下記の金属および金属酸化物薄膜、並びに黒色
色素を挙げることができる。金属および金属酸化物薄膜
の具体例としては、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎ
ｉ）、銅（Ｃｕ）等の金属およびその酸化物の薄膜を挙
げることができる。上記金属および金属酸化物の混合物
としては、光学濃度３．０以上（膜厚１００〜３０００
オングストローム）のものが好ましい。

【０１３９】黒色色素の具体例としては、カーボンブラ
ック、チタンブラック、アニリンブラックまたはカラー
フィルタの色素を混合して、黒色化したもの、またはカ
ラーフィルタと同じように上記色素をバインダー樹脂中
に溶解または分散させた固体状態のものを挙げることが
できる。

【０１４０】金属および金属酸化物薄膜は、スパッタリ
ング法、蒸着法、ＣＶＤ法等により絶縁性基板全面か、
マスキングの手法により少なくとも表示部全面に成膜
後、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行っ
て、ブラックマトリックスのパターンを形成することが
できる。

【０１４１】黒色色素を用いた場合は、カラーフィルタ
の場合と同様にパターニングして、ブラックマトリック
スを形成することができる。

【０１４２】４．透明無機酸化物基板 本発明に用いられる透明無機酸化物基板としては、後に
記載する透明かつ電気絶縁性無機酸化物層からなる基板
を挙げることができる。ただし本基板は、電気絶縁性で
ある必要はない。このような無機酸化物基板は、特に水
蒸気、酸素、有機物のガス等の遮断効果が大きい。

【０１４３】板厚は、ＲＢＧ三原色のような多色発光を
行うために、有機ＥＬ素子の発光を透過して異なる発光
を透過して異なる発光をするカラーフィルタを平面的に
分離配置した場合には、限りなく小さくした方が、視野
角を向上させるために好ましい。無機酸化物基板の厚さ
としては、通常液晶用として７００μｍから１．１ｍｍ
のものが用いられることが多いが、上記の場合には、１
μｍ以上７００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上２
００μｍ以下のものを用いる。なお、厚さを１μｍ未満
とすると、無機酸化物基板の取扱いが難しく、容易に破
壊しやすい。また、有機ＥＬ素子の積層した支持基板と
封止手段によって貼り合わせると、無機酸化物基板が撓
んだり、そり、ゆがみの程度が著しい。一方２００μｍ
を超えると、カラーフィルタの精細度にもよるが、有機
ＥＬ素子の発光がカラーフィルタとのギャップから洩れ
だし、多色発光の視野角を狭めて実用性を低下させる場
合がある。

【０１４４】５．封止手段 本発明に用いられる封止手段としては特に制限はなく、
たとえば通常の接着剤によるものを挙げることができ
る。具体的には、アクリレート系オリゴマー，メタクリ
レート系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化お
よび熱硬化型接着剤、２−シアノアクリレートなどの湿
気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポ
キシ系などの熱および化学硬化型（二液混合）を挙げる
ことができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポ
リエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。な
お、有機ＥＬ素子が熱処理により劣化する場合があるの
で、室温から８０℃までに接着硬化できるものが好まし
い。

【０１４５】封止部分への接着剤の塗布は、市販のディ
スペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように
印刷してもよい。塗布後の光硬化について、可視光の場
合はよいが、紫外線では、有機ＥＬ素子が劣化する場合
がある。よって、紫外線照射時は、有機ＥＬ素子に照射
されないようなマスキング等の方法が有効である。

【０１４６】６．間隙 本発明において、前記透明無機酸化物基板と有機ＥＬ素
子との間に設けられる間隙は、有機ＥＬ素子への衝撃ま
たは応力を緩和するために用いられる。有機ＥＬ素子上
に直接、封止手段の材料をベタ塗りすると、その材料の
硬化時の応力により素子が破壊されやすい。

【０１４７】また、間隙には、空気だけでは素子が酸化
される恐れがあるので、窒素，アルゴン等の不活性ガス
や、フッ化炭化水素のような不活性液体を封入すること
が好ましい。

【０１４８】高精細な多色発光の場合、間隙の距離が大
きくなると、光の洩れが大きくなり、視野角が著しく低
下する。従って、この場合の間隙の距離は精細度にもよ
るが、距離は小さい方がよく、通常数μｍから２００μ
ｍが好ましい。

【０１４９】７．保護層（透明平坦膜） 本発明において、必要に応じて用いられる保護層（透明
平坦膜）は、多色発光装置の外側にあるカラーフィルタ
（ブラックマトリックスを含む）が物理的に傷つくこ
と、外部の環境因子（水、酸素、光）により劣化するの
を保護するために用いられる。その材料としては、透明
な（可視光５０％以上）材料であることが好ましい。

【０１５０】具体的には、光硬化型樹脂および／または
熱硬化型樹脂のように、アクリレート系、メタクリレー
ト系の反応性ビニル基を有するものを挙げることができ
る。また、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリ
ゴマー、ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を挙げる
ことができる。カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子の耐
光性を高めるために、保護層中に紫外線吸収剤を添加す
ることもできる。

【０１５１】保護層は、上記材料を、液状の場合はスピ
ンコート、ロールコート、キャスト法等の方法で製膜
し、光硬化型樹脂は光の照射後必要に応じて熱硬化さ
せ、熱硬化型は製膜後そのまま熱硬化させる。フィルム
状の場合は、そのまま、粘着剤を塗布して貼着してもよ
い。

【０１５２】保護層の厚さは、視野角にほとんど影響を
及ぼさないので、特に制限はないが、厚くなりすぎる
と、光の透過率に影響を及ぼすので、通常１μｍから５
ｍｍの範囲で選ぶことができる。

【０１５３】８．透明基板 本発明において必要に応じて用いられる透明基板として
は、ガラス基板（ソーダライムガラス、低膨張ガラス、
石英板等の無機酸化物基板）、ポリマー基板等の透明
（通常可視光透過率５０％以上）な基板を挙げることが
できる。

【０１５４】板厚は、視野角にほとんど影響を及ぼさな
いので、特に制限はないが、厚くなりすぎると、光の透
過率に影響を及ぼすので、通常１μｍから５ｍｍの範囲
で選ぶことができる。

【０１５５】この透明基板は、カラーフィルタの保護な
らびカラーフィルタを製膜するときの支持基板としても
使われ、カラーフィルタの製膜後、先の透明無機酸化物
基板を封止手段に用いたような通常の透明な接着剤で貼
り合わせ、その基板を、有機ＥＬ素子の積層した支持基
板と接合して有機ＥＬ素子を封止してもよい。

【０１５６】９．本発明の作用 本発明においては、カラーフィルタを透明な無機酸化物
基板を介して、有機ＥＬ素子の反対側に配置することに
よって、カラーフィルタから発生する有機物のモノマ
ー、水蒸気などの、素子を劣化させるガスをガラス基板
で遮断し、有機ＥＬ素子、延いては、それを用い多色発
光装置の発光寿命を向上させることができる。

【０１５７】また、有機ＥＬ素子の白色光を透過して、
異なる色を発光するカラーフィルタを平面的に分離配置
することによって、ＲＢＧ三原色等の複数色の発光を得
ることができるが、本発明では、カラーフィルタを有機
ＥＬ素子の反対側に透明な無機酸化物基板を用いること
によって、先に記載する効果が期待できる。さらに透明
な無機酸化物基板の板厚を１μｍ以上２００μｍ以下と
することによって、先に記載した効果のみならず、有機
ＥＬ素子の発光が、所望のカラーフィルタ以外のカラー
フィルタに吸収されたり、カラーフィルタの隙間から漏
れることが低減され、所望の発光色を得ることが可能と
なり、結果的には、多色発光の視野角を向上させること
ができる。

【０１５８】さらに、カラーフィルタを多色発光装置の
外側に配置しておくと、取扱い上、カラーフィルタを傷
つける場合や、外部の環境因子（水、酸素、光）から劣
化させる場合がある。そのため、カラーフィルタ上に透
明な保護膜を配置することによって、カラーフィルタを
保護することができる。また、透明な基板を保護層また
は、カラーフィルタを作製する上での支持基板として用
いることもできる。

【０１５９】II．多色発光装置（第２発明）およびその
製造方法（第３発明） 本願の第２発明は、前述の観点からすると、具体的に
は、以下の構成（１）〜（４）を挙げることができる。
この構成（１）〜（４）は、それぞれ図９〜図１２に示
される。なお、以下の赤色、緑色、青色に限定されるも
のではない。 （１）透明支持基板１１／赤色カラーフィルタ３Ｒ，緑
色カラーフィルタ３Ｇ，青色カラーフィルタ３Ｂ／透明
かつ電気絶縁性無機酸化物層１２／有機ＥＬ素子１（透
明電極１ａ／有機物層１ｂ／電極１ｃ） （２）透明支持基板１１／赤色カラーフィルタ３Ｒ，緑
色カラーフィルタ３Ｇ，青色カラーフィルタ３Ｂ／接着
層１３／透明かつ電気絶縁性無機酸化物層１２／有機Ｅ
Ｌ素子１（透明電極１ａ／有機物層１ｂ／電極１ｃ） （３）透明支持基板１１／赤色カラーフィルタ３Ｒ，緑
色カラーフィルタ３Ｇ，青色カラーフィルタ３Ｂ／保護
層（透明平坦化膜）７／接着層１３／透明かつ電気絶縁
性無機酸化物層１２／有機ＥＬ素子１（透明電極１ａ／
有機物層１ｂ／電極１ｃ） （４）透明支持基板１１／赤色カラーフィルタ３Ｒ，緑
色カラーフィルタ３Ｇ，青色カラーフィルタ３Ｂ／保護
層（透明平坦化膜）７／透明かつ電気絶縁性無機酸化物
層１２／有機ＥＬ素子１（透明電極１ａ／有機物層１ｂ
／電極１ｃ）

【０１６０】また、図１３に示すように前記カラーフィ
ルタの少なくとも間隙に、ブラックマトリックス９を配
置し、有機ＥＬ素子１の発光の漏れ光を遮断して多色発
光の一層の視認性を高めることもできる。

【０１６１】さらに、図１４に示すように、透明かつ電
気絶縁性無機酸化物層１２を二層として、下層の無機酸
化物層（例えばソーダ−石灰ガラスなど）からの無機イ
オンの溶出を上層の無機酸化物層で抑え、溶出イオンか
ら有機ＥＬ素子を保護することもできる。

【０１６２】なお、以上の透明かつ電気絶縁性無機酸化
物層１２の厚さは、本発明では０．０１μｍ以上２００
μｍ以下とする。０．０１μｍ未満とすると、無機酸化
物粒子の単層膜に近づき、下層のカラーフィルタ，保護
層等、有機物から発生する劣化ガスを遮断することがで
きない。また、２００μｍを超えるとカラーフィルタの
精細度にもよるが、有機ＥＬ素子１の発光がカラーフィ
ルタとのギャップから漏れだし多色発光の視野角を狭め
て、実用性を低下させる場合がある。

【０１６３】以下、本願の第２発明の多色発光装置およ
び第３発明の製造方法を各構成要素ごとに具体的に説明
する。なお、この構成要素に用いられる材料は最小必要
限のものを記載するものであり、これに限定されるもの
ではない。また、第１発明と共通する事項は、重複を避
けるため、極力その記載を省略した。

【０１６４】１．有機ＥＬ素子 本発明に用いられる有機ＥＬ素子の構造としては、第１
発明の場合と同様である。

【０１６５】透明電極（たとえば陽極） 透明電極の材料としては、第１発明の場合と同様のもの
を用いることができる。なお、第２発明の場合、透明電
極は、蒸着法やスパッタ法等の方法で、所望の基板上に
上記材料の薄膜を成膜し、フォトリソグライフィー法で
所望の形状でパターニングして透明電極のパターンを形
成することが容易である。パターン精度を問わない（１
００μｍ以上程度）ならば、上記材料の蒸着やスパッタ
時に所望の形状のマスクを介して透明電極のパターンを
形成することができる。発光層からの発光を透明電極か
ら取り出す場合、透明電極の発光に対する好ましい透過
率および透明電極の好ましいシート抵抗は、第１発明の
場合と同様である。

【０１６６】発光層 発光層の材料としては、第１発明と同様のものを用いる
ことができる。

【０１６７】正孔注入層 正孔注入層としては、第１発明と同様のものを用いるこ
とができる。

【０１６８】電子注入層 電子注入層としては、第１発明と同様のものを用いるこ
とができる。

【０１６９】電極（陰極） 電極としては、第１発明と同様のものを用いることがで
きる。

【０１７０】有機ＥＬ素子の作製（例） 本発明に用いられる有機ＥＬ素子は、第１発明と同様に
作製することができる。

【０１７１】２．透明支持基板 本発明に用いられる透明支持基板としては、たとえば、
ガラス板、プラスチック板（ポリカーボネート、アクリ
ル等）、プラスチックフィルム（ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエーテルスルフィド等）、石英板などの透
明な（可視光透過率５０％以上）材料であることが好ま
しい、また、板厚としては、この上に積層する薄厚のガ
ラス板にそり、ゆがみを生じさせることがなく、補強で
きる程度の支持基板であるならば、特に制限はない。

【０１７２】３．カラーフィルタ及びブラックマトリッ
クス カラーフィルタ及びブラックマトリックスとしては、第
１発明と同様のものを用いることができる。

【０１７３】４．透明かつ電気絶縁性無機酸化物層 本発明に用いられる透明かつ電気絶縁性無機酸化物層
は、例えば、蒸着またはスパッタリング、ディピング等
でカラーフィルタ上または後述する保護層もしくは透明
な接着層上に積層することによって形成することができ
る。なお、この透明かつ電気絶縁性無機酸化物層は、単
層であっても、二層以上の複層であってもよい。たとえ
ば、二層とすることによって、下層の無機酸化物層（例
えばソーダ−石灰ガラスなど）からの無機イオンの溶出
を上層の無機酸化物層で抑え、溶出イオンから有機ＥＬ
素子を保護することができる。

【０１７４】その材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ
₂ ）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂ ）、酸化イットリウム（Ｙ₂Ｏ₃）、酸化ゲルマニウ
ム（ＧｅＯ₂ ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、ほう酸（Ｂ
₂Ｏ₃）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム
（ＢａＯ）、酸化鉛（ＰｂＯ）、ジルコニア（ＺｒＯ
₂ ）、酸化ナトリウム（Ｎａ₂Ｏ）、酸化リチウム（Ｌ
ｉ₂Ｏ）、酸化カリウム（Ｋ₂Ｏ） 等を挙げることがで
きるが、酸化シリコン、酸化アルミニウム、酸化チタン
が、その層（膜）の透明性が高く、その製膜温度が比較
的低温（２５０℃以下）であり、カラーフィルタまたは
保護層をほとんど劣化させないので好ましい。

【０１７５】また、透明かつ電気絶縁性無機酸化物層と
して、ガラス板、または、上記の酸化ケイ素、酸化アル
ミニウム、および酸化チタン等からなる群から選ばれる
一種以上の化合物を、透明な絶縁性のガラス板の上面ま
たは下面の少なくとも一方に製膜したガラス板の場合
は、カラーフィルタ上または保護層上に貼り合わせるだ
けの低温（１５０℃以下）操作が可能であり、カラーフ
ィルタ上または保護層を全く劣化させないのでより好ま
しい。また、ガラス板は、特に水蒸気、酸素またはモノ
マー等の劣化ガスを遮断する効果が大きい。

【０１７６】ガラス板の組成としては、表１または表２
に示すものを挙げることができる。特に、ソーダ−石灰
ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラ
ス、アルミノケイ酸塩ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリ
ウムホウケイ酸ガラス等を挙げることができる。なお、
ここで電気絶縁性無機酸化物層は、その組成として、無
機酸化物を主に含むものであればよく、窒化物（例えば
Ｓｉ₃Ｎ₄）が含まれていてもよい。

【０１７７】透明かつ電気絶縁性無機酸化物層の膜厚
は、有機ＥＬ素子の発光を妨げないものであれば特に制
限はないが、本発明では、０．０１μｍ以上２００μｍ
以下が好ましい。ガラス板、または、上記の酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、および酸化チタン等からなる群
から選ばれる一種以上の化合物を、透明な絶縁性のガラ
ス板の上面または下面の少なくとも一方に製膜したガラ
ス板は、板ガラスの精度、強度上、１μｍ以上２００μ
ｍ以下が好ましい。なお、ここで、透明かつ電気絶縁性
無機酸化物層の膜厚が、０．０１μｍ未満であると、無
機酸化物粒子の単層膜に近づき、カラーフィルタまたは
保護層の有機物から発生する水蒸気、酸素またはモノマ
ー等の劣化ガスを遮断することが困難となり、膜厚が２
００μｍを超えると、カラーフィルタの精細度にもよる
が、有機ＥＬ素子の発光がカラーフィルタとのギャップ
から漏れだし、多色発光の視野角を狭めて、多色発光装
置の実用性を低下させることがある。

【０１７８】さらに、ガラス板を含めた無機酸化物が好
ましいのは、具体的に有機ＥＬ素子の透明電極として、
通常よく使われるＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の無
機の導電性透明材料を用いることができるためであり、
また相互の親和性がよく密着性がよいこと等のためであ
る。

【０１７９】ここで、有機ＥＬ素子の発光寿命を低下さ
せるものとして水蒸気、酸素またはモノマー等の有機物
のガスが問題となるが、本発明に用いられる透明かつ電
気絶縁性無機酸化物層は、その物性として、水蒸気、酸
素またはモノマー等の有機物のガスを発生させる要因を
保有していないこと、および外部からの侵入を遮断し得
ることが要求される。

【０１８０】具体的には、特に無機酸化物層中に含まれ
ている水が熱分析（示差熱分析ＤＴＡ、示差操作熱量測
定ＤＳＣ）により、０．１重量％以下であり、水蒸気ま
たは酸素の無機酸化物層に対するガス透過係数が、ＪＩ
Ｓ Ｋ７１２６の気体透過度試験方法等により、それぞ
れ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃｍＨｇ以下であれ
ば、黒点の発生などによる有機ＥＬ素子の発光寿命の低
下を抑制することができる。

【０１８１】

【表１】

【０１８２】

【表２】

【０１８３】５．保護層（透明平坦膜） 保護層（透明平坦膜）としては、第１発明と同様のもの
を用いることができる。なお、第２発明の場合、保護層
は、上記材料を、液状の場合はスピンコート、ロールコ
ート、キャスト法等の方法で製膜し、光硬化型樹脂は光
の照射後必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型は製膜後そ
のまま熱硬化させる。フィルム状の場合は、そのまま、
粘着剤を塗布して貼着してもよい。

【０１８４】保護層の厚さは、０．５μｍから１００μ
ｍ程度が好ましく、カラーフィルタと有機ＥＬ素子のギ
ャップによる有機ＥＬ素子の発光漏れを限りなく低減す
る（視野角の向上）ため、なるべく膜厚を小さくするこ
とが好ましい。しかしながら、膜厚を小さくし過ぎる
と、接着剤の種類によっては、カラーフィルタの保護効
果がなくなる。

【０１８５】６．透明接着層 本発明において必要に応じて用いられる透明接着層は、
透明支持基板上にカラーフィルタ（必要に応じて、ブラ
ックマトリックス、保護層を含む）を形成した基板と、
特に無機酸化物層としてガラス板とを用いた場合に用い
ることが好ましい。この透明接着層に用いられる接着剤
としては、少なくとも有機ＥＬ素子の発光が透過する部
分では、透明な（可視光５０％以上）材料が好ましい。

【０１８６】具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メ
タクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬
化および熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステ
ルなどの湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。
また、エポキシ系などの熱および化学硬化型（二液混
合）を挙げることができる。

【０１８７】接着剤の粘度としては低粘度（約１００ｃ
ｐ以下）のものが貼り合わせ時に気泡がかみこまず、均
一に貼り合わせが可能であるが、場合によってはカラー
フィルタを溶解侵食するので、カラーフィルタ上に前記
保護層を積層する必要がある。高粘度（約１００ｃｐ以
上）のものは、カラーフィルタを溶解侵食しにくく保護
層が不要の場合があるが、逆に貼り合わせ時に気泡がか
みこみ、均一な貼り合わせが難しくなる。従って、接着
剤の性質によって、保護層の要不要を選択すればよい。

【０１８８】接着剤は、カラーフィルタ（必要に応じ
て、ブラックマトリックス、保護層を含む）を形成した
基板上にスピンコート、ロールコート、キャスト法等の
方法で製膜し、有機ＥＬ素子の透明電極を形成した、又
は透明電極を形成する予定のガラス板、または酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、酸化チタンからなる群から選ば
れる一種以上の化合物を、透明な絶縁性のガラス板の上
面または下面の少なくとも一方に製膜したものを、それ
ぞれの接着剤の処方に従って、光（紫外線、可視光）、
熱（１５０℃程度まで）、化学混合等にて接着させる。

【０１８９】接着剤の厚さは、０．１μｍから２００μ
ｍ程度が好ましく、カラーフィルタと有機ＥＬ素子のギ
ャップによる有機ＥＬ素子の発光漏れを限なく低減する
（視野角の向上）ため、なるべく膜厚を小さくすること
が好ましい。しかしながら、膜厚を小さくし過ぎると、
カラーフィルタ間の凹凸により、均一な貼り合わせが難
しい場合がある。

【０１９０】以下、本発明を実施例によってさらに具体
的に説明する。 ［実施例１］２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍのノンア
ルカリガラス支持基板（コーニング社製：７０５９）の
片面にカーボンブラック含有メタクリレート系レジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＣＫ
２０００）をスピンコートし、２００℃でベークして約
２μｍ膜厚の黒色ベタ膜を成膜した。次に、この基板の
黒色膜の反対面上を、ＩＰＡ洗浄、ＵＶ洗浄した後、蒸
着装置（日本真空技術製）の基板ホルダーに固定した。
蒸着源は、モリブテン製の抵抗加熱ボートに正孔注入材
料としてＭＴＤＡＴＡ及びＮＰＤ、発光材料としてＤＰ
ＶＢｉ及びＰＡＶＢｉ、ルモルゲンＦレッド、電子注入
材料としてＡｌｑをそれぞれ仕込み、電極の第二金属と
してＡｇをタングステン製フィラメントに、電極の電子
注入性金属としてＭｇをモリブテン製ボートに装着し
た。その後、真空槽を５×１０^-7ｔｏｒｒまで減圧後、
１０ｍｍ×６０ｍｍの範囲がベタ成膜できるようなマス
クを介して、以下の順序で順次積層していった。なお、
電極から正孔注入層まで途中で真空を破らず一回の真空
引きでおこなった。まず電極としては、ＭｇとＡｇを同
時蒸着した。すなわち、Ｍｇは、蒸着速度１．３〜１．
４ｎｍ／ｓ、Ａｇは、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓで膜厚を
２００ｎｍとした。次に、電子注入層としては、Ａｌｑ
を蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２０ｎｍと
し、その中に、第二発光層としてルモルゲンＦレッドを
蒸着速度０．００３〜０．００９ｎｍ／ｓの蒸着速度で
同時蒸着して含有させた。次に、発光層としてＤＰＶＢ
ｉを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚５０ｎｍと
し、その中に、第一発光層としてＰＡＶＢｉを蒸着速度
０．００３〜０．００９ｎｍ／ｓの蒸着速度で同時蒸着
して含有させた。正孔注入層としては、ＭＴＤＡＴＡを
蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２００ｎｍ、Ｎ
ＰＤを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ、膜厚２０ｎ
ｍ、の条件で蒸着した。次に、この基板上にスパッタリ
ング装置に移動し、室温で１２０ｎｍ膜厚、２０Ω／□
の透明電極としてＩＴＯを１０ｍｍ×６０ｍｍの範囲が
ベタ成膜できるようなマスクを介して成膜し、有機ＥＬ
素子を作製した。なおここで、電極と透明電極の範囲が
交差（１０ｍｍ×５５ｍｍの範囲）させ、それぞれの電
極の端子がとれるようにマスクをずらし、有機ＥＬ素子
を作製した。次に、この基板上の電極と透明電極の交差
範囲（１０ｍｍ×５５ｍｍの範囲）の周辺部に、ディス
ペンサーにて、エポキシ系二液混合型接着剤（ＣＩＢＡ
−ＧＥＩＧＹ社製アラルダイト）を１ｍｍ程度の幅で一
部隙間を開けて塗布した（基板Ａ）。次に、この基板Ａ
上に２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍの透明無機酸化物
基板（バリウムホウケイ酸ガラス）（基板Ｂ）を貼り合
わせた。次いで、窒素雰囲気下、フッ化炭化水素（住友
スリーエム社製フロリナート）を注射針にて先の硬化し
た接着剤の隙間から、支持基板（基板Ａ）と貼り合わせ
たガラス基板（基板Ｂ）の間隙に注入した。次いで、接
着剤の隙間にさらに先の接着剤を充填し先と同様に硬化
させた。次に、この基板上に、ハロゲン化銅フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）を２
２．５重量％、アゾ系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロ
ー８３）を７．５重量％、ポリ塩化ビニル樹脂（分子量
２０，０００）７０重量％の割合でシクロヘキサノンに
分散したインキを用いて、先の電極と透明電極の交差範
囲（１０ｍｍ×５５ｍｍの範囲）に対応する部分内に、
１ｍｍ幅のＥＬの文字をスクリーン版を介してスクリー
ン印刷し、風乾して、ＥＬという文字のカラーフィルタ
のパターン（膜厚１．５μｍ）を得た。このようにし
て、有機ＥＬ多色発光装置（セグメント型）を作製し
（図１）、直流１０Ｖの電圧を有機ＥＬ素子の透明電極
（陽極）と電極（陰極）に印加すると、電圧を印加した
透明電極と電極の交差範囲が発光し、カラーフィルタの
ない部分から見える光の発光輝度は、１００ｃｄ／
ｍ²、 ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳＺ ８７０１）はｘ＝
０．３０、ｙ＝０．３２で白色の発光がでていることを
確認した。一方、ＥＬという文字をパターンした蛍光体
から見える光の発光輝度は、５０ｃｄ／ｍ²、ＣＩＥ色
度座標はｘ＝０．３０、ｙ＝０．６０で黄味がかった緑
色（イエロイッシュグリーン）の発光がでていることを
確認した。以後二週間、大気中で保存しても輝度および
色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒点
もなく、均一な発光を維持していた。 ［実施例２］実施例１と同一の条件で、有機ＥＬ素子を
作製した支持基板（基板Ａ）とガラス基板（基板Ｂ）を
貼り合わせ、基板の間隙にフッ化炭化水素を充填した基
板上に、銅フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメント
ブルー１５：６）を２８重量％、ジオキサジン系顔料
（Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３）を２重量％、
ポリ塩化ビニル樹脂（分子量２０，０００）７０重量％
の割合でシクロヘキサノンに分散したインキを用いて、
先の電極と透明電極の交差範囲（１０ｍｍ×５５ｍｍの
範囲）に対応する部分内に、１ｍｍ幅のＥＬの文字をス
クリーン版を介してスクリーン印刷し、風乾して、ＥＬ
という文字のカラーフィルタのパターン（膜厚１．５μ
ｍ）を得た。このようにして、有機ＥＬ多色発光装置
（セグメント型）を作製し（図１）、直流１０Ｖの電圧
を有機ＥＬ素子の透明電極（陽極）と電極（陰極）に印
加すると、電圧を印加した透明電極と電極の交差範囲が
発光し、カラーフィルタのない部分から見える光の発光
輝度は、１００ｃｄ／ｍ²、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳＺ
８７０１）はｘ＝０．３０、ｙ＝０．３２で白色の発
光がでていることを確認した。一方、ＥＬという文字を
パターンしたカラーフィルタから見える光の発光輝度
は、１０ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ＝０．１５、
ｙ＝０．１５で青色の発光がでていることを確認した。
以後二週間、大気中で保存しても輝度および色度座標に
全く変化がなく、劣化とともに発生する黒点もなく、均
一な発光を維持していた。 ［実施例３］実施例１と同一の条件で、有機ＥＬ素子を
作製した支持基板（基板Ａ）とガラス基板（基板Ｂ）を
貼り合わせ、基板の間隙にフッ化炭化水素を充填した基
板上に、アントラキノン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレ
ッド１７７）を２４重量％、アゾ系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグ
メントイエロー６）を６％、ポリ塩化ビニル樹脂（分子
量２０，０００）７０重量％の割合でシクロヘキサノン
に分散したインキを用いて、先の電極と透明電極の交差
範囲（１０ｍｍ×５５ｍｍの範囲）に対応する部分内
に、１ｍｍ幅のＥＬの文字をスクリーン版を介してスク
リーン印刷し、風乾して、ＥＬという文字のカラーフィ
ルタのパターン（膜厚２．０μｍ）を得た。このように
して、有機ＥＬ多色発光装置（セグメント型）を作製し
（図１）、直流１０Ｖの電圧を有機ＥＬ素子の透明電極
（陽極）と電極（陰極）に印加すると、電圧を印加した
透明電極と電極の交差範囲が発光し、カラーフィルタの
ない部分から見える光の発光輝度は、１００ｃｄ／ｍ
² 、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳＺ ８７０１）はｘ＝０．
３０、ｙ＝０．３２で白色の発光がでていることを確認
した。一方、ＥＬという文字をパターンしたカラーフィ
ルタから見える光の発光輝度は、２０ｃｄ／ｍ²、ＣＩ
Ｅ色度座標はｘ＝０．６５、ｙ＝０．３０ で赤色の発
光がでていることを確認した。以後二週間、大気中で保
存しても輝度および色度座標に全く変化がなく、劣化と
ともに発生する黒点もなく、均一な発光を維持してい
た。 ［実施例４］１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍの支
持基板（コーニング社製７０５９）の片面にカーボンブ
ラック含有メタクリレート系レジスト（富士ハントエレ
クトロニクステクノロジー社製：ＣＫ２０００）をスピ
ンコートし、２００℃でベークして約２μｍ膜厚の黒色
ベタ膜を成膜した。次に、この基板の黒色膜の反対面上
を、ＩＰＡ洗浄、ＵＶ洗浄した後、蒸着装置（日本真空
技術社製）の基板ホルダーに固定した。蒸着源は、モリ
ブテン製の抵抗加熱ボートに正孔注入材料としてＭＴＤ
ＡＴＡ及びＮＰＤ、発光材料としてＤＰＶＢｉ及びＰＡ
ＶＢｉ、ルモルゲンＦレッド、電子注入材料としてＡｌ
ｑをそれぞれ仕込み、電極の第二金属としてＡｇをタン
グステン製フィラメントに、電極の電子注入性金属とし
てＭｇをモリブテン製ボートに装着した。その後、真空
槽を５×１０^-7ｔｏｒｒまで減圧後、７２ｍｍ×７２ｍ
ｍの範囲において、１．５ｍｍピッチ（１．４ｍｍライ
ン０．１ｍｍギャップ）のストライプ状に成膜できるよ
うなマスクを介して、まず、電極のパターンを形成し、
次いで、７２ｍｍ×７２ｍｍの範囲のベタ成膜ができる
マスクを介して、電子注入層から正孔注入層まで成膜し
た。なお、電極から正孔注入層を順次積層する時は、途
中で真空を破らず一回の真空引きでおこなった。まず電
極としては、ＭｇとＡｇを同時蒸着した。すなわち、Ｍ
ｇは、蒸着速度１．３〜１．４ｎｍ／ｓ、Ａｇは、蒸着
速度０．１ｎｍ／ｓで膜厚を２００ｎｍとした。次に、
電子注入層としては、Ａｌｑを蒸着速度０．１〜０．３
ｎｍ／ｓ，膜厚２０ｎｍとし、その中に、第二発光層と
してルモルゲンＦレッドを蒸着速度０．００３〜０．０
０９ｎｍ／ｓの蒸着速度で同時蒸着して含有させた。次
に、発光層としてＤＰＶＢｉを蒸着速度０．１〜０．３
ｎｍ／ｓ，膜厚５０ｎｍとし、その中に、第一発光層と
してＰＡＶＢｉを蒸着速度０．００３〜０．００９ｎｍ
／ｓの蒸着速度で同時蒸着して含有させた。正孔注入層
としては、ＭＴＤＡＴＡを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ
／ｓ，膜厚２００ｎｍ、ＮＰＤを蒸着速度０．１〜０．
３ｎｍ／ｓ、膜厚２０ｎｍ、の条件で蒸着した。次に、
この基板をスパッタリング装置に移動し、室温で１２０
ｎｍ膜厚、２０Ω／□の透明電極としてＩＴＯを、７２
ｍｍ×７２ｍｍの範囲において４．５ｍｍピッチ（４．
０ｍｍライン０．５ｍｍギャップ）のストライプ状に成
膜できるようなマスクを介して、成膜し、有機ＥＬ素子
を作製した。なおここで、電極と透明電極が直交させ、
それぞれの電極の端子がとれるようにマスクを配置し
た。このようにして、作製した有機ＥＬ素子に、直流１
０Ｖの電圧を透明電極と電極に印加すると、電圧を印加
した透明電極（陽極）と電極（陰極）の交差部分が発光
し、発光輝度は、１００ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標
（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）はｘ＝０．３０、ｙ＝０．３
２で白色の発光がでていることを確認した。次に、この
基板上の電極と透明電極の交差範囲（７２ｍｍ×７２ｍ
ｍの範囲）の周辺部に、ディスペンサーにて、エポキシ
系二液混合型接着剤（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製アラル
ダイト）を１ｍｍ程度の幅で一部隙間を開けて塗布した
（基板Ｃ）。次に、この基板Ｃ上に１００ｍｍ×１００
ｍｍ×０．１５ｍｍの透明無機酸化物基板（バリウムホ
ウケイ酸ガラス）（基板Ｄ）を貼り合わせ、接着剤を硬
化させた。次いで、窒素雰囲気下、フッ化炭化水素（住
友スリーエム社製フロリナート）を注射針にて先の硬化
した接着剤の隙間から、支持基板（基板Ｃ）と貼り合わ
せたガラス基板（基板Ｄ）の間隙に注入した。次いで、
接着剤の隙間にさらに先の接着剤を充填し硬化させた。
次に、この基板上に、ハロゲン化銅フタロシアニン系顔
料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）を２２．５重量
％、アゾ系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３）を
７．５重量％、ポリ塩化ビニル樹脂（分子量２０，００
０）７０重量％の割合でシクロヘキサノンに分散したイ
ンキを用いて、１．４ｍｍライン３．１ｍｍギャップの
ストライプパターンが得られるスクリーン版を介し、有
機ＥＬ素子の電極と位置合わせしてスクリーン印刷し、
風乾して１．５μｍ膜厚のカラーフィルタＡのパターン
を得た。次に、銅フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグ
メントブルー１５：６）を２８重量％、ジオキサジン系
顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３）を２重量
％、ポリ塩化ビニル樹脂（分子量２０，０００）７０重
量％の割合でシクロヘキサノンに分散したインキを用い
て、１．４ｍｍライン３．１ｍｍギャップのストライプ
パターンが得られるスクリーン版を介し、カラーフィル
タ層Ａパターンからストライプの垂直方向に１．５ｍｍ
ずらしてスクリーン印刷し、風乾して１．５μｍ膜厚の
カラーフィルタＢのパターンを得た。次に、アントラキ
ノン系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）を２４
重量％、アゾ系顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー６）
を６重量％、ポリ塩化ビニル樹脂（分子量２０，００
０）７０重量％の割合でシクロヘキサノンに分散したイ
ンキを用いて、１．４ｍｍライン３．１ｍｍギャップの
ストライプパターンが得られるスクリーン版を介し、カ
ラーフィルタＡのパターンとカラーフィルタＢのパター
ンの間にスクリーン印刷し、風乾して２．０μｍ膜厚の
カラーフィルタＣのパターンを得た。このようにして、
有機ＥＬ多色発光装置（ドットマトリックス型）を作製
し（図４）、直流１０Ｖの電圧を透明電極と電極に印加
すると、電圧を印加した透明電極（陽極）と電極（陰
極）の交差部分が発光し、カラーフィルタＡから見える
光の発光輝度は、５０ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ
＝０．３０、ｙ＝０．６０で黄味がかった緑色（イエロ
イッシュグリーン）の発光がでていることを確認した。
また、カラーフィルタＢから見える光の発光輝度は、１
０ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ＝０．１５、ｙ＝
０．１５で青色の発光がでていることを確認した。ま
た、カラーフィルタＣから見える光の発光輝度は、２０
ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ＝０．６５、ｙ＝０．
３０で赤色の発光がでていることを確認した。以後、二
週間、大気下で保存しても輝度および色度座標に全く変
化がなく、劣化とともに発生する黒点もなく、均一な発
光を維持していた。また、有機エレクトロルミネッセン
ス素子の発光（単色）の漏れを確認できない範囲の視野
角は、±６０°であり、実用上問題とならないレベルで
あった。 ［実施例５］実施例１で作製した有機ＥＬ多色発光装置
のカラーフィルタ上に、ポリビニルピロリドン（分子量
３６０，０００）水溶液のコーティング剤をスピンコー
トし、風乾して１０μｍ膜厚の透明な保護膜を積層し
た。このように作製した図２に示す有機ＥＬ多色発光装
置の発光輝度、色度座標は、実施例１と同一であり、以
後二週間、大気下で保存しても輝度および色度座標に全
く変化がなく、劣化とともに発生する黒点もなく、均一
な発光を維持していた。また、保護膜を積層したので、
蛍光体を爪でこすっても、カラーフィルタを傷つけるこ
とはなく、装置の持ち運び等の取扱いも容易となった。 ［実施例６］実施例４と同一の条件で、支持基板上に有
機ＥＬ素子を作製した基板上に接着剤を塗布した（基板
Ｃ）。一方、別に、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．７０
ｍｍ厚の透明基板（コーニング社製７０５９）上に、実
施例４と同様にカラーフィルタＡ、Ｂ、Ｃのパターンを
作製した。この基板上にポリビニルピロリドン（分子量
３６０，０００）水溶液のコーティング剤をスピンコー
トし、８０℃でベークして１０μｍ膜厚の透明な保護膜
を積層し、次いで透明な２−シアノアクリレート系接着
剤（東亜合成化学社製アロンアルファ）を全面にキャス
トして塗布し、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．０５ｍｍ
厚の無機酸化物基板（アルミノケイ酸ガラス）を貼り合
わせた（基板Ｄ）。先の基板Ｃ上に基板Ｄの０．０５ｍ
ｍ厚基板側を有機ＥＬ素子側に向けて、カラーフィルタ
Ａ、Ｂ、Ｃと有機ＥＬ素子の電極とを位置合わせして貼
り合わせ、接着剤を硬化させた。次いで、基板を窒素雰
囲気下、フッ化炭化水素（住友スリーエム社製フロリナ
ート）を注射針にて先の硬化した接着剤の隙間から、支
持基板（基板Ｃ）と貼り合わせたガラス基板（基板Ｄ）
の間隙に注入した。次いで、接着剤の隙間にさらに先の
接着剤を充填し硬化させた。このように作製した図６に
示す有機ＥＬ多色発光装置の発光輝度、色度座標は、実
施例４と同一であり、以後二週間、大気下で保存しても
輝度および色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発
生する黒点もなく、均一な発光を維持していた。また、
有機エレクトロルミネッセンス素子の発光（単色）の漏
れを確認できない範囲の視野角は、±７０°であり、実
用上問題とならないレベルであった。また、カラーフィ
ルタ上にガラス基板を積層したので、カラーフィルタ部
分を爪でこすっても、カラーフィルタを傷つけることは
なく、装置の持ち運び等の取扱いも容易となった。 ［比較例１］まず実施例１と同一の条件で基板Ａを作製
した。次に、２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚の支持
基板（コーニング社製７０５９）上に、実施例１と同様
に、ＥＬという文字のカラーフィルタのパターンを得た
（基板Ｅ）。次に、基板Ａ上に基板Ｅのカラーフィルタ
側を基板Ａの有機ＥＬ素子側に対向させて、貼り合わ
せ、接着剤を硬化させた。次いで、窒素雰囲気下、フッ
化炭化水素（住友スリーエム社製フロリナート）を注射
針にて先の硬化した接着剤の隙間から、支持基板（基板
Ａ）と貼り合わせた基板（基板Ｅ）の間隙に注入した。
次いで、接着剤の隙間にさらに先の接着剤を充填し硬化
させた。このようにして、図７に示す有機ＥＬ多色発光
装置（セグメント型）を作製し直流１０Ｖの電圧を有機
ＥＬ素子の透明電極（陽極）と電極（陰極）に印加する
と、電圧を印加した透明電極と電極の交差範囲が発光
し、カラーフィルタのない部分または、ＥＬという文字
から見える光の発光輝度は、実施例１とほぼ同一の輝
度、色度座標を得た。ところが、以後二週間、大気中で
保存すると、同条件で白色発光部分の輝度は１０ｃｄ／
ｍ²、ＥＬの文字パターンからの発光は５ｃｄ／ｍ²に低
下し、劣化とともに発生する黒点が多量に発生し、不均
一な発光となった。実施例１とは逆に、カラーフィルタ
を有機ＥＬ素子側に対向させると、多色発光装置の発光
寿命に著しく悪影響をおよぼすことがわかった。 ［比較例２］実施例４と同一の条件で基板Ｃを作製し
た。次いで、この基板Ｃ上に１００ｍｍ×１００ｍｍ×
０．３０ｍｍ厚の透明無機酸化物基板（ホウケイ酸ガラ
ス基板）（基板Ｆ）を貼り合わせ、以下実施例４と同一
の条件で図４に示す有機ＥＬ多色発光装置（ドットマト
リックス型）を作製した。この多色発光装置を実施例４
と同一条件で発光させ、同一の発光輝度、色度座標を得
た。さらに、以後、二週間、大気下で保存しても輝度お
よび色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する
黒点もなく、均一な発光を維持していた。ところが、有
機エレクトロルミネッセンス素子の発光（単色）の漏れ
を確認できない範囲の視野角は、±３０°であり、通常
見る範囲に、発光色が異なって見える部分（角度）があ
り、実用上問題となった。これは、貼り合わせた基板Ｆ
の厚みが大きすぎたため、有機ＥＬ素子の発光が漏れ
て、所望の発光色が十分えられず、視野角を低下させた
ものである。 ［実施例７］１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍの透
明支持基板（コーニング社製７０５９）上に ハロゲン
化銅フタロシアニン系顔料含有のメタクリレート系光硬
化型レジスト（新日鉄化学社製Ｖ２５９Ｇ）をスピンコ
ートし、８０℃でベーク後、２５０μｍライン６５０μ
ｍギャップのストライプパターンが得られるマスクを介
し、高圧水銀灯を光源とする露光機にて、 レジスト膜
を３００ｍＪ／ｃｍ²で露光した。次に、２．３８重量
％ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）
水溶液にて現像して、２００℃でベークすることにより
１．５μｍ膜厚のカラーフィルタＤのパターンを得た。
次に、銅フタロシアニン系顔料含有のメタクレート系光
硬化型レジスト（新日鉄化学社製Ｖ２５９Ｂ）をスピン
コートし、８０℃でベーク後、２５０μｍライン６５０
μｍギャップのストライプパターンが得られるマスクを
介し、カラーフィルタＤのパターンから３００μｍスト
ライプに垂直な方向にずらして位置合わせ後、高圧水銀
灯を光源とする露光機にて、 レジスト膜を３００ｍＪ
／ｃｍ²で露光した。次に、２．３８重量％ＴＭＡＨ
（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液にて
現像して、２００℃でベークすることにより１．５μｍ
膜厚のカラーフィルタＥのパターンを得た。次に、アン
トラキノン系顔料含有のメタクリレート系光硬化型レジ
スト（新日鉄化学社製Ｖ２５９Ｒ）をスピンコートし、
８０℃でベーク後、２５０μｍライン６５０μｍギャッ
プのストライプパターンが得られるマスクを介し、カラ
ーフィルタＤとカラーフィルタＥの間に位置合わせ後、
高圧水銀灯を光源とする露光機にて、レジスト膜を３０
０ｍＪ／ｃｍ²で露光した。次に、２．３８重量％ＴＭ
ＡＨ（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）水溶液
にて現像して、２００℃でベークすることにより２．０
μｍ膜厚のカラーフィルタＦのパターンを得た。なお、
後で積層する有機ＥＬ素子の発光輝度および色度を確認
するため、一部カラーフィルタを削っておいた。このカ
ラーフィルタＤ、Ｅ、Ｆパターニング基板上全面にアク
レート系の熱硬化型樹脂溶液（日本合成ゴム社製オプト
マーＳＳ７２６５）をスピンコートし、８０℃でベーク
後、さらに２００℃でベークして３μｍ膜厚の透明な保
護膜を得た。次に、エポキシ系の光硬化型透明接着剤
（スリーボンド社製３１０２）を保護膜上にキャスティ
ングし、０．１２μｍ膜厚、２０Ω／□のＩＴＯをベタ
成膜した１００ｍｍ×１００ｍｍ×５０μｍ厚のガラス
基板（ホウケイ酸ガラス）のガラス面を貼り合わせ、３
０００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍ） の紫外線をＩＴＯ側
より露光し、さらに８０℃でベークした。次に、ＩＴＯ
上に、ノボラック／キノンジアジド系の光可溶化型（ポ
ジ型）レジスト（富士ハントエレクトロニクステクノロ
ジー社製ＨＰＲ２０４）をスピンコートして積層し、８
０℃でベーク後、基板を前記露光機にセットし、２２０
μｍライン、８０μｍギャプのストライプパターンが得
られるマスクをカラーフィルタＤ、Ｅ、Ｆに位置合わせ
してから、そのマスクを介して、１００ｍＪ／ｃｍ²
（３６５ｎｍ）で露光した。さらに２．３８重量％ＴＭ
ＡＨで現像後、１３０℃でポストベーク後、臭化水素酸
水溶液で露出したＩＴＯ膜をエッチングし、最後に光可
溶化型レジストを剥離して有機ＥＬ素子の透明電極とな
るＩＴＯ膜パターンを得た。次に、この基板をＩＰＡ洗
浄、ＵＶ洗浄した後、蒸着装置（日本真空技術社製）の
基板ホルダーに固定した。蒸着源は、モリブテン製の抵
抗加熱ボートに正孔注入材料としてＭＴＤＡＴＡ及びＮ
ＰＤ、発光材料としてＤＰＶＢｉ及びＰＡＶＢｉ、ルブ
レン、電子注入材料としてＡｌｑをそれぞれ仕込み、電
極の第二金属としてＡｇをタングステン製フィラメント
に、電極の電子注入性金属としてＭｇをモリブテン製ボ
ートに装着した。その後、真空槽を５×１０^-7ｔｏｒｒ
まで減圧後、７０ｍｍ×７０ｍｍの範囲において、７０
ｍｍ×７０ｍｍの範囲のベタ成膜ができるマスクを介し
て、正孔注入層から電子注入層まで形成し、６００μｍ
ライン１００μｍギャップの透明電極ＩＴＯ膜に対して
直交したストライプ状に成膜できるようなマスクを介し
て電極のパターンを成膜した。なお、正孔注入層から電
極を順次積層する時は、途中で真空を破らず一回の真空
引きでおこなった。まず正孔注入層としては、ＭＴＤＡ
ＴＡを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２００ｎ
ｍ、ＮＰＤを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ、膜厚２
０ｎｍ、の条件で蒸着した。次に、発光層としてＤＰＶ
Ｂｉを蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚５０ｎｍ
とし、その中に、第一発光層としてＰＡＶＢｉを蒸着速
度０．００３〜０．００９ｎｍ／ｓの蒸着速度で同時蒸
着して含有させた。次に、電子注入層としては、Ａｌｑ
を蒸着速度０．１〜０．３ｎｍ／ｓ，膜厚２０ｎｍと
し、その中に、第二発光層としてルブレンを蒸着速度
０．０００５〜０．００１５ｎｍ／ｓの蒸着速度で同時
蒸着して含有させた。最後に電極としては、ＭｇとＡｇ
を同時蒸着した。すなわち、Ｍｇは、蒸着速度１．３〜
１．４ｎｍ／ｓ、Ａｇは、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓで膜
厚を２００ｎｍとした。このようにして、図１１に示す
有機ＥＬ多色発光装置を作製し、直流９Ｖの電圧を透明
電極と電極に印加すると、電圧を印加した透明電極と電
極の交差部分が発光し、機ＥＬ素子の発光輝度は、１０
０ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ＝０．２５、ｙ＝
０．２８で白色の発光がでていることを確認した。一
方、カラーフィルタＤから見える光の発光輝度は、４５
ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座標はｘ＝０．２８、ｙ＝０．
６２で黄味がかった緑色（イエロイッシュグリーン）の
発光がでていることを確認した。また、カラーフィルタ
Ｅから見える光の発光輝度は、１０ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ
色度座標はｘ＝０．１０、ｙ＝０．１５で青色の発光が
でていることを確認した。また、カラーフィルタＦから
見える光の発光輝度は、１５ｃｄ／ｍ²、 ＣＩＥ色度座
標はｘ＝０．６６、ｙ＝０．３１で赤色の発光がでてい
ることを確認した。以上のように有機ＥＬ多色発光装置
を作製し、二週間、窒素気流下で保存しても輝度および
色度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒点
もなく、均一な発光を維持していた。また、有機エレク
トロルミネッセンス素子の発光（単色）の漏れを確認で
きない範囲の視野角は、±５０°であり、実用上問題と
ならないレベルであった。なお、本実施例に用いた５０
μｍ厚のガラス基板の水分含有量は、０．１重量％以下
であり、水蒸気または酸素のガラス基板に対するガス透
過係数は、それぞれ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃ
ｍＨｇ以下であった。 ［実施例８］実施例７で作製したカラーフィルタＤ、
Ｅ、Ｆパターニング基板上にエポキシ系の光硬化型透明
接着剤（スリーボンド社製３１０２）をキャスティング
し、０．１２μｍ膜厚、２０Ω／□のＩＴＯをベタ成膜
した１００ｍｍ×１００ｍｍ×５０μｍ厚のガラス基板
（ホウケイ酸ガラス）のガラス面を貼り合わせ、３００
０ｍＪ／ｃｍ² （３６５ｎｍ）の紫外線をＩＴＯ面より
露光し、さらに８０℃でベークした。以下、実施例７と
同一の条件でＩＴＯのパターニング、有機ＥＬ素子を作
製し、図１０に示す有機ＥＬ多色発光装置を作製した。
この多色発光装置も、実施例７と同一輝度、色度を得、
さらに、二週間、窒素気流下で保存しても輝度および色
度座標に全く変化がなく、劣化とともに発生する黒点も
なく、均一な発光を維持していた。また、有機エレクト
ロルミネッセンス素子の発光（単色）の漏れを確認でき
ない範囲の視野角は、±５０°であり、実用上問題とな
らないレベルであった。 ［実施例９］１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍの透
明支持基板（コーニング社製７０５９）上にカーボンブ
ラック含有のメタクリレート系光硬化型レジスト（富士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製：ＣＫ２００
０）をスピンコートし、８０℃でベーク後、さらにポリ
ビニルアルコールの酸素遮断膜（富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー社製：ＣＰ）をスピンコートし、８
０℃でベークした。次に、基板を前記露光機にセット
し、８０μｍライン、２２０μｍギャプのストライプパ
ターンが得られるマスク介して、１００ｍＪ／ｃｍ
²（３６５ｎｍ）で露光した。さらに１Ｎ炭酸ナトリウ
ム水溶液で現像後、２００℃でポストベークして、ブラ
ックマトリックスを得た。次に、実施例７と同様にカラ
ーフィルタＤ、Ｅ、Ｆのパターンをブラックマトリック
スに位置合わせして作製し、さらに保護膜を積層し、有
機ＥＬ素子も作製して、図１３に示す有機ＥＬ多色発光
装置を作製した。次に、実施例７と同一条件にて同一の
輝度、色度を得、さらに、二週間、窒素気流下で保存し
ても輝度および色度座標に全く変化がなく、劣化ととも
に発生する黒点もなく、均一な発光を維持していた。ま
た、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光（単色）
の漏れを確認できない範囲の視野角は、±７０°であ
り、実用上問題とならないレベルであった。 ［実施例１０］実施例７で作製したカラーフィルタＤ、
Ｅ、Ｆのパターンと保護膜を作製した基板上に、酸化ケ
イ素を１８０℃で加熱した基板上にスパッタリングによ
り０．０１μｍ全面に積層し、次いで、ＩＴＯも１８０
℃で加熱しながらスパッタリングにより、０．１２μｍ
膜厚、２０Ω／□のＩＴＯをベタ成膜した。以下、実施
例７と同一の条件でＩＴＯのパターニング、有機ＥＬ素
子を作製し、図１２にしめす有機ＥＬ多色発光装置を作
製した。この多色発光装置も実施例７と同一輝度、色度
を得た。そしてさらに、二週間、窒素気流下で保存して
も輝度および色度座標にほとんど変化がなく、劣化とと
もに発生する黒点も少なく、均一な発光を維持してい
た。また、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光
（単色）の漏れを確認できない範囲の視野角は、ほぼ±
９０°であり、実用上問題とならないレベルであった。
なお、本実施例に用いた０．０１μｍ膜厚の酸化シリコ
ン膜の水分含有量は、０．１重量％以下であり、水蒸気
または酸素のガラス基板に対するガス透過係数は、それ
ぞれ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃｍＨｇ以下であ
った。 ［実施例１１］実施例１０の酸化ケイ素の代わりに、
１．０μｍ膜厚の酸化アルミニウムを用い、保護膜を積
層しなかったこと以外は実施例１０と同一の条件で、図
９に示す有機ＥＬ多色発光装置を作製した。この多色発
光装置も、実施例７と同一輝度、色度を得た。そしてさ
らに、二週間、窒素気流下で保存しても輝度および色度
座標にほとんど変化がなく、劣化とともに発生する黒点
も少なく、均一な発光を維持していた。また、有機エレ
クトロルミネッセンス素子の発光（単色）の漏れを確認
できない範囲の視野角は、ほぼ±９０°であり、実用上
問題にならないレベルであった。なお、本実施例に用い
た１．０μｍ膜厚の酸化アルミニウム膜の水分含有量
は、０．１重量％以下であり、水蒸気または酸素のガラ
ス基板に対するガス透過係数は、 それぞれ１０^-13ｃｃ
・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃｍＨｇ以下であった。 ［実施例１２］実施例１１の酸化アルミニウムの代わり
に、１．０μｍ膜厚の酸化チタンを用いたこと以外は実
施例１１と同一の条件で、図９に示す有機ＥＬ多色発光
装置を作製し、実施例７と同一輝度、色度を得た。そし
てさらに、二週間、窒素気流下で保存しても輝度および
色度座標にほとんど変化がなく、劣化とともに発生する
黒点も少なく、均一な発光を維持していた。また、有機
ＥＬ素子の発光（単色）の漏れを確認できない範囲の視
野角は、ほぼ９０％であり、実用上問題とならないレベ
ルであった。なお、本実施例に用いた１．０μｍ膜厚の
酸化チタン膜の水分含有量は、０．１重量％以下であ
り、水蒸気または酸素の酸化アルミナ膜に対するガス透
過係数は、それぞれ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃ
ｍＨｇ以下であった。 ［実施例１３］実施例７で作製したカラーフィルタＤ、
Ｅ、Ｆのパターン上に保護膜を積層した基板上に、エポ
キシ系の光硬化型接着剤（スリーボンド社製３１０２）
をキャステングし、１００ｍｍ×１００ｍｍ×５０μｍ
厚のガラス基板（ホウケイ酸ガラス）に０．０５μｍ膜
厚の酸化チタン、０．１２μｍ膜厚のＩＴＯを順次全面
（ベタ）スパッタリング成膜した基板のガラス面を貼り
合わせ、３０００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍ）の紫外線
をＩＴＯ面より露光させ、 さらに８０℃でベークし
た。以下、実施例７と同一の条件でＩＴＯのパターニン
グ、有機ＥＬ素子を作製し、図１４に示す有機ＥＬ多色
発光装置を作製し、実施例７と同一輝度、色度を得た。
そしてさらに、二週間、窒素気流下で保存しても輝度お
よび色度座標にほとんど変化がなく、劣化とともに発生
する黒点も少なく、均一な発光を維持していた。また、
有機ＥＬ素子の発光（単色）の漏れを確認できない範囲
の視野角は、ほぼ±６０％であり、実用上問題とならな
いレベルであった。なお、本実施例に用いた０．０５μ
ｍ膜厚の酸化チタンを成膜した５０μｍ厚のガラス基板
の水分含有量は、０．１重量％以下であり、水蒸気また
は酸素の酸化アルミナ膜に対するガス透過係数は、それ
ぞれ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ² ・ｓ・ｃｍＨｇ以下で
あった。 ［比較例３］（透明無機酸化物層がない場合） 実施例７で作製したカラーフィルタＤ、Ｅ、Ｆのパター
ンに保護膜を積層した基板を１８０℃で加熱し、さらに
スパッタリングによりＩＴＯを０．１２μｍ膜厚、２０
Ω／□のＩＴＯをベタ成膜した。以下、実施例７と同一
の条件でＩＴＯのパターニング、有機ＥＬ素子を作製
し、図１５に示す有機ＥＬ多色発光装置を作製した。こ
の多色発光装置は、実施例７とほぼ同一輝度と色度を得
たが、二週間、窒素気流中で保存すると、カラーフィル
タＤから見える光の発光輝度は１０ｃｄ／ｍ、²、カラ
ーフィルタＥから見える光の発光輝度は５ｃｄ／ｍ²、
また、カラーフィルタＦから見える光の発光輝度は５ｃ
ｄ／ｍ²、 まで低下し、劣化に伴う黒点が数多く発生
し、明らかに問題となった。なお、本比較例に用いた保
護膜の水分含有量は、１．１重量％以下であり、水蒸気
または酸素の保護膜に対するガス透過係数は、それぞれ
１０^-13 ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃｍＨｇ以上であっ
た。 ［比較例４］（透明無機酸化物層の膜厚が０．００５μ
ｍ） 実施例７で作製したカラーフィルタＤ、Ｅ、Ｆのパター
ンと保護膜を作製した基板上に、酸化ケイ素を１８０℃
で加熱した基板上にスパッタリングにより０．００５μ
ｍ全面に積層し、次いで、ＩＴＯも１８０℃で加熱しな
がらスパッタリングにより、０．１２μｍ膜厚、２０Ω
／□のＩＴＯをベタ成膜した。以下、実施例７と同一の
条件でＩＴＯのパターニング、有機ＥＬ素子を作製し、
図１２にしめす有機ＥＬ多色発光装置を作製した。この
多色発光装置も実施例７と同一輝度、色度を得た。さら
に、二週間、窒素気流中で保存すると、カラーフィルタ
Ｄから見える光の発光輝度は１５ｃｄ／ｍ、² 、カラー
フィルタＥから見える光の発光輝度は５ｃｄ／ｍ²、 ま
た、カラーフィルタＦから見える光の発光輝度は５ｃｄ
／ｍ²、 まで低下し、劣化に伴う黒点が数多く発生し、
明らかに問題となった。なお、本比較例に用いた酸化シ
リコン膜の水分含有量は、０．１重量％以下であった
が、水蒸気または酸素の酸化シリコン膜に対するガス透
過係数は、それぞれ１０^-13ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ²・ｓ・ｃ
ｍＨｇ以上であった。 ［比較例５］（透明無機酸化物層（板ガラス）の厚さが
３００μｍ） 実施例７で作製したカラーフィルタＤ、Ｅ、Ｆのパター
ン上に保護膜を積層した基板上に、エポキシ系の光硬化
型接着剤（スリーボンド社製３１０２）をキャステング
し、０．１２μｍ膜厚、２０Ω／□のＩＴＯをベタ成膜
した１００ｍｍ×１００ｍｍ×３００μｍ厚のガラス板
（ホウケイ酸ガラス）のガラス面を貼り合わせ、３００
０ｍＪ／ｃｍ² （３６５ｎｍ）の紫外線をＩＴＯ面より
露光させ、さらに８０℃でベークした。以下、実施例７
と同一の条件でＩＴＯのパターニング、有機ＥＬ素子を
作製し、図１１に示す有機ＥＬ多色発光装置を作製し、
実施例７とほぼ同一輝度と色度を得た。そしてさらに、
二週間、窒素気流下で保存しても輝度および色度座標に
ほとんど変化がなく、劣化とともに発生する黒点も少な
く、均一な発光を維持していた。ところが、有機ＥＬ素
子の発光の漏れを確認できない範囲の視野角は、ほぼ±
２０％であり、実用上問題となった。

【０１９１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の多色発光
装置においては、カラーフィルタまたは保護層などの有
機物にもともと微量に吸着もしくは含まれている、また
は有機ＥＬ素子の発光時の熱によりカラーフィルタ又は
保護層から発生すると考えられる水蒸気、酸素またはモ
ノマー等のガスを膜厚０．０１〜２００μｍの無機酸化
物層が遮断し、有機ＥＬ素子の劣化要因を低減すること
ができる。特に無機酸化物層をガラス板とすると、一
層、劣化ガスの遮断効果が大きい。その結果、多色発光
装置の均一な保存または発光寿命を向上させることがで
きる。また、無機酸化物層の膜厚を２００μｍ以下とす
ることによって、多色発光装置の精細度にもよるが、実
用レベルでは、有機エレクトロルミネッセンス素子の発
光が所望のカラーフィルタ以外のカラーフィルタを透過
して不要の発光色で発光したり、カラーフィルタの隙間
から漏れることが低減され、所望の発光色を得ることが
可能となり、結果的には、多色発光の視野角が向上す
る。また、無機酸化物層と透明電極（通常ＩＴＯ：イン
ジウム錫酸化物）は有機物に比べて密着性がよく、透明
電極のパターニング（通常フォトリソグラフィー法）も
容易となる。また、無機酸化物層のカラーフィルタ側界
面に透明な接着層を配置すること、すなわち有機ＥＬ素
子の透明電極のカラーフィルタ側界面の無機酸化物層が
ガラス板の場合において、有機ＥＬ素子とカラーフィル
タとの密着性を高めて一体化する。また接着層とカラー
フィルタの間に透明な保護膜を配置すると、カラーフィ
ルタが接着層の接着剤で溶解侵食されるのを保護する。
また、この保護膜により、平面的に分離配置したカラー
フィルタの膜厚段差を緩和し、カラーフィルタ上の無機
酸化物層の歪を低減して、無機酸化物層または透明電極
のクラック等の欠陥を低減する。さらに、本発明の製造
方法においては、１μｍ以上２００μｍ以下の薄厚のガ
ラス板を無機酸化物層として用いた場合、薄膜ガラス板
が機械的に脆く、そり、ゆがみがおこりやすくなるた
め、このガラス板上に直接有機エレクトロルミネッセン
ス素子を安定して作製することが困難である。従って、
カラーフィルタ、保護膜等を積層した透明支持基板上に
この薄厚ガラス板を接着層を介して接合させ、さらに有
機エレクトロルミネッセンス素子を順次積層して、安定
して効率よく多色発光装置を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の多色発光装置（第１発明）の一実施例
を模式的に示す概略断面図である。

【図２】本発明の多色発光装置（第１発明）の、保護層
を用いた他の実施例を模式的に示す概略断面図である。

【図３】本発明の多色発光装置（第１発明）の、透明基
板を用いた例を模式的に示す概略断面図である。

【図４】本発明の多色発光装置（第１発明）の、分離配
置したカラーフィルタを用いた他の実施例を模式的に示
す概略断面図である。

【図５】本発明の多色発光装置（第１発明）の、ブラッ
クマトリックスを用いた例を模式的に示す概略断面図で
ある。

【図６】本発明の多色発光装置（第１発明）の、保護層
および透明基板を用いた他の実施例を模式的に示す概略
断面図である。

【図７】カラーフィルタを透明ガラス基板の有機ＥＬ素
子と同じ側に設けた、第１発明に対する比較例を模式的
に示す概略断面図である。

【図８】従来の多色発光装置の例を模式的に示す概略断
面図である。

【図９】本発明の多色発光装置（第２発明）の一実施例
を模式的に示す概略断面図である。

【図１０】本発明の多色発光装置（第２発明）の、透明
接着層を用いた他の実施例を模式的に示す概略断面図で
ある。

【図１１】本発明の多色発光装置（第２発明）の、透明
接着層および透明保護層を用いた他の実施例を模式的に
示す概略断面図である。

【図１２】本発明の多色発光装置（第２発明）の、透明
保護層を用いた他の実施例を模式的に示す概略断面図で
ある。

【図１３】本発明の多色発光装置（第２発明）の、透明
接着層、透明保護層、ブラックマトリックスを用いた他
の実施例を模式的に示す概略断面図である。

【図１４】本発明の多色発光装置（第２発明）の透明接
着層および透明蛍光体保護層、透明絶縁性無機酸化物層
を２層用いた他の実施例を模式的に示す、概略断面図で
ある。

【図１５】多色発光装置の比較例を模式的に示す概略断
面図である。

【図１６】本発明の白色に発光する有機ＥＬ素子の、Ｃ
ＩＥ座標における発光領域を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 有機ＥＬ素子 １ａ 透明電極 １ｂ 有機物層 １ｃ 電極 ２ 支持電極 ３ カラーフィルタ ３Ｒ 赤色カラーフィルタ ３Ｇ 緑色カラーフィルタ ３Ｂ 青色カラーフィルタ ４ 透明無機酸化物基板 ５ 封止手段 ６ 間隙 ７ 保護層 ８ 透明基板 ９ ブラックマトリックス １０ 接着層 １１ 透明支持基板 １２ 透明かつ絶縁性無機酸化物 １３ 透明接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−142171（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−142169（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−335084（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−148597（ＪＰ，Ａ) 国際公開96／034514（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H05B 33/00 - 33/28

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持基板と、この支持基板上に配設した
   白色に発光する有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）
   素子と、この有機ＥＬ素子からの発光を透過して異なっ
   た可視光を発光し得るようにこの有機ＥＬ素子の透明電
   極または電極に対応して配設したカラーフィルタとを備
   えた多色発光装置において、 前記有機ＥＬ素子とカラーフィルタとの間に、有機ＥＬ
   素子と間隙を保持しながらカラーフィルタを配置する透
   明無機酸化物基板を配設し、この透明無機酸化物基板と
   前記支持基板との間で有機ＥＬ素子を封止手段によって
   封止してなることを特徴とする多色発光装置。
2. 【請求項２】 前記カラーフィルタが、前記透明無機酸
   化物基板上に平面的に分離配置されてなることを特徴と
   する請求項１記載の多色発光装置。
3. 【請求項３】 前記カラーフィルタ上に、さらに保護層
   および／または透明基板を配設したことを特徴とする請
   求項１または２記載の多色発光装置。
4. 【請求項４】 前記透明無機酸化物基板の板厚が、１〜
   ２００μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいず
   れか１項記載の多色発光装置。
5. 【請求項５】 前記透明無機酸化物基板が、透明なガラ
   ス板であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
   項記載の多色発光装置。
6. 【請求項６】 透明支持基板と、その透明支持基板上に
   平面的に分離配置したカラーフィルタと、そのカラーフ
   ィルタの上面または上方に配設した白色に発光する有機
   エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子とを有し、その
   カラーフィルタのそれぞれが有機ＥＬ素子からの発光を
   透過して異なった可視光を発光し得るようにカラーフィ
   ルタと有機ＥＬ素子の透明電極又は電極とを対応して配
   設した多色発光装置において、 前記カラーフィルタと有機ＥＬ素子との間に、厚さが
   ０．０１〜５０．０５μｍの透明な絶縁性無機酸化物層
   を配設してなることを特徴とする多色発光装置（但し、
   光拡散性を有する拡散層を含む装置は除く）。
7. 【請求項７】 透明支持基板と、その透明支持基板上に
   平面的に分離配置したカラーフィルタと、そのカラーフ
   ィルタの上面または上方に配設した白色に発光する有機
   エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子とを有し、その
   カラーフィルタのそれぞれが有機ＥＬ素子からの発光を
   透過して異なった可視光を発光し得るようにカラーフィ
   ルタと有機ＥＬ素子の透明電極又は電極とを対応して配
   設した多色発光装置において、 前記カラーフィルタと有機ＥＬ素子との間に、水蒸気ま
   たは酸素のガス透過係数が１０^−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ
   ^２・ｓ・ｃｍＨｇ以下である、厚さが０．０１〜２００
   μｍの透明な絶縁性無機酸化物層（但し、ガラス板は除
   く）を配設してなることを特徴とする多色発光装置。
8. 【請求項８】 前記絶縁性無機酸化物層の水蒸気または
   酸素のガス透過係数が１０^−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ^２・
   ｓ・ｃｍＨｇ以下であることを特徴とする請求項６記載
   の多色発光装置。
9. 【請求項９】 前記カラーフィルタと透明な絶縁性無機
   酸化物層との間に、透明な保護層および／または透明な
   接着層を配設してなることを特徴とする請求項６〜８の
   いずれか一項記載の多色発光装置。
10. 【請求項１０】 前記透明な絶縁性無機酸化物が、透明
    な絶縁性のガラス板であることを特徴とする請求項６記
    載の多色発光装置。
11. 【請求項１１】 前記透明な絶縁性無機酸化物が、酸化
    ケイ素、酸化アルミニウム、および酸化チタンからなる
    群から選ばれる一種以上の化合物であることを特徴とす
    る請求項６〜９のいずれか一項記載の多色発光装置。
12. 【請求項１２】 前記透明な絶縁性無機酸化物が、酸化
    ケイ素、酸化アルミニウム、および酸化チタンからなる
    群から選ばれる一種以上の化合物を、透明な絶縁性のガ
    ラス板の上面または下面の少なくとも一方に製膜してな
    るものであることを特徴とする請求項６記載の多色発光
    装置。
13. 【請求項１３】 前記無機酸化物が窒化物を含むことを
    特徴とする請求項６〜９のいずれか一項記載の多色発光
    装置。
14. 【請求項１４】 透明支持基板上に、有機ＥＬ素子の白
    色発光を透過して異なった可視光を発光するカラーフィ
    ルタを平面的に分離配置し、このカラーフィルタの上面
    または上方に有機ＥＬ素子をその透明電極又は電極がカ
    ラーフィルタに対応するように配設する多色発光装置の
    製造方法において、 （Ａ）透明支持基板上にカラーフィルタを平面的に分離
    配置する工程、 （Ｂ）カラーフィルタ上、およびカラーフィルタが平面
    的に分離配設された透明支持基板上に、透明な保護層お
    よび／または透明な接着層を配設する工程、 （Ｃ）有機ＥＬ素子の透明電極を形成した、又は透明電
    極を形成する予定の、厚さ１〜２００μｍの透明な絶縁
    性のガラス板、または酸化ケイ素、酸化アルミニウム、
    および酸化チタンからなる群から選ばれる一種以上の化
    合物を、透明な絶縁性のガラス板の上面または下面の少
    なくとも一方に製膜したものを、前記透明な保護層また
    は透明な接着層上に接合する工程、および （Ｄ）透明電極が形成されたガラス板上に有機ＥＬ素子
    の有機物層および電極を順次積層する工程、 を有することを特徴とする多色発光装置（但し、光拡散
    性を有する拡散層を含む装置は除く）の製造方法。