JP3448177B2 - ガスの直接分析方法 - Google Patents
ガスの直接分析方法Info
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- JP3448177B2 JP3448177B2 JP01487597A JP1487597A JP3448177B2 JP 3448177 B2 JP3448177 B2 JP 3448177B2 JP 01487597 A JP01487597 A JP 01487597A JP 1487597 A JP1487597 A JP 1487597A JP 3448177 B2 JP3448177 B2 JP 3448177B2
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- gas
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- pipe
- shutoff valve
- measurement pipe
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザを用いたガ
スの直接分析方法において、分析装置の安全性の向上に
寄与するものである。
スの直接分析方法において、分析装置の安全性の向上に
寄与するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、発電プラント等でのガス濃度の計
測においては、主要ガス成分はガスクロマトグラフィー
等でオンラインで計測することが可能であるが、微量な
ガス成分及ひガス中に含まれる粉体の組成については、
ガス及び粉体を吸引した後に、分析しており、オンライ
ンでの計測は困難であった。
測においては、主要ガス成分はガスクロマトグラフィー
等でオンラインで計測することが可能であるが、微量な
ガス成分及ひガス中に含まれる粉体の組成については、
ガス及び粉体を吸引した後に、分析しており、オンライ
ンでの計測は困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】微量なガス成分及び粉
体組成等についても、レーザを用いたガス分析装置を設
置することにより、オンラインでの監視が可能となる。
しかしながら、レーザを用いたガス分析装置において
は、配管に直接分析装置を設置する為、配管から分析装
置へのリークが生じた場合、レーザを用いたガスの分析
装置に修復不可能な影響を及ぼす可能性がある。
体組成等についても、レーザを用いたガス分析装置を設
置することにより、オンラインでの監視が可能となる。
しかしながら、レーザを用いたガス分析装置において
は、配管に直接分析装置を設置する為、配管から分析装
置へのリークが生じた場合、レーザを用いたガスの分析
装置に修復不可能な影響を及ぼす可能性がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、圧力が大気
圧以上である被計測ガスの配管から計測用配管を分岐さ
せると共に該計測用配管にレーザを用いたガスの分析装
置を収納した密閉容器を接続し、更に、前記計測用配管
に遮断弁及びレーザ光学窓を備えたフランジを介装した
ガスの直接分析方法において、前記レーザ光学窓を備え
たフランジを二重にし、二つのレーザ光学窓を備えたフ
ランジによって仕切られた空間内の内圧の上昇、前記計
測用配管との差圧の低下により、前記計測用配管からの
ガスのリークを検知し、ガスのリークが検知された場
合、前記レーザを用いたガスの分析装置によるレーザを
速やかに停止し、前記計測用配管に設置された遮断弁を
閉とすることを特徴とする。
圧以上である被計測ガスの配管から計測用配管を分岐さ
せると共に該計測用配管にレーザを用いたガスの分析装
置を収納した密閉容器を接続し、更に、前記計測用配管
に遮断弁及びレーザ光学窓を備えたフランジを介装した
ガスの直接分析方法において、前記レーザ光学窓を備え
たフランジを二重にし、二つのレーザ光学窓を備えたフ
ランジによって仕切られた空間内の内圧の上昇、前記計
測用配管との差圧の低下により、前記計測用配管からの
ガスのリークを検知し、ガスのリークが検知された場
合、前記レーザを用いたガスの分析装置によるレーザを
速やかに停止し、前記計測用配管に設置された遮断弁を
閉とすることを特徴とする。
【０００５】更に、二つのレーザ光学窓を備えたフラン
ジによって仕切られた空間に遮断弁を介して大気開放す
るラインを接続し、ガスのリークが検知された場合、大
気開放ラインの遮断弁を開とすることをも特徴とする。
ジによって仕切られた空間に遮断弁を介して大気開放す
るラインを接続し、ガスのリークが検知された場合、大
気開放ラインの遮断弁を開とすることをも特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明に係るレーザを用いたガス
分析装置の一例を図２に示す。同図に示すように、ガス
を輸送する配管１にパージ５付き光学窓６が設けられる
と共にこの光学窓６の外側にはレンズ４、ミラー８、プ
ラズマ用レーザ３及び成分励起用レーザ７が配置されて
いる。
分析装置の一例を図２に示す。同図に示すように、ガス
を輸送する配管１にパージ５付き光学窓６が設けられる
と共にこの光学窓６の外側にはレンズ４、ミラー８、プ
ラズマ用レーザ３及び成分励起用レーザ７が配置されて
いる。
【０００７】プラズマ用レーザ３は、プラズマを生成さ
せる為のレーザであり、レンズ４及び光学窓５を通し
て、配管１内の被計測場２へ集光することにより、そこ
に存在する気体、液体、固体をプラズマ化する。
せる為のレーザであり、レンズ４及び光学窓５を通し
て、配管１内の被計測場２へ集光することにより、そこ
に存在する気体、液体、固体をプラズマ化する。
【０００８】成分励起用レーザ７は、物質中の被測定成
分の励起波長に対応する波長を発生するレーザであり、
ミラー８、レンズ４及び光学窓５を通じて、プラズマ用
レーザ３と同期して配管１内の被計測場２に入射するこ
とにより、レーザ誘起されたプラズマ中の被測定成分を
蛍光させる。プラズマ発光並びに成分励起用レーザ７に
より励起された被測定成分が発する蛍光は、光学窓５及
びミラー９を介してレンズ１０で集光され、分光器１１
に入射され、ＣＣＤカメラ１２にてそれぞれ検出され
る。
分の励起波長に対応する波長を発生するレーザであり、
ミラー８、レンズ４及び光学窓５を通じて、プラズマ用
レーザ３と同期して配管１内の被計測場２に入射するこ
とにより、レーザ誘起されたプラズマ中の被測定成分を
蛍光させる。プラズマ発光並びに成分励起用レーザ７に
より励起された被測定成分が発する蛍光は、光学窓５及
びミラー９を介してレンズ１０で集光され、分光器１１
に入射され、ＣＣＤカメラ１２にてそれぞれ検出され
る。
【０００９】それぞれの信号はコンピュータ１３に転送
され、プラズマ発光の信号より、被計測場２の成分組成
並びに、プラズマ温度を求め、その情報から蛍光強度の
補正をおこない、被計測場２に存在する微量成分の濃度
を算出する。尚、プラズマ用レーザ３と成分励起用レー
ザ７の発振とＣＣＤカメラ１２とは、ライン１４により
同期させられる。
され、プラズマ発光の信号より、被計測場２の成分組成
並びに、プラズマ温度を求め、その情報から蛍光強度の
補正をおこない、被計測場２に存在する微量成分の濃度
を算出する。尚、プラズマ用レーザ３と成分励起用レー
ザ７の発振とＣＣＤカメラ１２とは、ライン１４により
同期させられる。
【００１０】〔実施例１〕
本発明に係るガスの直接分析方法の一実施例を図１に示
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
【００１１】密閉容器２１内には、図２に示すプラズマ
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
【００１２】二つのフランジ１９の間は、レーザ光学窓
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
圧力計２５が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２の圧力は圧力計２５により計測さ
れている。
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
圧力計２５が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２の圧力は圧力計２５により計測さ
れている。
【００１３】従って、ガス分析時は、遮断弁１７を開
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の圧力が低下したことが圧力計２５に
より計測され、配管１５と差圧が一定以上に達した場
合、速やかにプラズマ化を停止させ、計測用配管１６の
遮断弁１７を閉とする。また、大気放出ライン２４の遮
断弁２３を開とし、空間２２内のリークガスを系外に放
出する。
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の圧力が低下したことが圧力計２５に
より計測され、配管１５と差圧が一定以上に達した場
合、速やかにプラズマ化を停止させ、計測用配管１６の
遮断弁１７を閉とする。また、大気放出ライン２４の遮
断弁２３を開とし、空間２２内のリークガスを系外に放
出する。
【００１４】上述したようにガス分析装置２０は、光学
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
【００１５】但し、レーザ光学窓１８は遮断弁１７に比
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
【００１６】〔実施例２〕
本発明に係るガスの直接分析方法の一実施例を図３に示
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
【００１７】密閉容器２１内には、図２に示すプラズマ
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
【００１８】二つのフランジ１９の間は、レーザ光学窓
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
差圧計２６が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２と配管１５の差圧は差圧計２６に
より計測されている。
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
差圧計２６が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２と配管１５の差圧は差圧計２６に
より計測されている。
【００１９】従って、ガス分析時は、遮断弁１７を開
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の圧力が低下し、配管１５と差圧が一
定以上に達したことが差圧計２６により計測された場
合、速やかにプラズマ化を停止させ、計測用配管１６の
遮断弁１７を閉とする。また、大気放出ライン２４の遮
断弁２３を開とし、空間２２内のリークガスを系外に放
出する。
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の圧力が低下し、配管１５と差圧が一
定以上に達したことが差圧計２６により計測された場
合、速やかにプラズマ化を停止させ、計測用配管１６の
遮断弁１７を閉とする。また、大気放出ライン２４の遮
断弁２３を開とし、空間２２内のリークガスを系外に放
出する。
【００２０】上述したようにガス分析装置２０は、光学
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
【００２１】但し、レーザ光学窓１８は遮断弁１７に比
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
【００２２】〔実施例３〕
本発明に係るガスの直接分析方法の一実施例を図４に示
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
す。同図に示すように、ガス配管１５から計測用配管１
６が分岐すると共にこの計測用配管１６に遮断弁１７を
介して密閉容器２１が接続され、遮断弁１７と密閉容器
２１との間には、レーザ光学窓１８を備えたフランジ１
９が二重に介設されている。
【００２３】密閉容器２１内には、図２に示すプラズマ
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
用レーザ３、成分励起用レーザ７及び分光器１１等より
なるレーザを用いたガス分析装置２０が密閉して設置さ
れている。レーザ光学窓１８は、可視材料（例えば、ガ
ラス等）よりなり、フランジ１９の中心部はレーザ光が
通過するが、ガス等は通過せず密閉性を有するものであ
る。
【００２４】二つのフランジ１９の間は、レーザ光学窓
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
温度計２７が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２の温度は温度計２７により計測さ
れている。
１８により密閉された空間２２であり、この空間２２に
温度計２７が接続されると共に大気放出ライン２４が接
続される。大気開放ライン２４には、遮断弁２３が備え
られている。空間２２の温度は温度計２７により計測さ
れている。
【００２５】従って、ガス分析時は、遮断弁１７を開
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の温度が低下し、所定の温度に達した
ことが温度計２７により計測された場合、速やかにプラ
ズマ化を停止させ、計測用配管１６の遮断弁１７を閉と
する。また、大気放出ライン２４の遮断弁２３を開と
し、空間２２内のリークガスを系外に放出する。
け、ガス配管１５からガスをレーザ光学窓１８の前部に
通し、この部分にプラズマを発生させ分析する。ガス分
析中に計測用配管１６から、空間２２側にガスのリーク
が生じ、空間２２の温度が低下し、所定の温度に達した
ことが温度計２７により計測された場合、速やかにプラ
ズマ化を停止させ、計測用配管１６の遮断弁１７を閉と
する。また、大気放出ライン２４の遮断弁２３を開と
し、空間２２内のリークガスを系外に放出する。
【００２６】上述したようにガス分析装置２０は、光学
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
機器であるため、熱的影響に弱く、又、圧力に対しても
影響され、修復不可能な支障を起こす虞があるので、常
温、常圧でのガス分析が望ましい。そこで、本実施例で
は、ガス分析装置２０の昇温又は圧力上昇を防ぐため、
ガス配管１５から計測用配管１６を分岐して、これにガ
ス分析装置２０を接続している。また、ガス分析装置２
０とガスとの接触を回避するため、レーザ光学窓１８を
二重に設けている。
【００２７】但し、レーザ光学窓１８は遮断弁１７に比
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
べて密閉性能が弱いため、ガスのリークが発生し、ガス
分析装置２０に修復不可能な影響が発生する虞がある。
そこで、二重のレーザ光学窓１８に挟まれた空間２２に
ガスがリークしたことを検知すると、そのリークガスを
速やかに系外に排出して、そのリークガスがガス分析装
置２０に接触しないようにしている。これにより、ガス
のリークによるガス分析装置２０の損傷を確実に防ぐこ
とが可能となる。
【００２８】
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明では、レーザ光学窓を二重に設け、こ
れにて仕切られた空間に、圧力計又は圧力差圧計を設け
て、圧力変化を検出してガスリークと判断するため、ガ
スリークが一定以上となったときに、計測（プラズマ発
生）を中止し、前部の遮断弁を閉じ、更には、リークし
たガスを大気開放ラインへ逃がすため、レーザを用いた
ガスの分析装置の安全性が確保され、該計測装置の信頼
性の向上に寄与する。
たように、本発明では、レーザ光学窓を二重に設け、こ
れにて仕切られた空間に、圧力計又は圧力差圧計を設け
て、圧力変化を検出してガスリークと判断するため、ガ
スリークが一定以上となったときに、計測（プラズマ発
生）を中止し、前部の遮断弁を閉じ、更には、リークし
たガスを大気開放ラインへ逃がすため、レーザを用いた
ガスの分析装置の安全性が確保され、該計測装置の信頼
性の向上に寄与する。
【図１】本発明の実施例１のガスの直接分析装置の安全
装置を示す説明図である。
装置を示す説明図である。
【図２】本発明に係るレーザを用いたガス分析装置の一
例を示す説明図である。
例を示す説明図である。
【図３】本発明の実施例２のガスの直接分析装置の安全
装置を示す説明図である。
装置を示す説明図である。
【図４】本発明の実施例３のガスの直接分析装置の安全
装置を示す説明図である。
装置を示す説明図である。
１ 配管
２ 被計測場
３ プラズマ用レーザ
４，１０ レンズ
５ パージ
６ 光学窓
７ 成分励起用レーザ
８，９ ミラー
１１ 分光器
１２ ＣＣＤカメラ
１３ コンピュータ
１４ ライン
１５ ガス配管
１６ 計測用分岐管
１７，２３ 遮断弁
１８ レーザ光学窓
１９ フランジ
２０ レーザを用いたガス分析装置
２１ 密封容器
２２ 空間
２４ 大気開放ライン
２５ 圧力計
２６ 差圧計
２７ 温度計
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 実開 昭58−170537（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01N 21/00 - 21/61
G01N 21/62 - 21/74
ＰＡＴＯＬＩＳ
Claims (4)
- 【請求項１】 圧力が大気圧以上である被計測ガスの配
管から計測用配管を分岐させると共に該計測用配管にレ
ーザを用いたガスの分析装置を収納した密閉容器を接続
し、更に、前記計測用配管に遮断弁及びレーザ光学窓を
備えたフランジを介装したガスの直接分析方法におい
て、前記レーザ光学窓を備えたフランジを二重にし、二
つのレーザ光学窓を備えたフランジによって仕切られた
空間内の内圧の上昇により、前記計測用配管からのガス
のリークを検知し、ガスのリークが検知された場合、前
記レーザを用いたガスの分析装置によるレーザを速やか
に停止し、前記計測用配管に設置された遮断弁を閉とす
ることを特徴とするガスの直接分析方法。 - 【請求項２】 圧力が大気圧以上である被計測ガスの配
管から計測用配管を分岐させると共に該計測用配管にレ
ーザを用いたガスの分析装置を収納した密閉容器を接続
し、更に、前記計測用配管に遮断弁及びレーザ光学窓を
備えたフランジを介装したガスの直接分析方法におい
て、前記レーザ光学窓を備えたフランジを二重にし、二
つのレーザ光学窓を備えたフランジによって仕切られた
空間と前記計測用配管との差圧の低下により、前記計測
用配管からのガスのリークを検知し、ガスのリークが検
知された場合、前記レーザを用いたガスの分析装置によ
るレーザを速やかに停止し、前記計測用配管に設置され
た遮断弁を閉とすることを特徴とするガスの直接分析方
法。 - 【請求項３】 圧力が大気圧以上である被計測ガスの配
管から計測用配管を分岐させると共に該計測用配管にレ
ーザを用いたガスの分析装置を収納した密閉容器を接続
し、更に、前記計測用配管に遮断弁及びレーザ光学窓を
備えたフランジを介装したガスの直接分析方法におい
て、前記レーザ光学窓を備えたフランジを二重にし、二
つのレーザ光学窓を備えたフランジによって仕切られた
空間に遮断弁を会して大気開放するラインを接続し、該
空間内の内圧の上昇により、前記計測用配管からのガス
のリークを検知し、ガスのリークが検知された場合、前
記レーザを用いたガスの分析装置によるレーザを速やか
に停止し、前記計測用配管に設置された遮断弁を閉と
し、前記大気開放ラインの遮断弁を開とすることを特徴
するガスの直接分析方法。 - 【請求項４】 圧力が大気圧以上である被計測ガスの配
管から計測用配管を分岐させると共に該計測用配管にレ
ーザを用いたガスの分析装置を収納した密閉容器を接続
し、更に、前記計測用配管に遮断弁及びレーザ光学窓を
備えたフランジを介装したガスの直接分析方法におい
て、前記レーザ光学窓を備えたフランジを二重にし、二
つのレーザ光学窓を備えたフランジによって仕切られた
空間に遮断弁を会して大気開放するラインを接続し、該
空間と前記計測用配管との差圧の低下により、前記計測
用配管からのガスのリークを検知し、ガスのリークが検
知された場合、前記レーザを用いたガスの分析装置によ
るレーザを速やかに停止し、前記計測用配管に設置され
た遮断弁を閉とし、前記大気開放ラインの遮断弁を開と
することを特徴するガスの直接分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01487597A JP3448177B2 (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | ガスの直接分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01487597A JP3448177B2 (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | ガスの直接分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10213544A JPH10213544A (ja) | 1998-08-11 |
| JP3448177B2 true JP3448177B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=11873198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01487597A Expired - Lifetime JP3448177B2 (ja) | 1997-01-29 | 1997-01-29 | ガスの直接分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3448177B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012217120A1 (de) * | 2012-09-24 | 2014-03-27 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung und Betriebsverfahren dafür |
| CN106770074A (zh) * | 2017-03-03 | 2017-05-31 | 东北师范大学 | 基于激光等离子体的烟尘多环芳烃在线监测装置 |
| CN109029855A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-12-18 | 芜湖奕辰模具科技有限公司 | 一种激光切割用气密性检测设备 |
-
1997
- 1997-01-29 JP JP01487597A patent/JP3448177B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10213544A (ja) | 1998-08-11 |
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