JP3411009B2 - Anti-reflection film - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴ、ＬＣＤ、
ＰＤＰ等のディスプレイの表面材として使用でき、反射
防止効果、透明性、黄色度性、ハードコート性、防汚
性、耐クラック性、及び生産性に優れた反射防止フイル
ムに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a CRT, LCD,
The present invention relates to an antireflection film which can be used as a surface material of a display such as a PDP and has excellent antireflection effect, transparency, yellowness, hard coat property, antifouling property, crack resistance and productivity.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から、反射防止フイルムはプラスチ
ックフイルムの片面に単層、あるいは多層の反射防止層
を形成したものが一般的であり、反射防止層が単層の場
合にはプラスチックフイルムより低屈折率の層の厚さを
光波長の１／４波長乃至その奇数倍になるよう形成すれ
ば、また反射防止層が多層の場合には屈折率の異なる層
を交互に２層以上適宜の厚さで積層形成すれば、反射防
止効果が得られることが知られている。また、必要に応
じてプラスチックフイルムと反射防止層の間にハードコ
ート層を形成すること、及び反射防止層の上に防汚層を
形成することも一般に行われている。上記反射防止フイ
ルムの反射防止層の形成方法としてはウエットコーティ
ング法とドライコーティング法の２種類の方法が一般に
知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, an antireflection film is generally formed by forming a single-layer or multi-layer antireflection layer on one side of a plastic film, and when the antireflection layer is a single layer, it is lower than the plastic film. If the thickness of the layer having a refractive index is formed to be ¼ wavelength of the light wavelength or an odd multiple thereof, and if the antireflection layer is a multilayer, two or more layers having different refractive indexes are alternately arranged to have an appropriate thickness. It is known that an antireflection effect can be obtained by stacking layers. It is also common practice to form a hard coat layer between the plastic film and the antireflection layer, and to form an antifouling layer on the antireflection layer, if necessary. As a method of forming the antireflection layer of the antireflection film, two types of methods, a wet coating method and a dry coating method, are generally known.
【０００３】ウエットコーティング法は、金属、金属酸
化物、金属フッ化物等の超微粒子を分散させた塗料をコ
ーティングすることにより単層、あるいは多層の反射防
止層を形成する方法である。しかし、ウエットコーティ
ング法では反射防止層の形成に使用する塗工剤に高い屈
折率のものがないため反射防止効果がやや劣り、またハ
ードコート性も充分でない欠点があった。The wet coating method is a method of forming a single-layer or multi-layer antireflection layer by coating a coating material in which ultrafine particles of metal, metal oxide, metal fluoride and the like are dispersed. However, the wet coating method has a drawback that the antireflection effect is slightly inferior because the coating material used for forming the antireflection layer does not have a high refractive index, and the hard coat property is not sufficient.
【０００４】一方、反射防止効果やハードコート性に優
れているドライコーティング法において様々な発明がな
されている。ドライコーティング法は、蒸着法により金
属、金属酸化物、金属フッ化物等を蒸着して単層、ある
いは多層の反射防止層を形成する方法であり、上記蒸着
法としてはスパッタ蒸着法やＥＢ蒸着法が最も一般的に
用いられている。例えば、特開平９−６１６０２号公報
の実施例には、ベースフイルムの上にハードコート層を
形成し、該ハードコート層上に５層（ハードコート層に
近い方から順にＩＴＯ、ＳｉＯ２、ＩＴＯ、ＭｇＦ２、
ＳｉＯ２）からなる反射防止膜をＥＢ加熱を蒸発エネル
ギー源とする連続巻取式真空蒸着装置を用いて、部分的
にＲＦイオンプレーティング方式併用で、反射防止膜１
層あたり２．０乃至４．０ｍ／分の走行速度で製膜した
ことが記載されている。上記のように、反射防止膜を多
層化すればするほど反射防止効果が向上することは知ら
れているが、その反面、多層化された層の層間密着が悪
くなるという問題があり、また場合によっては反射防止
膜の透明性が低下し、結果として反射防止フイルムの透
明性をも低下させるという欠点があった。反射防止フイ
ルムの透明性の低下を解決するために、プラスチックフ
イルムの透明性を向上させる提案がなされている。例え
ば、特開平９−１２０００１号公報には、熱可塑性ノル
ボルネン系樹脂からなるフイルム上に、該フイルムの表
面と接する層がＳｉＯｘ（０．８≦ｘ≦１．８）からな
り、最外層がＳｉＯ２からなる層である反射防止膜が形
成されてなる反射防止フイルムの記載があり、さらに実
施例にはノルボルネン系樹脂からなるフイルムの表面に
ＳｉＯ（膜厚：８２５ｎｍ）、ＳｉＯ２（膜厚：１３０
ｎｍ）、ＺｒＯ２とＴｉＯ２の混合物（膜厚：１３０ｎ
ｍ）、ＳｉＯ２（膜厚：２４８ｎｍ）をこの順序に蒸着
して得た反射防止フイルムの記載があり、反射防止膜と
しての膜厚は上記４層の膜厚を合計すると１３３３ｎｍ
となる。On the other hand, various inventions have been made in the dry coating method which is excellent in antireflection effect and hard coat property. The dry coating method is a method of depositing a metal, a metal oxide, a metal fluoride or the like by a vapor deposition method to form a single-layer or multi-layer antireflection layer, and the vapor deposition method is a sputter vapor deposition method or an EB vapor deposition method. Is the most commonly used. For example, in the example of Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-61602, a hard coat layer is formed on a base film, and five layers (ITO, SiO 2 , ITO in this order from the side closer to the hard coat layer are formed on the hard coat layer. , MgF 2 ,
The antireflection film made of SiO 2 ) is partially used in combination with the RF ion plating method by using a continuous winding type vacuum vapor deposition apparatus using EB heating as an evaporation energy source.
It is described that the film was formed at a running speed of 2.0 to 4.0 m / min per layer. As described above, it is known that the more the antireflection film is multilayered, the more the antireflection effect is improved, but on the other hand, there is a problem that the interlayer adhesion of the multilayered layer is deteriorated. In some cases, the transparency of the antireflection film is lowered, and as a result, the transparency of the antireflection film is also lowered. In order to solve the decrease in the transparency of the antireflection film, proposals have been made to improve the transparency of the plastic film. For example, in JP-A-9-120001, on a film made of a thermoplastic norbornene-based resin, a layer in contact with the surface of the film is made of SiOx (0.8 ≦ x ≦ 1.8), and an outermost layer is made of SiOx. There is a description of an antireflection film formed with an antireflection film which is a layer composed of 2 and further, in the examples, SiO (film thickness: 825 nm) and SiO 2 (film thickness: 130
nm), a mixture of ZrO 2 and TiO 2 (film thickness: 130 n
m) and SiO 2 (film thickness: 248 nm) are vapor-deposited in this order to describe an antireflection film, and the film thickness as an antireflection film is 1333 nm when the above four layers are added together.
Becomes
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の反射防
止フイルムには上記に示した欠点も含めて、以下のよう
な問題があった。ウエットコーティング法で得られる反
射防止フイルムにおいては、
（１）反射防止層の形成に使用する塗工剤に高い屈折率
のものがないため反射防止効果がやや劣るという問題が
あった。
（２）またハードコート性も充分でなく、耐擦傷性に欠
けていた。However, the conventional antireflection film has the following problems including the above-mentioned drawbacks. The antireflection film obtained by the wet coating method has the problem that (1) the antireflection effect is somewhat inferior because the coating material used for forming the antireflection layer does not have a high refractive index. (2) Further, the hard coat property was not sufficient and the scratch resistance was lacking.
【０００６】また、ドライコーティング法で得られる反
射防止フイルムにおいては、
（３）特開平９−１２０００１号公報の実施例、及び特
開平９−６１６０２号公報の実施例に記載されているよ
うに反射防止膜を多層化しているが、反射防止膜を多層
化すればするほど反射防止効果は向上するが、その反
面、多層化された層の層間密着が悪くなるという問題が
あり、また場合によっては反射防止膜の透明性が低下
し、結果として反射防止フイルムの透明性をも低下させ
るという問題があった。
（４）反射防止膜の形成方法はスパッタ蒸着法やＥＢ蒸
着法で行われており、特開平９−６１６０２号公報の実
施例に記載されているように、反射防止膜１層あたりそ
の走行速度は２．０乃至４．０ｍ／分であり、非常に遅
く、生産性が極めて悪いという問題があった。
（５）さらに、反射防止膜の多層化、及び反射防止膜形
成時の走行速度が非常に遅いことによりコストが非常に
高くつき、その結果として反射防止フイルムの使用が高
価な商品に限定され汎用性を阻む原因となっていた。
（６）反射防止膜の膜厚は、多層化されているので特開
平９−１２０００１号公報に記載されているように１３
００ｎｍ以上が一般的であった。従って、膜厚が厚いた
めに反射防止膜にクラックが発生したり、反射防止フイ
ルムにカールが発生したり、あるいは反射防止膜の着色
による透明性の低下を生じる問題があった。特に、Ｓｉ
Ｏｘを反射防止膜に使用した場合には、黄色に着色し易
く、所謂透過光黄色度の値が高くなるのでディスプレイ
の反射防止フイルムとしては、全く実用に耐えられない
という問題があった。
（７）反射防止膜の透明性向上のため、特開平９−１２
０００１号公報に記載されているように熱可塑性ノルボ
ルネン系樹脂からなるフイルムを使用するとコストが高
くなり、実用的ではないという問題があった。
（８）反射防止膜を多層化するには、反射防止膜を形成
するための蒸着材料を数種類準備しなければならず、ま
た製造工程も複雑で、作業性も悪かった。
本発明は、上記全ての欠点を除去するものであり、反射
防止効果、透明性、黄色度性、ハードコート性、防汚
性、耐クラック性、及び生産性に優れた反射防止フイル
ムを提供するものである。Further, in the antireflection film obtained by the dry coating method, (3) the antireflection film described in JP-A-9-120001 and JP-A-9-61602 is used. Although the anti-reflection film is multi-layered, the anti-reflection effect is improved as the anti-reflection film is multi-layered, but on the other hand, there is a problem that the interlayer adhesion of the multi-layered film is deteriorated. There is a problem that the transparency of the antireflection film is lowered, and as a result, the transparency of the antireflection film is also lowered. (4) The antireflection film is formed by a sputter vapor deposition method or an EB vapor deposition method. As described in the examples of JP-A-9-61602, the running speed per antireflection film layer is as follows. Was 2.0 to 4.0 m / min, which was very slow and had a problem of extremely poor productivity. (5) Further, the multilayer structure of the antireflection film and the very low traveling speed during the formation of the antireflection film result in a very high cost. As a result, the use of the antireflection film is limited to expensive products and is generally used. It was a cause of hindering sex. (6) Since the thickness of the antireflection film is multi-layered, as described in JP-A-9-120001, the film thickness is 13
It was generally set to 00 nm or more. Therefore, since the film thickness is large, there are problems that cracks occur in the antireflection film, curls occur in the antireflection film, or transparency is deteriorated due to coloring of the antireflection film. In particular, Si
When Ox is used for the antireflection film, it tends to be colored yellow and the so-called transmitted light yellowness value increases, so that there is a problem in that it cannot be put to practical use as an antireflection film for a display. (7) To improve the transparency of the antireflection film, JP-A-9-12
When a film made of a thermoplastic norbornene-based resin is used as described in Japanese Patent No. 0001, the cost becomes high and there is a problem that it is not practical. (8) In order to make the antireflection film multi-layered, several kinds of vapor deposition materials for forming the antireflection film had to be prepared, and the manufacturing process was complicated and the workability was poor. The present invention eliminates all the above-mentioned drawbacks, and provides an antireflection film excellent in antireflection effect, transparency, yellowness, hard coat property, antifouling property, crack resistance, and productivity. It is a thing.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】（１）本発明は、プラス
チックフイルムの片面にハードコート層、反射防止層、
防汚層が順次形成されている反射防止フイルムにおい
て、反射防止層が、ハードコート層に近い方から順にＳ
ｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．
６〜２．０）層から形成されていること、及び以下の
〜の条件を満足することを特徴とする反射防止フイル
ムである。
・ 反射防止層のＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層
が、ｘ値が層方向に連続的に変化した不均一な層であ
り、かつ該ｘ値がハードコート層に近い方が大きく、Ｓ
ｉＯｙ層に向かうにしたがって小さくなっている
・ 反射防止層の厚さが５０〜２５０ｎｍであり、かつ
ＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の厚さの比率が１：０．５〜８
である
・ 反射防止フイルムの可視光反射率が１．５％を超え
ず、３８０〜７８０ｎｍの波長での最小反射率が０．８
％を超えず、全光線透過率が９０％を超え、かつプラス
チックフイルムの全光線透過率を超える
・ 反射防止フイルムの透過光黄色度が６を超えない
（２）本発明は、プラスチックフイルムの他の片面に粘
着剤層を形成してなる上記（１）記載の反射防止フイル
ムである。
（３）本発明は、粘着剤層の上に離型性フイルムを形成
してなる上記（２）記載の反射防止フイルムである。(1) The present invention provides a hard coat layer, an antireflection layer, and a hard coat layer on one surface of a plastic film.
In an antireflection film in which an antifouling layer is sequentially formed, the antireflection layer is S in order from the side closer to the hard coat layer.
iOx (x = 0.8 to 1.5) layer, SiOy (y = 1.
6 to 2.0) layer and satisfy the following conditions (1) to (4). The SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer of the antireflection layer is a non-uniform layer in which the x value continuously changes in the layer direction, and the x value is closer to the hard coat layer. Big, S
The thickness of the antireflection layer is 50 to 250 nm, and the thickness ratio of the SiOx layer and the SiOy layer is 1: 0.5 to 8
The visible light reflectance of the antireflection film does not exceed 1.5%, and the minimum reflectance at the wavelength of 380 to 780 nm is 0.8.
%, The total light transmittance exceeds 90%, and the total light transmittance of the plastic film is exceeded. ・ The transmitted light yellowness of the antireflection film does not exceed 6 (2) The present invention relates to other plastic films. The antireflection film as described in (1) above, which has an adhesive layer formed on one surface thereof. (3) The present invention is the antireflection film as described in (2) above, wherein a releasable film is formed on the pressure-sensitive adhesive layer.
【０００８】本発明の反射防止フイルムは、プラスチッ
クフイルムの片面にハードコート層、反射防止層、防汚
層が順次形成されており、該反射防止層が、ハードコー
ト層に近い方から順にＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）
層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層から形成されて
いる。本発明の反射防止フイルムはハードコート層、及
び防汚層が形成されているので、ハードコート性、耐擦
傷性、及び防汚性に優れている。また、本発明の反射防
止フイルムの反射防止層は、従来の反射防止フイルムの
反射防止層のように多層化されておらず、ＳｉＯｘ（ｘ
＝０．８〜１．５）層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．
０）層の２層だけで形成されているので、透明性に優れ
ている。本発明の反射防止フイルムは、該反射防止層の
厚さ（本発明の反射防止層の厚さとは光学的に求めた厚
さを意味する）が、５０〜２５０ｎｍであり、従来の反
射防止フイルムの反射防止層に比べて厚さは薄くなって
いる。従って、反射防止層が黄色度性、透明性にすぐれ
たものとなり、その結果反射防止フイルムは、透過光黄
色度が６を超えず、全光線透過率が９０％を超え、かつ
プラスチックフイルムの全光線透過率を超えるものとな
り黄色度性、透明性の何れにも優れたものとなる。さら
に、反射防止層の厚さが薄いので反射防止層にクラック
が発生したり、反射防止フイルムにカールが発生したり
することがない。また、本発明の反射防止フイルムは上
記のような構成としたので、可視光反射率が１．５％を
超えず、３８０〜７８０ｎｍの波長での最小反射率（以
下３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率とする）が０．８
％を超えないものとなり、反射防止効果にも優れてい
る。また、本発明の反射防止フイルムは、反射防止層の
形成を真空蒸着法で行うことができるので、反射防止層
の形成が容易にでき、また加工速度が非常に速いので生
産性を大幅に向上できる。従って、コストが非常に安
く、その結果として反射防止フイルムの使用が高価な商
品に限定されることもなく、汎用性に富んだ商品に使用
できる。さらに、反射防止層であるＳｉＯｘ（ｘ＝０．
８〜１．５）層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層は
真空蒸着法で形成できるので、使用する材料は、ＳｉＯ
の１種類のみで足り、複数の材料を必要としない。従っ
て、反射防止層形成の製造工程での作業性が向上する。In the antireflection film of the present invention, a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are sequentially formed on one surface of a plastic film, and the antireflection layer is formed of SiOx (in order from the side closer to the hard coat layer. x = 0.8-1.5)
And a SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer. Since the antireflection film of the present invention has a hard coat layer and an antifouling layer formed thereon, it has excellent hard coat properties, scratch resistance, and antifouling properties. Further, the antireflection layer of the antireflection film of the present invention is not multilayered like the antireflection layer of the conventional antireflection film, and SiOx (x
= 0.8-1.5) layer, SiOy (y = 1.6-2.
It is excellent in transparency because it is formed by only two layers of 0). The antireflection film of the present invention has a thickness of the antireflection layer (the thickness of the antireflection layer of the present invention means a thickness obtained optically) from 50 to 250 nm, and the conventional antireflection film. The thickness is smaller than that of the antireflection layer. Therefore, the antireflection layer has excellent yellowness and transparency, and as a result, the antireflection film has a transmitted light yellowness of not more than 6, a total light transmittance of more than 90%, and a plastic film of all types. It exceeds the light transmittance and is excellent in both yellowness and transparency. Further, since the thickness of the antireflection layer is thin, no cracks are generated in the antireflection layer and no curl is generated in the antireflection film. Further, since the antireflection film of the present invention has the above-mentioned structure, the visible light reflectance does not exceed 1.5%, and the minimum reflectance at the wavelength of 380 to 780 nm (hereinafter, the minimum reflectance at 380 to 780 nm). Rate) is 0.8
%, Which is excellent in antireflection effect. Further, in the antireflection film of the present invention, the formation of the antireflection layer can be performed by the vacuum deposition method, so that the antireflection layer can be easily formed and the processing speed is very high, so that the productivity is significantly improved. it can. Therefore, the cost is very low, and as a result, the use of the antireflection film is not limited to the expensive products, and the antireflection film can be used for the versatile products. Furthermore, SiOx (x = 0.
Since the 8 to 1.5) layer and the SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer can be formed by a vacuum vapor deposition method, the material used is SiO.
No more than one material is required with only one type of. Therefore, the workability in the manufacturing process for forming the antireflection layer is improved.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】本発明の反射防止フイルムに使用
するプラスチックフイルムは、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリブチルアクリレート、酢酸セル
ロース、セルロースアセテートプロピオート、セルロー
スアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ナイロン等
の各種プラスチックフイルムであれば特に制限はない
が、耐熱性、透明性、経済性等の点からポリエチレンテ
レフタレートフイルムが好ましい。プラスチックフイル
ムの厚さは、９〜２５０μｍが好ましく、１００〜１８
８μｍがより好ましい。プラスチックフイルムの厚さ
が、９μｍより薄いと耐熱性に欠けるので好ましくな
い。プラスチックフイルムの厚さが、２５０μｍより厚
いと透明性が低下し、コストも高くなり、また反射防止
フイルムの製造工程での加工適性が悪くなるので好まし
くない。以上の点からプラスチックフイルムの厚さは、
９〜２５０μｍが好ましく、１００〜１８８μｍであれ
ばより万全である。また、ハードコート層との密着性を
向上させる目的で、プラスチックフイルム上に適宜の易
接着性の樹脂層を設けたり、コロナ処理を施しても良
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The plastic film used in the antireflection film of the present invention is polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, polybutyl acrylate, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, polychlorinated. There is no particular limitation as long as it is various plastic films such as vinyl and nylon, but polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance, transparency, economy and the like. The thickness of the plastic film is preferably 9 to 250 μm, and 100 to 18
8 μm is more preferable. If the thickness of the plastic film is less than 9 μm, the heat resistance is insufficient, which is not preferable. When the thickness of the plastic film is more than 250 μm, the transparency is lowered, the cost is increased, and the processability in the manufacturing process of the antireflection film is deteriorated, which is not preferable. From the above points, the thickness of the plastic film is
It is preferably 9 to 250 μm, and more preferably 100 to 188 μm. Further, for the purpose of improving the adhesiveness with the hard coat layer, an appropriate easily-adhesive resin layer may be provided on the plastic film or corona treatment may be performed.
【００１０】本発明の反射防止フイルムに形成するハー
ドコート層は、反射防止フイルムにハードコート性を付
与するものであり、ディスプレイの表面材に使用できる
程度のハードコート性があればよく、通常鉛筆硬度試験
での測定値が２Ｈ以上であれば実用上問題ない。The hard coat layer formed on the antireflection film of the present invention imparts a hard coat property to the antireflection film, and may have a hard coat property to the extent that it can be used as a surface material of a display. If the measured value in the hardness test is 2H or more, there is no practical problem.
【００１１】ハードコート層に使用される樹脂は、ディ
スプレイの表面材に使用できる程度のハードコート性が
あれば特に制限はなく、シリコーン系、メラミン系等の
熱硬化型ハードコート樹脂や、シリコーン系、アクリル
系等の紫外線硬化型ハードコート樹脂等が使用できる。The resin used for the hard coat layer is not particularly limited as long as it has a hard coat property that can be used as a surface material of a display, and a thermosetting hard coat resin such as a silicone-based or melamine-based resin or a silicone-based resin. Acrylic-based UV-curable hard coat resin or the like can be used.
【００１２】ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍが
好ましく、２〜８μｍがより好ましい。ハードコート層
の厚さが１μｍより薄いと、ハードコート性が得られず
耐擦傷性が低下したり、紫外線硬化型ハードコート樹脂
の場合には硬化不良を生じ易くなる。ハードコート層の
厚さが１０μｍより厚いと、ハードコート層にクラック
が発生したり、反射防止フイルムがカールし易くなるの
で好ましくない。従って、ハードコート層の厚さは、１
〜１０μｍが好ましく、２〜８μｍであれば、より万全
である。The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm. When the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the hard coat property is not obtained and the scratch resistance is lowered, and in the case of the ultraviolet curable hard coat resin, curing failure is likely to occur. When the thickness of the hard coat layer is thicker than 10 μm, cracks are generated in the hard coat layer and the antireflection film is easily curled, which is not preferable. Therefore, the thickness of the hard coat layer is 1
It is preferably 10 μm, and more preferably 2 to 8 μm.
【００１３】また、ハードコート層には帯電防止や熱線
カットの目的でＩＴＯ、ＡＴＯ等の超微粒子を添加して
もよい。Further, ultrafine particles such as ITO and ATO may be added to the hard coat layer for the purpose of preventing static electricity and cutting heat rays.
【００１４】ハードコート層の形成方法は、リバースコ
ート法、ダイコート法、グラビアコート法等の従来公知
の方法が使用できる。As a method for forming the hard coat layer, a conventionally known method such as a reverse coat method, a die coat method, a gravure coat method can be used.
【００１５】本発明の反射防止フイルムに形成する反射
防止層は、ハードコート層に近い方から順にＳｉＯｘ
（ｘ＝０．８〜１．５）層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜
２．０）層で形成されている。本発明の反射防止フイル
ムが所望の反射防止効果を得るには、ＳｉＯｘ（ｘ＝
０．８〜１．５）層の屈折率が１．５４〜２．１の範囲
であり、かつＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層の屈折
率が１．４〜１．５２の範囲でなければならない。Ｓｉ
Ｏｘ層のｘ値を０．８〜１．５の範囲になるように調整
すればＳｉＯｘ層の屈折率が１．５４〜２．１の範囲と
なる。また、ＳｉＯｙ層のｙ値を１．６〜２．０の範囲
になるように調整すればＳｉＯｙ層の屈折率が１．４〜
１．５２の範囲となる。さらに、本発明の反射防止フイ
ルムが所望の反射防止効果を得るには、上記の条件を満
足するとともに、ＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の各層の厚さ
と合計厚さを調整することにより達成できる。反射防止
層が以上の条件を満足することで、本発明の反射防止フ
イルムは、優れた反射防止効果を得るとともに、優れた
黄色度性、透明性を得ることができる。The antireflection layer formed on the antireflection film of the present invention is SiOx in order from the side closer to the hard coat layer.
(X = 0.8 to 1.5) layer, SiOy (y = 1.6 to
2.0) layer. In order to obtain a desired antireflection effect, the antireflection film of the present invention should have SiOx (x =
The refractive index of the 0.8 to 1.5) layer is in the range of 1.54 to 2.1, and the refractive index of the SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer is 1.4 to 1.52. Must be in the range. Si
If the x value of the Ox layer is adjusted to be in the range of 0.8 to 1.5, the refractive index of the SiOx layer will be in the range of 1.54 to 2.1. Further, if the y value of the SiOy layer is adjusted to be in the range of 1.6 to 2.0, the refractive index of the SiOy layer is 1.4 to 2.0.
The range is 1.52. Further, the antireflection film of the present invention can achieve the desired antireflection effect by satisfying the above conditions and adjusting the total thickness and the thickness of each of the SiOx layer and the SiOy layer. When the antireflection layer satisfies the above conditions, the antireflection film of the present invention can obtain not only an excellent antireflection effect but also excellent yellowness and transparency.
【００１６】発明者は、本発明の反射防止フイルムの反
射防止層であるＳｉＯｘ層、及びＳｉＯｙ層を後で述べ
るように真空蒸着法により形成した場合、ＳｉＯｘ層
は、恰も２層以上で構成されているような挙動を示すこ
とを反射スペクトルより見出した。具体的には、ＳｉＯ
ｘ層は、ある１つのｘ値で表される均一な層ではなく、
ｘ値が層方向に連続的に変化した不均一な層になってお
り、しかも該ｘ値はハードコート層に近い方が大きく、
ＳｉＯｙ層に向かうにしたがって小さくなっている。言
い換えれば、ＳｉＯｘ層は１つの屈折率で表される均一
な層ではなく、屈折率が層方向に連続的に変化した不均
一な層になっており、ハードコート層に近い方が小さ
く、ＳｉＯｙ層に向かうにしたがって大きくなっている
ことを示している。また、従来の反射防止フイルムの多
層化された反射防止膜は、反射防止膜を構成する各層の
界面で急激に屈折率が変化するものとなっているのに対
して、本発明の反射防止フイルムのＳｉＯｘ層は連続的
に屈折率が変化するものとなっている。従って、本発明
の反射防止フイルムの反射防止層は、ＳｉＯｘ層、及び
ＳｉＯｙ層の２層構成ではあるが、実際には上記のよう
にＳｉＯｘ層は厚さ方向で屈折率が変化する構成になっ
ているので、反射防止層が単純に２層である場合の反射
防止効果よりも優れた反射防止効果が得られる。さら
に、従来の反射防止フイルムは反射防止層の多層化によ
り透明性が低下する場合があったが、本発明の反射防止
フイルムの反射防止層は、２層構成であり、かつ後で述
べるように膜厚が非常に薄いので、透明性が低下しな
い。また、従来の反射防止フイルムの反射防止膜が異種
の材料で形成されていたのに対し、本発明の反射防止フ
イルムの反射防止層は、単にＳｉの酸化度合が異なるＳ
ｉＯｘ層、及びＳｉＯｙ層のみで形成されているので、
ＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層間の密着性が良い。ＳｉＯｘ層
が、上記のようにｘ値が層方向に連続的に変化した構成
となるためには、次に述べるようにＳｉＯｘ層の形成方
法をＳｉＯを蒸着材料として、真空蒸着法で酸素の導入
量を調整して真空度を一定に保ちつつ、ＳｉＯと酸素と
を反応させながら蒸着し形成することにより達成され
る。When the inventor forms the SiOx layer and the SiOy layer, which are the antireflection layers of the antireflection film of the present invention, by the vacuum deposition method as described later, the SiOx layer is composed of two or more layers. It was found from the reflection spectrum that the above behavior was exhibited. Specifically, SiO
The x layer is not a uniform layer represented by a certain x value,
It is a non-uniform layer in which the x value continuously changes in the layer direction, and the x value is larger near the hard coat layer,
It becomes smaller toward the SiOy layer. In other words, the SiOx layer is not a uniform layer represented by one refractive index, but is a non-uniform layer in which the refractive index continuously changes in the layer direction. It shows that it becomes larger as it goes toward the layers. Further, in the conventional antireflection film having a multi-layered structure, the refractive index is rapidly changed at the interface between the layers constituting the antireflection film, whereas the antireflection film of the present invention is used. The SiOx layer has a refractive index that continuously changes. Therefore, although the antireflection layer of the antireflection film of the present invention has a two-layer structure of the SiOx layer and the SiOy layer, the SiOx layer actually has a structure in which the refractive index changes in the thickness direction as described above. Therefore, an antireflection effect superior to the antireflection effect obtained when the antireflection layer is simply two layers is obtained. Further, the conventional antireflection film may have reduced transparency due to the multilayered antireflection layer, but the antireflection layer of the antireflection film of the present invention has a two-layer structure, and as will be described later. Since the film thickness is very thin, the transparency does not decrease. Further, while the antireflection film of the conventional antireflection film is formed of different materials, the antireflection layer of the antireflection film of the present invention is different in the degree of oxidation of Si.
Since it is formed of only the iOx layer and the SiOy layer,
Good adhesion between the SiOx layer and the SiOy layer. In order for the SiOx layer to have a structure in which the x value continuously changes in the layer direction as described above, the SiOx layer is formed by using SiO as a vapor deposition material and introducing oxygen by a vacuum vapor deposition method as described below. This is achieved by vapor deposition while reacting SiO and oxygen while adjusting the amount to keep the degree of vacuum constant.
【００１７】本発明の反射防止フイルムのＳｉＯｘ（ｘ
＝０．８〜１．５）層、及びＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜
２．０）層の形成方法は、誘導加熱方式、あるいは抵抗
加熱方式の真空蒸着法を使用することができる。また、
反射防止層であるＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層、
ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層は真空蒸着法で形成
できるので、使用する材料は、ＳｉＯの１種類のみで足
り、複数の材料を必要としない。従って、反射防止層形
成の製造工程での作業性が向上する。本発明の反射防止
フイルムのハードコート層上に、所望の屈折率のＳｉＯ
ｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層、及びＳｉＯｙ（ｙ＝１．
６〜２．０）層を形成するには、ＳｉＯを蒸着材料とし
て使用し、真空蒸着機の真空曹内に酸素を導入し、反射
防止層としての特性を安定させるために酸素の導入量を
調整して真空度を一定に保ちつつ、ＳｉＯと酸素とを反
応させながら蒸着し形成する。The antireflection film of the present invention is made of SiOx (x
= 0.8-1.5) layer, and SiOy (y = 1.6-
As the method for forming the 2.0) layer, an induction heating method or a resistance heating method vacuum deposition method can be used. Also,
SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer which is an antireflection layer,
Since the SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer can be formed by the vacuum vapor deposition method, the material to be used is only one type of SiO and does not require a plurality of materials. Therefore, the workability in the manufacturing process for forming the antireflection layer is improved. On the hard coat layer of the antireflection film of the present invention, SiO having a desired refractive index is formed.
x (x = 0.8 to 1.5) layer and SiOy (y = 1.
6-2.0) layer is formed by using SiO as a vapor deposition material, introducing oxygen into the vacuum soda of a vacuum vapor deposition machine, and adjusting the amount of oxygen introduced in order to stabilize the properties of the antireflection layer. It is formed by vapor deposition while reacting SiO and oxygen while adjusting and keeping the degree of vacuum constant.
【００１８】ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層を形成
するには、ｘ値に応じて適宜の量の酸素を導入し、蒸着
材料であるＳｉＯと反応させることにより、屈折率が
１．５４〜２．１のＳｉＯｘ層を形成する。このとき
に、真空度に占める酸素分圧が高すぎると、酸素とＳｉ
Ｏとの反応率が上がりｘ値が１．５より大きくなり２に
近づくために所望の屈折率が得られず好ましくない。ま
た、真空度に占める酸素分圧が低すぎると、ＳｉＯの分
解が進みすぎてｘ値が０．８より小さくなるために透過
光黄色度が高くなるので好ましくない。ＳｉＯｘ層のｘ
値が０．８〜１．５であれば、所望の屈折率１．５４〜
２．１となる。従って、ｘ値は０．８〜１．５が好まし
い。In order to form a SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer, an appropriate amount of oxygen is introduced according to the x value and reacted with SiO which is a vapor deposition material, so that the refractive index is increased. A SiOx layer of 1.54 to 2.1 is formed. At this time, if the oxygen partial pressure in the vacuum is too high, oxygen and Si
Since the reaction rate with O increases and the x value becomes larger than 1.5 and approaches 2, it is not preferable because the desired refractive index cannot be obtained. On the other hand, if the oxygen partial pressure in the degree of vacuum is too low, the decomposition of SiO proceeds too much, and the x value becomes smaller than 0.8, so that the transmitted light yellowness becomes high, which is not preferable. SiOx layer x
If the value is 0.8 to 1.5, the desired refractive index is 1.54 to
It becomes 2.1. Therefore, the x value is preferably 0.8 to 1.5.
【００１９】また、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層
を形成するには、ｙ値に応じて適宜の量の酸素を導入
し、蒸着材料であるＳｉＯと反応させることにより、屈
折率が１．４〜１．６のＳｉＯｙ層を形成する。このと
きに、真空度に占める酸素分圧が高すぎると、ＳｉＯｙ
層が緻密でなくなるとともに、ＳｉＯｘ層や防汚層との
密着力が低下するので好ましくない。また、真空度に占
める酸素分圧が低すぎると、酸素とＳｉＯとの反応率が
下がりｙ値が１．６より小さくなるために所望の屈折率
が得られず好ましくない。ＳｉＯｙ層のｙ値が１．６〜
２．０であれば、所望の屈折率１．４〜１．５２とな
る。従って、ｙ値は１．６〜２．０が好ましい。In order to form a SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, an appropriate amount of oxygen is introduced according to the y value and reacted with SiO which is a vapor deposition material, thereby refracting. A SiOy layer having a rate of 1.4 to 1.6 is formed. At this time, if the oxygen partial pressure in the vacuum degree is too high, SiOy
This is not preferable because the layer becomes less dense and the adhesion with the SiOx layer or the antifouling layer decreases. On the other hand, if the oxygen partial pressure in the degree of vacuum is too low, the reaction rate between oxygen and SiO decreases and the y value becomes smaller than 1.6, so that the desired refractive index cannot be obtained, which is not preferable. The y value of the SiOy layer is 1.6 to
If 2.0, the desired refractive index is 1.4 to 1.52. Therefore, the y value is preferably 1.6 to 2.0.
【００２０】また、ＳｉＯｘ層のｘ値、及びＳｉＯｙ層
のｙ値の調整は、真空蒸着時の光線透過率や光線反射率
を測定することにより行い、該光線透過率測定値や該光
線反射率測定値をモニターしながら、蒸着条件にフィー
ドバックすることにより調整する。上記の光線透過率測
定値、及び光線反射率測定値は、ｘ値、ｙ値、及びハー
ドコート層を形成したプラスチックフイルムの光線透過
率や光線反射率により適宜決定される。Further, the x value of the SiOx layer and the y value of the SiOy layer are adjusted by measuring the light transmittance and the light reflectance during vacuum deposition, and the measured light transmittance and the light reflectance are measured. It is adjusted by feeding back the vapor deposition conditions while monitoring the measured values. The above-mentioned measured value of light transmittance and measured value of light reflectance are appropriately determined by x value, y value, and light transmittance and light reflectance of the plastic film having the hard coat layer formed thereon.
【００２１】本発明の反射防止フイルムは、反射防止層
の厚さが５０〜２５０ｎｍである。反射防止層の厚さが
５０〜２５０ｎｍであり薄いので、反射防止層の透明
性、黄色度性に優れているとともに、反射防止層にクラ
ックが発生したり、反射防止フイルムにカールが発生し
たりすることもなく、コストもかからない。反射防止層
の厚さが５０ｎｍより薄いと反射防止効果が得られ難い
ので好ましくない。反射防止層の厚さが２５０ｎｍより
厚いと反射防止効果が得られ難くなるとともに透明性、
黄色度性が低下したり、クラックの発生や、反射防止フ
イルムにカールが発生したりするので好ましくない。従
って、反射防止層の厚さは５０〜２５０ｎｍが好まし
く、１２０〜２４０ｎｍであればより万全である。Ｓｉ
Ｏｘ層、及びＳｉＯｙ層の厚さは、反射防止効果が最大
となるように適宜決定すれば良い。In the antireflection film of the present invention, the thickness of the antireflection layer is 50 to 250 nm. Since the thickness of the antireflection layer is as thin as 50 to 250 nm, the antireflection layer is excellent in transparency and yellowness, and cracks occur in the antireflection layer and curls occur in the antireflection film. There is nothing to do and no cost. If the thickness of the antireflection layer is less than 50 nm, it is difficult to obtain the antireflection effect, which is not preferable. When the thickness of the antireflection layer is more than 250 nm, it becomes difficult to obtain the antireflection effect and the transparency,
It is not preferable because the yellowness is lowered, cracks are generated, and the antireflection film is curled. Therefore, the thickness of the antireflection layer is preferably 50 to 250 nm, more preferably 120 to 240 nm. Si
The thicknesses of the Ox layer and the SiOy layer may be appropriately determined so that the antireflection effect is maximized.
【００２２】本発明の反射防止フイルムは、ＳｉＯｘ層
とＳｉＯｙ層の厚さの比率が１：０．５〜８である。Ｓ
ｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の厚さの比率がこの範囲内にない
と、所望の反射防止効果が得られないので好ましくな
い。ＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の厚さの比率は、反射防止
効果が最大となるように適宜決定すれば良い。In the antireflection film of the present invention, the thickness ratio of the SiOx layer and the SiOy layer is 1: 0.5-8. S
If the thickness ratio of the iOx layer and the SiOy layer is not within this range, the desired antireflection effect cannot be obtained, which is not preferable. The thickness ratio of the SiOx layer and the SiOy layer may be appropriately determined so that the antireflection effect is maximized.
【００２３】本発明の反射防止フイルムに形成する防汚
層は、反射防止フイルムの最表層にあって耐擦傷性、及
び防汚性を付与するものである。上記の防汚性とは、防
汚層の上に付いた汚れを容易に拭き取ることができる特
性を言う。The antifouling layer formed on the antireflection film of the present invention is the outermost layer of the antireflection film and imparts scratch resistance and antifouling property. The above-mentioned antifouling property refers to a property that stains on the antifouling layer can be easily wiped off.
【００２４】防汚層に使用される樹脂は、フッ素系、シ
リコーン系、メラミン系、アクリル系等の樹脂、シラン
カップリング剤、及びワックス等が使用できる。The resin used for the antifouling layer may be a fluorine-based resin, a silicone-based resin, a melamine-based resin, an acrylic resin, a silane coupling agent, or a wax.
【００２５】防汚層の厚さは、０．１〜２００ｎｍが好
ましく、０．５〜６０ｎｍがより好ましい。防汚層の厚
さが０．１ｎｍより薄いと、防汚性、及び耐擦傷性が得
られないので好ましくない。防汚層の厚さが２００ｎｍ
より厚いと、耐擦傷性が低下したり、成膜不良が生じて
反射防止効果等が低下するので好ましくない。従って、
防汚層の厚さは、０．１〜２００ｎｍが好ましく、０．
５〜６０ｎｍであれば、より万全である。The thickness of the antifouling layer is preferably 0.1 to 200 nm, more preferably 0.5 to 60 nm. When the thickness of the antifouling layer is less than 0.1 nm, the antifouling property and the scratch resistance cannot be obtained, which is not preferable. Antifouling layer thickness is 200 nm
If the thickness is thicker, the scratch resistance is lowered, or the film formation failure is caused and the antireflection effect is lowered, which is not preferable. Therefore,
The antifouling layer preferably has a thickness of 0.1 to 200 nm, and a thickness of 0.
If it is 5 to 60 nm, it is more perfect.
【００２６】防汚層の形成方法は、リバースコート法、
ダイコート法、グラビアコート法等のウエット法やＣＶ
Ｄ法等のドライ法の従来公知の方法が使用できる。The antifouling layer is formed by the reverse coating method,
Wet methods such as die coating and gravure coating, and CV
A conventionally known method such as a dry method such as method D can be used.
【００２７】本発明の反射防止フイルムは、プラスチッ
クフイルム、ハードコート層、ＳｉＯｘ層、ＳｉＯｙ
層、及び防汚層を以上のように形成したので、黄色度
性、反射防止効果、及び透明性に優れている。本発明の
反射防止フイルムは、黄色の着色度を示す透過光黄色度
が６を超えない。透過光黄色度が６を超えるとディスプ
レイの表面材に使用した場合、鮮明な色合いが出なくな
るので好ましくない。但し、本発明の反射防止フイルム
はその構成上、透過光黄色度が１未満にはなり難い。本
発明の反射防止フイルムは、透過光黄色度が６を超えな
いのでディスプレイの表面材に使用しても全く問題がな
い。本発明の反射防止フイルムは、可視光反射率が１．
５％を超えず、かつ３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率
が０．８％を超えない。可視光反射率は、３８０〜７８
０ｎｍの波長領域において測定した各波長の反射率に各
波長それぞれの係数を乗じて計算した数値で、可視光全
般の反射防止効果を示す指標である（ＪＩＳ−Ｒ−３１
０６）。また、３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率は、
反射防止効果の程度を示す指標である。従って、可視光
反射率が１．５％を超え、かつ３８０〜７８０ｎｍでの
最小反射率が０．８％を超えると実用上の反射防止効果
がなくなるので好ましくない。但し、本発明の反射防止
フイルムは、構成上、可視光反射率が０．１％未満、、
３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率が０．０１％未満に
はなり難い。本発明の反射防止フイルムは、可視光反射
率が１．５％を超えず、かつ、３８０〜７８０ｎｍでの
最小反射率が０．８％を超えないので反射防止効果に優
れ、ディスプレイの表面材に使用しても充分実用に耐え
る。本発明の反射防止フイルムは、全光線透過率が９０
％を超え、かつプラスチックフイルムの全光線透過率を
超える。全光線透過率が９０％以下であると透明性が悪
くなり好ましくない。但し、本発明の反射防止フイルム
は、プラスチックフイルム、ハードコート層、反射防止
層、防汚層各層の光吸収があるので、全光線透過率が９
９％を超えることは難しい。本発明の反射防止フイルム
は、全光線透過率が９０％を超えるので透明性に優れ、
ディスプレイの表面材に使用しても全く問題がない。The antireflection film of the present invention comprises a plastic film, a hard coat layer, a SiOx layer and a SiOy film.
Since the layer and the antifouling layer are formed as described above, the yellowness, the antireflection effect, and the transparency are excellent. The antireflection film of the present invention has a transmitted light yellowness of 6 or less, which exhibits a yellow coloring. If the transmitted light yellowness exceeds 6, it is not preferable because when it is used as a surface material of a display, a clear tint cannot be obtained. However, the antireflection film of the present invention is unlikely to have a transmitted light yellowness of less than 1 due to its constitution. Since the antireflection film of the present invention has a transmitted light yellowness of not more than 6, it can be used as a surface material of a display without any problem. The antireflection film of the present invention has a visible light reflectance of 1.
It does not exceed 5% and the minimum reflectance at 380 to 780 nm does not exceed 0.8%. Visible light reflectance is 380-78
It is a numerical value calculated by multiplying the reflectance of each wavelength measured in the wavelength region of 0 nm by the coefficient of each wavelength, and is an index showing the antireflection effect of all visible light (JIS-R-31).
06). The minimum reflectance at 380 to 780 nm is
It is an index showing the degree of antireflection effect. Therefore, if the visible light reflectance exceeds 1.5% and the minimum reflectance at 380 to 780 nm exceeds 0.8%, the practical antireflection effect is lost, which is not preferable. However, the antireflection film of the present invention has a visible light reflectance of less than 0.1% because of its constitution,
It is difficult for the minimum reflectance at 380 to 780 nm to be less than 0.01%. INDUSTRIAL APPLICABILITY The antireflection film of the present invention has a visible light reflectance of not more than 1.5% and a minimum reflectance of 380 to 780 nm of not more than 0.8%, and thus has an excellent antireflection effect and a surface material for a display. Even if it is used, it can withstand practical use. The antireflection film of the present invention has a total light transmittance of 90.
%, And exceeds the total light transmittance of the plastic film. When the total light transmittance is 90% or less, the transparency is deteriorated, which is not preferable. However, since the antireflection film of the present invention absorbs light by the plastic film, the hard coat layer, the antireflection layer and the antifouling layer, the total light transmittance is 9%.
It is difficult to exceed 9%. The antireflection film of the present invention has excellent transparency because the total light transmittance exceeds 90%.
There is no problem even if it is used as a display surface material.
【００２８】本発明の反射防止フイルムは、プラスチッ
クフイルムのハードコート層を形成した面の反対面に，
粘着剤層を形成してもよい。該粘着剤層は、プラスチッ
クフイルムとディスプレイ表面とを密着させるためのも
のである。粘着剤層に使用される樹脂は、アクリル系等
の樹脂が使用できる。The antireflection film of the present invention is provided on the surface opposite to the surface on which the hard coat layer of the plastic film is formed,
You may form an adhesive layer. The pressure-sensitive adhesive layer serves to bring the plastic film and the display surface into close contact with each other. The resin used for the pressure-sensitive adhesive layer may be an acrylic resin or the like.
【００２９】粘着剤層の厚さは、２〜８０μｍが好まし
く、１０〜４０μｍがより好ましい。粘着剤層の厚さが
２μｍより薄いと、プラスチックフイルムやディスプレ
イ表面との密着力が低下するので好ましくない。粘着剤
層の厚さが８０μｍより厚いと、透明性や生産性が低下
するので好ましくない。従って、粘着剤層の厚さは、２
〜８０μｍが好ましく、１０〜４０μｍであれば、より
万全である。The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 2 to 80 μm, more preferably 10 to 40 μm. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 2 μm, the adhesion with the plastic film or the display surface will be reduced, which is not preferable. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is more than 80 μm, the transparency and the productivity are deteriorated, which is not preferable. Therefore, the thickness of the adhesive layer is 2
.About.80 .mu.m is preferable, and 10 to 40 .mu.m is more perfect.
【００３０】粘着層には、反射防止フイルムを着色する
目的で染料や顔料等を混入してもよく、染料や顔料の種
類、混入量は所望の色や透過率により適宜決定すればよ
い。Dyes or pigments may be mixed in the adhesive layer for the purpose of coloring the antireflection film, and the kind and mixing amount of the dyes or pigments may be appropriately determined according to the desired color and transmittance.
【００３１】粘着剤層の形成方法は、リバースコート
法、ダイコート法、グラビアコート法等の従来公知の方
法が使用できる。As the method for forming the pressure-sensitive adhesive layer, a conventionally known method such as a reverse coating method, a die coating method, a gravure coating method can be used.
【００３２】本発明の反射防止フイルムは、粘着剤層の
上に離型性フイルムを形成してもよい。該離型性フイル
ムは、反射防止フイルムの粘着剤層を保護し、ディスプ
レイ表面に貼り合わせる直前に剥離される。該離型性フ
イルムに使用されるプラスチックフイルムは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ナイロン、アクリル等
の各種プラスチックフイルムであれば特に制限はない。
また、離型性を向上させる目的で、上記プラスチックフ
イルムに離型性を有する樹脂やワックス等を形成しても
よい。In the antireflection film of the present invention, a releasable film may be formed on the pressure-sensitive adhesive layer. The releasable film protects the pressure-sensitive adhesive layer of the antireflection film and is peeled off immediately before it is attached to the display surface. The plastic film used for the release film is polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene,
There is no particular limitation as long as it is a plastic film such as polystyrene, polyvinyl chloride, nylon, or acrylic.
Further, for the purpose of improving releasability, a resin or wax having releasability may be formed on the plastic film.
【００３３】ここで、本発明に係る反射防止フイルムに
ついて、図面を参照しながら説明する。図１は本発明に
係る反射防止フイルムの一例を示す一部拡大断面図であ
り、プラスチックフイルム１の片面に、ハードコート層
２、ＳｉＯｘ層３、ＳｉＯｙ層４、防汚層５が順次形成
されている。図２は本発明に係る反射防止フイルムの一
例を示す一部拡大断面図であり、プラスチックフイルム
１の片面に、ハードコート層２、ＳｉＯｘ層３、ＳｉＯ
ｙ層４、防汚層５が順次形成されており、プラスチック
フイルム１の他の片面に、粘着剤層６、離型性フイルム
７が順次形成されている。Now, the antireflection film according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view showing an example of an antireflection film according to the present invention, in which a hard coat layer 2, a SiOx layer 3, a SiOy layer 4, and an antifouling layer 5 are sequentially formed on one surface of a plastic film 1. ing. FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing an example of the antireflection film according to the present invention. One surface of the plastic film 1 is coated with the hard coat layer 2, the SiOx layer 3, and the SiO film.
The y layer 4 and the antifouling layer 5 are sequentially formed, and the adhesive layer 6 and the releasable film 7 are sequentially formed on the other surface of the plastic film 1.
【００３４】[0034]
【実施例】易接着処理をした厚さ１００μｍのポリエチ
レンテレフタレートフイルム（三菱化学ポリエステル社
製 ダイアホイルＯ３００Ｅ（全光線透過率：８８
％））の易接着処理面に紫外線硬化型ハードコート塗料
（大日精化社製 セイカビームＥＸＦ−０１Ｂ）をリバ
ースコート法にてコーティングして、厚さ５μｍのハー
ドコート層を形成した。次に真空蒸着機にて蒸着材料と
してＳｉＯを使用して、約０．５ ｌ／ｍｉｎの酸素を
導入して蒸着真空度を一定に保ちつつ、透過率をモニタ
ーしながら蒸着し、ハードコート層上に厚さ１２０ｎｍ
のＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層を形成した。さら
にＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層上に、約４．０
ｌ／ｍｉｎの酸素を導入すること以外はＳｉＯｘ層と同
様の方法で、厚さ９４ｎｍのＳｉＯｙ（ｙ＝２）層を蒸
着形成した。次に、ＳｉＯｙ（ｙ＝２）層上に、フッ素
系樹脂（ＤＩＣ社製）をグラビアコート法にてコーティ
ングして、厚さ２０ｎｍの防汚層を形成し、図１に示す
ような反射防止フイルムを得た。また、上記反射フイル
ムのハードコート層の反対面にアクリル系粘着剤をコー
ティングした後、離型性フイルムをラミネートした図２
に示すような試料を作製した。この試料をディスプレイ
に貼着したところ、反射防止効果、透明性等に優れ、問
題なくディスプレイ表面材として使用できた。Example A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm which was subjected to easy adhesion treatment (DIAFOIL O300E manufactured by Mitsubishi Kagaku Polyester Co., Ltd. (total light transmittance: 88)
%)) Was coated with a UV-curable hard coat coating (SEICA BEAM EXF-01B manufactured by Dainichiseika Co., Ltd.) by a reverse coating method to form a hard coat layer having a thickness of 5 μm. Then, using SiO as a vapor deposition material in a vacuum vapor deposition machine, oxygen was introduced at about 0.5 l / min to maintain a constant vapor deposition vacuum degree and vapor deposition was performed while monitoring the transmittance. 120nm thick on top
SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer was formed. Further, about 4.0 on the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer.
A SiOy (y = 2) layer having a thickness of 94 nm was formed by vapor deposition in the same manner as the SiOx layer except that oxygen of 1 / min was introduced. Next, a fluorine resin (manufactured by DIC) is coated on the SiOy (y = 2) layer by a gravure coating method to form an antifouling layer having a thickness of 20 nm, and antireflection as shown in FIG. I got a film. In addition, an acrylic adhesive is coated on the opposite surface of the hard coat layer of the reflective film, and then a releasable film is laminated.
A sample as shown in was prepared. When this sample was attached to a display, it was excellent in antireflection effect, transparency and the like and could be used as a display surface material without any problem.
【００３５】[0035]
【比較例１】酸素を導入することなく、厚さ１２０ｎｍ
のＳｉＯｘ（ｘ＝０．６）層を形成したこと、及びＳｉ
Ｏｘ層の屈折率と厚さを考慮して反射防止効果が最大と
なるようにＳｉＯｙ（ｙ＝２）層を厚さ２７ｎｍに形成
したこと以外は実施例と同様にして反射防止フイルムを
得た。[Comparative Example 1] A thickness of 120 nm without introducing oxygen
A SiOx (x = 0.6) layer of Si, and Si
An antireflection film was obtained in the same manner as in the example except that the SiOy (y = 2) layer was formed to have a thickness of 27 nm so that the antireflection effect was maximized in consideration of the refractive index and the thickness of the Ox layer. .
【００３６】[0036]
【比較例２】約３ ｌ／ｍｉｎの酸素を導入し、厚さ１
２０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．６）層を形成したこと、
及びＳｉＯｘ層の屈折率と厚さを考慮して反射防止効果
が最大となるようにＳｉＯｙ（ｙ＝２）層を厚さ７０ｎ
ｍに形成したこと以外は実施例と同様にして反射防止フ
イルムを得た。[Comparative Example 2] About 3 l / min of oxygen was introduced to a thickness of 1
Forming a 20 nm SiOx (x = 1.6) layer,
And the thickness of the SiOy (y = 2) layer is 70 n so that the antireflection effect is maximized in consideration of the refractive index and the thickness of the SiOx layer.
An antireflection film was obtained in the same manner as in the example except that the film was formed in m.
【００３７】[0037]
【比較例３】約３ ｌ／ｍｉｎの酸素を導入し、厚さ９
４ｎｍのＳｉＯｙ（ｙ＝１．５）層を形成したこと以外
は実施例と同様にして反射防止フイルムを得た。[Comparative Example 3] About 3 l / min of oxygen was introduced to a thickness of 9
An antireflection film was obtained in the same manner as in the example except that a 4 nm SiOy (y = 1.5) layer was formed.
【００３８】[0038]
【比較例４】厚さ４４０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝１．０）
層を形成したこと、及びＳｉＯｘ層の屈折率と厚さを考
慮して反射防止効果が最大となるようにＳｉＯｙ（ｙ＝
２）層を厚さ７５ｎｍに形成したこと以外は実施例と同
様にして反射防止フイルムを得た。Comparative Example 4 440 nm thick SiOx (x = 1.0)
Considering the formation of the layer and the refractive index and thickness of the SiOx layer, SiOy (y =
2) An antireflection film was obtained in the same manner as in the example except that the layer was formed to have a thickness of 75 nm.
【００３９】実施例、及び比較例１〜４で得られた反射
防止フイルムについて、以下の試験を行い反射防止フイ
ルムとしての性能を比較した。The antireflection films obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4 were subjected to the following tests to compare their performance as antireflection films.
【００４０】１．可視光反射率
（測定資料）実施例、及び比較例１〜４で得られたそれ
ぞれの反射防止フイルムについて、５０ｍｍ×５０ｍｍ
の正方形に切り出した後プラスチックフイルム面側に黒
色塗装を施したものを各３枚準備し、性能比較のための
試料とした。（測定方法）分光光度計（日立製作所製
Ｕ−４０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準
じて、上記試料の防汚層側の５°正反射を測定した。
（結果）表
それぞれ、３枚の測定値の平均値を示した。1. Visible light reflectance (measurement data) 50 mm × 50 mm for each antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4.
After cutting out into squares, three pieces each having black coating on the plastic film surface side were prepared and used as samples for performance comparison. (Measurement method) Spectrophotometer (manufactured by Hitachi Ltd.)
U-4000) was used to measure 5 ° regular reflection on the antifouling layer side of the above sample according to JIS-R-3106. (Result) In each table, the average value of the three measured values is shown.
【００４１】２．３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率
（測定資料）実施例、及び比較例１〜４で得られたそれ
ぞれの反射防止フイルムについて、５０ｍｍ×５０ｍｍ
の正方形に切り出した後プラスチックフイルム面側に黒
色塗装を施したものを各３枚準備し、性能比較のための
試料とした。（測定方法）分光光度計（日立製作所製
Ｕ−４０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準
じて、上記試料の防汚層側の５°正反射を測定し、３８
０〜７８０ｎｍでの最小の反射率を求めた。
（結果）表
それぞれ、３枚の測定値の平均値を示した。Minimum reflectance at 2.380 to 780 nm (measurement data) For each antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4, 50 mm × 50 mm
After cutting out into squares, three pieces each having black coating on the plastic film surface side were prepared and used as samples for performance comparison. (Measurement method) Spectrophotometer (manufactured by Hitachi Ltd.)
U-4000) and in accordance with JIS-R-3106, 5 ° specular reflection on the antifouling layer side of the above sample was measured, and 38
The minimum reflectance at 0-780 nm was determined. (Result) In each table, the average value of the three measured values is shown.
【００４２】３．全光線透過率
（測定資料）実施例、及び比較例１〜４で得られたそれ
ぞれの反射防止フイルムについて、５０ｍｍ×５０ｍｍ
の正方形に切り出したものを各３枚準備し、性能比較の
ための試料とした。
（測定方法）ヘーズメーター（日本電色製 ＮＤＨ−３
００Ａ）を使用して、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じて測
定した。
（結果）表
それぞれ、３枚の測定値の平均値を示した。3. Total light transmittance (measurement data) 50 mm × 50 mm for each antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4.
Three pieces each cut out into a square were prepared and used as a sample for performance comparison. (Measurement method) Haze meter (Nippon Denshoku NDH-3
00A) and was measured according to JIS-K-7105. (Result) In each table, the average value of the three measured values is shown.
【００４３】４．透過光黄色度
（測定資料）実施例、及び比較例１〜４で得られたそれ
ぞれの反射防止フイルムについて、５０ｍｍ×５０ｍｍ
の正方形に切り出したものを各３枚準備し、性能比較の
ための試料とした。
（測定方法）分光式色差計（日本電色製 ＳＱ−２００
０）を使用して、測定した。
（結果）表
それぞれ、３枚の測定値の平均値を示した。4. Yellowness of transmitted light (measurement data) For each antireflection film obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4, 50 mm × 50 mm
Three pieces each cut out into a square were prepared and used as a sample for performance comparison. (Measuring method) Spectral color difference meter (Nippon Denshoku SQ-200
0) was used. (Result) In each table, the average value of the three measured values is shown.
【００４４】５．クラック
（測定試料）実施例、及び比較例１〜４で得られたそれ
ぞれの反射防止フイルムについて、Ａ４サイズに切り出
したものを各３枚準備し、性能比較のための試料とし
た。
（測定方法）目視により判定した。
（結果）表
クラックが激しく発生したものを×、わずかでも発生し
たものを△、全く発生しなかったものを○とした。5. Crack (Measurement Sample) Each of the antireflection films obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4 was cut into A4 size, and three sheets were prepared for use as samples for performance comparison. (Measurement method) It was visually determined. (Results) Table cracks were marked with X, those with slight cracks were marked with Δ, and those with no cracks were marked with ◯.
【００４５】[0045]
【００４６】表から明らかなように、実施例の反射防止
フイルムと比較例１〜４の反射防止フイルムとでは、性
能に大きな差異があった。実施例の反射防止フイルム
は、可視光反射率が０．６％、３８０〜７８０ｎｍでの
最小反射率が０．３％であり、何れの値も比較例１〜４
の反射防止フイルムよりも低い値を示しており、反射防
止効果に優れていることがわかる。また、実施例の反射
防止フイルムは、全光線透過率が９３．４％、透過光黄
色度が５．８であり透明性、黄色度性に優れており、さ
らにクラックの発生もない。これに対して、比較例１〜
３の反射防止フイルムのように、ＳｉＯｘ層のｘ値が
０．８〜１．５の範囲外の場合、又はＳｉＯｙ層のｙ値
が１．６〜２．０の範囲外の場合には、可視光反射率の
値、及び３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率の値が高く
なり反射防止効果が低下するか、あるいは透過光黄色度
の値が高くなり黄色度性に欠けるので何れの反射防止フ
イルムも実用に耐えることができないものであった。さ
らに、比較例４の反射防止フイルムは、特開平９−１２
０００１号公報に記載の反射防止フイルムにおける熱可
塑性ノルボルネン系樹脂からなるフイルムに代えて、ポ
リエチレンテレフタレートフイルムを用いたものであ
り、反射防止層の厚さが５００ｎｍを超えている。この
ように反射防止層の厚さが厚いと、透過光黄色度が非常
に高くなり、黄色の着色が激しく、さらにクラックも発
生するのでディスプレイの表面材として全く実用に耐え
られないものであった。以上のように、実施例の反射防
止フイルムは、反射防止層が２層から構成され、かつ反
射防止層の厚さが薄いので反射防止効果、透明性、黄色
度性、及び耐クラック性に優れている。As is clear from the table, there was a great difference in performance between the antireflection film of the example and the antireflection films of Comparative Examples 1 to 4. The antireflection film of the example has a visible light reflectance of 0.6% and a minimum reflectance of 0.3% at 380 to 780 nm, and all values are comparative examples 1 to 4.
The value is lower than that of the antireflection film of No. 1, which shows that the antireflection effect is excellent. Further, the antireflection film of the example has a total light transmittance of 93.4% and a transmitted light yellowness of 5.8, which is excellent in transparency and yellowness, and is free from cracks. On the other hand, Comparative Examples 1 to 1
When the x value of the SiOx layer is outside the range of 0.8 to 1.5, or the y value of the SiOy layer is outside the range of 1.6 to 2.0, as in the antireflection film of No. 3, Either the anti-reflection film has a visible light reflectance value and a minimum reflectance value in the range of 380 to 780 nm that are high and the antireflection effect is low, or the transmitted light yellowness value is high and the yellowness is poor. Was not able to withstand practical use. Furthermore, the antireflection film of Comparative Example 4 is disclosed in JP-A-9-12.
A polyethylene terephthalate film is used in place of the film made of the thermoplastic norbornene-based resin in the antireflection film described in Japanese Patent No. 0001, and the thickness of the antireflection layer exceeds 500 nm. When the thickness of the antireflection layer is large, the transmitted light yellowness becomes extremely high, the yellow coloring is severe, and cracks are generated, which is completely unusable as a display surface material. . As described above, the antireflection film of the example is excellent in antireflection effect, transparency, yellowness, and crack resistance because the antireflection layer is composed of two layers and the thickness of the antireflection layer is thin. ing.
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明の反射防止フイルムは、プラスチ
ックフイルムの片面にハードコート層、反射防止層、防
汚層が順次形成されており、該反射防止層が、ハードコ
ート層に近い方から順にＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．
５）層、ＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層から形成さ
れており、該反射防止層の厚さが５０〜２５０ｎｍであ
り、かつＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の厚さの比率を１：
０．５〜８に構成した。従って、本発明の反射防止フイ
ルムは、透過光黄色度が６を超えず、可視光反射率が
１．５％を超えず、３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率
が０．８％を超えず、全光線透過率が９０％を超え、か
つプラスチックフイルムの全光線透過率を超えるので、
黄色度性、反射防止効果、透明性に優れている。また、
ハードコート性、防汚性にも優れ、カールの発生や反射
防止層のクラックの発生もない。また、本発明の反射防
止フイルムは、反射防止層の形成を真空蒸着法で行うこ
とができるので、反射防止層の形成が容易にでき、また
加工速度が非常に速いので生産性を大幅に向上できる。
さらに、反射防止層を形成するための材料は、ＳｉＯの
１種類のみで足り、複数の材料を必要としないので、反
射防止層形成の製造工程での作業性が向上する。The antireflection film of the present invention comprises a plastic film, on one side of which a hard coat layer, an antireflection layer and an antifouling layer are sequentially formed. The antireflection layer is arranged in order from the side closer to the hard coat layer. SiOx (x = 0.8-1.
5) layer and SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, the thickness of the antireflection layer is 50 to 250 nm, and the ratio of the thickness of the SiOx layer to the SiOy layer is 1; :
It was configured to be 0.5 to 8. Therefore, the antireflection film of the present invention has a transmitted light yellowness not exceeding 6, a visible light reflectance not exceeding 1.5%, and a minimum reflectance at 380 to 780 nm not exceeding 0.8%, Since the total light transmittance exceeds 90% and also exceeds the total light transmittance of the plastic film,
Excellent yellowness, anti-reflection effect and transparency. Also,
It has excellent hard coat properties and antifouling properties, and does not cause curling or cracks in the antireflection layer. Further, in the antireflection film of the present invention, the formation of the antireflection layer can be performed by the vacuum deposition method, so that the antireflection layer can be easily formed and the processing speed is very high, so that the productivity is significantly improved. it can.
Furthermore, the material for forming the antireflection layer need only be one type of SiO and does not require a plurality of materials, so the workability in the manufacturing process for forming the antireflection layer is improved.
【図１】本発明に係る反射防止フイルムの一例を示す一
部拡大断面図である。FIG. 1 is a partially enlarged sectional view showing an example of an antireflection film according to the present invention.
【図２】本発明に係る反射防止フイルムの一例を示す一
部拡大断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged sectional view showing an example of an antireflection film according to the present invention.
１プラスチックフイルム ２ハードコート層 ３ＳｉＯｘ層 ４ＳｉＯｙ層 ５防汚層 ６粘着剤層 ７離型性フイルム 1 plastic film 2 hard coat layer 3 SiOx layer 4 SiOy layer 5 Antifouling layer 6 adhesive layer 7 Release film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−300902（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−16940（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−42743（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−217302（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 1/11 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 10-300902 (JP, A) JP 7-16940 (JP, A) JP 53-42743 (JP, A) JP 63- 217302 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 1/11
Claims (3)
ト層、反射防止層、防汚層が順次形成されている反射防
止フイルムにおいて、反射防止層が、ハードコート層に
近い方から順にＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層、Ｓ
ｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層から形成されているこ
と、及び以下の〜の条件を満足することを特徴とす
る反射防止フイルム。 ・ 反射防止層のＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層
が、ｘ値が層方向に連続的に変化した不均一な層であ
り、かつ該ｘ値がハードコート層に近い方が大きく、Ｓ
ｉＯｙ層に向かうにしたがって小さくなっている ・ 反射防止層の厚さが５０〜２５０ｎｍであり、かつ
ＳｉＯｘ層とＳｉＯｙ層の厚さの比率が１：０．５〜８
である ・ 反射防止フイルムの可視光反射率が１．５％を超え
ず、３８０〜７８０ｎｍの波長での最小反射率が０．８
％を超えず、全光線透過率が９０％を超え、かつプラス
チックフイルムの全光線透過率を超える ・ 反射防止フイルムの透過光黄色度が６を超えない1. An antireflection film in which a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are sequentially formed on one surface of a plastic film, wherein the antireflection layer is SiOx (x = 0) in order from the side closer to the hard coat layer. .8-1.5) layers, S
An antireflection film formed from an iOy (y = 1.6 to 2.0) layer and satisfying the following conditions (1) to (4). The SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer of the antireflection layer is a non-uniform layer in which the x value continuously changes in the layer direction, and the x value is closer to the hard coat layer. Big, S
The thickness of the antireflection layer is 50 to 250 nm, and the thickness ratio of the SiOx layer and the SiOy layer is 1: 0.5 to 8
The visible light reflectance of the antireflection film does not exceed 1.5%, and the minimum reflectance at the wavelength of 380 to 780 nm is 0.8.
%, The total light transmittance exceeds 90%, and the total light transmittance of the plastic film is exceeded. ・ The transmitted light yellowness of the antireflection film does not exceed 6.
層を形成してなる請求項１記載の反射防止フイルム。2. The antireflection film according to claim 1, wherein an adhesive layer is formed on the other side of the plastic film.
なる請求項２記載の反射防止フイルム。3. The antireflection film according to claim 2, wherein a release film is formed on the pressure-sensitive adhesive layer.
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