JP3401442B2 - Photomask data verification system - Google Patents
Photomask data verification systemInfo
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- JP3401442B2 JP3401442B2 JP33047098A JP33047098A JP3401442B2 JP 3401442 B2 JP3401442 B2 JP 3401442B2 JP 33047098 A JP33047098 A JP 33047098A JP 33047098 A JP33047098 A JP 33047098A JP 3401442 B2 JP3401442 B2 JP 3401442B2
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- Japan
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- bitmap
- raster data
- data
- converted
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスクデー
タ検証システムに関し、さらに詳細には、製造装置用形
状データたるNCデータのなかのフォトマスクデータを
検証するためのフォトマスクデータ検証システムであっ
て、特に、CADシステムにより生成されたCADデー
タとフォトマスクデータとを比較して検証することので
きるフォトマスクデータ検証システムに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask data verification system, and more particularly to a photomask data verification system for verifying photomask data in NC data which is shape data for manufacturing equipment. In particular, it relates to a photomask data verification system capable of comparing and verifying CAD data generated by a CAD system and photomask data.
【0002】[0002]
【従来の技術】CADシステムにおいては、当該CAD
システムにおいて扱うCADデータと当該CADシステ
ムから出力される製造装置用形状データたるNCデータ
のなかのフォトマスクデータとは、その形状(幾何)の
表現方法が異なっている。2. Description of the Related Art In a CAD system, the CAD
The CAD data handled in the system is different from the photomask data in the NC data, which is the shape data for the manufacturing apparatus, output from the CAD system, in the method of expressing the shape (geometry).
【0003】さらに、上記したCADデータとフォトマ
スクデータとは、精度や単位なども異なっている。Further, the CAD data and the photomask data are different in accuracy and unit.
【0004】このため、フォトマスクデータの正当性を
評価するためには、目視によりフォトマスクデータのチ
ェックを行うか、あるいは、別途にNC編集用CADシ
ステムを用意して、このNC編集用CADシステムによ
りフォトマスクデータのチェックを行う必要があった。Therefore, in order to evaluate the correctness of the photomask data, the photomask data is visually checked, or a separate NC editing CAD system is prepared and this NC editing CAD system is used. Therefore, it was necessary to check the photomask data.
【0005】そして、従来においては、上記のようにし
てフォトマスクデータの正当性を評価した後に、その評
価結果における問題箇所の修正をCADシステムで行
い、その後にCADシステムからフォトマスクデータを
再度出力し、出力されたフォトマスクデータの正当性の
評価を再度行うという作業を、問題箇所が無くなるまで
繰り返し行っていたという問題点があった。In the prior art, after the validity of the photomask data is evaluated as described above, the CAD system corrects the problematic part in the evaluation result, and then the photomask data is output again from the CAD system. However, there is a problem in that the work of evaluating the validity of the output photomask data again is repeatedly performed until the problematic point disappears.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
の有する上記したような問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、CADシステムによる
設計側で早期にフォトマスクデータの正当性を評価して
異常を発見することを可能にして、問題箇所の修正のサ
イクルを減少させて製造工数を削減することができるよ
うにしたフォトマスクデータ検証システムを提供しよう
とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and an object thereof is to provide a photomask early on the design side by a CAD system. An object of the present invention is to provide a photomask data verification system capable of evaluating the legitimacy of data to detect anomalies, reducing the cycle for correcting problem areas, and reducing the number of manufacturing steps. Is.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうち請求項1に記載の発明は、CADシス
テムから出力したフォトマスクデータを検証するための
フォトマスクデータ検証システムにおいて、CADデー
タをラスタデータに変換する第1の変換手段と、フォト
マスクデータをラスタデータに変換する第2の変換手段
と、上記第1の変換手段によって変換されたラスタデー
タのビットマップと上記第2の変換手段によって変換さ
れたラスタデータのビットマップとを比較して、上記第
2の変換手段によって変換されたラスタデータでビット
が立っていて、かつ、上記第1の変換手段によって変換
されたラスタデータでビットが立っていない箇所を示す
ビットマップを作成する比較手段と、上記比較手段によ
って作成されたビットマップのビットが立った箇所に、
当該ビットが立った箇所が上下左右斜めで接している部
分は同一の番号となるようにIDを割り振る処理を行う
第1のID割り振り手段と、上記第1の変換手段によっ
て変換されたラスタデータのビットマップのビットが立
った箇所は上下左右斜めで接している部分は同一の番号
となるようにし、ビットが立っていない箇所は0として
IDを割り振る処理を行う第2のID割り振り手段と、
上記比較手段によって作成されたビットマップに上記第
1のID割り振り手段で割り振られたIDと、上記第1
の変換手段によって変換されたラスタデータに上記第2
のID割り振り手段で割り振られたIDとに基づいて、
上記比較手段によって作成されたビットマップのビット
が立った箇所の周りの箇所に対応する上記第1の変換手
段によって変換されたラスタデータの箇所に関して、0
を含まずに1つのIDしかないときには、上記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「窓の抜け」のエラーが発生したことを検出
し、0以外に複数のIDがあるときには、上記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「ショートパターン」のエラーが発生したこ
とを検出し、IDが0のみのときには、上記比較手段に
よって作成されたビットマップのビットが立った箇所に
おいて、「島の発生」のエラーが発生したことを検出す
る検出手段と、上記検出手段によってエラーが検出され
ると、当該エラーが発生したと検出された箇所を表示す
る表示手段とを有するようにしたものである。また、本
発明のうち請求項2に記載の発明は、CADシステムか
ら出力したフォトマスクデータを検証するためのフォト
マスクデータ検証システムにおいて、CADデータをラ
スタデータに変換する第1の変換手段と、フォトマスク
データをラスタデータに変換する第2の変換手段と、上
記第1の変換手段によって変換されたラスタデータのビ
ットマップと上記第2の変換手段によって変換されたラ
スタデータのビットマップとを比較して、上記第1の変
換手段によって変換されたラスタデータでビットが立っ
ていて、かつ、上記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータでビットが立っていない箇所を示すビット
マップを作成する比較手段と、上記比較手段によって作
成されたビットマップのビットが立った箇所に、当該ビ
ットが立った箇所が上下左右斜めで接している部分は同
一の番号となるようにIDを割り振る処理を行う第1の
ID割り振り手段と、上記第2の変換手段によって変換
されたラスタデータのビットマップのビットが立った箇
所は上下左右斜めで接している部分は同一の番号となる
ようにし、ビットが立っていない箇所は0としてIDを
割り振る処理を行う第2のID割り振り手段と、上記比
較手段によって作成されたビットマップに上記第1のI
D割り振り手段で割り振られたIDと、上記第2の変換
手段によって変換されたラスタデータに上記第2のID
割り振り手段で割り振られたIDとに基づいて、上記比
較手段によって作成されたビットマップのビットが立っ
た箇所の周りの箇所に対応する上記第2の変換手段によ
って変換されたラスタデータの箇所に関して、0を含ま
ずに1つのIDしかないときには、上記比較手段によっ
て作成されたビットマップのビットが立った箇所におい
て、「窓の発生」のエラーが発生したことを検出し、0
以外に複数のIDがあるときには、上記比較手段によっ
て作成されたビットマップのビットが立った箇所におい
て、「パターン分割」のエラーが発生したことを検出
し、IDが0のみのときには、上記比較手段によって作
成されたビットマップのビットが立った箇所において、
「島の消去」のエラーが発生したことを検出する検出手
段と、上記検出手段によってエラーが検出されると、当
該エラーが発生したと検出された箇所を表示する表示手
段とを有するようにしたものである。また、本発明のう
ち請求項3に記載の発明は、CADシステムから出力し
たフォトマスクデータを検証するためのフォトマスクデ
ータ検証システムにおいて、CADデータをラスタデー
タに変換する第1の変換手段と、フォトマスクデータを
ラスタデータに変換する第2の変換手段と、上記第1の
変換手段によって変換されたラスタデータのビットマッ
プと上記第2の変換手段によって変換されたラスタデー
タのビットマップとを比較して、上記第2の変換手段に
よって変換されたラスタデータでビットが立っていて、
かつ、上記第1の変換手段によって変換されたラスタデ
ータでビットが立っていない箇所を示すビットマップを
作成する第1の比較手段と、上記第1の変換手段によっ
て変換されたラスタデータのビットマップと上記第2の
変換手段によって変換されたラスタデータのビットマッ
プとを比較して、上記第1の変換手段によって変換され
たラスタデータでビットが立っていて、かつ、上記第2
の変換手段によって変換されたラスタデータでビットが
立っていない箇所を示すビットマップを作成する第2の
比較手段と、上記第1の比較手段によって作成されたビ
ットマップ、または、上記第2の比較手段によって作成
されたビットマップのビットが立った箇所に、当該ビッ
トが立った箇所が上下左右斜めで接している部分は同一
の番号となるようにIDを割り振る処理を行う第1のI
D割り振り手段と、上記第1の変換手段によって変換さ
れたラスタデータのビットマップ、または、上記第2の
変換手段によって変換されたラスタデータのビットマッ
プのビットが立った箇所は上下左右斜めで接している部
分は同一の番号となるようにし、ビットが立っていない
箇所は0としてIDを割り振る処理を行う第2のID割
り振り手段と、上記第1の比較手段によって作成された
ビットマップに上記第1のID割り振り手段で割り振ら
れたIDと、上記第1の変換手段によって変換されたラ
スタデータに上記第2のID割り振り手段で割り振られ
たIDとに基づいて、上記第1の比較手段によって作成
されたビットマップのビットが立った箇所の周りの箇所
に対応する上記第1の変換手段によって変換されたラス
タデータの箇所に関して、0を含まずに1つのIDしか
ないときには、上記第1の比較手段によって作成された
ビットマップのビットが立った箇所において、「窓の抜
け」のエラーが発生したことを検出し、0以外に複数の
IDがあるときには、上記第1の比較手段によって作成
されたビットマップのビットが立った箇所において、
「ショートパターン」のエラーが発生したことを検出
し、IDが0のみのときには、上記第1の比較手段によ
って作成されたビットマップのビットが立った箇所にお
いて、「島の発生」のエラーが発生したことを検出する
第1の検出手段と、上記第2の比較手段によって作成さ
れたビットマップに上記第1のID割り振り手段で割り
振られたIDと、上記第2の変換手段によって変換され
たラスタデータに上記第2のID割り振り手段で割り振
られたIDとに基づいて、上記第2の比較手段によって
作成されたビットマップのビットが立った箇所の周りの
箇所に対応する上記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータの箇所に関して、0を含まずに1つのID
しかないときには、上記第2の比較手段によって作成さ
れたビットマップのビットが立った箇所において、「窓
の発生」のエラーが発生したことを検出し、0以外に複
数のIDがあるときには、上記第2の比較手段によって
作成されたビットマップのビットが立った箇所におい
て、「パターン分割」のエラーが発生したことを検出
し、IDが0のみのときには、上記第2の比較手段によ
って作成されたビットマップのビットが立った箇所にお
いて、「島の消去」のエラーが発生したことを検出する
第2の検出手段と、上記第1の検出手段または上記第2
の検出手段によってエラーが検出されると、当該エラー
が発生したと検出された箇所を表示する表示手段とを有
するようにしたものである。In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 of the present invention is a photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, First conversion means for converting CAD data into raster data, second conversion means for converting photomask data into raster data, bitmap of the raster data converted by the first conversion means, and the second Of the raster data converted by the converting means, and the raster data converted by the second converting means has a bit set, and the raster converted by the first converting means. The comparison means that creates a bitmap that shows where bits are not set in the data and the visual information created by the above comparison means. To place a bit of the bitmap is standing,
First ID assigning means for performing an ID assigning process so that portions where the bit is raised are touched vertically and horizontally as well as diagonally, and raster data converted by the first converting means. In the bit map, where bits are set, the parts that are diagonally contacted in the vertical and horizontal directions are made to have the same number, and where the bits are not set, the ID is set to 0, and a second ID assigning means is provided.
The ID assigned by the first ID assigning means to the bitmap created by the comparing means and the first ID
To the raster data converted by the conversion means of
Based on the ID assigned by the ID assigning means of
Regarding the location of the raster data converted by the first conversion means corresponding to the location around the location where the bit is raised in the bitmap created by the comparison means, 0
When there is only one ID without including, it is detected that an error of “missing window” has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the above comparison means is raised, and a plurality of IDs other than 0 are detected. At some point, it is detected that a "short pattern" error has occurred at the bit set in the bit map created by the comparison means, and when the ID is only 0, the bit map created by the comparison means. When the error is detected by the detecting means, the detecting means for detecting the occurrence of the "island occurrence" error is displayed at the place where the bit of is raised, and the place where the error is detected is displayed. And a display means. According to a second aspect of the present invention, in a photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, first conversion means for converting CAD data into raster data, Second conversion means for converting the photomask data into raster data, the bitmap of the raster data converted by the first conversion means and the bitmap of the raster data converted by the second conversion means are compared. Then, a bit map is created which shows a portion where the bit is set in the raster data converted by the first conversion means and the bit is not set in the raster data converted by the second conversion means. At the place where the bit of the comparing means and the bit map created by the comparing means is raised, the bit is raised. The first ID allocating means for allocating the IDs so that the parts which are in contact with each other in the vertical, horizontal, and diagonal directions have the same number, and the bits of the bitmap of the raster data converted by the second converting means. Created by the second ID allocating means that performs the process of allocating IDs where 0 is set so that the parts which are in contact with each other diagonally in the vertical and horizontal directions have the same number and where the bit is not set are 0 and the above comparison means. The first I is added to the created bitmap.
The second ID is added to the ID assigned by the D assigning means and the raster data converted by the second converting means.
Based on the ID assigned by the assigning means, with respect to the location of the raster data converted by the second converting means corresponding to the location around the location where the bit of the bitmap created by the comparing means is set, When there is only one ID without including 0, it is detected that an error "occurrence of window" has occurred at the position where the bit of the bitmap created by the comparison means is raised, and 0 is detected.
When there are a plurality of IDs other than the above, it is detected that an error of "pattern division" has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the comparing means is raised, and when the ID is only 0, the comparing means In the place where the bit of the bitmap created by
It has a detection means for detecting the occurrence of the "island deletion" error, and a display means for displaying the location where the error is detected when the detection means detects the error. It is a thing. According to a third aspect of the present invention, in a photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, first conversion means for converting CAD data into raster data, Second conversion means for converting the photomask data into raster data, the bitmap of the raster data converted by the first conversion means and the bitmap of the raster data converted by the second conversion means are compared. Then, in the raster data converted by the second conversion means, a bit is set,
Also, first comparing means for creating a bitmap showing a portion where bits are not set in the raster data converted by the first converting means, and bitmap of the raster data converted by the first converting means. And the bitmap of the raster data converted by the second conversion means are compared, and a bit is set in the raster data converted by the first conversion means, and the second
Second comparing means for creating a bitmap showing a portion where no bit is raised in the raster data converted by the converting means, and the bitmap created by the first comparing means, or the second comparing The first I which performs a process of assigning an ID so that a portion where a bit of the bitmap created by the means is in contact with a portion where the bit is raised vertically, horizontally and diagonally has the same number
The D allocation means and the bit map of the raster data converted by the first conversion means or the bit map of the raster data converted by the second conversion means are in contact with each other diagonally in the vertical and horizontal directions. The parts having the same number are assigned the same number, and the place where the bit is not set is set to 0, and the second ID assigning means for performing the ID assigning process and the bit map created by the first comparing means have the above-mentioned numbers. Created by the first comparing means based on the ID assigned by the first ID assigning means and the ID assigned by the second ID assigning means to the raster data converted by the first converting means To the location of the raster data converted by the first conversion means, which corresponds to the location around the location where the bit of the created bitmap is raised. Then, when there is only one ID without including 0, it is detected that an error of "missing window" has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the first comparing means is raised, When there are a plurality of IDs other than 0, at the place where the bit of the bitmap created by the first comparing means stands,
When the occurrence of an error of "short pattern" is detected and the ID is only 0, an error of "occurrence of island" occurs at a position where the bit of the bitmap created by the first comparison means is set. The first detecting means for detecting that the ID has been assigned, the ID assigned by the first ID assigning means to the bitmap created by the second comparing means, and the raster converted by the second converting means. The second conversion means corresponding to the locations around the locations where the bits of the bitmap created by the second comparison means are based on the data and the IDs assigned by the second ID assignment means. One ID without including 0 for the raster data converted by
If there is only one, it is detected that an error "occurrence of a window" has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the second comparison means is raised. If there are multiple IDs other than 0, It is detected that an error of "pattern division" has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the second comparing means is raised, and when the ID is 0, it is created by the second comparing means. Second detecting means for detecting that an "island deletion" error has occurred at a bit-set portion of the bitmap, and the first detecting means or the second detecting means.
When an error is detected by the detection means, the display means for displaying the location where the error is detected is provided.
【0008】従って、本発明によれば、CADデータと
フォトマスクデータとがラスタデータに変換されて、両
者の差異がエラーとして検出され、エラー箇所が表示さ
れることになり、フォトマスクデータの検証が自動的に
行われることになる。Therefore, according to the present invention, the CAD data and the photomask data are converted into raster data, the difference between the two is detected as an error, and the error portion is displayed, and the verification of the photomask data is performed. Will be done automatically.
【0009】このため、CADシステムによる設計側で
早期にフォトマスクデータの正当性を評価して異常を発
見することが可能になって、問題箇所の修正のサイクル
を減少させて製造工数を削減することができるようにな
る。For this reason, it becomes possible for the CAD system designer to evaluate the correctness of the photomask data at an early stage to detect an abnormality, reduce the cycle of correcting the problematic portion, and reduce the number of manufacturing steps. Will be able to.
【0010】また、上記第1の変換手段によって変換さ
れたラスタデータのビットマップと上記第2の変換手段
によって変換されたラスタデータのビットマップとを比
較することができる。Further, it is possible to compare the bitmap of the raster data converted by the first conversion means with the bitmap of the raster data converted by the second conversion means.
【0011】さらに、「窓の抜け」、「ショートパター
ン」、「島の発生」、「窓の発生」、「パターン分割」
および「島の消去」をエラーとして検出することができ
る。Further, "window omission", "short pattern", "island generation", "window generation", "pattern division"
And "erasure of islands" can be detected as an error.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づいて、本
発明によるフォトマスクデータ検証システムの実施の形
態の一例を詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of an embodiment of a photomask data verification system according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.
【0013】図1には、本発明によるフォトマスクデー
タ検証システムを備えたCADシステムのハードウェア
構成を示すブロック構成図が示されている。FIG. 1 is a block diagram showing the hardware structure of a CAD system having a photomask data verification system according to the present invention.
【0014】このCADシステムは、マイクロコンピュ
ータを利用してシステム全体を制御して処理を行う処理
装置10と、後述するCADデータやフォトマスクデー
タなどの各種データを記憶した外部記憶装置12と、処
理装置を動作させるためのプログラムなどを記憶したリ
ードオンリメモリ(ROM)や処理装置のワーキングエ
リアとしての領域などを備えたランダムアクセスメモリ
(RAM)より構成されるメモリ装置14と、作業担当
者が所望の指示を入力するためのキーボードやマウスか
らなる入力装置16と、CADデータやフォトマスクデ
ータから変換されたラスタデータなどを表示するための
表示装置18とを有している。This CAD system uses a microcomputer to control the entire system to perform processing, an external storage device 12 for storing various data such as CAD data and photomask data described later, and processing. A memory device 14 including a read-only memory (ROM) storing programs for operating the apparatus and a random access memory (RAM) having an area as a working area of the processing apparatus, and a worker in charge 1 has an input device 16 including a keyboard and a mouse for inputting the instructions, and a display device 18 for displaying raster data converted from CAD data and photomask data.
【0015】次に、上記のようにして構成されているC
ADシステムの動作について説明することとする。Next, C constructed as described above
The operation of the AD system will be described.
【0016】なお、このCADシステムにおける動作と
して、CADデータの作成やフォトマスクデータの作成
などに関しては、従来のCADシステムと同様であるの
でその詳細な説明は省略するものとし、以下において
は、本発明の実施に関連するフォトマスクデータの検証
の処理についてのみ説明するものとする。As for the operation of this CAD system, the creation of CAD data and the creation of photomask data are the same as those of the conventional CAD system, and therefore a detailed description thereof will be omitted. Only the process of verifying the photomask data related to the implementation of the invention will be described.
【0017】即ち、図2には、フォトマスクデータの検
証の処理に関する処理ルーチンのフローチャートが示さ
れている。That is, FIG. 2 shows a flowchart of a processing routine relating to the processing of verifying the photomask data.
【0018】この図2に示すフローチャートが起動され
ると、まず、外部記憶装置12からそれに記憶されたC
ADデータを読み出すことになる(ステップS20
2)。When the flow chart shown in FIG. 2 is started, first, the C stored in the external storage device 12 is stored.
AD data will be read (step S20).
2).
【0019】次に、CADデータに記憶された図形の中
から、検証の対象となるフォトマスクデータが示す図形
に対応する図形を選別する処理を行う(ステップS20
4)。Next, a process of selecting a figure corresponding to the figure indicated by the photomask data to be verified from the figures stored in the CAD data is performed (step S20).
4).
【0020】なお、この図形の選別の処理にあたって
は、作業者が入力装置16を用いて図形の選別を行うこ
とになる。In the process of selecting the figures, the operator uses the input device 16 to select the figures.
【0021】次に、ステップS204において選択した
図形に対応するCADデータをラスタデータに変換し
て、表示装置18においてビットマップで表示する(ス
テップS206)。Next, the CAD data corresponding to the figure selected in step S204 is converted into raster data and displayed as a bitmap on the display device 18 (step S206).
【0022】さらに、外部記憶装置12に記憶されたフ
ォトマスクデータの中から、検証の対象となるフォトマ
スクデータ(即ち、ステップS204において選別され
た図形に対応するフォトマスクデータである。)を読み
出すことになる(ステップS208)。Furthermore, from the photomask data stored in the external storage device 12, the photomask data to be verified (that is, the photomask data corresponding to the figure selected in step S204) is read out. This is the case (step S208).
【0023】次に、ステップS208において読み出し
たフォトマスクデータをラスタデータに変換して、表示
装置18においてビットマップで表示する(ステップS
210)。Next, the photomask data read in step S208 is converted into raster data and displayed as a bitmap on the display device 18 (step S).
210).
【0024】さらに、表示装置18において表示したC
ADデータを変換したラスタデータを、メモリ装置14
の所定の領域に記憶する(ステップS212)。Further, C displayed on the display device 18
The raster data obtained by converting the AD data is stored in the memory device 14
Is stored in a predetermined area (step S212).
【0025】また、表示装置18において表示したフォ
トマスクデータを変換したラスタデータを、メモリ装置
14の所定の領域に記憶する(ステップS214)。The raster data obtained by converting the photomask data displayed on the display device 18 is stored in a predetermined area of the memory device 14 (step S214).
【0026】次に、メモリ装置14の所定の領域に記憶
されたCADデータを変換したラスタデータおよびフォ
トマスクデータを変換したラスタデータを読み出して、
ビットマップ比較処理を行う(ステップS216)。な
お、ビットマップ比較処理の詳細については後述する。Next, the raster data converted from the CAD data and the raster data converted from the photomask data stored in a predetermined area of the memory device 14 are read out,
Bitmap comparison processing is performed (step S216). The details of the bitmap comparison process will be described later.
【0027】そして、ステップS216におけるビット
マップ比較処理においてエラー箇所(なお、本明細書に
おいてエラー箇所とは、CADデータを変換したラスタ
データとフォトマスクデータを変換したラスタデータと
をビットマップ比較処理した際に、両者において相違す
る箇所を意味するものとする。)が発生した場合には、
表示装置18にエラー箇所を表示して、この処理ルーチ
ンを終了する。Then, in the bit map comparison processing in step S216, an error portion (the error portion in this specification is the bit map comparison processing between the raster data converted from the CAD data and the raster data converted from the photomask data. At that time, it means that there is a difference between the two.)
The error location is displayed on the display device 18, and this processing routine ends.
【0028】次に、ステップS216におけるビットマ
ップ比較処理について、図3乃至図6に示すビットマッ
プの概念図を参照しながら説明する。Next, the bitmap comparison processing in step S216 will be described with reference to the conceptual diagrams of bitmaps shown in FIGS.
【0029】まず、ステップS206の処理により表示
装置18において表示したCADデータを変換したラス
タデータ(以下、「データA」と称する。)のビットマ
ップが図3(a)に示すものであり、ステップS210
の処理によりフォトマスクデータを変換したラスタデー
タ(以下、「データB」と称する。)のビットマップが
図3(b)に示すものであるとする。First, the bitmap of the raster data (hereinafter referred to as "data A") obtained by converting the CAD data displayed on the display device 18 by the processing of step S206 is shown in FIG. S210
It is assumed that the bitmap of the raster data (hereinafter referred to as "data B") obtained by converting the photomask data by the processing of FIG.
【0030】なお、図3および後述する図4において、
黒色で塗りつぶされた箇所はビットが立っているものと
し、白抜きされた箇所はビットが立っていないものとす
る。In FIG. 3 and FIG. 4 described later,
It is assumed that the bit filled with black has a bit standing and the white part has no bit standing.
【0031】ここで、データAのビットマップとデータ
Bのビットマップとを比較して、データBでビットが立
っていて、かつ、データAでビットが立っていない箇所
(以下、データAのビットマップとデータBのビットマ
ップとを比較して、データBでビットが立っていて、か
つ、データAでビットが立っていない箇所を、[B−
A]と称する。)を示すビットマップ(図4)を作成す
るものである。Here, the bit map of the data A and the bit map of the data B are compared, and a bit is set in the data B and a bit is not set in the data A (hereinafter, a bit of the data A is set). The map is compared with the bitmap of the data B, and the part where the bit is set in the data B and the bit is not set in the data A is [B-
A]. ) Is created (FIG. 4).
【0032】この図4に示すビットマップにより、フォ
トマスクデータにおいてCADデータよりはみ出した箇
所を得ることができるようになる。The bit map shown in FIG. 4 makes it possible to obtain a portion of the photomask data that is out of the CAD data.
【0033】なお、上記とは逆に、データAのビットマ
ップとデータBのビットマップとを比較して、データA
でビットが立っていて、かつ、データBでビットが立っ
ていない箇所(以下、データAのビットマップとデータ
Bのビットマップとを比較して、データAでビットが立
っていて、かつ、データBでビットが立っていない箇所
を、[A−B]と称する。)を示すビットマップを作成
すると、CADデータの中でフォトマスクデータに出力
されなかった箇所を得ることができるようになる。Contrary to the above, the bitmap of the data A and the bitmap of the data B are compared and the data A
Where the bit is set in and the bit is not set in the data B (hereinafter, the bitmap of the data A and the bitmap of the data B are compared, and the bit is set in the data A and By creating a bitmap showing [A-B] where the bit is not set in B), it is possible to obtain a part of the CAD data that was not output to the photomask data.
【0034】次に、図4に示すビットマップに関して、
[B−A]の島(ビットが立った箇所)にIDを割り振
る処理を行う。図5には、[B−A]の島にIDを割り
振った状態が示されている。Next, regarding the bitmap shown in FIG.
A process of assigning an ID to the island [B-A] (where the bit is set) is performed. FIG. 5 shows a state in which an ID is assigned to the island of [B-A].
【0035】なお、[B−A]の島にIDを割り振る際
には、各島が上下左右斜めで接している部分は同一の番
号となるようにIDを割り振るものとする。When the IDs are assigned to the islands of [B-A], the IDs are assigned so that the parts where the islands are in contact with each other diagonally in the vertical and horizontal directions have the same number.
【0036】さらに、図6に示すように、データAの島
にIDを割り振る処理を行う。ここで、データAの島に
IDを割り振る際には、各島が上下左右斜めで接してい
る部分は同一の番号となるようにIDを割り振るととも
に、島でない箇所には「ID=0」としてIDを割り振
るものとする。Further, as shown in FIG. 6, a process of assigning an ID to the island of the data A is performed. Here, when allocating IDs to the islands of data A, the IDs are allocated so that the parts where the islands are in contact with each other in the vertical and horizontal directions are the same number, and "ID = 0" is set to the non-island parts. ID shall be assigned.
【0037】なお、[B−A]を示すビットマップ(図
4)に代えて、[A−B]を示すビットマップを作成し
た場合には、データBの島にIDを割り振る処理を行う
ことになる。When a bitmap showing [AB] is created instead of the bitmap showing [BA] (FIG. 4), the process of assigning an ID to the island of data B must be performed. become.
【0038】次に、[B−A]における同一のIDの島
において上下左右斜めに接している箇所と同じ箇所に関
して、データAにおいては何番のIDが振られているか
をそれぞれ検出する。こうして得られたIDの状態に基
づいて、フォトマスクデータの検証が行われることにな
る。Next, with respect to the same place in [B-A] that is in contact with the islands of the same ID diagonally in the vertical and horizontal directions, it is detected how many IDs are assigned in the data A. The photomask data is verified based on the ID state thus obtained.
【0039】例えば、[B−A]においては「ID=
2」の島の周りの箇所はd−A〜E、e−A、e−Eお
よびf−A〜Eであり(図5参照)、データAを参照す
ると上記した箇所においては「ID=0」、「ID=
2」および「ID=3」のIDが得られるものである。For example, in [B-A], "ID =
The locations around the “2” island are d-A to E, e-A, e-E and f-A to E (see FIG. 5), and referring to the data A, “ID = 0” in the above-mentioned locations. , "ID =
IDs of "2" and "ID = 3" are obtained.
【0040】このように、データAにおいては0以外の
IDが複数あるので、データAにおいては別々の島であ
った箇所が、[B−A]においては「ID=2」の島に
よって繋がってしまったものであることが判別されるも
のである。従って、[B−A]の「ID=2」の島は、
その箇所において、所謂、「ショートパターン」のエラ
ーが発生したものと認識されるものである。As described above, since the data A has a plurality of IDs other than 0, different islands in the data A are connected by the islands of "ID = 2" in [BA]. It is determined that it has been destroyed. Therefore, the island of "ID = 2" in [B-A]
It is recognized that a so-called "short pattern" error has occurred at that location.
【0041】図7には、得られたIDの状態に応じて、
どのようなエラーが発生したものと認識されるかが示さ
れている。In FIG. 7, according to the state of the obtained ID,
It shows what kind of error is recognized as having occurred.
【0042】つまり、[B−A]での比較の場合、即
ち、[B−A]におけるIDを振られた島の周りの箇所
に対応するデータAの箇所に関して、0を含まずに1つ
のIDしかないときには、当該[B−A]におけるID
を振られた島は、その箇所において、所謂、「窓の抜
け」のエラーが発生したものと認識されるものである。That is, in the case of the comparison in [B-A], that is, in the part of the data A corresponding to the part around the island to which the ID is assigned in [B-A], one data is included without including 0. If there is only an ID, the ID in the [BA]
The islands shaken are recognized as having a so-called "window omission" error at that location.
【0043】また、上記した例に示すように、[B−
A]での比較の場合、即ち、[B−A]におけるIDを
振られた島の周りの箇所に対応するデータAの箇所に関
して、0以外に複数のIDがあるときには、当該[B−
A]におけるIDを振られた島は、その箇所において、
所謂、「ショートパターン」のエラーが発生したものと
認識されるものである。Further, as shown in the above example, [B-
In the case of the comparison in [A], that is, when there are a plurality of IDs other than 0 for the location of the data A corresponding to the location around the island to which the ID is assigned in [BA], the relevant [B-
The island given the ID in [A] is
It is recognized that a so-called "short pattern" error has occurred.
【0044】さらに、[B−A]での比較の場合、即
ち、[B−A]におけるIDを振られた島の周りの箇所
に対応するデータAの箇所に関して、IDが0のみのと
きには、当該[B−A]におけるIDを振られた島は、
その箇所において、所謂、「島の発生」のエラーが発生
したものと認識されるものである。Further, in the case of the comparison in [B-A], that is, when the ID of the data A corresponding to the part around the island to which the ID is assigned in [B-A] is 0, The islands given the ID in [B-A]
It is recognized that a so-called "island occurrence" error has occurred at that location.
【0045】なお、図7に示すように、[A−B]での
比較の場合、即ち、[A−B]におけるIDを振られた
島の周りの箇所に対応するデータBの箇所に関して、0
を含まずに1つのIDしかないときには、当該[A−
B]におけるIDを振られた島は、その箇所において、
所謂、「窓の発生」のエラーが発生したものと認識され
るものである。As shown in FIG. 7, in the case of the comparison in [AB], that is, in the location of the data B corresponding to the location around the island to which the ID is assigned in [AB], 0
If there is only one ID without the
The island given the ID in [B] is
It is recognized that a so-called "window generation" error has occurred.
【0046】また、図7に示すように、[A−B]での
比較の場合、即ち、[A−B]におけるIDを振られた
島の周りの箇所に対応するデータBの箇所に関して、0
以外に複数のIDがあるときには、当該[A−B]にお
けるIDを振られた島は、その箇所において、所謂、
「パターン分割」のエラーが発生したものと認識される
ものである。Further, as shown in FIG. 7, in the case of the comparison in [AB], that is, regarding the location of the data B corresponding to the location around the island to which the ID is assigned in [AB], 0
When there are a plurality of IDs other than the above, the island to which the ID is assigned in [AB] is so-called at that location.
It is recognized that the "pattern division" error has occurred.
【0047】さらに、図7に示すように、[A−B]で
の比較の場合、即ち、[A−B]におけるIDを振られ
た島の周りの箇所に対応するデータBの箇所に関して、
IDが0のみのときには、当該[A−B]におけるID
を振られた島は、その箇所において、所謂、「島の消
去」のエラーが発生したものと認識されるものである。Further, as shown in FIG. 7, in the case of the comparison in [AB], that is, regarding the location of the data B corresponding to the location around the island to which the ID is assigned in [AB],
When the ID is only 0, the ID in the [AB]
The islands that are shaken are recognized as having a so-called "island deletion" error at that location.
【0048】従って、図7に示すように、[B−A]で
の比較の場合と[A−B]での比較の場合との両方の場
合で検証を行うと、「窓の抜け」、「ショートパター
ン」、「島の発生」、「窓の発生」、「パターン分
割」、「島の消去」の6種類のエラーの状態を認識する
ことができるものである。Therefore, as shown in FIG. 7, when the verification is performed both in the case of the comparison in [B-A] and in the case of the comparison in [A-B], the "window omission", It is possible to recognize six types of error states: “short pattern”, “occurrence of island”, “occurrence of window”, “pattern division”, and “erasure of island”.
【0049】なお、図3(a)(b)乃至図6に示す例
においては、[B−A]の「ID=1」の島はエラーパ
ターンではないと認識され、[B−A]の「ID=2」
の島は「ショートパターン」のエラーが発生したものと
認識され、[B−A]の「ID=3」の島は「窓の抜
け」のエラーが発生したものと認識され、[B−A]の
「ID=4」の島は「島の発生」のエラーが発生したも
のと認識されるものである。In the examples shown in FIGS. 3A, 3B and 6, the island of "ID = 1" in [BA] is recognized as not an error pattern, and the island of [BA] is detected. "ID = 2"
The island of "Short pattern" is recognized as having an error, and the island of "ID = 3" in [B-A] is recognized as having an error of "missing window", and [B-A] ], The island of “ID = 4” is recognized as an error of “occurrence of island”.
【0050】なお、上記の処理によりエラーが発生した
と認識された箇所は、ステップS218においてエラー
箇所として表示装置18に表示されることになる。Incidentally, the portion recognized as having an error by the above processing is displayed on the display device 18 as an error portion in step S218.
【0051】さらに、上記の処理によりエラーパターン
でないと判定された島(上記した例においては、[B−
A]の「ID=1」の島である。)の箇所については、
指定ピクセル数より大きく離れている箇所のチェックを
行うことになる。Further, the islands determined by the above processing to be not an error pattern (in the above example, [B-
It is an island with "ID = 1" in [A]. ),
A check will be performed at a location farther than the specified number of pixels.
【0052】そして、このチェックにおいて、データの
精度により発生するズレをエラーの発生として検出する
処理を行うものである。Then, in this check, a process of detecting a deviation caused by the accuracy of the data as an error occurrence is performed.
【0053】また、この処理によりエラーが発生したと
検出された箇所も、ステップS218においてエラー箇
所として表示装置18に表示されることになる。Further, a portion where an error is detected by this processing is also displayed on the display device 18 as an error portion in step S218.
【0054】なお、上記した実施の形態においては、フ
ォトマスクデータ検証システムはCADシステムに組み
込まれたものとして説明したが、これに限られることな
しに、CADシステムとは独立してフォトマスクデータ
検証システムを構成してもよい。Although the photomask data verification system has been described as being incorporated in the CAD system in the above-mentioned embodiments, the photomask data verification system is not limited to this and is independent of the CAD system. The system may be configured.
【0055】また、フォトマスクデータとCADデータ
とは同一のCADシステムにより生成されたものに限ら
れることなしに、それぞれ異なるシステムにおいて生成
されたものでもよい。Further, the photomask data and the CAD data are not limited to those generated by the same CAD system, and may be those generated by different systems.
【0056】[0056]
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、CADシステムによる設計側で早期にフォ
トマスクデータの正当性を評価して異常を発見すること
ができるようになり、問題箇所の修正のサイクルを減少
させて製造工数を削減することができるようになるとい
う優れた効果を奏するものである。Since the present invention is configured as described above, it becomes possible on the design side of a CAD system to quickly evaluate the validity of photomask data and detect an abnormality. This has an excellent effect that the number of manufacturing steps can be reduced by reducing the cycle of correcting the location.
【図1】本発明によるフォトマスクデータ検証システム
を備えたCADシステムのハードウェア構成を示すブロ
ック構成図である。FIG. 1 is a block configuration diagram showing a hardware configuration of a CAD system including a photomask data verification system according to the present invention.
【図2】フォトマスクデータの検証の処理に関する処理
ルーチンを示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart showing a processing routine relating to processing for verifying photomask data.
【図3】本発明によるフォトマスクデータ検証システム
の動作を説明するためのビットマップの概念図であり、
(a)はCADデータを変換したラスタデータ(データ
A)のビットマップであり、(b)はフォトマスクデー
タを変換したラスタデータ(データB)のビットマップ
である。FIG. 3 is a conceptual diagram of a bitmap for explaining the operation of the photomask data verification system according to the present invention,
(A) is a bitmap of raster data (data A) obtained by converting CAD data, and (b) is a bitmap of raster data (data B) obtained by converting photomask data.
【図4】図3(a)に示すデータAのビットマップと図
3(b)に示すデータBのビットマップとを比較して、
データBでビットが立っていて、かつ、データAでビッ
トが立っていない箇所([B−A])を示すビットマッ
プである。FIG. 4 compares the bitmap of data A shown in FIG. 3A with the bitmap of data B shown in FIG.
It is a bit map showing a portion ([B-A]) where the bit is raised in the data B and the bit is not raised in the data A.
【図5】図4に示す[B−A]のビットマップの島にI
Dを割り振った状態を示す図表である。5 is an illustration of I on the island of the bitmap of [BA] shown in FIG.
It is a chart showing a state in which D is allocated.
【図6】図3(a)に示すデータAのビットマップの島
にIDを割り振った状態を示す図表である。6 is a chart showing a state in which IDs are assigned to the islands of the bitmap of the data A shown in FIG. 3 (a).
【図7】得られたIDの状態によってどのようなエラー
が発生したものと認識されるかを示す図表である。FIG. 7 is a chart showing what kind of error is recognized as occurring depending on the state of the obtained ID.
10 処理装置 12 外部記憶装置 14 メモリ装置 16 入力装置 18 表示装置 10 processor 12 External storage device 14 memory devices 16 Input device 18 Display
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−208358(JP,A) 特開 平8−137092(JP,A) 特開 平6−102660(JP,A) 特開 平5−127365(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 1/00 - 1/16 G06F 17/50 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-3-208358 (JP, A) JP-A-8-137092 (JP, A) JP-A-6-102660 (JP, A) JP-A-5- 127365 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 1/00-1/16 G06F 17/50
Claims (3)
クデータを検証するためのフォトマスクデータ検証シス
テムにおいて、 CADデータをラスタデータに変換する第1の変換手段
と、 フォトマスクデータをラスタデータに変換する第2の変
換手段と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップと前記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータのビットマップとを比較して、前記第2の
変換手段によって変換されたラスタデータでビットが立
っていて、かつ、前記第1の変換手段によって変換され
たラスタデータでビットが立っていない箇所を示すビッ
トマップを作成する比較手段と、 前記比較手段によって作成されたビットマップのビット
が立った箇所に、該ビットが立った箇所が上下左右斜め
で接している部分は同一の番号となるようにIDを割り
振る処理を行う第1のID割り振り手段と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップのビットが立った箇所は上下左右斜めで接
している部分は同一の番号となるようにし、ビットが立
っていない箇所は0としてIDを割り振る処理を行う第
2のID割り振り手段と、 前記比較手段によって作成されたビットマップに前記第
1のID割り振り手段で割り振られたIDと、前記第1
の変換手段によって変換されたラスタデータに前記第2
のID割り振り手段で割り振られたIDとに基づいて、
前記比較手段によって作成されたビットマップのビット
が立った箇所の周りの箇所に対応する前記第1の変換手
段によって変換されたラスタデータの箇所に関して、0
を含まずに1つのIDしかないときには、前記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「窓の抜け」のエラーが発生したことを検出
し、0以外に複数のIDがあるときには、前記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「ショートパターン」のエラーが発生したこ
とを検出し、IDが0のみのときには、前記比較手段に
よって作成されたビットマップのビットが立った箇所に
おいて、「島の発生」のエラーが発生したことを検出す
る検出手段と、 前記検出手段によってエラーが検出されると、該エラー
が発生したと検出された箇所を表示する表示手段とを有
するフォトマスクデータ検証システム。1. A photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, comprising: first conversion means for converting CAD data into raster data; and first conversion means for converting photomask data into raster data. The second conversion means compares the raster data bitmap converted by the first conversion means with the raster data bitmap converted by the second conversion means. Comparing means for creating a bit map showing a portion where bits are set in the converted raster data and not set in the raster data converted by the first converting means; The position where the bit is raised touches the position where the bit is raised in the vertical and horizontal directions diagonally. The first ID allocating means for allocating the IDs so that the same parts have the same number, and the place where the bit of the bitmap of the raster data converted by the first converting means stands is vertically, horizontally and diagonally. The contacting parts have the same number, and the parts where the bit is not set are set to 0, and the second ID assigning means for assigning an ID, and the bitmap created by the comparing means are assigned the first ID. The ID assigned by the ID assigning means, and the first
The raster data converted by the converting means of the second
Based on the ID assigned by the ID assigning means of
0 is assigned to a portion of the raster data converted by the first converting means, which corresponds to a portion around a bit-raised portion of the bitmap created by the comparing means.
When there is only one ID without including, it is detected that an error of “missing window” has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the comparison means is raised, and a plurality of IDs other than 0 are detected. In some cases, it is detected that a "short pattern" error has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the comparison means is raised, and when the ID is only 0, the bitmap created by the comparison means. The detection means for detecting the occurrence of the error "occurrence of an island" at the place where the bit of is raised, and the place where the error is detected when the detection means detects the error is displayed. A photomask data verification system having a display means.
クデータを検証するためのフォトマスクデータ検証シス
テムにおいて、 CADデータをラスタデータに変換する第1の変換手段
と、 フォトマスクデータをラスタデータに変換する第2の変
換手段と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップと前記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータのビットマップとを比較して、前記第1の
変換手段によって変換されたラスタデータでビットが立
っていて、かつ、前記第2の変換手段によって変換され
たラスタデータでビットが立っていない箇所を示すビッ
トマップを作成する比較手段と、 前記比較手段によって作成されたビットマップのビット
が立った箇所に、該ビットが立った箇所が上下左右斜め
で接している部分は同一の番号となるようにIDを割り
振る処理を行う第1のID割り振り手段と、 前記第2の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップのビットが立った箇所は上下左右斜めで接
している部分は同一の番号となるようにし、ビットが立
っていない箇所は0としてIDを割り振る処理を行う第
2のID割り振り手段と、 前記比較手段によって作成されたビットマップに前記第
1のID割り振り手段で割り振られたIDと、前記第2
の変換手段によって変換されたラスタデータに前記第2
のID割り振り手段で割り振られたIDとに基づいて、
前記比較手段によって作成されたビットマップのビット
が立った箇所の周りの箇所に対応する前記第2の変換手
段によって変換されたラスタデータの箇所に関して、0
を含まずに1つのIDしかないときには、前記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「窓の発生」のエラーが発生したことを検出
し、0以外に複数のIDがあるときには、前記比較手段
によって作成されたビットマップのビットが立った箇所
において、「パターン分割」のエラーが発生したことを
検出し、IDが0のみのときには、前記比較手段によっ
て作成されたビットマップのビットが立った箇所におい
て、「島の消去」のエラーが発生したことを検出する検
出手段と、 前記検出手段によってエラーが検出されると、該エラー
が発生したと検出された箇所を表示する表示手段とを有
するフォトマスクデータ検証システム。2. A photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, comprising: first conversion means for converting CAD data into raster data; and first conversion means for converting photomask data into raster data. The second conversion means compares the raster data bitmap converted by the first conversion means with the raster data bitmap converted by the second conversion means, and the second conversion means compares the raster data bitmap by the first conversion means. Comparing means for creating a bit map showing a portion where bits are set in the converted raster data and not set in the raster data converted by the second converting means; The position where the bit is raised touches the position where the bit is raised in the vertical and horizontal directions diagonally. The first part has a first ID assigning means for performing an ID assigning process so that the same part has the same number, and the place where the bit of the bitmap of the raster data converted by the second converting means stands is vertically, horizontally and diagonally. The contacting parts have the same number, and the parts where the bit is not set are set to 0, and the second ID assigning means for assigning an ID, and the bitmap created by the comparing means are assigned the first ID. The ID assigned by the ID assigning means and the second
The raster data converted by the converting means of the second
Based on the ID assigned by the ID assigning means of
0 is assigned to a portion of the raster data converted by the second converting means, which corresponds to a portion around a portion where the bit is raised in the bitmap created by the comparing means.
When there is only one ID without including, it is detected that an error of “occurrence of window” has occurred at the position where the bit of the bitmap created by the comparison means is raised, and a plurality of IDs other than 0 are detected. In some cases, it is detected that an error of "pattern division" has occurred at the place where the bit of the bitmap created by the comparing means is raised, and when the ID is only 0, the bitmap created by the comparing means. The detection means for detecting the occurrence of the "island deletion" error at the location where the bit is raised, and the location where the error is detected when the detection means detects the error are displayed. A photomask data verification system having a display means.
クデータを検証するためのフォトマスクデータ検証シス
テムにおいて、 CADデータをラスタデータに変換する第1の変換手段
と、 フォトマスクデータをラスタデータに変換する第2の変
換手段と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップと前記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータのビットマップとを比較して、前記第2の
変換手段によって変換されたラスタデータでビットが立
っていて、かつ、前記第1の変換手段によって変換され
たラスタデータでビットが立っていない箇所を示すビッ
トマップを作成する第1の比較手段と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップと前記第2の変換手段によって変換された
ラスタデータのビットマップとを比較して、前記第1の
変換手段によって変換されたラスタデータでビットが立
っていて、かつ、前記第2の変換手段によって変換され
たラスタデータでビットが立っていない箇所を示すビッ
トマップを作成する第2の比較手段と、 前記第1の比較手段によって作成されたビットマップ、
または、前記第2の比較手段によって作成されたビット
マップのビットが立った箇所に、該ビットが立った箇所
が上下左右斜めで接している部分は同一の番号となるよ
うにIDを割り振る処理を行う第1のID割り振り手段
と、 前記第1の変換手段によって変換されたラスタデータの
ビットマップ、または、前記第2の変換手段によって変
換されたラスタデータのビットマップのビットが立った
箇所は上下左右斜めで接している部分は同一の番号とな
るようにし、ビットが立っていない箇所は0としてID
を割り振る処理を行う第2のID割り振り手段と、 前記第1の比較手段によって作成されたビットマップに
前記第1のID割り振り手段で割り振られたIDと、前
記第1の変換手段によって変換されたラスタデータに前
記第2のID割り振り手段で割り振られたIDとに基づ
いて、前記第1の比較手段によって作成されたビットマ
ップのビットが立った箇所の周りの箇所に対応する前記
第1の変換手段によって変換されたラスタデータの箇所
に関して、0を含まずに1つのIDしかないときには、
前記第1の比較手段によって作成されたビットマップの
ビットが立った箇所において、「窓の抜け」のエラーが
発生したことを検出し、0以外に複数のIDがあるとき
には、前記第1の比較手段によって作成されたビットマ
ップのビットが立った箇所において、「ショートパター
ン」のエラーが発生したことを検出し、IDが0のみの
ときには、前記第1の比較手段によって作成されたビッ
トマップのビットが立った箇所において、「島の発生」
のエラーが発生したことを検出する第1の検出手段と、 前記第2の比較手段によって作成されたビットマップに
前記第1のID割り振り手段で割り振られたIDと、前
記第2の変換手段によって変換されたラスタデータに前
記第2のID割り振り手段で割り振られたIDとに基づ
いて、前記第2の比較手段によって作成されたビットマ
ップのビットが立った箇所の周りの箇所に対応する前記
第2の変換手段によって変換されたラスタデータの箇所
に関して、0を含まずに1つのIDしかないときには、
前記第2の比較手段によって作成されたビットマップの
ビットが立った箇所において、「窓の発生」のエラーが
発生したことを検出し、0以外に複数のIDがあるとき
には、前記第2の比較手段によって作成されたビットマ
ップのビットが立った箇所において、「パターン分割」
のエラーが発生したことを検出し、IDが0のみのとき
には、前記第2の比較手段によって作成されたビットマ
ップのビットが立った箇所において、「島の消去」のエ
ラーが発生したことを検出する第2の検出手段と、 前記第1の検出手段または前記第2の検出手段によって
エラーが検出されると、該エラーが発生したと検出され
た箇所を表示する表示手段とを有するフォトマスクデー
タ検証システム。3. A photomask data verification system for verifying photomask data output from a CAD system, comprising: first conversion means for converting CAD data into raster data; and first conversion means for converting photomask data into raster data. The second conversion means compares the raster data bitmap converted by the first conversion means with the raster data bitmap converted by the second conversion means. First comparing means for creating a bit map showing a portion where bits are set in the converted raster data and where no bits are set in the raster data converted by the first converting means; Of the raster data converted by the converting means and the second conversion means A bit is set in the raster data converted by the first conversion unit and a bit is not set in the raster data converted by the second conversion unit by comparing with the bitmap of the star data. Second comparing means for creating a bitmap showing the location; a bitmap created by the first comparing means;
Alternatively, a process of assigning an ID so that a bit in the bitmap created by the second comparing means is set to have the same number in a portion in which the bit is raised, vertically, horizontally, and diagonally touches The first ID allocating means to be performed, the bitmap of the raster data converted by the first conversion means, or the bit of the bitmap of the raster data converted by the second conversion means is set up and down. The parts that are in contact with each other diagonally on the left and right should have the same number.
A second ID allocating means for allocating the ID, an ID allocated by the first ID allocating means to the bitmap created by the first comparing means, and converted by the first converting means. The first conversion corresponding to a place around a place where the bit of the bitmap created by the first comparing unit is based on the ID assigned to the raster data by the second ID assigning unit Regarding the location of the raster data converted by the means, when there is only one ID without including 0,
It is detected that a "window missing" error has occurred at a position where a bit of the bitmap created by the first comparison means is raised, and when there are a plurality of IDs other than 0, the first comparison is performed. It is detected that a "short pattern" error has occurred at a position where the bit of the bitmap created by the means has risen, and when the ID is only 0, the bit of the bitmap created by the first comparing means. "Occurrence of an island" at the place where
First detecting means for detecting that an error has occurred, the ID assigned by the first ID assigning means to the bitmap created by the second comparing means, and the second converting means. On the basis of the converted raster data and the ID assigned by the second ID assigning means, the first corresponding to locations around the bit-raised locations of the bitmap created by the second comparing means. Regarding the location of the raster data converted by the conversion means of 2, when there is only one ID without including 0,
It is detected that an error "occurrence of a window" has occurred at a position where a bit of the bitmap created by the second comparison means is raised, and when there are a plurality of IDs other than 0, the second comparison is performed. "Pattern division" at the place where the bit of the bitmap created by the method stands.
Error is detected, and when the ID is only 0, it is detected that an "island erase" error has occurred at the position where the bit of the bitmap created by the second comparing means is raised. Photomask data having a second detecting unit for displaying the error and a display unit for displaying a position where the error is detected when an error is detected by the first detecting unit or the second detecting unit. Verification system.
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