JP3396548B2

JP3396548B2 - Defect alignment method

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Publication number: JP3396548B2
Application number: JP24783194A
Authority: JP
Inventors: 昭浩山中; 正弘猿田
Original assignee: NTN Corp
Current assignee: NTN Corp
Priority date: 1994-10-13
Filing date: 1994-10-13
Publication date: 2003-04-14
Anticipated expiration: 2018-04-14
Also published as: JPH08114792A

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、欠陥部位置合せ方法に
関し、特に、液晶産業における液晶表示装置（ＬＣＤ）
用ブラックマトリックス基板の欠陥を修正するための欠
陥部位置合せ方法に関する。【０００２】【従来の技術】従来、ＬＣＤ用ブラックマトリックス基
板の製造過程において、何らかの原因により正常形状を
有していない欠陥画素のような欠陥部が生じる場合があ
り、このような欠陥部の修正はレーザ光を照射すること
により行なわれていた。【０００３】図８は従来のＬＣＤ用ブラックマトリック
ス基板の欠陥修正装置の一例の構成を模式的に示す図で
ある。【０００４】図８において、欠陥修正装置は、レーザ源
２９から発生したレーザ光２を、出力コントロール機構
３０、ビームスプリッタ４ａ、スリット機構３１、ビー
ムスプリッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４
ｃ、および対物レンズ７を介して、光を透過する材質で
形成されたＸＹステージ８に固定されたブラックマトリ
ックス基板９面上の欠陥部に照射し、欠陥を修正する。【０００５】欠陥部の認定および欠陥部へ照射するレー
ザ光の形状や位置決めは、ブラックマトリックス基板９
の下部に設置した透過照明光源１０からの照明により生
じるブラックマトリックス基板９の影と落射照明光源１
１からの照明により生じるブラックマトリックス基板表
面の像とをＣＣＤカメラ１２で撮像してモニタ（図示せ
ず）に映し出し、オペレータがモニタの像を肉眼で観察
しながら行なっていた。【０００６】また、スリット照明光源１３は、スリット
機構３１のスリット形状をブラックマトリクス基板９上
に結像させ、オペレータがレーザ光２の照明寸法を確認
する。【０００７】【発明が解決しようとする課題】従来の欠陥修正装置で
は、欠陥部へレーザ光２を照射する場合、欠陥部より面
積の小さい照射エリア（方形あるいは丸形）のレーザ光
を数回に分けて照射することにより手動で欠陥の修正を
行なっていた。このため、修正に時間および人手がかか
るばかりではなく、修正の精度においても問題があっ
た。【０００８】さらに、従来の欠陥修正装置では、欠陥部
の認定および欠陥部へ照射するレーザ光の位置決めを肉
眼で行なっていたため修正に時間および人手がかかるば
かりではなく、修正の精度においても問題があった。【０００９】この発明は、以上のような問題点を解決す
るためになされたもので、人手を介することなく欠陥部
へのレーザ光照射、欠陥部の認定および欠陥部の照射位
置への位置決めを可能とする欠陥部位置合せ方法を提供
することを目的とする。【００１０】【課題を解決するための手段】この発明の欠陥部位置合
せ方法は、ブラックマトリックス基板の正常部を位置決
めし、その正常部の位置を登録するステップと、正常部
の形状を登録するステップと、正常部と隣接する正常隣
接部の位置を登録するステップと、正常隣接部の形状を
登録するステップと、ブラックマトリックス基板を移動
させ、正常部の形状と欠陥部の形状との相関により欠陥
部を検出するステップと、正常隣接部の形状と検出され
た欠陥部に隣接する欠陥隣接部の形状との相関により欠
陥隣接部を検出するステップと、欠陥隣接部の位置を登
録するステップと、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相
対的な位置を計算するステップと、計算された相対的な
位置に基づいて欠陥隣接部を正常隣接部の位置に移動さ
せ、欠陥部を正常部の位置に設定させるステップとを含
む。【００１１】【００１２】【００１３】【作用】この発明の欠陥部位置合せ方法においては、正
規化相関法によるパターン認識を用いて、欠陥部を検出
する。そして、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的
位置を計算し、欠陥部をレーザ照射位置に設定するた
め、オペレータによる肉眼での位置決め作業が不要とな
る。【００１４】【００１５】【００１６】【００１７】【実施例】以下、本発明による欠陥修正用光学装置、欠
陥修正装置および欠陥部位置合せ方法について、図面を
参照しながら説明する。【００１８】（実施例１）図１は、本発明の第１の実施
例による欠陥修正装置を示す概略図である。【００１９】図１において、欠陥修正装置は、ＹＡＧレ
ーザ源１から発生したレーザ光２を、ビーム拡大機構
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７を介して、光を透過する材質で形成された
ＸＹステージ８にチャックテーブル（図示せず）で固定
されているブラックマトリックス基板９面上の欠陥画素
（欠陥部）に照射することにより欠陥を修正する。【００２０】なお、ＹＡＧレーザ源１、ビーム拡大機構
３、ビームスプリッタ４ａ、スリット５、ビームスプリ
ッタ４ｂ、結像レンズ６、ビームスプリッタ４ｃおよび
対物レンズ７は欠陥修正用光学装置１５を構成する。【００２１】また、透過照明光源１０からの照明により
生じる画素の影と落射照明光源１１からの照明により生
じる画素自体の像とを、ＣＣＤカメラ１２で撮像し、モ
ニタ（図示せず）に写す。【００２２】スリット照明光源１３は、スリット形状を
ブラックマトリックス基板９上に結像させるものであ
り、その結像位置に正常画素（正常部）を位置決めし、
欠陥画素のレーザ照射位置への位置合せの基準とする。【００２３】本装置においては、大面積の欠陥を１回の
レーザ照射で修正するため、レーザ光のビームスポット
径が大きく、レーザ光エネルギ強度分布が均一であるこ
とが必要となる。【００２４】そこで、複数のレンズの組合せであるビー
ム拡大機構３により、直径２ｍｍのビームスポット径を
直径１０ｍｍ程度まで拡大している。【００２５】図２は、縦軸をレーザ光のエネルギ強度、
横軸をビームスポット幅としたレーザ光のエネルギ強度
分布を表わす図である。【００２６】Ｏ点は、レーザ光のビームスポットの中心
点であり、ｃは、欠陥の修正に必要な最低エネルギであ
る。【００２７】通常、レーザ光のエネルギ強度は、Ａのよ
うな分布をしているので、ビームスポットの中心Ｏ点で
のエネルギと、欠陥の修正に必要なエネルギｃとの差ａ
が問題となる。【００２８】このため、ビーム拡大機構により、レーザ
光のエネルギをＢのような強度分布とし、ビームスポッ
トの中心Ｏ点と欠陥の修正に必要な最低のエネルギｃと
の差を小さくしている（ｂ）。【００２９】通常のレーザ光では欠陥修正可能なエネル
ギを持つビームスポット幅ｄは小さいが、ビーム拡大機
構により、欠陥修正可能なビームスポット幅は大きくな
る（ｅ）。また、レーザ光は、正常画素と相似形状のス
リット（図１のスリット５）を介して、欠陥画素に照射
する。【００３０】図３は、スリット（図１のスリット５）の
取付部を示す外観斜視図である。図示しないスリット
は、手動によりＸ−Ｙ−θ方向に移動可能である。Ｘ−
Ｙ−θ移動機構は自動でもよい。また、複数のスリット
が必要な場合は、回転式でも左右揺動式でもよい。【００３１】図４に、欠陥を修正するプロセスを示す。
欠陥画素Ｃに、スリット（図１のスリット５）を通過さ
せることによってレーザ照射形状が正常画素と同一にさ
れたレーザ光（Ｄ）を照射し（Ｅ）、欠陥を修正する
（Ｆ）。【００３２】以上のように、実施例１では、レーザ光を
正常画素と相似形状のスリットを介して、欠陥画素に照
射して、欠陥を修正する。【００３３】その結果、１回の照射で欠陥の修正が完了
するため、作業効率および修正精度が向上する。【００３４】（実施例２）図５は、本発明の第２の実施
例による欠陥修正装置の構成を示す外観斜視図である。【００３５】図５において欠陥修正装置は、Ｚ軸テーブ
ル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャックテーブル１
６、ＸＹステージ８、モニタ１７、画像処理ユニット１
８、制御用コンピュータ１９およびホストコンピュータ
２０からなる。【００３６】ここで、欠陥修正用光学装置１５は、図１
に示す第１実施例の欠陥修正用光学装置１５と同様の構
成をしており、同様の効果を奏する。【００３７】また、画像処理ユニット１８は、画像デー
タにより、欠陥画素検出およびフォーカシングを行な
い、モニタ１７は、ブラックマトリックス基板（欠陥修
正対象物）の画像を映す。【００３８】制御用コンピュータ１９は、ＸＹステージ
８、Ｚ軸テーブル１４、欠陥修正用光学装置１５、チャ
ックテーブル１６の制御を行なう。【００３９】ホストコンピュータ２０は、装置全体の制
御を担う。図６に、欠陥画素のレーザ照射位置への位置
合せ工程の概略図を示す。【００４０】図５の欠陥修正用光学装置１５中の図示し
ないスリット照明光源（図１の光源１３に相当）によ
り、正常画素と相似形状の図示しないスリットを、ブラ
ックマトリックス基板上のレーザ照射位置２１に結像さ
せる。そして正常画素２２の位置を決定し、正常画素２
２の形状および正常画素位置（レーザ照射位置）２１を
登録する（Ｇ）。なお、破線部ｆの範囲内が登録され
る。【００４１】さらに、正常画素２２に隣接する正常隣接
画素形状２３および正常隣接画素位置２４を登録する
（Ｇ）。【００４２】次に、ブラックマトリックス基板をＸＹス
テージ（図示せず）で位置を変えながら欠陥画素２５を
検出する。【００４３】欠陥画素２５の検出は、正規化相関法によ
るパターン認識を用いて行なう。すなわち、欠陥画素２
５の形状と先に登録された正常画素２２の形状との相関
値を計算し、相関値があるしきい値よりも低いものを欠
陥画素２５と判断する。【００４４】さらに、欠陥画素２５と隣接する欠陥隣接
画素形状２６と先に登録された正常隣接画素形状２３と
の相関により、欠陥画素に隣接した欠陥隣接画素２７を
検出し、欠陥隣接画素位置２８を登録する（Ｈ）。【００４５】次に、欠陥隣接画素位置２８の正常隣接画
素位置２４に対する相対的な位置を計算し、欠陥隣接画
素位置２８を正常隣接画素位置２４の座標に移動させ
る。【００４６】これにより、画素は周期的に配列されてい
るため、必然的に欠陥画素２５はレーザ照射位置（正常
画素位置）２１に移動したことになる（Ｉ）。これで、
欠陥画素の位置決めは完了し、次に、欠陥修正用光学装
置を用いてレーザ光が照射され、欠陥を修正する。【００４７】図７は、欠陥画素の位置合せ工程を示すフ
ローチャートである。図７において、Ｓ１では、前段検
査装置からの欠陥画素位置データに基づいて、欠陥位置
にテーブルを移動させる。【００４８】Ｓ２で正常画素が存在するかどうかを判断
する。正常画素が存在したら、Ｓ３に進む。Ｓ２で正常
画素が存在しなかったらＳ６に進む。【００４９】ここで、正常画素が存在しない場合には、
欠陥画素が存在する場合と欠陥画素がなく、正常画素の
一部が視野内に存在する場合とがある。【００５０】Ｓ６で、登録された隣接画素形状により近
傍にある画素をレーザ照射位置に位置合せをし、Ｓ７で
再度正常画素があるかどうかを判断する。正常画素が存
在したらＳ８に進む。Ｓ７で正常画素が存在しなかった
ら、現在位置が欠陥画素位置合せ終了位置と判断して、
欠陥画素の位置合せは終了とする。【００５１】Ｓ３およびＳ８で正常画素を画面中央に移
動させ、Ｓ４で左右水平方向について欠陥画素があるか
どうかを判断する。欠陥画素が存在すればＳ５に進む。
Ｓ４で欠陥画素が存在しない場合はＳ９へ進む。【００５２】Ｓ５で、登録された隣接画素形状を用いて
欠陥画素をレーザ照射位置に合せ、欠陥画素位置合せは
終了する。【００５３】Ｓ９で現在サーチしている画素の１列上側
をサーチし、Ｓ１０で欠陥画素があるかどうかを判断す
る。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ９で欠
陥画素が存在しない場合はＳ１１へ進む。【００５４】Ｓ１１では、現在サーチしている画素の２
列下側をサーチし、Ｓ１２で欠陥画素があるかどうかを
判断する。欠陥画素が存在した場合は、Ｓ５へ進む。Ｓ
１２で欠陥画素が存在しない場合は、Ｓ１３で欠陥画素
検出不可能とする。【００５５】以上のように実施例２では、正規化相関法
によるパターン認識を用いて、欠陥部を検出する。そし
て、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相対的位置を計算
し、欠陥部をレーザ照射位置に設定するため、オペレー
タによる肉眼での位置決め作業は不要となり、作業効率
が向上し、人件費が少なくてすむ。【００５６】また、欠陥修正用光学装置は、図１の実施
例１の欠陥修正用光学装置１５と同様の効果を奏する。【００５７】【発明の効果】以上のように、この発明によれば、ブラ
ックマトリックス基板の正常部を位置決めしてその正常
部の位置と、正常部に隣接する正常隣接部の位置とを登
録し、ブラックマトリックス基板を移動させて正常部の
形状と欠陥部の形状との相関により欠陥部を検出し、正
常隣接部の形状と検出された欠陥部に隣接する欠陥隣接
部の形状との相関により欠陥隣接部を検出して欠陥隣接
部の位置を登録し、欠陥隣接部の正常隣接部に対する相
対的な位置を計算し、計算された相対的な位置に基づい
て欠陥隣接部を正常隣接部の位置に移動させ、欠陥部を
正常部の位置に設定させるようにしたので、肉眼出の作
業を必要としなくなり、作業効率が向上し、人件費が少
なくて済む。【００５８】【００５９】【００６０】【００６１】【００６２】【００６３】BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to defect portion aligning method, in particular, a liquid crystal display device in liquid crystal industry (LCD)
About missing <br/> Recessed portion aligning method to correct defects of use black matrix substrate. 2. Description of the Related Art Conventionally, in the process of manufacturing a black matrix substrate for LCD, a defective portion such as a defective pixel having a non-normal shape may occur for some reason. Was performed by irradiating a laser beam. FIG. 8 is a diagram schematically showing a configuration of an example of a conventional defect repair apparatus for a black matrix substrate for LCD. [0004] In FIG. 8, a defect correcting apparatus uses a laser beam 2 generated from a laser source 29 to output a control mechanism 30, a beam splitter 4 a, a slit mechanism 31, a beam splitter 4 b, an imaging lens 6, and a beam splitter 4.
c, and irradiates the defect portion on the surface of the black matrix substrate 9 fixed to the XY stage 8 formed of a light transmitting material through the objective lens 7 to correct the defect. [0005] The recognition of a defective portion and the shape and positioning of a laser beam applied to the defective portion are determined by the black matrix substrate 9
Of the black matrix substrate 9 caused by illumination from the transmitted illumination light source 10 installed below the
The image of the surface of the black matrix substrate generated by the illumination from 1 is picked up by the CCD camera 12 and projected on a monitor (not shown), and the operator observes the image on the monitor with the naked eye. Further, the slit illumination light source 13 forms an image of the slit shape of the slit mechanism 31 on the black matrix substrate 9, and an operator checks the illumination size of the laser beam 2. In the conventional defect repairing apparatus, when irradiating a laser beam 2 to a defective portion, the laser beam is irradiated several times in an irradiation area (square or round) having a smaller area than the defective portion. The defect was manually corrected by irradiation. For this reason, not only time and labor are required for the correction, but also there is a problem in the accuracy of the correction. Further, in the conventional defect repairing apparatus, since the recognition of the defective portion and the positioning of the laser beam to be applied to the defective portion are performed with the naked eye, not only time and labor are required for the correction but also a problem in the accuracy of the correction. there were. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is intended to irradiate a defective portion with a laser beam, identify a defective portion, and position the defective portion at an irradiation position without human intervention. and to provide a defect portion aligning way to enable. [0010] According to the present invention, there is provided a method for positioning a defective portion.
Position the normal part of the black matrix substrate.
Registering the position of the normal part,
Registering the shape of the normal part and the normal part adjacent to the normal part
Registering the position of the contacting part and the shape of the normal adjacent part
Registering and moving the black matrix substrate
The defect is determined by the correlation between the shape of the normal part and the shape of the defective part.
Detecting the part and detecting the shape of the normal adjacent part
Missing due to correlation with the shape of the defect adjacent part adjacent to the defective part
Detecting the adjacent part of the defect and registering the position of the adjacent part of the defect
The steps of recording
Calculating the relative position and the calculated relative
Move defective neighbors to normal neighbors based on location
Setting the defective part to the position of the normal part.
No. According to the method for aligning a defective portion according to the present invention,
Detects defective parts using pattern recognition by the normalized correlation method
I do. And, relative to the normal adjacent part of the defective adjacent part
Calculate the position and set the defective part to the laser irradiation position.
This eliminates the need for the operator to perform positioning with the naked eye.
You. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A description will now be given, with reference to the drawings, of a defect repair optical device, a defect repair device, and a defect position alignment method according to the present invention. (Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic diagram showing a defect repair apparatus according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a defect repair apparatus converts a laser beam 2 generated from a YAG laser source 1 into a beam expanding mechanism 3, a beam splitter 4a, a slit 5, a beam splitter 4b, an imaging lens 6, a beam splitter 4c and an objective. By irradiating a defective pixel (defective portion) on a surface of a black matrix substrate 9 fixed to a XY stage 8 formed of a light transmitting material through a lens 7 with a chuck table (not shown) via a lens 7, a defect is generated. To correct. The YAG laser source 1, the beam expanding mechanism 3, the beam splitter 4a, the slit 5, the beam splitter 4b, the imaging lens 6, the beam splitter 4c and the objective lens 7 constitute a defect correcting optical device 15. A CCD camera 12 captures a shadow of a pixel generated by illumination from the transmitted illumination light source 10 and an image of the pixel itself generated by illumination from the epi-illumination illumination light source 11, and transfers the image to a monitor (not shown). The slit illumination light source 13 forms a slit shape on the black matrix substrate 9 and positions a normal pixel (normal portion) at the image forming position.
This is used as a reference for aligning the defective pixel with the laser irradiation position. In this apparatus, in order to correct a large area defect by one laser irradiation, it is necessary that the beam spot diameter of the laser beam is large and the laser beam energy intensity distribution is uniform. Therefore, a beam spot diameter of 2 mm is expanded to a diameter of about 10 mm by a beam expanding mechanism 3 which is a combination of a plurality of lenses. In FIG. 2, the vertical axis represents the energy intensity of the laser beam,
FIG. 4 is a diagram illustrating an energy intensity distribution of laser light with a horizontal axis representing a beam spot width. Point O is the center point of the beam spot of the laser beam, and c is the minimum energy required for defect correction. Normally, since the energy intensity of the laser beam has a distribution like A, the difference a between the energy at the center O of the beam spot and the energy c required for repairing the defect is obtained.
Is a problem. For this reason, the energy of the laser beam is made to have an intensity distribution such as B by the beam expanding mechanism, and the difference between the center O of the beam spot and the minimum energy c required for defect correction is reduced ( b). With a normal laser beam, the beam spot width d having energy capable of correcting a defect is small, but the beam spot width capable of correcting a defect is increased by a beam expanding mechanism (e). Further, the laser light is applied to the defective pixel via a slit (slit 5 in FIG. 1) similar in shape to the normal pixel. FIG. 3 is an external perspective view showing a mounting portion of the slit (slit 5 in FIG. 1). The slit (not shown) can be manually moved in the XY-θ direction. X-
The Y-θ moving mechanism may be automatic. When a plurality of slits are required, a rotary type or a left-right swing type may be used. FIG. 4 shows a process for correcting a defect.
The defective pixel C is irradiated with laser light (D) having the same laser irradiation shape as the normal pixel by passing through a slit (slit 5 in FIG. 1) (E), and the defect is corrected (F). As described above, in the first embodiment, the defect is corrected by irradiating the defective pixel with the laser beam through the slit having a shape similar to that of the normal pixel. As a result, since the defect correction is completed by one irradiation, the work efficiency and the correction accuracy are improved. (Embodiment 2) FIG. 5 is an external perspective view showing the configuration of a defect repair apparatus according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 5, the defect repair apparatus includes a Z-axis table 14, a defect repair optical device 15, and a chuck table 1.
6, XY stage 8, monitor 17, image processing unit 1
8, a control computer 19 and a host computer 20. Here, the defect correcting optical device 15 is shown in FIG.
Has the same configuration as that of the defect correcting optical device 15 of the first embodiment shown in FIG. The image processing unit 18 detects and focuses on defective pixels based on the image data, and the monitor 17 displays an image of a black matrix substrate (a defect correction target). The control computer 19 controls the XY stage 8, the Z-axis table 14, the defect correcting optical device 15, and the chuck table 16. The host computer 20 controls the entire apparatus. FIG. 6 is a schematic view showing a process of aligning a defective pixel with a laser irradiation position. A slit illumination light source (not shown) in the defect correction optical device 15 shown in FIG. 5 (corresponding to the light source 13 shown in FIG. 1) forms a slit (not shown) similar in shape to a normal pixel to the laser irradiation position 21 on the black matrix substrate. Image. Then, the position of the normal pixel 22 is determined.
2 and the normal pixel position (laser irradiation position) 21 are registered (G). In addition, the range within the broken line part f is registered. Further, a normal adjacent pixel shape 23 adjacent to the normal pixel 22 and a normal adjacent pixel position 24 are registered (G). Next, the defective pixel 25 is detected while changing the position of the black matrix substrate on an XY stage (not shown). The detection of the defective pixel 25 is performed using pattern recognition by the normalized correlation method. That is, defective pixel 2
A correlation value between the shape of No. 5 and the previously registered shape of the normal pixel 22 is calculated, and a pixel having a correlation value lower than a certain threshold value is determined as a defective pixel 25. Further, a defective adjacent pixel 27 adjacent to the defective pixel is detected by a correlation between the defective adjacent pixel shape 26 adjacent to the defective pixel 25 and the previously registered normal adjacent pixel shape 23, and a defective adjacent pixel position 28 is detected. Is registered (H). Next, the relative position of the defective adjacent pixel position 28 with respect to the normal adjacent pixel position 24 is calculated, and the defective adjacent pixel position 28 is moved to the coordinates of the normal adjacent pixel position 24. As a result, since the pixels are periodically arranged, the defective pixel 25 necessarily moves to the laser irradiation position (normal pixel position) 21 (I). with this,
The positioning of the defective pixel is completed, and the defect is corrected by irradiating a laser beam using a defect correcting optical device. FIG. 7 is a flowchart showing a process for aligning defective pixels. In FIG. 7, in S1, the table is moved to a defect position based on defective pixel position data from the preceding inspection apparatus. At S2, it is determined whether a normal pixel exists. If a normal pixel exists, the process proceeds to S3. If there is no normal pixel in S2, the process proceeds to S6. Here, when there is no normal pixel,
There are cases where there is a defective pixel and cases where there is no defective pixel and some normal pixels are present in the field of view. In step S6, the neighboring pixels are aligned with the laser irradiation position based on the registered adjacent pixel shapes, and it is determined again in step S7 whether there is a normal pixel. If a normal pixel exists, the process proceeds to S8. If there is no normal pixel in S7, the current position is determined to be the defective pixel alignment end position,
The positioning of the defective pixel is completed. At S3 and S8, the normal pixel is moved to the center of the screen, and at S4, it is determined whether there is a defective pixel in the horizontal direction. If there is a defective pixel, the process proceeds to S5.
If there is no defective pixel in S4, the process proceeds to S9. In step S5, the defective pixel is adjusted to the laser irradiation position using the registered adjacent pixel shape, and the alignment of the defective pixel is completed. In step S9, the upper row of the currently searched pixel is searched by one column, and in step S10, it is determined whether or not there is a defective pixel. If a defective pixel exists, the process proceeds to S5. If there is no defective pixel in S9, the process proceeds to S11. In step S11, 2 of the currently searched pixel is
The lower row is searched, and it is determined in S12 whether or not there is a defective pixel. If a defective pixel exists, the process proceeds to S5. S
If there is no defective pixel in Step 12, it is determined in Step S13 that the defective pixel cannot be detected. As described above, in the second embodiment, a defective portion is detected by using pattern recognition based on the normalized correlation method. Then, since the relative position of the defective adjacent part to the normal adjacent part is calculated and the defective part is set to the laser irradiation position, the positioning operation by the naked eye by the operator becomes unnecessary, the work efficiency is improved, and the labor cost is reduced. Yes. Further, the defect correcting optical device has the same effect as the defect correcting optical device 15 of the first embodiment shown in FIG. As described above , according to the present invention, the
Position the normal part of the
Of the normal part and the position of the normal adjacent part adjacent to the normal part
Record and move the black matrix substrate to
A defect is detected based on the correlation between the shape and the shape of the defect, and correct
Defect adjacent to the shape of the normal adjacent part and the detected defective part
Defect adjacency is detected by detecting a defect adjacent part by correlation with the shape of the part
Register the location of the part, and check whether the defective adjacent part
Calculate the relative position and based on the calculated relative position
Move the defective adjacent part to the position of the normal adjacent part
It was set to the position of the normal part.
Labor is not required, work efficiency is improved, and labor costs are low.
You don't have to. ## EQU00003 ## [0062]

【図面の簡単な説明】【図１】本発明の第１の実施例による欠陥修正装置を示
す概略図である。【図２】第１実施例によるレーザ光のエネルギ強度分布
を表わす図である。【図３】第１実施例によるスリット取付機構を示す外観
斜視図である。【図４】第１実施例による欠陥を修正するプロセスを示
す概略図である。【図５】本発明の第２の実施例による欠陥修正装置の構
成を示す外観斜視図である。【図６】実施例２における欠陥画素の位置合せ工程を示
す概略図である。【図７】実施例２における欠陥画素の位置合せ工程を示
すフローチャートである。【図８】従来の欠陥修正装置の一例の構成を模式的に示
す図である。【符号の説明】１ＹＡＧレーザ源２レーザ光３ビーム拡大機構４ａ、４ｂ、４ｃビームスプリッタ５スリット６結像レンズ７対物レンズ８ＸＹステージ９ブラックマトリックス基板１０透過照明光源１１落射照明光源１２ＣＣＤカメラ１３スリット照明光源１４Ｚ軸テーブル１５欠陥修正用光学装置１６チャックテーブル１７モニタ１８画像処理ユニット１９制御用コンピュータ２０ホストコンピュータ２１レーザ照射位置（正常画素位置）２２正常画素２３正常隣接画素形状２４正常隣接画素位置２５欠陥画素２６欠陥隣接画素形状２７欠陥隣接画素２８欠陥隣接画素位置２９レーザ源３０出力コントロール機構３１スリット機構BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram showing a defect repair device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram illustrating an energy intensity distribution of a laser beam according to a first embodiment. FIG. 3 is an external perspective view showing a slit mounting mechanism according to the first embodiment. FIG. 4 is a schematic diagram showing a process of correcting a defect according to the first embodiment. FIG. 5 is an external perspective view showing a configuration of a defect repairing device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 6 is a schematic view showing a step of aligning defective pixels in a second embodiment. FIG. 7 is a flowchart illustrating a process of aligning defective pixels according to the second embodiment. FIG. 8 is a view schematically showing a configuration of an example of a conventional defect repair apparatus. [Description of Signs] 1 YAG laser source 2 Laser beam 3 Beam expansion mechanism 4a, 4b, 4c Beam splitter 5 Slit 6 Imaging lens 7 Objective lens 8 XY stage 9 Black matrix substrate 10 Transmission illumination light source 11 Epi-illumination light source 12 CCD camera 13 Slit illumination light source 14 Z axis table 15 Defect correction optical device 16 Chuck table 17 Monitor 18 Image processing unit 19 Control computer 20 Host computer 21 Laser irradiation position (normal pixel position) 22 Normal pixel 23 Normal adjacent pixel shape 24 Normal adjacent Pixel position 25 Defective pixel 26 Defective adjacent pixel shape 27 Defective adjacent pixel 28 Defective adjacent pixel position 29 Laser source 30 Output control mechanism 31 Slit mechanism

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平５−27111（ＪＰ，Ａ) 特開平６−202129（ＪＰ，Ａ) 特開平４−158238（ＪＰ，Ａ) 特開昭64−31186（ＪＰ，Ａ) 特開平８−22025（ＪＰ，Ａ) 特開平６−53118（ＪＰ，Ａ) 特開平５−232033（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02F 1/13 - 1/141 ──────────────────────────────────────────────────続き Continuation of the front page (56) References JP-A-5-27111 (JP, A) JP-A-6-202129 (JP, A) JP-A-4-158238 (JP, A) JP-A 64-64 31186 (JP, A) JP-A-8-22025 (JP, A) JP-A-6-53118 (JP, A) JP-A-5-233203 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. ⁷ , DB name) G02F 1/13-1/141

Claims

(57)【特許請求の範囲】【請求項１】ＬＣＤ用ブラックマトリックス基板の欠
陥を修正するための欠陥部位置合せ方法であって、前記ブラックマトリックス基板の正常部を位置決めし、
その正常部の位置を登録するステップと、前記正常部の形状を登録するステップと、前記正常部と隣接する正常隣接部の位置を登録するステ
ップと、前記正常隣接部の形状を登録するステップと、前記ブラックマトリックス基板を移動させ、前記正常部
の形状と欠陥部の形状との相関により前記欠陥部を検出
するステップと、前記正常隣接部の形状と検出された前記欠陥部に隣接す
る欠陥隣接部の形状との相関により前記欠陥隣接部を検
出するステップと、前記欠陥隣接部の位置を登録するステップと、前記欠陥隣接部の前記正常隣接部に対する相対的な位置
を計算するステップと、計算された前記相対的な位置に基づいて前記欠陥隣接部
を前記正常隣接部の位置に移動させ、前記欠陥部を前記
正常部の位置に設定させるステップとを含む、欠陥部位
置合せ方法。 (57) [Claim 1] A defect alignment method for correcting a defect of a black matrix substrate for LCD , comprising: positioning a normal portion of the black matrix substrate;
Registering the position of the normal part; registering the shape of the normal part; and registering the position of a normal adjacent part adjacent to the normal part.
And-up, and registering the shape of the normal adjacent unit, moves the black matrix substrate, the normal portion
The defective part is detected by the correlation between the shape of the defect and the shape of the defective part.
And adjoining the shape of the normal adjacent portion and the detected defective portion.
The defect adjacent part is detected by correlation with the shape of the defect adjacent part.
Issuing , registering the position of the defective adjacent part, and the relative position of the defective adjacent part to the normal adjacent part.
Calculating the relative position and calculating the relative position based on the calculated relative position.
Is moved to the position of the normal adjacent portion, and the defective portion is
Setting at the position of the normal part.
The arrangement method.