JP3388676B2 - 電子写真感光体の塗布装置及びその塗布方法 - Google Patents

電子写真感光体の塗布装置及びその塗布方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体ド
ラムに感光体形成用塗液を塗布する電子写真感光体の塗
布装置及びその塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より円筒体に塗布を行う方法として
は、浸漬塗布法、および垂直型塗布方法が知られてい
る。浸漬塗布法は操作が簡便であるという利点を有する
が、浸漬槽上部の液面の安定化や浸漬槽内部の塗液の流
れの安定化のために、円筒体をゆっくり浸漬する必要が
あり、そのため、浸漬時間がかかること、被塗布表面以
外の円筒体内部に塗液が塗布されるのを防ぐために、円
筒体内部を気密に保つ機構が必要となること、たとえ円
筒体内部を気密に保ったとしても、円筒体内部の一部に
塗液が付着することは避けられず、これを除去する工程
が必要となること、膜厚は粘度および塗布速度に依存す
るため厳しい粘度管理が必要であること、塗布速度が非
常に遅くなり生産性が悪いこと、また、円筒体全体を浸
漬するため、多量の塗液が必要となる等の欠点を有す
る。
【0003】これに対し、従来の垂直型塗布方法は開口
部を有するリング状液漏れ防止用弾性体パッキンを保持
する塗液容器を設け、該弾性体パッキンの開口部に円筒
体を挿入し、円筒体を塗液容器に対し、相対的に鉛直上
方に移動させることにより、円筒体の外周面に塗布する
方法であり、浸漬塗布方法と比較して浸漬時間がかから
ないため、生産速度が幾分早くなること、円筒体内面に
付着した塗液の除去工程が要らないこと、少量の塗液で
塗布が可能となること、また連続的に円筒体を塗液容器
に供給することにより、連続塗布が可能となるという利
点を有する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな垂直型塗布方法にあっても、浸漬塗布方法と同様
に、膜厚は粘度および塗布速度に依存するため厳しい粘
度管理が必要である、塗布速度が非常に遅くなり生産性
が悪い、という不具合点は解消しない。
【0005】このような不具合を解消するため、特開昭
56−15865、特開昭56−15866には塗液容
器上部にリング状塗材かきとり刃(ブレード)を有した
垂直型塗布方法が開示されている。このようないわゆる
ブレード塗布方法では、湿潤膜厚は被塗布基体とブレー
ド間のギャップによって決まり、塗液物性や操作条件に
あまり依存せず、高速塗布が可能となる。但し、均一な
膜厚を得るためには、被塗布基体とブレード間のギャッ
プの制御が不可欠である。特開昭56−15865、特
開昭56−15866に開示された方法では、このギャ
ップの制御を目的として、ブレードを円筒体基体に対し
半径方向に移動自在に保持し、塗布時に円筒基体が回転
すると同時に塗液容器に対し相対的に引き上げられるこ
とにより持ち上げられる塗液がギャップを通過する際の
応力を利用しギャップを一定に保つという、いわゆる自
動調芯機構を採用している。
【0006】しかしながら、このような垂直型塗布方法
にあっては、調芯機構が塗液容器と塗液かきとり部材と
を一体化した構成であるため、調芯機構が重くなり、回
転装置により回転する基材(円筒基材)と塗液かきとり
部材のギャップ調整がうまくいかず、膜厚ムラになる懸
念がある。
【0007】本発明は、従来の技術における、上記のよ
うな欠点を改良することを目的としてなされたものであ
る。すなわち、本発明の目的は、上記の欠点を解消する
ため、円筒体外周面に膜厚ムラのない均一な塗膜を安
価、かつ高速に形成することのできる電子写真感光体の
塗布装置及びその塗布方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記した目的
は、開口部を有する液もれ防止用部材により塗液を保持
する塗液容器を有し、前記開口部に被塗布円筒体を挿入
し、前記被塗布円筒体を前記塗液容器に対して鉛直方向
に相対移動させることにより被塗布円筒体の外周面に塗
液を塗布する電子写真感光体の塗布装置において、前記
塗液容器の内部乃至上部に、前記塗液容器とは別に設け
た塗液かきとり部材を備え該塗液かきとり部材が前記
被塗布円筒体の外周面に平行な内周面を有する円筒状体
を有し、該円筒状体の一部又は全部を塗液中に浸漬され
るように構成し、前記塗液の液圧によって前記被塗布円
筒体の半径方向に移動可能に固着されることなく設ける
ことによって、該塗液かきとり部材と被塗布円筒体の移
動に伴い塗布される塗液との接触により生じる力により
調芯することによって感光層の形成と、感光層の膜厚の
調整を同時に行うことができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
図1は本発明の塗布装置の好ましい一実施の形態を示し
ている。図1において、11は被塗布円筒体、21は塗
液31の液面レベルを一定に保持する塗液容器、41は
液漏れ防止用パッキン、51は剛性体からなる塗液かき
とり部材、61は塗液かきとり部材調芯機構体、71は
以上の塗布ユニットを保持する台座をそれぞれ示してい
る。但し、被塗布円筒体の支持部材および塗液容器に対
する相対的な移動手段および塗液の供給、排出手段及び
円筒体回転装置は省略してある。塗液容器21は、その
周囲に形成された支持部材21Aに一体に成形されてお
り、この塗液容器21はパッキン41の外縁部側を挟持
した状態で台座71上に固定されている。液かきとり部
材調芯機構61は、支持部材21Aと、この支持部材2
1Aの上部内側には段差21Bが形成されておりこの段
差21Bに固定され段差部61Aを有する環状部材61
Bと、この環状部材61B上に固定された環状部材61
Cと、からなる。環状部材61Bと環状部材61Cとよ
って溝部61Dが形成されている。
【0010】塗液かきとり部材51は、外縁部側が上記
溝部61Dに間挿される環状部51Aと、被塗布円筒体
11の外周面と並行な内周面を有する円筒部(円筒状
体)51Bと、この円筒部51Bの下端部に連接され下
方側になるにつれて拡径した拡径部(テーパー構造)5
1Cと、からなる。環状部51Aの外径は、溝部61D
の内径(溝部の底部で形成される径)よりも僅かに小さ
くなっている。拡径部51Cには、円周方向に均等な割
合及び大きさで、かつ水平方向に複数の貫通孔51Dが
形成されている。拡径部51Cの角度は、30°〜70
°、より望ましく45°〜65°であり、更に望ましく
55°〜60°である。角度が30°よりも小さいと、
拡径部51Cの内部で塗液31の均一な乱流が形成され
にくく、このため、塗液かきとり部材51の調芯を確実
に行うのが困難となりやすい。また、角度が70°より
も大きくても拡径部51Cの内部で塗液31の乱流が形
成されにくくなり、塗液かきとり部材51の調芯を確実
に行うのが困難となりやすい。
【0011】なお、塗液容器21の内径は、被塗布円筒
体11の外径に対し1.5倍以上であることが望まし
く、さらに好ましくは、2倍以上であることが望まれ
る。塗液容器21の内径が被塗布円筒体11の外径の
1.5倍より小さくなると、塗液3には被塗布円筒体1
1と塗液かきとり部材51との相対的な移動に伴う剪断
力のほかに塗液31と塗液容器21の内面間の界面張力
の影響が現れ、被塗布円筒体11に塗液31がうまく付
着せず、ただれたような未塗布部分が生じたり、所望の
膜厚が得られなくなる等の不具合が生じる。
【0012】被塗布円筒体11の材質としては、ステン
レス、アルミニウム、ニッケルなどの金属、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、テフロン、ABSなどの樹脂やガ
ラス、紙管などが用いられるが、形状精度の良い剛性体
であれば何を用いてもよい。被塗布円筒体11の塗液容
器21に対する相対的な移動速度は、被塗布円筒体11
と塗液かきとり部材51の間の空間以上に塗液を供給
し、調芯に有効な剪断応力を塗液31に与えるために、
1[cm/sec]以上であることが望ましい。
【0013】剛性体からなる塗液かきとり部材51の場
合、その材料としては、金属、樹脂、セラミック、ガラ
ス等が用いられるが、特に、加工性に優れ加工精度を出
しやすいステンレスやアルミニウムなどの金属を用いる
ことが望ましい。また、塗液かきとり部材51の移動に
よる該部材と被塗布円筒体11と間の調芯を滑らかに行
うために、該部材51に陽極酸化や無電解めっきによる
テフロン処理を施すことが好ましい。
【0014】貫通孔51Dは、円周方向に均等に形成さ
れていることが望ましく、その数は4個〜8個程度が望
ましい。貫通孔51Dの孔径は、小さすぎると、塗液3
1の流れが不十分となり、貫通孔51Dの孔径が大きす
ぎても、塗液31の乱流が形成されにくく、塗液かきと
り部材51に対する液圧が大きくならないため、調芯機
能を十分に発揮することができない。液漏れ防止用パッ
キン41として、被塗布円筒体11の外径よりわずかに
大きい内径を持ち、かつ該被塗布円筒体11の外面に平
行な円筒部分を持つ剛性体を用いることが可能である。
該被塗布円筒体11の外面に平行な円筒部分の高さが5
mm以上であり、かつ塗液3の粘度が0.5Pa.s以
上、さらに好ましくは1Pa.s以上であれば、液漏れ
防止用パッキン41の内径が被塗布円筒体11の外径よ
り2mm大きくても塗液31は漏れずに保持される。
【0015】塗液31は、塗布の目的により公知の樹
脂、顔料、溶剤などを調合したものが適宜選択される
が、粘度は0.5Pa.s以上が良く、さらに好ましく
は、1Pa.s以上が良い。溶剤としては、例えば、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール
等のアルコール類、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、エチレングリコール等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン、アノン等のケトン類、酢酸エ
チル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムアル
デヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、水等が挙げられる。
【0016】図1においては、台座71の下降または被
塗布円筒体11の上昇により、被塗布円筒体11を塗液
容器21に対し相対的に鉛直上方に移動させることによ
り、塗液容器21および液漏れ防止用パッキン41に保
持された塗液31が、被塗布円筒体11に塗布される。
この場合、被塗布円筒体11の相対的な移動により、塗
液31内に、塗液かきとり部材51と被塗布円筒体11
間への流れが生じる。塗液かきとり部材51の最小内径
部分(円筒部51B)と被塗布円筒体11のギャップに
生じる液圧分布により、塗液かきとり部材51は水平方
向(半径方向)に移動し、該ギャップの分布が解消され
る。該ギャップの分布を解消させる手段としては被塗布
円筒体11を回転させてもよい。拡径部51Cが塗液3
1内に存在するため、回転による応力が塗液かきとり部
材51に伝わりやすく該ギャップの分布が効果的に解消
される。スパイラル状の膜厚ムラが発生しないようにす
るためには回転速度が10rpm以上300rpm以下
が好ましく、より好ましくは、10〜100rpmの範
囲が良い。また、回転は、塗布する直前に停止しても該
ギャップの解消に効果がある。
【0017】しかし、コストダウン等の目的で塗布中に
被塗布円筒体11を回転させない場合、塗液31内に浸
漬している該塗液かきとり部材51内を密閉状態にする
と、塗液31の動きが安定せずかえってギャップの調整
ができなくなる。このギャップの調整を安定に行うため
に、該塗液かきとり部材51に、その浸漬部分の円周方
向に等間隔で大きさが等しく、かつ水平方向の複数の貫
通穴51Dを設け、塗液かきとり部材51の内部から外
部への塗液の流れが形成される。このような塗液31の
水平方向の流れにより、塗液かきとり部材51の動き
は、塗液かきとり部材51の最小内径部分(円筒部51
B)と被塗布円筒体11とのギャップが円周方向で一定
となるように被塗布円筒体11の動きに追随する。貫通
穴51Dの向きを鉛直方向にすると、塗液かきとり部材
51は鉛直方向に安定するが、被塗布円筒体11の曲が
りや設置のふれの影響により、塗液かきとり部材51の
最小内径部分(円筒部51B)と被塗布円筒体11のギ
ャップは、被塗布円筒体11の相対的な移動により刻々
と変わってしまう。本装置における貫通孔51Dは、ほ
ぼ水平方向に近い角度であればその機能を発揮すること
ができる。
【0018】塗液かきとり部材調芯機構61としては、
図1のように、該調芯機構61内の環状部材61Bに形
成される段差部61Aの段差部分の寸法bが、塗液かき
とり部材51の水平部51Aの厚さよりわずかに大き
く、かつ厚さ+0.2mm以下になるように設定し、す
き間aの分だけ塗液かきとり部材51の水平部51Aが
溝部61D内を水平方向に移動できるようになってい
る。環状部材61B及び環状部材61Cの材質として
は、加工精度が良く、表面の摩擦係数が小さいものが好
ましく、例えば陽極酸化や無電解めっきによるテフロン
処理を施したステンレスやアルミニウムのような金属が
利用できる。
【0019】塗液容器内の塗液の液面レベルを一定に保
持する一方法として、該塗液容器の外側にオーバーフロ
ー受けおよび塗液供給機構を設けることにより達成でき
る。図2は、オーバーフロー受けおよび塗液供給機構を
設けた塗布装置の好ましい実施の形態を示している。図
2において、111は被塗布円筒体、121は塗液容
器、131は塗液、141は液漏れ防止用パッキン、1
51は、塗液かきとり部材、161は調芯機構、171
は台座をそれぞれ示していおり、これらの各構成部分、
特にかきとり部材は図1と異なっているが、これらの構
成部分は、実質的に図1に示すものと同等のものでよ
い。図2において、塗液容器121に連通する塗液供給
管181が設けられ、また、塗液容器121の外周囲に
塗液オーバーフロー受け191が設けられており、この
塗液オーバーフロー受け191に塗液排出管200が連
通している。
【0020】この塗布装置では、被塗布円筒体111へ
の塗布時に持ち去られる塗液量以上の塗液131を塗液
供給管181を介して塗液容器121に供給して、塗液
容器121からオーバーフローした塗液を塗液オーバー
フロー受け191から塗液排出管200を介して外部に
排出することによって塗液131の液面レベルは塗液容
器に対し常に一定に保持される。塗液容器121への塗
液供給方法としては、塗液容器121の円周方向に対
し、一定の量の塗液を供給することが望ましい。
【0021】図3は、長尺の被塗布円筒体を回転させる
ための装置を一部断面で示す概略的構成である。図3に
おいて、ACサーボモーター202に装着されたプーリ
203と、ロータリジョイント204に装着されたプー
リ205にそれぞれベルト206が懸架され、ACサー
ボモーター202による回転運動がプーリ205に伝達
されるようになっている。プーリ205には回転部材2
07の軸方向一端部が嵌合され、回転部材207はベア
リングを介して支持部材208により軸支され、回転部
材207の軸方向他端部側には被塗布円筒体(例えば、
アルミ製パイプ)201の下端部がエアチャックにより
連結されている。また、被塗布円筒体201の軸方向上
端部は、回転部材209に嵌合され、回転部材209は
ベアリングを介して支持部材210により軸支されてい
る。図3には、特に図示していないが、例えば、図1に
示すようにな塗布装置が被塗布円筒体201の周囲に設
置されている。この装置においては、塗布されるべき被
塗布円筒体201の周囲に図1に示すようにな塗布装置
を上下方向に移動可能に設置し、次に被塗布円筒体20
1の軸方向両端部をそれぞれ回転部材207及び回転部
材209に嵌合して固定する。この状態でACサーボモ
ーター202を介して回転部材207を回転させると、
この回転動作に伴い被塗布円筒体201が回転し、同時
に塗布装置が被塗布円筒体201の上方向又は下方向に
移動する。これによって、被塗布円筒体201の周囲に
所望の塗布層が形成される。塗布層が形成された被塗布
円筒体201は回転部材207及び回転部材剤208か
ら取り外され、次の被塗布円筒体201に対して上記の
操作が行われる。なお、被塗布円筒体201の回転動作
を塗布直前に停止し、その後に、塗布装置を被塗布円筒
体201に対して相対的に移動させてもよい。この場
合、塗布装置を移動させる前の回転動作において既に調
芯できているため、塗布の初期段階から目的の膜厚を得
るのに有利である。むろん、本発明による塗布方法及び
装置は、図1〜図3の例に限定されるものではなく、例
えば、複数の被塗布円筒体を、液漏れ防止用パッキンの
下方から相対的にかつ連続的に供給して塗布する方法に
も適用できる。
【0022】
【実施例】以下、本発明実施例によって更に具体的に説
明する。実施例1 被塗布円筒体11として、φ30×340mmのアルミ
パイプを用い、図1に示す装置を用いて塗布を行った。
塗液31としては、ポリカーボネート(商品名:ユーピ
ロンZ、Z−200、三菱瓦斯化学社製)100重量部
をモノクロロベンゼン(関東化学製、特級)300重量
部に溶解した溶液を、撹拌したものを使用した。塗液3
1の液温25°Cにおける粘度は約3.5Pa.sであ
った。塗液容器21の内径は、φ60とした。液漏れ防
止用パッキン41としては、内径がφ31で、被塗布円
筒体11の外面に平行な円筒部分の高さが10mmであ
る、ステンレス製のものを用いた。塗液かきとり部材5
1として内径がφ30.3で、φ30.3からφ54の
60°のテーパー構造(拡径部51C)を有し、高さ6
mmの、被塗布円筒体11と平行な円筒状体(円筒部5
1B)を有する、表面に陽極酸化処理した後さらにテフ
ロン含浸処理を施したアルミニウム製のものを使用し
た。拡径部51Cの全て及び円筒状体(円筒部51B)
3mmが塗液に浸漬している状態に設置した。また、塗
液かきとり部材51は、下側端部から5mmの位置のテ
ーパー部分(拡径部51B)に、90°間隔で直径7m
mの貫通穴51D(計4個)水平方向に形成している。
また、寸法bは、3.1mmとした。
【0023】先ず、図1に示すように、被塗布円筒体1
1を塗液容器21に対し相対的に上方に移動させ、液漏
れ防止用パッキン41を介し、被塗布円筒体11を塗液
31内に挿入した。次に、この状態で、塗液31を塗液
容器21中に20mm3 /secの速さで送り続けた。
この状態から、被塗布円筒体11を塗液容器21に対し
相対的に上方に20cm/secの速さで移動させた。
その結果、被塗布円筒体11の外周面には、目視上表面
欠陥が無く、均一な塗膜が形成できた。表1に、円筒体
11外周面に塗布された塗膜の膜厚分布を示す。膜厚ム
ラは、約3.6%でかなり均一な膜厚分布を示してい
る。
【0024】
【表1】
【0025】実施例2 塗液かきとり部材51として貫通穴がない以外は、実施
例1と同じ条件にて塗布を行った。その結果、被塗布円
筒体11の外周面には、目視上表面欠陥が無い塗膜が形
成できたが、表2に示したように、膜厚ムラは約16.
0%であった。
【0026】
【表2】
【0027】実施例3 被塗布円筒体11として、φ30×340mmのアルミ
パイプを用い、図1に示す装置を用いて行った。塗液3
1として、ポリカーボネート(商品名、ユーピロンZ、
Z−200三菱瓦斯化学社製)100重量部をモノクロ
ルベンゼン(関東化学社製)100重量部に溶解した溶
液を攪拌したものを使用した。塗液3の液温20℃にお
ける粘度は約3.5mPaであった。塗液容器21内の
内径は、φ60とした。液漏れ防止用パッキン41とし
ては、内径がφ31で、被塗布円筒体11の外周面に平
行な内周面を有する円筒部分の高さが10mmのステン
レス製のものを用いた。塗液かきとり部材51として内
径がφ30.3で、φ30.3からφ54の60°のテ
ーパー構造(拡径部51C)を有し、高さ6mmの、被
塗布円筒体1と平行な円筒状体(円筒部51B)を有す
る、表面に陽極酸化処理した後さらにテフロン含浸処理
を施したアルミニウム製のものを使用した。拡径部51
Cの全て及び円筒状体(円筒部51B)3mmが塗液に
浸漬している状態に設置した。また、塗液かきとり部材
51は、下側端部から5mmの位置のテーパー部分(拡
径部51C)に、90°間隔で直径7mmの垂直方向の
貫通穴51D(計4個)が形成されている。また、寸法
bは、3.1mmとした。
【0028】先ず、図1に示すように、被塗布円筒体1
1を塗液容器21に対し相対的に上方に移動させ、液漏
れ防止用パッキン41を介し、被塗布円筒体11を塗液
31内に挿入した。次に、この状態で、塗液31を塗液
容器21中に20mm3 /secの速さで送り続けた。
この状態から、被塗布円筒体11を塗液容器21に対し
相対的に上方に20cm/secの速さで移動させた。
その結果、被塗布円筒体11の外周面には、目視上表面
欠陥が無く、均一な塗膜が形成できた。表3に、被塗布
円筒体11外周面に塗布された塗膜の膜厚分布を示す。
膜厚ムラは、約11.5%であった。
【0029】
【表3】
【0030】実施例4 被塗布円筒体11として、φ30×340mmのアルミ
パイプを用い、図1に示す装置を用いて行った。塗液3
1として、ポリカーボネート(商品名、ユーピロンZ、
Z−200三菱瓦斯化学社製)18重量部と電荷輸送剤
(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチル
フェニル)−4,4−ジアミン12重量部をモノクロル
ベンゼン(関東化学社製)70重量部に溶解した溶液を
攪拌したものを使用した。塗液31の液温20℃におけ
る粘度は約1.0mPaであった。 塗液容器21内の
内径は、φ60とした。液漏れ防止用パッキン41とし
ては、内径がφ31で、被塗布円筒体11の外周面に平
行な内周面を有する円筒部分の高さが10mmのステン
レス製のものを用いた。塗液かきとり部材51として内
径がφ30.3で、φ30.3からφ54の60°のテ
ーパー構造(拡径部51C)を有し、高さ6mmの、被
塗布円筒体11と平行な円筒状体(円筒部51B)を有
する、表面に陽極酸化処理した後さらにテフロン含浸処
理を施したアルミニウム製のものを使用した。拡径部5
1Cの全て及び円筒状体(円筒部51B)3mmが塗液
に浸漬している状態に設置した。また、塗液かきとり部
材51は、下側端部から5mmの位置のテーパー部分
(拡径部51B)に、90°間隔で直径7mmの水平方
向の貫通穴51D(計4個)が形成されている。また、
寸法bは、3.1mmとした。
【0031】先ず、図1に示すように、被塗布円筒体1
1を塗液容器21に対し相対的に上方に移動させ、液漏
れ防止用パッキン41を介し、被塗布円筒体11を塗液
31内に挿入した。次に、この状態で、塗液31を塗液
容器21中に20mm3 /secの速さで送り続けた。
この状態から、被塗布円筒体11を塗液容器21に対し
相対的に上方に20cm/secの速さで移動させた。
その結果、被塗布円筒体11の外周面には、目視上表面
欠陥が無く、均一な塗膜が形成できた。表4に、被塗布
円筒体11外周面に塗布された塗膜の膜厚分布を示す。
膜厚ムラは、約3.0%であった。
【0032】
【表4】
【0033】実施例5 被塗布円筒体11として、φ30×340mmのアルミ
パイプを用い、図1に示す装置を用いて行った。塗液3
1として、ポリカーボネート(商品名、ユーピロンZ、
Z−200三菱瓦斯化学社製)100重量部をモノクロ
ルベンゼン(関東化学社製、特級)300重量部に溶解
した溶液を攪拌したものを使用した。塗液3の液温20
℃における粘度は約3.5Pa・sであった。塗液容器
21内の内径は、φ60とした。液漏れ防止用パッキン
41としては、内径がφ31で、被塗布円筒体11の外
周面に平行な内周面を有する円筒部分の高さが10mm
のステンレス製のものを用いた。塗液かきとり部材51
として内径がφ30.3で、φ30.3からφ54の6
0°のテーパー構造(拡径部51C)を有する、表面に
陽極酸化処理した後さらにテフロン含浸処理を施したア
ルミニウム製のものを使用した。テーパー構造(拡径部
51C)は貫通孔のない密閉構造とした。拡径部51C
の全て及び円筒状体(円筒部51B)3mmが塗液に浸
漬している状態に設置した。塗液かきとり部材調芯機構
61としては、図1に示すように、該調芯機構61内の
環状部材61B、61Cにより塗液かきとり部材51を
挟む機能のものを用いた。このとき寸法bは3.1mm
とした。材質は、陽極酸化及びテフロン含浸処理を施し
たアルミニウム製とした。
【0034】先ず、図1に示すように、被塗布円筒体1
1を塗液容器21に対し相対的に上方に移動させ、液漏
れ防止用パッキン41を介し、被塗布円筒体11を塗液
31内に挿入した。次に、この状態で、塗液31を塗液
容器21中に20mm3 /secの速さで送り続けた。
この状態から、図3に示すような回転装置により被塗布
円筒体11を100rpmで回転させながら、被塗布円
筒体11を塗液容器21を対し相対的に上方に20cm
/secの速さで移動させた。その結果、被塗布円筒体
11の外周面には、目視上表面欠陥が無く、均一な塗膜
が形成できた。表5に、被塗布円筒体11外周面に塗布
された塗膜の膜厚分布を示す。膜厚ムラは、約2.8%
であった。
【0035】
【表5】
【0036】実施例6 図1 における下端部から5mmの位置のテーパー構造
(拡径部51C)に90°置きに直径7mmの貫通孔
(計4個)51Dを水平方向に形成された塗液かきとり
部材51を用い、被塗布円筒体11を300rpmで回
転させた後、回転を停止し、被塗布円筒体11を塗液容
器21に対し相対的に移動させた以外は、実施例5と同
様な条件で塗布を行った。その結果、被塗布円筒体11
の外周面には、目視上表面欠陥が無く、均一な塗膜が形
成できた。表6に、被塗布円筒体11外周面に塗布され
た塗膜の膜厚分布を示す。膜厚ムラは、約3.0%であ
った。
【0037】
【表6】
【0038】比較例 塗液かきとり部材調芯機構を用いず、すきまゲージによ
り被塗布円筒体と塗液かきとり部材間のギャップを調整
した以外は、実施例1と同様な条件により塗布を行っ
た。その結果、被円筒体の外周面に、被塗布円筒体の軸
方向に特異的なスジ状の塗布故障が発生した。スジ故障
の発生した軸方向の膜厚はほぼ0μmであった。ちなみ
に実施例1と同様な膜厚ムラは約50%であった。
【0039】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、電子写真
感光体の外周面に膜厚ムラのない均一な厚みの感光層の
塗膜を安価に、かつ高速に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の塗布装置の好ましい一実施の形態を示
す断面図である。
【図2】オーバーフロー受けおよび塗液供給機構を設け
た塗布装置の好ましい実施の形態を示す概略的構成図で
ある。
【図3】長尺の被塗布円筒体を回転させるための装置を
一部断面で示す概略的構成図である。
【符号の説明】
11、111 被塗布円筒体 21、121 塗液容器 31、131 塗液 41、141 液漏れ防止用パッキン 51、151 塗液かきとり部材 16、161 調芯機構 17、171 台座 51D 貫通孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 我妻 優 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼ ロックス 株式会社内 (72)発明者 佐藤 智正 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼ ロックス 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−15865(JP,A) 実開 昭60−28073(JP,U) 実公 平3−52133(JP,Y2)

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 開口部を有する液もれ防止用部材により
    塗液を保持する塗液容器を有し、前記開口部に被塗布円
    筒体を挿入し、前記被塗布円筒体を前記塗液容器に対し
    て鉛直方向に相対移動させることにより被塗布円筒体の
    外周面に塗液を塗布する電子写真感光体の塗布装置にお
    いて、前記塗液容器の内部乃至上部に、前記塗液容器
    は別に設けた塗液かきとり部材を備え該塗液かきとり
    部材が前記被塗布円筒体の外周面に平行な内周面を有す
    る円筒状体を有し、該円筒状体の一部又は全部を塗液中
    に浸漬されるように構成し、前記塗液の液圧によって前
    記被塗布円筒体の半径方向に移動可能に固着されること
    なく設けたことを特徴とする電子写真感光体の塗布装
    置。
  2. 【請求項2】 前記塗液かきとり部材が、剛性体からな
    ることを特徴とする請求項1に記載の電子写真感光体の
    塗布装置。
  3. 【請求項3】 前記塗液かきとり部材が、前記円筒状体
    と該円筒状体に連接され、下方になるにつれて次第に拡
    径された拡径部とからなることを特徴とする請求項1ま
    たは請求項2に記載の電子写真感光体の塗布装置。
  4. 【請求項4】 前記拡径部に、その円周方向に等間隔に
    複数の貫通孔を略水平方向に設けたことを特徴とする
    求項3に記載の電子写真感光体の塗布装置。
  5. 【請求項5】 前記液もれ防止用部材が、前記被塗布円
    筒体の外径より僅かに大きな内径を有し、前記被塗布円
    筒体に平行な内周面を有する円筒部分を有する剛性体か
    らなることを特徴とする請求項2に記載の電子写真感光
    体の塗布装置。
  6. 【請求項6】 前記塗液容器が前記被塗布円筒体と同心
    状であって、その内径が前記被塗布円筒体の外径の1.
    5倍以上であることを特徴とする請求項1に記載の電子
    写真感光体の塗布装置。
  7. 【請求項7】 前記塗液かきとり部材が、滑りを向上さ
    せる処理を施した表面を有することを特徴とする請求項
    1に記載の電子写真感光体の塗布装置。
  8. 【請求項8】 前記被塗布円筒体を回転させる駆動手段
    を設けたことを特徴とする請求項1に記載の電子写真感
    光体の塗布装置。
  9. 【請求項9】 開口部を有する液もれ防止用部材により
    塗液を保持する塗液容器を有し、前記開口部に被塗布円
    筒体を挿入し、前記被塗布円筒体を前記塗液容器に対し
    て鉛直方向に相対移動させることにより被塗布円筒体の
    外周面に塗液を塗布する電子写真感光体の塗布方法にお
    いて、前記塗液容器の内部乃至上部に、前記塗液容器
    は別に設けた塗液かきとり部材を備え、該塗液かきとり
    部材が前記被塗布円筒体の外周面に平行な内周面を有す
    る円筒状体を有し、該円筒状体の一部又は全部を塗液中
    に浸漬し、前記塗液の液圧によって前記被塗布円筒体の
    半径方向に移動可能に固着されることなく設けた塗液か
    きとり部材の中心と前記被塗布円筒体の中心とを略等し
    くなるように前記塗液の塗液かきとり部材に対する液圧
    により調芯しながら、前記被塗布円筒体をその半径方向
    に移動させることを特徴とする電子写真感光体の塗布方
    法。
  10. 【請求項10】 前記塗液かきとり部材を内部に有する
    前記塗液容器に前記塗液を供給し、前記塗液容器から塗
    液をオーバーフローさせて前記塗液容器内の塗液面を一
    定に保持することを特徴とする請求項9に記載の電子写
    真感光体の塗布方法。
  11. 【請求項11】 前記塗液容器の内部にある前記塗液か
    きとり部材に対して塗液の流れを当てることを特徴とす
    請求項9に記載の電子写真感光体の塗布方法。
  12. 【請求項12】 前記被塗布円筒体の前記塗液容器に対
    して相対的に移動する前から、前記塗液容器に前記塗液
    を供給することを特徴とする請求項10に記載の電子写
    真感光体の塗布方法。
  13. 【請求項13】 前記被塗布円筒体と前記塗液容器との
    相対移動速度が1(cm/sec)以上であることを特
    徴とする請求項9に記載の電子写真感光体の塗布方法。
  14. 【請求項14】 前記塗液の粘度が1(Pa・s)以上
    であることを特徴とする請求項9に記載の電子写真感光
    体の塗布方法。
  15. 【請求項15】 前記被塗布円筒体を塗布する直前又は
    塗布する最中に回転させることを特徴とする請求項9に
    記載の電子写真感光体の塗布方法。
  16. 【請求項16】 前記被塗布円筒体の回転速度が10r
    pm以上300rpmであることを特徴とする請求項1
    に記載の電子写真感光体の塗布方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112403844A (zh) * 2020-11-10 2021-02-26 盐城嘉诚塑胶有限公司 一种电缆保护管热浸处理***

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6885812B2 (en) * 2003-03-06 2005-04-26 Mks Instruments, Inc. System and method for heating solid or vapor source vessels and flow paths
KR100455652B1 (ko) 1999-09-06 2004-11-06 삼성전자주식회사 포지티브형 포토레지스트 막의 제조방법
JP4151216B2 (ja) 2000-01-26 2008-09-17 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 電子写真感光体の製造装置及び製造方法
TW200514120A (en) * 2003-10-10 2005-04-16 Fujitsu Ltd Light emission discharge tube, manufacture method of a light emission discharge tube, and protective film forming apparatus
JP4787041B2 (ja) * 2006-03-17 2011-10-05 株式会社リコー 塗膜形成装置
US10052792B2 (en) 2011-03-17 2018-08-21 Corning Incorporated Method and system for control of an axial skinning apparatus
JP2013008943A (ja) * 2011-05-25 2013-01-10 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 立体的回路基板の製造装置及び製造方法
FR2976518B1 (fr) * 2011-06-16 2014-04-11 Jean Noel Claveau Equipement pour la decoration d'un profile.
US9670809B2 (en) 2011-11-29 2017-06-06 Corning Incorporated Apparatus and method for skinning articles
US9132578B2 (en) * 2011-11-29 2015-09-15 Corning Incorporated Apparatus and method for skinning articles
JP6421948B2 (ja) * 2013-05-29 2018-11-14 コーニング インコーポレイテッド 軸方向表皮形成装置の制御方法および制御装置
JP2015051411A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 株式会社リコー 塗膜形成装置
US10611051B2 (en) 2013-10-15 2020-04-07 Corning Incorporated Systems and methods for skinning articles
US9239296B2 (en) 2014-03-18 2016-01-19 Corning Incorporated Skinning of ceramic honeycomb bodies
CN109701834B (zh) * 2018-11-19 2020-07-03 北京长城华冠汽车科技股份有限公司 涂胶装置
US20220362795A1 (en) * 2021-05-12 2022-11-17 Fujifilm Business Innovation Corp. Rectifying device, coating apparatus, coating method, and photoconductor manufacturing method
US20220362794A1 (en) * 2021-05-12 2022-11-17 Fujifilm Business Innovation Corp. Coating device, coating method, and method for manufacturing photoconductor

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5615866A (en) * 1979-07-17 1981-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of applying coating material to peripheral surface of cylindrical substrate
JPS6038982B2 (ja) * 1979-07-17 1985-09-04 松下電器産業株式会社 円柱形基体外周面への塗材塗布装置
JPS5615864A (en) * 1979-07-17 1981-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of applying coating material on peripheral surface of cylindrical-substrate
DE69124544T2 (de) * 1990-05-22 1997-09-11 Agfa Gevaert Nv Tauchbeschichtungsmaschine
US5422144A (en) * 1994-12-14 1995-06-06 Xerox Corporation Substrate coating method
US5707449A (en) * 1995-05-23 1998-01-13 Konica Corporation Ring-shaped coating apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112403844A (zh) * 2020-11-10 2021-02-26 盐城嘉诚塑胶有限公司 一种电缆保护管热浸处理***
CN112403844B (zh) * 2020-11-10 2021-09-07 盐城嘉诚塑胶有限公司 一种电缆保护管热浸处理***

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