JP3379916B2 - 高融点材料の溶融接合装置 - Google Patents

高融点材料の溶融接合装置

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JP3379916B2
JP3379916B2 JP09524799A JP9524799A JP3379916B2 JP 3379916 B2 JP3379916 B2 JP 3379916B2 JP 09524799 A JP09524799 A JP 09524799A JP 9524799 A JP9524799 A JP 9524799A JP 3379916 B2 JP3379916 B2 JP 3379916B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光線を用い
て石英ガラスおよびセラミック材料等の高融点材料を溶
融して接合する、さらに詳述すれば該高融点材料により
構成される容器を溶融して気密に密閉封止する溶融接合
方法およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ガラス材料やセラミック材料のような高
融点を有する材料を溶融させて、その高融点材料同士あ
るいは、金属等の異なる材料と溶接したり、真空密閉封
止を行う場合は、通常、熱源としてプロパン/酸素、水
素/酸素あるいはAr(アルゴン)アーク等を利用する
ガス溶接方法が用いられる。特に、石英ガラス製のラン
プ等を製作する場合、ランプの電極となるW(タングス
テン)/Mo(モリブデン)材料を、石英ガラス製容器
(ランプ)内に真空密閉状態に封止するために、石英ガ
ラス製容器をガスバーナで部分的に加熱溶融する必要が
ある。
【0003】しかし、ガスバーナの炎を先鋭に絞り込む
ことは難しく、加熱所望部分の周囲の加熱不要な部分ま
で加熱してしまう。さらに、炎を先鋭的に絞り込むこと
はできても、高融点材料であるセラミック等は熱伝導率
が高く、また熱伝導率が低い石英ガラスでも微細な精密
加工が要求される場合は、直接加熱部が所望の温度に達
した時には、周囲の非直接加熱部が熱伝導により間接的
に加熱されて著しく昇温されてしまう。このように、ガ
スバーナによる加熱では、直接加熱部とその周辺部分の
温度分布変化が緩慢になり、高融点材料の所望の部分の
みを局部的に加熱溶融することは非常に困難であるとい
う問題がある。
【0004】例えば、小型の高圧水銀ランプやメタルハ
ライドランプ等の製造において、ガラス管内に蒸気圧の
高い水銀等を真空密閉する必要がある。この場合、間接
加熱部の熱による水銀の蒸発を防ぐには、加熱対象部に
局部的に温度の高低差をつけなければならない。そのた
めには、直接加熱部の周辺を冷却すれば良いが、製造コ
ストおよび作業性の面で大いに問題がある。さらに、間
接加熱部の昇温を抑えるべく、ガスバーナによる加熱を
控えると溶融所望部を十分加熱できないばかりか、昇温
に時間をさらに要して、加熱対象部に局部的に温度の高
低差をつけることが非常に難しくなる。このように、ガ
スバーナによる加熱では、加熱対象部およびその周辺部
の温度制御可能範囲が小さく、封止工程自体が非常に困
難になる。その結果、ランプ生産の歩留りが確保できな
いという問題を抱えている。
【0005】図20に、このようなガスバーナ利用に起
因する問題を解決するために、特開昭55−24327
に提案されている、加熱手段としてレーザ光線を利用し
てフリットを溶融する溶融接合装置を模式的に示す。同
図において、WLCは、真空状態で密閉した容器内に、
反射板で囲まれるように設置された溶融対象物にレーザ
光線を照射して、フリットを溶融して高圧ナトリウムラ
ンプ等の放電灯を製造する溶融接合装置である。
【0006】レーザ溶融接合装置WLCは、通気口10
2を有する基板103を、パッキン105を介して容器
本体104に気密に取り付けて組み立てられた密閉容器
101を有する。密閉容器101の上部外周の一部に設
けられたレーザ透過窓106の外側には、レーザ装置1
07が設置されている。密閉容器101の上部には、密
閉容器101内の気圧を測定する圧力計108が設けら
れている。通気口102には通気管109が設けられて
いる。この通気管109の途中から分岐した分岐管10
9aには真空ポンプ110が開閉弁111を介して接続
されており、分岐管109bにはNe(ネオン)等の不
活性ガスが、弁装置113を介してガスボンベ112に
より供給される。
【0007】なお、被封止物115は、電極117aを
有する閉塞体118aと発光管116の上端部との間に
は、ガラスソルダーのような加熱溶融封止材119が介
装されている。同様に、電極117bを有する閉塞体1
18bと発光管116の下端部との間にも、加熱溶融封
止材119が介装されている。
【0008】基板103の中心軸に対して摺動かつ回転
自在に軸装されている二叉状の挟持部材114によっ
て、放電灯としての被封止物115は加熱溶融封止材1
19がレーザ透過窓106の光路上に位置するように着
脱自在に挟持される。密閉容器101内部には、レーザ
光路位置に沿って、間隙120を有する円弧状をなす反
射板121が被封止物115を外方から囲い込むように
設けられており、この反射板121は支持部材122に
よって昇降自在に設けられている。
【0009】被封止物115を挟持部材114に挟持し
た後に、開閉弁111を開弁し、真空ポンプ110を駆
動して密閉容器101内の空気を排気する。圧力計10
8によって、密閉容器101内が約0.0001Tor
r〜0.000001Torr程度の真空度に到達した
ことを確認後、開閉弁111を閉弁すると共に真空ポン
プ110の駆動を停止する。このようにして、被封止物
115の内部を真空にする。引き続き、レーザ透過窓1
06および間隙120を通して、同被封止物115の加
熱溶融封止材119にレーザ光を照射して、加熱溶融封
止材119を加熱溶融させ、先ず発光管116の上部と
閉塞体118aを封止する。
【0010】この時、レーザ光による熱エネルギーは被
封止物115を加熱すると共に、この時生じる輻射エネ
ルギーが反射板121で反射されて、相乗的に被封止物
115を加熱する。同時に、挟持部材114をゆっくり
回転させて、被封止物115と加熱溶融封止材119と
を均等に加熱溶着して、上端部側を密閉封止する。
【0011】次に、上端部側の封止を終えた被封止物1
15を反転して下端部の加熱溶融封止材119をレーザ
光路上に位置する。そして、開閉弁111を閉弁すると
共に、弁装置113を開弁し、圧力計108の指示を確
認して前述の不活性ガス(封入ガス)を約25Torr
程度まで、密閉容器101内に導入する。封入ガスの導
入が終了した時点で、上述の上端部側の密閉封止と同様
に、レーザ装置107のレーザ光によって、被封着物1
15の加熱溶融封着材119を溶融し、下端部側を密閉
封止して放電灯を完成する。
【0012】上述の加熱手段としてレーザ光線を利用し
てフリットを溶融する溶融接合装置が、さらに、特願昭
55−64338および特願昭56−42940にそれ
ぞれ提案されている。これらの装置においては、特開昭
55−24327に提案された溶融接合装置に、レーザ
照射により溶融させたフリットを押しつける押圧手段が
追加された構造を有するものである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開昭55−24327に提案されたレーザ加熱溶融装
置では、約0.0001Torr〜0.000001T
orr程度の真空度に保った密閉容器中に、封入ガスを
約25Torrまで充満させる必要がある。さらに、加
熱溶融封着材を溶融して、閉塞体118と被封着物11
5の端部に溶着させて密閉封止するが、加熱溶融封着材
119および閉塞体118は被封着物115の端部に単
に置かれているだけである。
【0014】つまり、このように加熱溶融封止材119
および閉塞体118の自重しか働かないので、加熱溶融
封着材119は溶融させれば自重により変形して垂れる
が、一方閉塞体118は溶融しないので変形しない。よ
って、加熱溶融封着材119と閉塞体118の間に隙間
無く両部材を溶着できない。これを防ぐために、閉塞体
118を加熱溶融封着材119と同時に溶融させても、
自重のみでは両者を隙間無く溶着することは非常に難し
く歩留まりを確保できない。さらに、閉塞体118や被
封着物115がセラミックのように低熱可塑性材料で作
られている場合は、両部材を隙間無く溶着することは実
質的に不可能である。
【0015】さらに、被封着物115や閉塞体118が
セラミック材料や石英材料に係わらず、常温の真空状態
下で封止を行うために、封止後の内圧が常圧より高くな
るように被封着物115を気密に密閉封止することは不
可能である。
【0016】また、真空容器中で、レーザ照射する場合
は、封入ガスを真空容器に充満させる必要がある。真空
密閉封止する物体が石英ガラス管の場合などは、管の外
と内側とに気圧差が存在しないと、完全に密閉すること
は非常に難しく、溶融しながら石英ガラス管を引っ張っ
て封止するという工程を経なければならない。さらに、
セラミックや石英ガラス管にしても、管の内圧を常圧よ
り高くして真空密閉することは、非常に困難である。
【0017】また、セラミック管材料と電極材料の接続
に使用されるサーメットとの溶接あるいは真空密閉封止
には、高周波の誘導加熱によってセラミック管材料やサ
ーメットを溶融させて、溶接あるいは真空密閉封止が行
われている。このような高周波誘導加熱においては、加
熱対象部にシャープな局部的温度勾配をつけることにつ
いては改善される。しかし、セラミック管材料やサーメ
ットは溶融させただけでは、互いに溶接させることは非
常に難しい。ましてや、真空密閉封止することは実質上
不可能である。一方、特願昭55−64338および特
願昭56−42940に提案された装置においては、被
封着物の開口端に閉塞体を押しつけての封止には適する
が、閉塞体を別途用いずに、被封着物自体で封止するこ
とは実際上不可能である。
【0018】
【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
課題を解決するために、この発明の溶融接合装置は、外
部を遮断した気密なグローブボックスと、前記グローブ
ボックス内に有する石英ガラスおよびセラミック材料の
いずれかによって構成された対象物と、前記グローブボ
ックスの外部に設置されたレーザ装置および集塵手段
と、前記対象物の内圧である第1の圧力を、前記グロー
ブボックス内の内圧である第2の圧力より小さく減圧保
持する内圧制御手段とを備え、グローブボックスの外部
にある前記レーザ装置から発せられたレーザ光により加
熱溶融された前記対象物の任意の部分が、前記第1の圧
力と前記第2の圧力の差圧によって収縮溶接され、かつ
前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を集塵手段で取り除
ものにおいて、前記対象物の所定の部分と前記レーザ
装置との間に、前記レーザ装置から発せられたレーザ光
を遮るように設けられたサセプタをさらに備え、前記サ
セプタは、前記対象物をその内部に含む環状であり、外
周で受けた前記レーザ光の熱エネルギーを内周から前記
対象物の所定の部分に向かって放射し、かつ、前記対象
物に対して自転させられ、前記レーザ光線により、より
均一に加熱されることを特徴とする。
【0019】また、溶融接合装置は、外部を遮断した気
密なグローブボックスと、前記グローブボックス内に有
する石英ガラスおよびセラミック材料のいずれかによっ
て構成された対象物と、前記グローブボックスの外部に
設置されたレーザ装置および集塵手段と、前記対象物の
内圧である第1の圧力を、前記グローブボックス内の内
圧である第2の圧力より小さく減圧保持する内圧制御手
段とを備え、グローブボックスの外部にある前記レーザ
装置から発せられたレーザ光により加熱溶融された前記
対象物の任意の部分が、前記第1の圧力と前記第2の圧
力の差圧によって収縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に
発生したゴミや塵を集塵手段で取り除くものにおいて、
前記対象物を部分的に冷却する冷却手段をさらに備え、
前記冷却手段は、冷風、冷水、および液体窒素等のいず
れかの冷媒を貯蔵する冷媒手段と、該冷媒手段から冷媒
を導入して、前記対象物の周囲を巻回後に該冷媒手段に
環流させる冷媒循環手段とをさらに備える。
【0020】また、溶融接合装置は、外部を遮断した気
密なグローブボックスと、前記グローブボックス内に有
する石英ガラスおよびセラミック材料のいずれかによっ
て構成された対象物と、前記グローブボックスの外部に
設置されたレーザ装置および集塵手段と、前記対象物の
内圧である第1の圧力を、前記グローブボックス内の内
圧である第2の圧力より小さく減圧保持する内圧制御手
段とを備え、グローブボックスの外部にある前記レーザ
装置から発せられたレーザ光により加熱溶融された前記
対象物の任意の部分が、前記第1の圧力と前記第2の圧
力の差圧によって収縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に
発生したゴミや塵を集塵手段で取り除くものにおいて、
加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
有する反射鏡をさらに備え、前記反射鏡は、積分球であ
ると共に、その内部に前記対象物の所定の部分が保持さ
れ、かつ、前記反射鏡には、その内部に前記対象物を挿
入する第1の開口部と、前記レーザ光を入射する第2の
開口部が少なくとも1つ設けられ、該第2の開口部から
入射された該レーザ光は積分球である該反射鏡の内部で
反射されて、該第1の開口部から挿入された前記対象物
の所定の部分を均等に照射加熱することを特徴とする。
これによれば、積分球である反射鏡に開口部を設けるこ
とによって、反射鏡の内部に対象物を保持すると共に、
保持された対象物に対してレーザ光を照射できる。
【0021】また、溶融接合装置は、外部を遮断した気
密なグローブボックスと、前記グローブボックス内に有
する石英ガラスおよびセラミック材料のいずれかによっ
て構成された対象物と、前記グローブボックスの外部に
設置されたレーザ装置および集塵手段と、前記対象物の
内圧である第1の圧力を、前記グローブボックス内の内
圧である第2の圧力より小さく減圧保持する内圧制御手
段とを備え、グローブボックスの外部にある前記レーザ
装置から発せられたレーザ光により加熱溶融された前記
対象物の任意の部分が、前記第1の圧力と前記第2の圧
力の差圧によって収縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に
発生したゴミや塵を集塵手段で取り除くものにおいて、
加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
有する反射鏡をさらに備え、前記反射鏡は、積分球であ
ると共に、その内部に前記対象物の所定の部分が保持さ
れ、かつ、前記反射鏡には、さらに、該反射鏡内部のダ
ストを吸引するための開口部が設けられたことを特徴と
する。これによれば、ダスト吸引のために設けられた開
口部から、反射鏡内部のダストを吸引排出することがで
きる。
【0022】また、溶融接合装置は、外部を遮断した気
密なグローブボックスと、前記グローブボックス内に有
する石英ガラスおよびセラミック材料のいずれかによっ
て構成された対象物と、前記グローブボックスの外部に
設置されたレーザ装置および集塵手段と、前記対象物の
内圧である第1の圧力を、前記グローブボックス内の内
圧である第2の圧力より小さく減圧保持する内圧制御手
段とを備え、グローブボックスの外部にある前記レーザ
装置から発せられたレーザ光により加熱溶融された前記
対象物の任意の部分が、前記第1の圧力と前記第2の圧
力の差圧によって収縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に
発生したゴミや塵を集塵手段で取り除くものにおいて、
加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
有する反射鏡をさらに備え、前記反射鏡は、積分球であ
ると共に、その内部に前記対象物の所定の部分が保持さ
れ、かつ、前記反射鏡の外周側に、冷却手段をさらに備
え、該反射鏡を冷却することを特徴とする。これによれ
ば、反射鏡の外周側に備えられた冷却器によって反射鏡
を冷却することによって、その内部で連続反射されたレ
ーザ光によって対象物が照射されて発生する高温から、
レーザ光に干渉すること無く反射鏡を保護できる。
【0023】
【0024】
【0025】
【0026】
【0027】
【0028】
【0029】
【0030】
【0031】
【0032】
【0033】
【0034】
【0035】
【0036】
【0037】
【0038】
【0039】
【0040】
【0041】
【0042】
【0043】
【0044】
【0045】
【0046】
【0047】
【0048】
【0049】
【0050】
【0051】
【0052】
【0053】
【0054】
【0055】
【0056】
【0057】
【0058】
【0059】
【0060】
【0061】
【0062】
【0063】
【0064】
【0065】
【0066】
【0067】
【0068】
【0069】
【0070】
【0071】
【0072】
【0073】
【0074】
【0075】
【0076】
【0077】
【0078】
【0079】
【0080】
【0081】
【0082】
【0083】
【0084】
【0085】
【0086】
【0087】
【0088】
【0089】
【0090】
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】
【0096】
【0097】
【0098】
【0099】
【0100】
【0101】
【0102】
【0103】
【0104】
【0105】
【0106】
【0107】
【0108】
【0109】
【0110】
【0111】
【発明の実施の形態】図面を参照しながら、以下に本発
明にかかる溶融接合方法およびその装置について説明す
る。
【0112】(第1の実施形態)図1に示すブロック図
を参照して、本発明の第1実施形態にかかる溶融接合装
置について説明する。同図においては、溶融接合装置W
LP1内部に、溶融接合あるいは気密に密閉封止される
石英ガラス材料あるいはセラミック材料で構成された真
空容器3が設置されている例が示されている。溶融接合
装置WLP1は、外気を遮断した気密なグローブボック
ス1を有する。グローブボックス1には、真空ポンプ1
0を介して窒素ガスあるいは希ガス等の不活性ガスが蓄
えられたガスボンベ11が気密に接続されて、グローブ
ボックス1内に不活性ガスが所定の圧力で注入される。
なお、グローブボックス1には、調圧弁28が設けられ
て、グローブボックス1内の圧力P2は、外気圧P3よ
り多少高めの範囲(P3<P2<P3+△P<P4)に
保持される。なお、△Pは、数cmWater圧力であ
り、P4はグローブボックス1の耐圧力である。このよ
うに、真空ポンプ10、ガスボンベ11、および調圧弁
28でグローブボックス内圧調整機構GPRを形成して
いる。
【0113】グローブボックス1には、不活性ガスを精
製する精製機30が設けられている。雰囲気ガス精製機
30は取り込みパイプPiおよび戻しパイプPrによっ
て、グローブボックス1内に気密に接続されている。雰
囲気ガス精製機30は取り込みパイプPiを通して、グ
ローブボックス1内の雰囲気ガスを取り込み、水分吸着
剤等によって、取り込まれた雰囲気ガスに含まれている
水分等の不純物を除去した後、戻しパイプPrを通して
グローブボックス1内に環流する。これによりグローブ
ボックス1内の雰囲気ガスは、水分の非常に少ない低露
点状態に保たれる。このように、雰囲気ガス精製機3
0、取り込みパイプPi、戻しパイプPrによって、グ
ローブボックス雰囲気精製機構GARを形成している。
【0114】グローブボックス1の外側には、レーザ装
置2が、そのレーザ光Lの光軸が内部に設置された真空
容器3の側面に対して概ね垂直をなすように設置されて
いる。レーザ装置2としては、通常、YAGレーザ、エ
キシマレーザやCO2 レーザを用いる。レーザ装置2か
ら放射されたレーザ光線Lが集光レンズ6によって、真
空容器3の側面に集光できるように、レーザ光Lの光軸
を遮るようにレーザ光窓5がグローブボックス1の側面
に設けられている。なお、集光レンズ6およびレーザ光
窓5の構成材料としては、レーザ光Lの波長に応じて、
レーザ光Lを良く透過する物質が適宜選択される。
【0115】一例として、YAGレーザおよびエキシマ
レーザでは、そのレーザ波長が1.06μm近傍である
ため、レーザ光窓5の材料としては石英ガラスを用いる
ことができる。一方、CO2 レーザでは、その波長が1
0.6μmであるため、殆どの物質が光エネルギーを吸
収してしまうため、レーザ光窓5の材料はZnSe(セ
レン化亜鉛)やGe(ゲルマニウム)等に限定される。
一方、真空容器3は、レーザ光Lを良く吸収する材料が
好ましいので、YAGレーザやエキシマレーザを用いる
場合は、レーザ光Lを透過する石英ガラス材料では無
く、レーザ光Lを吸収するセラミック材料あるいは金属
材料で構成されねばならないことは言うまでも無い。さ
らに、CO2 レーザの場合は、ZnSeやGe以外の殆
どの材料で構成できる。しかし、実際的には集光レンズ
6を構成するZnSe(セレン化亜鉛)を主成分とする
材料が、レーザ光窓5の材料として選択される。Ge
(ゲルマニウム)もレーザ光窓5の材料として使用可能
であるが、毒性が強いうえに可視光を透過しないので、
ZnSe材料が望ましい。
【0116】グローブボックス1のレーザ光窓5の反対
側の位置には、レーザ光窓5と同様にレーザ光Lの光軸
を遮るようにレーザ吸収体2dが設けられている。レー
ザ吸収体2dにはグローブボックス1の外部に設けられ
た冷却装置(図示せず)が接続されて冷却されている。
通常、冷却装置は内部に配管された銅製の冷却パイプに
冷却水を流すように構成される。なお、レーザ吸収体2
dは、図4に示すように、漏れレーザ光L’を効果的に
吸収するように三角樋状に構成される。
【0117】レーザ装置2から出射したレーザ光Lは、
レーザ光窓5の手前に設けられた集光レンズ6の焦点に
集光され、その後ビーム径は広がる。したがって、集光
レンズ6を光軸に沿って移動させてデフォーカスするこ
とによって、真空容器3を溶融させるためにレーザ光L
を照射する部分4の大きさを任意に調節できる。
【0118】さらに、グローブボックス1は、外部に設
けられた真空ポンプ20と真空排気管7を介して気密に
接続されている。グローブボックス1内に設置された真
空容器3の一方の端部は、この真空排気管7と気密に接
続されて、圧力制御装置21によって駆動される真空ポ
ンプ20によって吸引される。真空容器3の内部圧力P
1が、グローブボックス1の内圧P2以下の所定圧まで
減圧された時点で、圧力制御装置21は真空ポンプ20
を停止させる。このように、真空排気管7、真空ポンプ
20、および圧力制御装置21は、真空容器の減圧機構
VPRを形成している。
【0119】上述の如く準備された溶融接合装置WLP
1において、レーザ装置2からレーザ光Lを真空容器3
に対して照射すると、照射部4は瞬時に昇温されて溶融
点に達する。真空容器3の内圧P1は、グローブボック
ス1の圧力P2より小さいので、レーザ照射による溶融
部4の周囲から中央部に向けて働く押圧力P2−P1に
よって、溶融部4がシュリンク(縮小)する。結果、溶
融部4は中央部で互いに接合して、真空容器3の端部を
気密に封止する。この場合、図1に示すように、真空容
器3がランプ等である場合には、その内部に挿入されて
いる電極棒8の周囲の側壁を溶融させれば、電極を気密
に封止することができる。
【0120】レーザ装置2から照射されたレーザ光Lの
一部L’は真空容器3の溶融に使用されずに、レーザ光
窓5の反対側のグローブボックス1に向かって漏れ出
す。この漏れ出たレーザ光L’を吸収体2dによって熱
エネルギーとして吸収し、その熱エネルギーを冷却装置
でグローブボックス1の外部に排出する。このようにし
て、真空容器3の溶融接合に使用されなかった余分なレ
ーザ光L’によるグローブボックス1自身の損傷を防止
できる。
【0121】図2に、図1に示した溶融接合装置WLP
1の変形例について説明する。本例における溶融接合装
置WLP1’は図1に示した溶融接合装置WLP1と略
同様の構成を有するが、さらに、真空容器3の回転軸に
沿って回転自在に挟持する挟持器40および、挟持器4
0を回転させる回転モータ41が好ましくはグローブボ
ックス1内に設けられている。レーザ光Lを照射して真
空容器3を加熱溶融させる際に、レーザの照射部分4の
熱分布を均一化させるために、真空容器3をレーザ光L
の光軸に対して垂直な軸に沿って回転させる。このよう
に、挟持器40および回転モータ41は、真空容器3の
回転機構VRを形成している。なお、簡便化のために、
グローブボックス内圧調整機構GPR、グローブボック
ス雰囲気精製機構GAR、および真空容器減圧機構VP
Rは図示されていない。
【0122】以下に、図3を参照して、前述の溶融接合
装置WLP1’における真空排気管7とグローブボック
ス1との気密性保持構造について説明する。真空排気管
7の周囲とグローブボックス1の内周部の間に設けられ
た摺動O−リング33によって、真空排気管7とグロー
ブボックス1の回転摺動部での気密性が保たれる。さら
に、真空排気管7の回転を助けるために、グローブボッ
クス1の内周壁下部に設けられた雌ねじ部44に嵌合す
る雄ねじ部45を有するローラベアリング46が設けら
れている。なお、上述の如く、グローブボックス内圧調
整手段によって、不活性ガスの導入および排気が行われ
て、グローブボックス1の内部は所定圧P2に保たれ
る。なお、図2に示した例では、溶融接合装置WLP
1’は、真空容器3の回転手段をグローブボックス1内
に設けて真空容器3を回転させるようにしているが、グ
ローブボックス1の外部に設けて真空排気管7を回転さ
せるように構成しても良い。
【0123】(第2の実施形態)図5に、本発明の第2
実施形態にかかる溶融接合装置を示す。本例における溶
融接合装置WLP2は、図1に示した溶融接合装置WL
P1と同様の構造を有する。同図においても、グローブ
ボックス内圧調整機構GPRおよびグローブボックス雰
囲気精製機構GARは簡便化のために図示されていな
い。ただし、真空容器減圧機構VPRの代わりに、互い
に対向するチャックC1およびC2を有する両旋盤50
がグローブボックス1内に設けられている。チャックC
1およびC2はそれぞれ、矢印Dpで示された互いに対
向する方向に自由に移動できる。さらに、チャックC1
およびC2は、矢印Drで示すようにDp方向を回転軸
としてその周囲方向に自由に回転することができるの
で、図2で述べた真空容器回転機構VRと同じ機能も有
している。チャックC1およびC2のそれぞれには、接
合物3C1および3C2が、それらの間に接着材料であ
る中間フリット9を挟持して取り付けられる。
【0124】このように構成された溶融接合装置WLP
2において、第1実施形態におけるのと同様に、回転あ
るいは静止している接合物3C1および3C2との接合
部にレーザ光Lを照射して、中間フリット9が溶融した
時点でチャックC1およびC2をDp方向に互いに接近
するように移動させて、接合物3C1および3C2を互
いに押しつけて、溶融した中間フリット9によって溶着
接合させる。
【0125】このように、本実施形態では、両旋盤50
によって、それぞれ別個の接合物3C1および3C2を
溶融した中間フリット9に押しつけることによって、互
いに接合するので、接合物3C1および3C2がセラミ
ック材料のような低熱可塑性材料で構成されている場合
に適している。
【0126】セラミック材料同士を接合させる時、中間
フリット9はCaO−Al23、CaO−Al23−S
iO2 、MgO−Al23−SiO2 等で形成されるが
好ましい。これらの中間フリット9は、1000℃から
1500℃ほどで溶融できるので、レーザ光Lを受光後
数秒で所定の溶融温度まで昇温される。上述のように、
レーザ光Lの波長を適切に選ぶことによって、従来のよ
うにフリット9内に金属を添加しなくても、中間フリッ
ト9単体だけでレーザ光Lのエネルギーを吸収できるた
め、誘電体材料を中間フリット9として用いることもで
きる。
【0127】また、接合物3C1および3C2として、
第1実施形態で用いた石英ガラス材料で構成された真空
容器3を用いると共に、中間フリット9として石英ガラ
スを用いてそれらを溶融接合できることは言うまでも無
い。
【0128】(第3の実施形態)図6に、本発明の第3
実施形態にかかる溶融接合装置を示す。本例における溶
融接合装置WLP3は、図1に示した溶融接合装置WL
P1と同様の構造を有する。同図においても、簡便化の
ために、グローブボックス内圧調整機構GPR、グロー
ブボックス雰囲気精製機構GAR、および真空容器減圧
機構VPRは図示されていない。ただし、真空容器3の
端部を冷却する冷却装置13が新たに設けられている。
冷却装置13は、グローブボックス1の外部に設けられ
た、冷風、冷却水あるいは液体窒素等の冷媒RFを貯蔵
する冷媒タンク(図示せず)に接続されて、同冷媒RF
を流動させる冷却パイプ13Pを真空容器3の端部の周
囲に配管して構成されている。
【0129】このように構成された溶融接合装置WLP
3においては、第1実施形態におけるのと同様に、回転
あるいは静止している真空容器3にレーザ光Lを照射し
て、照射部4が溶融した時点で、真空容器3とグローブ
ボックス1の内圧差P2−P1によって、溶融部4がシ
ュリンクして密閉封止される。この場合、真空容器3の
端部に溶融部4の熱が伝導しても、冷却装置13によっ
て十分冷却されているので、真空容器3の端部に封入さ
れた水銀等の高蒸気圧材料14を蒸発させること無く、
真空容器3の密閉封止ができる。
【0130】以下に、図7を参照して、Xe(キセノ
ン)ガスを高圧(大気圧以上の圧力)に封入した真空容
器3を密閉封止するための溶融接合方法およびその装置
に付いて以下に説明する。同図に、上述の第3実施形態
にかかる溶融接合装置WLP3の変形例を示す。本例に
おける溶融接合装置WLP3’では、冷却装置13に
は、冷却パイプ13Pの代わりに、冷媒を貯蔵する冷却
タンク13Tが真空容器3の端部の周囲を覆うように設
けられている。この冷却タンク13Tは、導入ポート1
8によって外部に設けられたバルブ19を介して、これ
も外部に設けられた冷媒タンク(図示せず)に接続され
ている。
【0131】このように構成された溶融接合装置WLP
3’において、冷却タンク13Tに冷媒として液体窒素
を蓄えて、真空容器3の端部を液体窒素に浸漬させて冷
却しながら、回転あるいは静止している真空容器3にレ
ーザ光Lを照射して、照射部4を溶融させて密閉封止す
る。なお、キセノンの融点は−111.9℃であり、そ
の沸点は−108.1℃である。一方、窒素の融点−2
09.86℃であり、その沸点は−195.8℃であ
る。それ故に、真空容器3の端部は、冷却タンク13T
に蓄えられた液体窒素によって−209.86℃に冷却
されているので、真空容器3の端部には、封入されたキ
セノンガスが液化あるいは固化されて蒸気圧を殆どゼロ
にすることができる。したがって、石英ガラス管3内が
減圧状態になるため、レーザ光Lによって溶融されると
石英ガラス3は内側に向かってシュリンクし、気密に密
閉封止ができる。
【0132】図7に示すように、液体窒素RFをグロー
ブボックス1外部から導入し、冷却タンク13Tに充填
する。そして、石英ガラス等の溶融サンプル3で蒸気圧
の高い物質16を所有している部分15を浸漬するよう
に構成する代わりに、直接熱を加えたくない部分に液体
窒素などの冷媒RFを吹き付けるようにノズルを設けて
も良い。
【0133】グローブボックス1の内部への導入ポート
18は、通常はバルブ19で外気とは遮断できるように
しておく。また図1に示したのと同様に、グローブボッ
クス1は設定された圧力に維持するための調圧弁28が
設けられているため、内部の圧力が上昇することも無
い。またグローブボックス1内は水分を可能な限り除去
した露点の低い状態に保っているが、前述のような液体
窒素RFを流すことによって、外気とグローブボックス
1内の雰囲気は接触することが無く、グローブボックス
1内の露点が悪化することは無い。むしろ液体窒素など
は極低温の冷媒RFであるため、グローブボックス1内
の水分が固化し、グローブボックス雰囲気精製機構GA
Rにより循環精製により外部へ排出されて、グローブボ
ックス1内の露点が向上する。
【0134】以上のようなレーザ光を利用した溶融接合
方法およびその装置により、気密密閉を行う封止工程を
取れば、水分の混入は基本的に無くなり、ランプ等の寿
命特性は大幅に改善する。
【0135】(第4の実施形態)図8に、本発明の第4
実施形態にかかる溶融接合装置を示す。本例における溶
融接合装置WLP4は、図1に示した装置WLP1と同
様の構造を有する。本実施形態においては、グローブボ
ックス1は隔壁35と真空用Oリング39によって、真
空排気部34と本来のグローブボックス部1’とに気密
に区切られている。同図においては、簡便化のために図
示されていないが、グローブボックス内圧調整機構GP
R、およびグローブボックス雰囲気精製機構GARは本
来のグローブボックス1’に接続されている。隔壁35
には、ガス導入ポート32が設けられて、グローブボッ
クス部1’から不活性ガスを真空排気部34内に導入で
きる。
【0136】真空排気部34では、集光レンズ6が外部
に設けられたレーザ装置2の光軸を遮るように、真空排
気部34のグローブボックス1の側壁に設けられてい
る。レーザ装置2から照射されたレーザ光Lを反射して
焦点上に結ぶように、集光レンズ6から内部に向かって
反射鏡37がレーザ光Lの光軸方向に延在している。セ
ラミック材料で構成された真空容器3が、その封止部の
中間フリット9が集光レンズ6の焦点上に略位置するよ
うに固定されている。なお、封止部は真空容器3の端部
に、セラミック材料製の蓋3Lが、セラミック製の中間
フリット9を介して載せられている。
【0137】さらに、真空排気部34は排気弁43を介
して真空ポンプ36に接続され、さらに真空排気部34
の内部圧を測定する真空計38が設けられている。この
ようにして、排気弁43、真空排気部34、真空ポンプ
36、および真空計38によって、上述の真空容器減圧
機構VPRが構成されている。
【0138】このように構成された溶融接合装置WLP
4において、先ず、排気弁43を開けて真空ポンプ36
を駆動し、真空排気部分34内のガスを真空排気する。
その後、排気弁43を閉めてガス導入ポート32を開い
て、グローブボックス部1’内の不活性ガスを、真空計
38でガス圧を確認しながら真空排気部34内に導入す
る。真空排気部34内のガス圧力が所定圧P1に達した
時点で、真空ポンプ36を閉じる。なお、本例では、真
空排気部34にグローブボックス部1’内の不活性ガス
を導入したが、それと異なるガスを導入する必要がある
場合には、グローブボックス内圧調整機構GPRに相当
する異なるガスの供給源を真空排気部34に接続すれば
良い。
【0139】次に、レーザ装置2から所定のビーム幅に
拡大、縮小したレーザ光Lを集光レンズ6を介して反射
鏡37に照射する。反射鏡37の焦点に設置された溶融
部分は均一に熱エネルギーを受けた封止部分、つまり中
間フリット9を含む真空容器3、およびセラミック材料
製の蓋3Lで構成される部分を均一に溶融することが可
能になる。この時隙間無く密閉溶着を確実にするため
に、図5に示した旋盤50を用いて、真空容器3を回転
しながらセラミック管3の軸方向に加圧する。
【0140】(第5の実施形態)図9に本発明の第5実
施形態にかかる溶融接合装置を示す。本例における溶融
接合装置WLP5は、図1に示す溶融接合装置WLP1
と同様の構成を有しているが、さらにグローブボックス
1の外部に、集塵機25aを格納する集塵室25が設け
られている。集塵室25には、グローブボックス1内に
気密に接続されている吸気パイプ22iと排気パイプ2
2oがそれぞれ接続されている。吸気パイプ22iはそ
の端部がグローブボックス1内の真空容器3の溶融部4
の近傍に位置されており、排気パイプ22oの端部はグ
ローブボックス1内の任意の場所に位置されている。集
塵室25内の吸気パイプ22iの途中に設けられた循環
ポンプ23によって、吸気パイプ22iは溶融部4の近
傍の雰囲気ガスを吸引して、集塵機25aに送り込む。
【0141】集塵機25aの中に設けられたフィルタ2
4によって、吸引された雰囲気ガスに含まれるゴミや塵
などの物質は除去されて、排気パイプ22oを通して清
浄な雰囲気ガスがグローブボックス1内に戻される。こ
のようにして、石英ガラス等の被接合物3を溶融温度位
まで加熱してやると、シリカ状の小さい粉末が蒸発物E
vとして発生し、グローブボックス1内部が非常に汚れ
てしまい、さらには蒸発物Evによってレーザ光窓5が
汚れる。しかし、上記の構成によれば真空容器3に届く
レーザ光Lのエネルギーが減衰されるという不具合を改
善できる。また、集塵室25はグローブボックス1と隔
離されているので、グローブボックス1を空気中に暴露
すること無くフィルタ24を交換できる。
【0142】(第6の実施形態)図10に本発明の第6
実施形態にかかる溶融接合装置を示す。本例における溶
融接合装置WLP6は、図1に示す溶融接合装置WLP
1と同様の構成を有しているが、レーザ光窓5および集
光レンズ6の代わりに可動式集光レンズ6Mが設けられ
ていると共に、レーザ吸収体2dの表面に、出力モニタ
26がさらに設けられている。
【0143】つまり、第1実施形態においては、集光レ
ンズ6はグローブボックス1の外に設置されているが、
グローブボックス1に設けられているレーザ光窓5も集
光レンズと同一の材料を使用する必要がある。この点に
鑑みて、モータ27によって集光レンズ6をレーザ光L
の光軸に沿ってDL方向に、グローブボックス1に対し
て気密に動くように構成し、しかも窓材料5としても兼
用にしたものが可動式集光レンズ6Mである。さらに、
レーザ入射した反対側のレーザ吸収体2d上に、出力モ
ニタ26を設置して、漏れレーザ光L’の出力をモニタ
したモニタ信号をレーザ入力電源2bあるいは、可動式
集光レンズ6Mの駆動モータ27にフィードバックし
て、安定した溶融条件で対象物3の加熱が可能になり、
歩留まりも向上する。
【0144】以上に述べたように、レーザ装置2の投入
パワー、照射時間または集光レンズ6の位置を調整する
ことにより、数秒という短時間で、真空容器3の溶融接
合および気密な密閉封止が可能である。したがって、希
ガスや窒素ガスと言う不活性雰囲気のグローブボックス
1内部で加熱溶着作業を行うため、蒸気圧の高いメタル
ハライドを石英ガラス管3内への密閉封止や、酸化を極
端に嫌う材料などを石英ガラス管3内への密閉封止が容
易にできるようになる。
【0145】真空容器3として石英ガラスやセラミック
等の高融点の誘電体材料の接合について説明したが、酸
化を嫌う金属(例えばMo、W等)の接合にも有用であ
ることは言うまでも無い。また、酸化を防止するために
不活性ガス雰囲気中ばかりでなく真空中でも同様に溶融
接合できる。
【0146】しかも、集光レンズ6Mの焦点位置を動か
すことでレーザ光Lをデフォーカスし、照射部分の大き
さを調整することにより、種々の大きさの溶融対象部を
溶融することが可能である。またレーザ光Lの集光性が
良いので、溶融対象物のレーザ光Lを照射された部分の
狭い領域で温度勾配をつけることができる。したがっ
て、金属あるいは誘電体の区別無く溶接部分だけを局部
的に加熱でき、溶融させたくない部分への熱的影響を極
力抑えることができる。
【0147】また電気炉とちがって、レーザ光照射では
瞬時に高温を得られるので、溶融箇所以外への熱的ダメ
ージを最小にできる。また、グローブボックス1内の不
活性雰囲気の温度調整も気にする必要も無い。さらに、
光エネルギーを供給するレーザ装置本体をグローブボッ
クスの外に設置しているので、グローブボックス自体の
改造の必要性も低減できる。
【0148】(第7の実施形態)以下に、図11を参照
して、本発明の第7の実施形態にかかる溶融接合装置に
ついて説明する。溶融接合装置WLP7において、レー
ザ装置2はそのレーザ光Lの光軸が、石英ガラス管20
1の長手方向Dvに対して概ね垂直に設置される。同図
に示すように、石英ガラス管201は、その長手方向D
vに対してほぼ対称な形状を有している。石英ガラス管
201は、さらにその中央部において長手方向Dvに対
して垂直な平面に対してもほぼ対称な形状を有してい
る。そして、石英ガラス管201はその中央の球形状の
バルブ部212内に2つの放電電極203aおよび20
3bが、既知の方法によって、長手方向Dvに沿って、
互いに対向して保持されている。
【0149】石英ガラス管201は、バルブ部212に
よって、その長手方向Dvに関して、第1電極部208
aと第2電極部208bに区別される。第1電極部20
8a内では、真空密閉用のMo(モリブデン)箔204
aが放電電極203aに接続され、外部電極接続用端子
205aがMo箔204aに接続されている。同様に、
第2電極部208bには、放電電極203bに真空密閉
用のMo(モリブデン)箔204bが接続され、外部電
極接続用端子205bがMo箔204bに接続されてい
る。
【0150】なお、同図においては、第1電極部208
aは既に真空密閉封止が行われており、開放端部側の第
2電極部208bを封止する場合の例を示している。し
かし、以下に説明する方法にて、第1電極部208aお
よび第2電極部208bの両端が開放されている場合に
も、本発明は同様に有効である。
【0151】また、上述のように、各構成要素に関し
て、電極部208であれば、第1電極部208aおよび
第2電極部208bのように、電極部を表す符号208
に、第1あるいは第2の電極部であるかを個々に識別す
る接尾辞aあるいはbを付して区別している。さらに、
第1電極部208aおよび第2電極部208bのそれぞ
れに属する放電電極203、Mo箔204、および外部
電極接続用端子205に関しても接尾辞aあるいはbを
付して、それぞれが第1電極部208aに属するものか
第2電極部208bに属するものかを識別している。
【0152】しかしながら、特に区別する必要が無い場
合には、以降は、接尾辞を付さずに、例えば、単に20
8、203、204、および205とのみ表すものとす
る。これら以外に、本明細書において、接尾辞を付して
識別される前述および後述の各要素において、同様に接
尾辞を付さずに表現されている時は、省略された接尾辞
による個々の区別をしないことを表しているものとす
る。
【0153】溶融接合装置WLP7は、石英ガラス管2
01の開放端部に気密に接続される真空排気管206を
含む。真空排気管206には、希ガスを蓄えたガスボン
ベ301が開閉弁305を介して接続され、真空ポンプ
303が開閉弁306を介して接続され、そして、調圧
弁308が接続されている。このように、真空排気管2
06、ガスボンベ301、真空ポンプ303、開閉弁3
05、開閉弁306、および調圧弁308によって、図
1に示した減圧機構VPRに類似した減圧機構VPR’
が構成されている。
【0154】溶融接合装置WLP7には、さらに、石英
ガラス管201のレーザ光Lが照射さている照射部20
7の温度を計測する光高温計250が設けられている。
光高温計250は計測した温度を示す温度信号Stを生
成して、レーザ装置2にフィードバックする。レーザ装
置2は、温度信号Stに基づいて、石英ガラス管201
の照射部207が所定の温度Tpに到達するまで、レー
ザ光Lを照射して加熱する。
【0155】以下に、溶融接合装置WLP7における石
英ガラス管201の封止動作について述べる。先ず、石
英ガラス管201の第2電極部208bの開放端を、減
圧機構VPR’の真空排気管206に気密に接続する。
次に、開閉弁306を開くと共に、真空ポンプ303を
稼働させて、減圧機構VPR’の内圧P5を外気圧P3
より低い第1の所定圧P5aに到達した時点で、開閉弁
306を閉めて真空ポンプ303を停止する。なお、真
空排気管206で気密に減圧機構VPR’に接続されて
いる石英ガラス管201の内圧もP5であることは言う
までも無い。
【0156】次に、開閉弁305を開くと共に、ガスボ
ンベ301を開いて、減圧機構VPR’内に希ガスを注
入して、減圧機構VPR’の内圧P5が外気圧P3より
低い第2の所定圧P5bに到達した時点で、開閉弁30
5を閉める。なお、減圧機構VPR’の内圧P5は、調
圧弁308によってモニタして、そのモニタ結果に基づ
いて、ガスボンベ301、真空ポンプ303、開閉弁3
05および開閉弁306を制御することによって、それ
ぞれ、第1の所定圧P5aおよび第2の所定圧P5b
(P5a<P5b<P5)に設定できる。
【0157】上述のように、第2の所定圧P5bで希ガ
スが注入された石英ガラス管201の第2電極部208
bを封止するために、レーザ装置2を長手方向Dvに運
動させて、照射部207にレーザ光Lを照射すると共
に、照射部の加熱温度を光高温計250でモニタする。
そして、石英ガラス管201が溶融する所定の温度Tp
まで照射部207が加熱する。なお、レーザ装置2を長
手方向Dvに運動させる代わりに、石英ガラス管201
を運動させても良い。
【0158】照射部207が溶融温度Tpに達すると、
石英ガラス管201の内圧P5は、加熱により第2の所
定圧P5bより高めの圧力P5b’になるが、それでも
外気圧P3に比べて大幅に減圧されている。そのため、
照射部207がレーザの熱で溶融して軟化すると、大気
圧P3との差圧(P3−P5b’)によって、石英ガラ
ス管201の照射部207を構成する壁部は、内側にシ
ュリンクされて、互いに押しつけられる。そして、時間
の経過と共に溶融した照射部207の壁部は互いにが溶
融接合されて、その間に放電電極203b、Mo箔20
4b、および外部電極接続用端子205bを挟み込んだ
状態で、石英ガラス管201が真空密閉封止される。
【0159】石英ガラスを溶融する場合は、レーザ装置
202には、波長が10.6μmであるCO2 レーザが
適している。つまり、10.6μm波長のレーザであれ
ば、石英ガラスでもエネルギーを吸収でき、1ccの石
英ガラスを溶融するのに、300WのCO2 レーザを数
秒から1分程度照射すれば十分である。また通常のソー
ダガラス、硼珪酸ガラスであれば、波長808nm、9
15nm等の高出力(500W以下)半導体レーザ等小
型の物を用いれば、システムはより簡略できる。
【0160】図12を参照して、溶融接合装置WLP7
の変形例について説明する。溶融接合装置WLP7’に
おいては、石英ガラス管201とレーザ装置202を長
手方向Dvに相対的に移動させながら、レーザ光Lを照
射している。しかし、石英ガラス管201の照射部20
7を均一に溶融させるためには、ガラス管を長手方向D
vに沿ってDr方向に回転させながらレーザ光Lを照射
すると径方向に関して均一加熱でき、形状が精度良く封
止できる。この目的のために、本変形例にかかる溶融接
合装置WLP7’は、減圧機構VPR’(視認性のため
に図示せず)の真空排気管206の開放端部側内部に、
摺動Oリング210を介して、片旋盤209を気密に接
続している。石英ガラス管201の開放端が、真空排気
管206の代わりに片旋盤209に気密に接続される。
【0161】このように、石英ガラス管201を片旋盤
209によって、Dr方向に回転させながら、レーザ光
Lを照射部207に照射する以外は、溶融接合装置WL
P7’における動作は、上述の溶融接合装置WLP7に
おける動作と同じであるので、説明を省く。ただし、レ
ーザ光Lの照射幅は、ガラス管201の径より、広く取
り、できるだけ均一に照射できるようにする。回転数は
遅すぎると均熱化の度合いが悪くなるが、早すぎるとガ
ラス管が捩れてしまうため、ガラス管の重量に応じて適
切な回転条件を設定する必要がある。
【0162】本例においては、片旋盤209を使用して
石英ガラス管201を回転させているが、両旋盤を使用
しても基本的に問題は無い。さらに、真空排気しながら
の例を示しているが、第2電極部208bを予め仮封止
し、ガラス管内を減圧状態にした状態で、本封止のレー
ザ溶融の工程に入って第2電極のMo箔部分204bを
封止しても良い。
【0163】次に、図13および図14を参照して、石
英ガラス管201の外形を整えたり、Mo箔204と石
英ガラス管201との封止密着力を強くするために、レ
ーザ光Lで照射部207を溶融させた後に、整形型で溶
融部を加圧整形する実施例について説明する。
【0164】図13に、同例における溶融接合装置WL
P7aの側面図を示す。なお、溶融接合装置WLP7a
は、図11および図12に示した溶融接合装置WLP7
および溶融接合装置WLP7’に一対の整形型211お
よび211’を含む整形装置(図示せず)が新たに設け
られた構成を有している。それ故に、視認性のために、
図13においては、減圧機構VPR’および光高温計2
50が省略されている。また、作図上の理由により、レ
ーザ装置2が石英ガラス管201に対して、斜め方向に
設置されているように表されているが、レーザ装置2は
石英ガラス管201の長手方向Dvに対して概ね垂直に
設置されている。
【0165】図14に、図13にその側面を示した溶融
接合装置WLP7aの平面図を示す。Mo箔204が一
対の整形型211および211’の押圧面に対して概ね
平行になるように、石英ガラス管201は設置される。
そのため、レーザ光Lが整形型211や211’で遮ら
れることは無いので、レーザ光Lの反射だけを注意すれ
ば良い。そのためには、例えば、圧接工程に入った時に
レーザ光Lの照射を停止し、整形型211および21
1’などでレーザ光Lが反射されて作業者等に影響を及
ぼさないようにすれば良い。
【0166】通常、石英ガラスで形成される放電ランプ
や、ハロゲンランプの電極203は、Mo箔204と石
英ガラス管201との圧着溶接により真空密閉封止され
る。金属(放電電極203および外部接続用端子20
5)の熱膨張係数は、石英(石英ガラス管201)の熱
膨張係数に比べて著しく大きい。そのため、完成された
ランプが使用時に高温になると、熱膨張の小さい石英ガ
ラス管201で固定されている熱膨張の大きな放電電極
203aおよび放電電極203bは互いに相手側に向か
って伸張するため、この伸張を薄いMo箔204の塑性
変形を利用し緩和している。図13および図14に示す
ように、レーザ光Lを一方向から照射し、圧接するため
の整形型211および211’を石英ガラス管201の
両側に設置する。なお一対の整形型211および21
1’は互いに向かってDc方向に移動して、間に設置さ
れた石英ガラス管201の電極部208の封止部(照射
部207)を押しつけ合って圧接する。
【0167】従来のガスバーナを使用する場合は、溶融
するためのバーナヘッドを溶融部分近傍に設置する必要
があるため、圧接の工程に入る時に、バーナを一旦移動
させる必要があった。しかし、本実施例におけるよう
に、レーザ光Lを使用すると、熱源部分であるレーザ装
置2を石英ガラス管201近傍から移動させる必要がな
いため容易に圧接工程に移行できる。したがって可動部
分のシステムが簡略できる。
【0168】(第8の実施形態)図15を参照して、本
発明の第8の実施形態にかかる溶融接合装置について説
明する。本実施形態にかかる溶融接合装置WLP8は、
セラミックの溶接あるいは真空密閉封止に適している。
溶融接合装置WLP8は、上述の減圧機構VPR’(視
認性のため、図示せず)に気密に接続された真空容器2
14を含む。真空容器214には、レーザ光窓218が
設けられ、真空容器214の外部に設けられたレーザ装
置2から照射され、集光レンズ6で集光されたレーザ光
Lがレーザ光窓218を通して、内部に設置された溶融
物に照射されるように構成されている。
【0169】放電電極203を用意したセラミック管2
13とサーメット部品216の間の封止部には、予め接
着用の溶融フリット215を挿入した状態で、レーザ光
窓218を通過したレーザ光Lが封止部を照らすような
位置にセラミック管213およびサーメット部品216
を真空容器214内に設置する。なお、封止部分の外側
には、その外周に渡って延在する環状のサセプタ217
が設置されている。さらに、溶融フリット215の両側
からセラミック管213の長手方向Dvに平行な方向D
cに移動する圧接器219が設けられている。サセプタ
217は封止部の外周部に設けられて、封止部に向かっ
て照射されたレーザ光Lをその外周部で受光して、その
熱エネルギーを吸収した後、その内周部から封止部に向
かって放射することによって、レーザ光Lの熱利用効率
を高めるものである。
【0170】サセプタ217は鉄鋼でも、ステンレス鋼
で構成しても良い。また2000℃近傍まで、昇温させ
るにはC(炭素)やSiC(炭化珪素)で構成しても良
い。基本的には酸化を防止するために、真空雰囲気か、
希ガス雰囲気で作業をすることになる。このような状態
に、セラミック管213およびサーメット部品216を
設置し、準備した後に、以下に述べる工程で真空密閉封
止作業を実行する。
【0171】工程1. セラミック管213等の部品を
真空容器214に設置した状態で、先ず真空排気する。
【0172】工程2. 次に、真空容器214内に所定
の圧力になるように希ガス等を充填する。この時、少な
くともセラミック管213内は大気圧P3より減圧の状
態(内圧P5)にしておく。常温で、大気圧P3以上に
なる場合や、加熱状態で大気圧P3以上になる場合は、
冷却トラップ(図示せず)を設けて、真空容器214内
のガス等を冷却しその体積を減縮させて、必ず大気圧P
3に対して減圧状態にしておく。
【0173】工程3. 上述の状態で、真空容器214
に設置したレーザ光窓218を通してレーザ光Lをサセ
プタ217に照射し、熱を吸収させサセプタ217を加
熱し、輻射熱でサセプタ217の内周側に位置する溶融
フリット215を溶融させる。通常、溶融フリット21
5は500〜600℃程度で溶融するので、溶融させる
のに1500〜2000℃の高温にまで昇温させなけれ
ばならない石英ガラスやセラミック自体を溶融接合させ
る場合に比べて、溶融フリット215を溶融してセラミ
ック管213およびサーメット部品216を互いに接合
させる方が効率が良いことは言うまでも無い。
【0174】工程4. 上述の状態で、サーメット部品
216とセラミック管213を両側から圧接器219で
圧接する。
【0175】前記のようなプロセスにより、セラミック
管に電極等が挿入された状態での真空密閉封止が実現で
きる。レーザの熱吸収用のサセプタ217で溶融部分を
規定しているので、所定の位置のみ、効率良く溶融、加
熱することが可能になる。しかも工程2において、冷却
トラップを使用することにより、セラミック管213内
に蒸気圧の高い物質、例えば水銀、メタルハライド等、
ランプに必要な化学物質の封入が可能になる。
【0176】この場合レーザ光源としてYAGレーザ、
エキシマレーザあるいは半導体レーザを使用すれば良
い。また、このレーザ光窓218の材料は、石英ガラス
を用いれば良い。より、均一に加熱するために、セラミ
ック管213を回転させても良いし、サセプタ217を
回転させても良い。
【0177】サセプタ217として、熱伝導率の高い材
料を使用すると均熱性も向上する。カーボンやタングス
テンはガラス材料より、約10〜100倍の伝導率を有
している。またSiCを使用すれば、カーボンに比較し
て昇華が抑制でき、加熱温度を高温まであげることが可
能になる。また1000℃以下の低温加熱用には、ステ
ンレス鋼や、鉄鋼等を用いれば良い。
【0178】また均熱性を向上させるのに、サセプタ2
17の厚みを増して熱容量を大きくすれば良く、場合に
よっては、サセプタ217の周辺にアルミナなどの保温
材料を具備してやれば、さらにその保温性を向上するこ
とができる。さらに、サセプタの形状をかえてやれば、
溶融部分に対して、所望の温度分布を有するように設計
できるため、溶融したい部分の形状にあわせた熱設計が
可能になる。
【0179】図16に、セラミック管213を封止する
別の方法として、図15を参照して説明した溶融接合装
置WLP8の変形例について説明する。この方法では、
図16に示すように、セラミック管213に直接排気管
220を設ける。そして、溶融接合装置WLP8では、
真空装置214全体を排気し、全体にガスを充満してい
る。しかし、本変形例にかかる溶融接合装置WLP8’
においては、上述の溶融接合装置WLP7および溶融接
合装置WLP7’において、石英ガラス管201に対し
て行われたのと同様のプロセスで真空密閉封止する。セ
ラミックランプなどを製造する場合は予め放電電極20
3を焼結しておく。
【0180】図16に示すように、セラミック排気管2
20に接続した真空排気管206を通じて、減圧機構V
PR’(図示せず)によってセラミック管213内を排
気し、バッファガス等化学材料を封入後、フリット(2
15)またはセラミック等の密閉部品221を排気口2
22に設置する。この状態ではセラミック管213は真
空密閉封止されていないので、溶融するためにレーザ光
Lで、封止部分を照射溶融し、焼き固めることにより、
真空密閉を完成させる。
【0181】この方法を使用すると図15に示す真空容
器214を必要としないで、石英ガラス管の封止と同じ
方法を採って、セラミック管213自体を排気装置とし
て利用しているので、大気圧P3とセラミック管213
の内圧P5との差圧で真空密閉できる。さらに、セラミ
ック材料だけで封止してしまえば、ランプの封入材料と
ランプ構成物質と反応するものが少ないため、長寿命の
ランプの作成が可能になる。
【0182】(第9の実施形態)図17を参照して、本
発明の第9の実施形態にかかる溶融接合装置について説
明する。上述の第7および第8の実施形態にかかる溶融
接合装置WLP7、WLP7’、WLP7a、WLP
8、およびWLP8’においては、一方向のレーザ照射
を基本としていた。しかし封止部分を照射溶融する場
合、可能な限り均熱照射が望ましい。その目的を実現す
るために、本例にかかる溶融接合装置WLP9は、複数
個のレーザ光源を用いて、対象物224であるセラミッ
クまたは石英ガラスを周方向からレーザ光を照射して溶
融接合する装置である。
【0183】溶融接合装置WLP9は、それぞれ4つの
レーザ装置2a、2b、2cおよび2dとそれぞれに対
応する集光レンズ6a、6b、6c、および6dからな
る4つのレーザ光源から4つのレーザ光La、Lb、L
c、およびLdが対象物224に照射される。なお、こ
の溶融接合装置WLP9においても、図11〜図16に
示した溶融接合装置WLP7〜WLP8と同様に、減圧
機構VPR’や光高温計250を組み合わせて構成でき
ることは言うまでも無い。
【0184】この装置を用いれば、対象物を均熱加熱で
きるだけでなく、個々のレーザ自体の電力を下げること
が可能になり、小型のレーザ装置を使用することができ
る。つまり、レーザ装置は電力が大きくなると、発振管
の長さがどんどん長くなり、装置自体大型化してしま
う。それに比較し、電力が小さくなるとその分レーザ装
置も小さくできる。コスト的にも小型のレーザを複数使
用する方が有利である。
【0185】図18に、図17に示した溶融接合装置W
LP9の変形例として、1つのレーザ装置2の出力を光
ファイバ225を用いて分岐して対象物の周辺から照射
する溶融接合装置WLP9’を示す。光路長が長いと出
力も落ちてくるので、照射の遠い部分のファイバは太
く、近い部分の照射には細いファイバを使用してできる
だけ均一出力となるように調整する必要がある。
【0186】(第10の実施形態)図19を参照して、
本発明の第10の実施形態にかかる溶融接合装置につい
て説明する。本例にかかる溶融接合装置WLP10は、
図11または図12に示した溶融接合装置WLP7また
はWLP7’の石英ガラス管201の第2電極部208
bの周囲に、反射鏡225を設けた場合と基本的に同じ
構造を有する。
【0187】反射鏡225は、好ましくは積分球に成形
されていると共に、その内部に石英ガラス管201を挿
入する穴226と、レーザ光Lを入射する穴227を設
ける。石英ガラス管201を挿入穴226に設置し、照
射穴227からレーザを照射すると、レーザ光は積分球
である反射鏡225の内部で反射されて溶接または封止
部分が均一に加熱される。
【0188】反射鏡225を積分球型にしたが、照射部
分を精度良く照射できるならば、どんな形状でも良い。
また、石英ガラスを溶融させるとシリカが蒸発するの
で、反射鏡の挿入穴226近傍に小さい排気ノズルを準
備し、そこから排気してやれば、ダストの心配も無い。
集光性に問題が無ければ、反射鏡225のどこかに穴を
開けてダスト排気をすれば良い。さらに複数のレーザを
使用したり、ファイバと組み合わせる時は、入射用に穴
227の数を増やしてやれば良い。このようにサンプル
が反射鏡で覆われているので、レーザ光が回り込む迷光
で作業者などに悪影響を及ぼすことが殆ど無くなる。
【0189】しかも、反射鏡が加熱されて、損傷するこ
とを防止するために、反射鏡の外側を風または水を通し
て冷却してやれば良い。さらに、溶融対象物の中に蒸発
しやすい物質を封入する場合などは、その物質を反射鏡
225の外に配置してやれば、物質が蒸発すること無く
溶接封止できる。
【0190】以上のようにレーザ光Lを使用して石英ガ
ラス、セラミックなどを溶接や真空密閉封止すると、従
来より精度良く溶接加工が可能になる。特に、溶融対象
物の中に蒸発しやすい化学物質を封入する場合は、特に
精度良く封止できる。特に溶融対象物の小型化が進んで
いる場合は、必要以外の場所に熱影響を与えずに溶接す
ることが可能になる。また溶融部分の型整形する場合は
装置の配置の関係が簡略化されるため、工程の安定性、
メンテナンス性等も向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる溶融接合装置の
構成を示すブロック図である。
【図2】図1の溶融接合装置の変形例を示すブロック図
である。
【図3】図2の溶融接合装置における真空排気管とグロ
ーブボックスとの摺動部の気密構造を示す模式図であ
る。
【図4】図1の溶融接合装置に用いられているレーザ吸
収体の構造を示す模式図である。
【図5】本発明の第2実施形態にかかる溶融接合装置の
構成を示すブロック図である。
【図6】本発明の第3実施形態にかかる溶融接合装置の
構成を示すブロック図である。
【図7】図6に示す溶融接合装置の変形例を示すブロッ
ク図である。
【図8】本発明の第4実施形態にかかる溶融接合装置の
構成を示すブロック図である。
【図9】本発明の第5実施形態にかかる溶融接合装置の
構成を示すブロック図である。
【図10】本発明の第6実施形態にかかる溶融接合装置
の構成を示すブロック図である。
【図11】本発明による、第7の実施形態にかかる溶融
接合装置の構成を示すブロック図である。
【図12】図11に示す溶融接合装置の変形例を示すブ
ロック図である。
【図13】図11に示す溶融接合装置の実施例を示すブ
ロック図である。
【図14】図13に示す溶融接合装置における整形型の
部分の平面概念図である。
【図15】本発明の第8の実施形態にかかる溶融接合装
置を示すブロック図である。
【図16】図15に示す溶融接合装置の変形例を示すブ
ロック図である。
【図17】本発明の第9の実施形態にかかる溶融接合装
置を示すブロック図である。
【図18】図17に示す溶融接合装置の変形例を示すブ
ロック図である。
【図19】本発明の第10の実施形態にかかる溶融接合
装置を示すブロック図である。
【図20】従来の、レーザ光線を用いた従来の溶融接合
装置を示すブロック図である。
【符号の説明】
WLP1〜WLP10 本発明の実施形態にかかる溶融
接合装置 GPR グローブボックス内圧調整機構 GAR グローブボックス雰囲気精製機構 VPR、VPR’ 減圧機構 VR 真空容器回転機構 1 グローブボックス 2 レーザ装置 2b レーザ入力電源 L’ 漏れレーザ光 2d レーザ吸収体 3 被溶融接合物 3L 蓋 4 照射部 5 レーザ光窓 6 集光レンズ 7 真空排気管 8 ランプの電極 9 中間フリット 10 真空ポンプ 11 ガスボンベ 11 蒸気圧が高い物質 RF 冷媒 13 冷却装置 13P 冷却パイプ 13T 冷却タンク 14 高蒸気圧材料 15 蒸気圧の高い物質が保管されている真空容器の
端部 16 液化または固化させたXe 18 導入ポート 19 バルブ 20 真空ポンプ Ev 蒸発物 21 圧力制御装置 22i 吸気パイプ 22o 排気パイプ 23 循環ポンプ 24 フィルタ 25 集塵室 25a 集塵機 26 レーザの出力モニタ26 27 集光レンズの駆動モータ 28 調圧弁 30 雰囲気ガス精製機 32 ガス導入ポート 33 摺動O-リング 34 真空排気部 35 隔壁 36 真空ポンプ 37 反射鏡 38 真空計 39 真空用Oリング 40 挟持器 41 回転モータ 43 排気弁 44 雌ねじ部 45 雄ねじ部 46 ローラベアリング 50 両旋盤 WLC 従来のレーザ加熱溶融接合装置 101 密閉容器 102 通気口 103 基板 104 容器本体 105 パッキン 106 レーザ透過窓 107 レーザ装置 108 圧力計 109 通気管 109a、109b 分岐管 110 真空ポンプ 111 開閉弁 112 ガスボンベ 113 弁装置 114 挟持部材 115 被封着物 116 発光管 117a、117b 電極 118a、118b 閉塞体 119 加熱溶融封着材 120 間隙 121 反射板 201 石英ガラス管 203a、203b 放電電極 204a、204b Mo箔 204’ 第2電極側の封止用Mo箔 206 真空排気管 207 照射部 208a 第1電極部 208b 第2電極部 209 片旋盤 210 摺動Oリング 211、211’ 整形型 212 バルブ部 213 セラミック管 214 真空容器 215 溶融フリット 216 サーメット 217 サセプタ 218 レーザ光窓 219 圧接器 220 セラミック排気管 221 密閉部品 222 排気口 223 レーザ照射対象物 224 光ファイバ 225 反射鏡 226 サンプルの挿入口 227 レーザの照射口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 目黒 赳 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 佐古田 素三 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平8−17346(JP,A) 特開 昭53−67272(JP,A) 特開 平4−339587(JP,A) 特開 昭63−175315(JP,A) 特開 平6−349410(JP,A) 特開 昭55−24327(JP,A) 特開 平6−150825(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 26/00 310 B23K 26/12 H01J 9/40

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部を遮断した気密なグローブボックス
    と、前記グローブボックス内に有する石英ガラスおよび
    セラミック材料のいずれかによって構成された対象物
    と、前記グローブボックスの外部に設置されたレーザ装
    置および集塵手段と、前記対象物の内圧である第1の圧
    力を、前記グローブボックス内の内圧である第2の圧力
    より小さく減圧保持する内圧制御手段とを備え、グロー
    ブボックスの外部にある前記レーザ装置から発せられた
    レーザ光により加熱溶融された前記対象物の任意の部分
    が、前記第1の圧力と前記第2の圧力の差圧によって収
    縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を
    集塵手段で取り除く溶融接合装置において、 前記対象物の所定の部分と前記レーザ装置との間に、前
    記レーザ装置から発せられたレーザ光を遮るように設け
    られたサセプタをさらに備え、 前記サセプタは、前記対象物をその内部に含む環状であ
    り、外周で受けた前記レーザ光の熱エネルギーを内周か
    ら前記対象物の所定の部分に向かって放射し、かつ、前
    記対象物に対して自転させられ、前記レーザ光線によ
    り、より均一に加熱される ことを特徴とする溶融接合
    装置。
  2. 【請求項2】 外部を遮断した気密なグローブボックス
    と、前記グローブボックス内に有する石英ガラスおよび
    セラミック材料のいずれかによって構成された対象物
    と、前記グローブボックスの外部に設置されたレーザ装
    置および集塵手段と、前記対象物の内圧である第1の圧
    力を、前記グローブボックス内の内圧である第2の圧力
    より小さく減圧保持する内圧制御手段とを備え、グロー
    ブボックスの外部にある前記レーザ装置から発せられた
    レーザ光により加熱溶融された前記対象物の任意の部分
    が、前記第1の圧力と前記第2の圧力の差圧によって収
    縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を
    集塵手段で取り除く溶融接合装置において、 前記対象物を部分的に冷却する冷却手段をさらに備え、 前記冷却手段は、冷風、冷水、および液体窒素等のいず
    れかの冷媒を貯蔵する冷媒手段と、該冷媒手段から冷媒
    を導入して、前記対象物の周囲を巻回後に該冷媒手段に
    環流させる冷媒循環手段とをさらに備える、溶融接合装
    置。
  3. 【請求項3】 外部を遮断した気密なグローブボックス
    と、前記グローブボックス内に有する石英ガラスおよび
    セラミック材料のいずれかによって構成された対象物
    と、前記グローブボックスの外部に設置されたレーザ装
    置および集塵手段と、前記対象物の内圧である第1の圧
    力を、前記グローブボックス内の内圧である第2の圧力
    より小さく減圧保持する内圧制御手段とを備え、グロー
    ブボックスの外部にある前記レーザ装置から発せられた
    レーザ光により加熱溶融された前記対象物の任意の部分
    が、前記第1の圧力と前記第2の圧力の差圧によって収
    縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を
    集塵手段で取り除く溶融接合装置において、 加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
    有する反射鏡をさらに備え、 前記反射鏡は、積分球であると共に、その内部に前記対
    象物の所定の部分が保持され、かつ、前記反射鏡には、
    その内部に前記対象物を挿入する第1の開口部と、前記
    レーザ光を入射する第2の開口部が少なくとも1つ設け
    られ、該第2の開口部から入射された該レーザ光は積分
    球である該反射鏡の内部で反射されて、該第1の開口部
    から挿入された前記対象物の所定の部分を均等に照射加
    熱することを特徴とする、溶融接合装置。
  4. 【請求項4】 外部を遮断した気密なグローブボックス
    と、前記グローブボックス内に有する石英ガラスおよび
    セラミック材料のいずれかによって構成された対象物
    と、前記グローブボックスの外部に設置されたレーザ装
    置および集塵手段と、前記対象物の内圧である第1の圧
    力を、前記グローブボックス内の内圧である第2の圧力
    より小さく減圧保持する内圧制御手段とを備え、グロー
    ブボックスの外部にある前記レーザ装置から発せられた
    レーザ光により加熱溶融された前記対象物の任意の部分
    が、前記第1の圧力と前記第2の圧力の差圧によって収
    縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を
    集塵手段で取り除く溶融接合装置において、 加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
    有する反射鏡をさらに備え、 前記反射鏡は、積分球であると共に、その内部に前記対
    象物の所定の部分が保 持され、かつ、前記反射鏡には、
    さらに、該反射鏡内部のダストを吸引するための開口部
    が設けられたことを特徴とする、溶融接合装置。
  5. 【請求項5】 外部を遮断した気密なグローブボックス
    と、前記グローブボックス内に有する石英ガラスおよび
    セラミック材料のいずれかによって構成された対象物
    と、前記グローブボックスの外部に設置されたレーザ装
    置および集塵手段と、前記対象物の内圧である第1の圧
    力を、前記グローブボックス内の内圧である第2の圧力
    より小さく減圧保持する内圧制御手段とを備え、グロー
    ブボックスの外部にある前記レーザ装置から発せられた
    レーザ光により加熱溶融された前記対象物の任意の部分
    が、前記第1の圧力と前記第2の圧力の差圧によって収
    縮溶接され、かつ前記収縮溶融時に発生したゴミや塵を
    集塵手段で取り除く溶融接合装置において、 加熱溶融される前記対象物の所定の部分の近傍に焦点を
    有する反射鏡をさらに備え、 前記反射鏡は、積分球であると共に、その内部に前記対
    象物の所定の部分が保持され、かつ、前記反射鏡の外周
    側に、冷却手段をさらに備え、該反射鏡を冷却すること
    を特徴とする、溶融接合装置。
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JP2008507090A (ja) * 2004-07-13 2008-03-06 アドバンスド ライティング テクノロジイズ,インコーポレイティド クリプトンメタルハライドランプ
US7371143B2 (en) * 2004-10-20 2008-05-13 Corning Incorporated Optimization of parameters for sealing organic emitting light diode (OLED) displays
JP2008108713A (ja) * 2006-09-25 2008-05-08 Toshiba Lighting & Technology Corp 高圧放電ランプ、高圧放電ランプ点灯装置および照明装置
JP5031383B2 (ja) * 2007-01-26 2012-09-19 新日本製鐵株式会社 鋼板の重ね部のレーザー溶接方法
JP5078089B2 (ja) * 2008-02-15 2012-11-21 株式会社小糸製作所 セラミック製発光管の二次封止方法
CN102151987B (zh) * 2011-01-21 2013-11-13 燕山大学 可控环境温度惰性气氛激光材料制备与成形箱
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