JP3374801B2 - ガス処理装置 - Google Patents

ガス処理装置

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JP3374801B2 JP26530099A JP26530099A JP3374801B2 JP 3374801 B2 JP3374801 B2 JP 3374801B2 JP 26530099 A JP26530099 A JP 26530099A JP 26530099 A JP26530099 A JP 26530099A JP 3374801 B2 JP3374801 B2 JP 3374801B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス処理装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来例に係るガス処理装置は図３に示す
ように、洗浄塔２３内の酸排気入口２６より上方に排気
処理用充填物２５が設置され、散布管２４から排気処理
用充填物２５に散水が行われるようになっており、洗浄
塔２３の底部に廃水管２７が接続されている。また洗浄
塔２３の清浄空気出口２８から送風ファン２２により清
浄空気が排出されるようになっている。
【０００３】また洗浄塔２３内の廃水の一部は、貯留槽
３３に帰還され、また貯留槽３３の補給水入口３２には
補給管３１が接続されている。また貯留槽３３には薬品
注入装置３０が取付け、貯留槽３３から循環ポンプ２９
にて排気処理用充填物２５に散水が行われる。
【０００４】以上のように従来例に係るガス処理装置は
図３に示すように、処理ガスを無機ハロゲン化ガスとし
て取扱うものであり、例えばＳｉＦ4ガスをガスとして
吸着処理する、或いは空気と混合して排気処理するよう
になっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示す従来例に係るガス処理装置では、例えばＳｉＦ4ガ
スは、気液接触部分（排気処理用充填物２５及び循環ポ
ンプ２９による散水）で反応しきれなかったＨ2Ｓｉ
Ｆ6，洗浄塔２３の洗浄水によって生成される副生成物
であるＮａＳｉＦ6，（ＮＨ4）2ＳｉＦ6などが後段の送
風ファン２２に析出して、送風ファン２２を停止させる
という問題がある。
【０００６】本発明の目的は、洗浄塔でのガス処理を効
率的に行い、また洗浄塔への負荷軽減および生成物析出
を防止するガス処理装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係るガス処理装置は、処理対象のガスを流
動させる排気ダクトを備え、排気ダクトの下部に水槽を
取付け、 排気ダクトの天井側に複数の上部ローラをガス
流に沿って設置し、かつ水槽内にも複数の下部ローラを
設置し、 上部ローラと下部ローラに無端状の織布を掛渡
し、下部ローラ部で織布を水槽内の洗浄水に浸漬し、ガ
ス流方向の最終段の下部ローラから初段の下部ローラに
水槽内で織布を導き、水槽から繰出された濡れた織布を
排気ダクト内と水槽内とに交互に移動可能にローラで誘
導して蛇行させ、織布を折返して排気ダクト内に複数段
に設置し、 排気ダクトのガス流の上流側に散水管を設置
し、排気ダクトの下流側に清浄空気出口を配置し、 処理
対象のガスを、排気ダクト内に導入して、まず処理対象
のガスに散布管からの散布水を強制的に接触させて加水
分解反応を起こし、その反応生成物を複数段の濡れた織
布に次々に接触させて捕獲し、この織布に捕獲した反応
生成物を水槽の溶液にて溶解させて除去するよにしたも
のである。また、前記水槽内を多段に分割し、分割され
た各水槽内に前記複数の下部ローラの各々を配置し、前
記複数の上部ローラの各々に隣接して散布管をそれぞれ
設置し、隣接する後段の分割された水槽から前段の散布
管にポンプにより送水するようにし、処理ガスと散布管
からの散布水との反応および処理ガスと濡れた織布との
反応を複数回繰返して行うものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
【０００９】（実施形態１）図１は、本発明の実施形態
１に係るガス処理装置を示す構成図である。
【００１０】図１に示す本発明の実施形態１に係るガス
処理装置は、処理対象のガスを流動させる排気ダクト１
５を備えており、排気ダクト１５の下部に水槽１４を取
付けている。
【００１１】さらに排気ダクト１５の天井側にローラ１
６ａ，１６ａ，１６ａ・・・をガス流に沿って設置し、
かつ水槽１４内にローラ１６ｂ，１６ｂ・・・と方向転
換用ローラ１６ｃ，１６ｄを設置している。
【００１２】そして、ローラ１６ａ，１６ａ，１６ａ、
１６ｂ，１６ｂ、方向転換用ローラ１６ｃ，１６ｄに無
端状の織布１７を掛渡し、織布１７を水槽１４内の洗浄
水Ｓ内に浸漬し、方向転換用ローラ１６ｃで方向転換さ
れて水槽１４から繰出された織布１７を排気ダクト１５
内と水槽１４内とに交互に移動可能にローラ１６ａ，１
６ｂで誘導して蛇行させ、織布１７を折返して排気ダク
ト１５内に複数段に設置している。
【００１３】また排気ダクト１５の上流側に散水管１１
を設置し、排気ダクト１５の下流側に清浄空気出口１８
を配置している。織布１７は、散布管１１から散布した
水の飛散防止と気液接触触媒を兼ねている。
【００１４】また水槽１４には余剰水を排出する廃水管
１９が接続され、廃水管１９の廃水出口２０から余剰水
を廃水するようになっている。
【００１５】次に、本発明の実施形態１に係るガス処理
装置を使用して処理対象のガスを処理する方法について
説明する。本発明の実施形態１に係るガス処理方法で
は、処理対象のガスとしてＳｉＦ4ガスを用いた場合を
例にとって説明する。
【００１６】ＳｉＦ4ガスは、空気と混合すると空気中
の水分と反応して一部は以下のような反応が起こる。 ３ＳｉＦ4＋４Ｈ2Ｏ→２Ｈ2ＳｉＦ6＋Ｓｉ（ＯＨ）4 したがって、排気ガス入口１３から排気ダクト１５内に
導入されるガスの中には、の反応式で混合物とＳｉＦ
4ガスとが混在している。
【００１７】排気ガス入口１３から排気ダクト１５内に
導入されたＳｉＦ4ガスは、まず散布管１１から散布さ
れた水と激しく反応してふっ化水素酸（ＨＦ）とケイ酸
（ＳｉＯ2）を生じる。
【００１８】の反応式で生成した混合物に、このふっ
化水素酸が作用して多量のＨ2ＳｉＦ6が生成される。ま
た、以下の反応も同時進行する。 ４ＨＦ＋ＳｉＯ2→ＳｉＦ4＋２Ｈ2Ｏ ２ＨＦ＋ＳｉＦ4→Ｈ2ＳｉＦ6 さらに散布管１１からの散布水領域を通過した処理ガス
は排気ダクト１５内に送込まれ、折返して排気ダクト１
５内に複数段に設置された、濡れた織布１７に次々に接
触する。
【００１９】処理ガスと散布管１１からの散布水との反
応、処理ガスと濡れた織布１７との反応は全て発熱反応
であるため、散布水の吸熱反応（蒸発熱）効果及び織布
付着水の吸熱反応（蒸発熱）効果により更に反応は加速
する。
【００２０】これらの反応により生成されたＨ2ＳｉＦ6
は、後段の織布１７に付着し、織布１７はローラ１６
ａ，１６ｂによって水槽１４内に導かれ、織布１７に付
着したＨ2ＳｉＦ6は、水槽１７内の水に溶解することに
よって除去される。
【００２１】また水槽１４内の水は散布管１１からの散
布水により常に補給されるため、余剰水は廃水出口２０
から排出される。
【００２２】以上のように本発明の実施形態１は、例え
ばＳｉＦ4ガスの排気が行われる洗浄塔の前段（図３参
照）に設置することにより、効率的にＳｉＦ4ガスを処
理し得る。また洗浄塔への負荷軽減及び生成物析出を防
止することにより、安定稼動に寄与することができる。
【００２３】（実施形態２）図２は、本発明の実施形態
２に係るガス処理装置を示す構成図である。
【００２４】図２に示す本発明の実施形態２に係るガス
処理装置は、水槽１４内を水槽１４ａ，１４ｂ，１４
ｃ，１４ｄに多段に分割し、各水槽１４ａ，１４ｂ，１
４ｃ，１４ｄ内にローラ１６ｃ，１６ｂ1，１６ｂ2，１
６ｄを設置し、織布１７を水槽１４ａ内の方向転換用ロ
ーラ１６ｃで排気ダクト１５内のローラ１６ａ１に方向
転換して掛渡し、ローラ１６ａ1からの織布１７を水槽
１４内のローラ１６ｂ1に掛渡し、ローラ１６ｂ1からの
織布１７を排気ダクト１５内のローラ１６ａ2に掛渡
し、ローラ１６ａ2からの織布１７を水槽１４内のロー
ラ１６ｂ2に掛渡し、ローラ１６ｂ2からの織布１７を排
気ダクト１５内のローラ１６ａ3に掛渡し、ローラ１６
ａ3からの織布１７を水槽１４内のローラ１６ｄに掛渡
すことにより無端状に配置している。
【００２５】さらに排気ダクト１５内の天井側に設置し
たローラ１６ａ1，１６ａ2，１６ａ3，１６ａ4に隣接し
て散布管１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄをそれぞれ設
置し、後段の水槽から前段の散布管に水をポンプ２１
ａ，２１ｂにより送水するようにしたものである。
【００２６】図２に示す本発明の実施形態２に係るガス
処理装置によれば、処理ガスと散布管からの散布水との
反応、処理ガスと濡れた織布との反応を複数回繰返して
行うことができ、反応の遅いガスも効率的に除去処理す
ることができるという利点を有する。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、処理ガス
と散布水との反応、処理ガスと濡れた織布との反応を組
合せて行うため、これらの反応は全て発熱反応であり、
散布水の吸熱反応（蒸発熱）効果及び織布付着水の吸熱
反応（蒸発熱）効果により更に反応は加速させて行うこ
とができる。
【００２８】したがって図３に示すような洗浄塔の前段
に設置することにより、効率的にガスを処理することが
でき、洗浄塔への負荷軽減及び生成物析出を防止するこ
とにより、安定稼動に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１に係るガス処理装置を示す
構成図である。
【図２】本発明の実施形態２に係るガス処理装置を示す
構成図である。
【図３】従来例に係るガス処理装置を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
１１ 散水管 １４ 水槽 １５ 排気ダクト １７ 織布

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 処理対象のガスを流動させる排気ダクト
    を備え、排気ダクトの下部に水槽を取付け、 排気ダクトの天井側に複数の上部ローラをガス流に沿っ
    て設置し、かつ水槽内にも複数の下部ローラを設置し、 上部ローラと下部ローラに無端状の織布を掛渡し、下部
    ローラ部で織布を水槽内の洗浄水に浸漬し、ガス流方向
    の最終段の下部ローラから初段の下部ローラに水槽内で
    織布を導き、水槽から繰出された濡れた織布を排気ダク
    ト内と水槽内とに交互に移動可能にローラで誘導して蛇
    行させ、織布を折返して排気ダクト内に複数段に設置
    し、排気ダクトのガス流の上流側に散水管を設置し、排気ダ
    クトの下流側に清浄空気出口を配置し、 処理対象のガスを、排気ダクト内に導入して、まず 処理
    対象のガスに散布管からの散布水を強制的に接触させて
    加水分解反応を起こし、その反応生成物を複数段の濡れ
    た織布に次々に接触させて捕獲し、この織布に捕獲した
    反応生成物を水槽の溶液にて溶解させて除去するように
    したことを特徴とするガス処理装置。
  2. 【請求項２】 前記水槽内を多段に分割し、分割された
    各水槽内に前記複数の下部ローラの各々を配置し、前記
    複数の上部ローラの各々に隣接して散布管をそれぞれ設
    置し、隣接する後段の分割された水槽から前段の散布管
    にポンプにより送水するようにし、処理ガスと散布管か
    らの散布水との反応および処理ガスと濡れた織布との反
    応を複数回繰返して行うようにしたことを特徴とする請
    求項１に記載のガス処理装置。
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