JP3372911B2 - Cleaning equipment for the electron beam lithography system - Google Patents
Cleaning equipment for the electron beam lithography systemInfo
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置において、鏡筒内に設置されているビーム偏向器など
の部品の表面に付着した堆積物をエッチングして除去す
るための鏡筒内洗浄装置に係る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron beam drawing apparatus for cleaning an inside of a lens barrel for etching and removing deposits adhering to the surfaces of components such as a beam deflector installed in the barrel. Related to the device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】電子ビーム描画装置は、長時間継続使用
すると、鏡筒内に設けられている部品、特にビーム偏向
器に堆積物が付着する。この様に付着した堆積物の内、
絶縁性を有するもの（絶縁膜）には帯電が生ずるので、
電子ビームのドリフトの原因となり、描画精度の劣化の
原因となる。2. Description of the Related Art When an electron beam drawing apparatus is continuously used for a long time, deposits adhere to parts provided inside a lens barrel, especially to a beam deflector. Of the deposits thus attached,
Since an electrically insulating material (insulating film) is charged,
This causes a drift of the electron beam and deteriorates the drawing accuracy.
【０００３】この様な問題に対処すべく、特開平８−１
３９０１０号公報には、放電管中で洗浄ガス（例えば、
Ｏ２とＣＦ４との混合ガス）にマイクロ波を照射してラ
ジカルを発生させ、ラジカル（遊離基）を含んだエッチ
ングガスを鏡筒内に流して、部品の表面に付着した堆積
物をエッチングして除去する鏡筒内洗浄装置が記載され
ている。In order to deal with such a problem, Japanese Patent Laid-Open No. 8-1
No. 39,010, a cleaning gas (for example,
A mixed gas of O 2 and CF 4 is irradiated with microwaves to generate radicals, and an etching gas containing radicals (free radicals) is flowed into the lens barrel to etch deposits adhering to the surface of the component. There is described a lens barrel cleaning device that is removed by doing so.
【０００４】上記の鏡筒内洗浄装置は、描画の際には鏡
筒の内部から遮断する必要があるので、ゲートバルブを
介して鏡筒の側壁に接続されている。そこで、鏡筒内を
洗浄する際には、ゲートバルブの開閉をする必要があ
る。また、マイクロ波によって放電管の中の洗浄ガス内
で放電を起こさせることが比較的困難であるので、放電
の発生を確認する必要があるなど操作が煩雑であった。
また、電子ビーム描画装置では、塵埃による描画不良を
生じさせない様にするため、装置に人が近付くことを極
力避ける必要がある。The above-mentioned cleaning device for the inside of the lens barrel is connected to the side wall of the lens barrel through a gate valve because it is necessary to shut off the inside of the lens barrel during drawing. Therefore, it is necessary to open and close the gate valve when cleaning the inside of the lens barrel. Further, since it is relatively difficult to cause the discharge in the cleaning gas in the discharge tube by the microwave, the operation is complicated such as the necessity of confirming the occurrence of the discharge.
Further, in the electron beam drawing apparatus, it is necessary to avoid a person approaching the apparatus as much as possible in order to prevent drawing failure due to dust.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の様な
ラジカルを含んだエッチングガスを用いた従来の鏡筒内
洗浄装置の問題点に鑑み成されたもので、本発明の目的
は、遠隔操作によって確実に実施することができる電子
ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the conventional apparatus for cleaning a lens barrel using the etching gas containing radicals as described above. An object of the present invention is to provide a cleaning device in a lens barrel of an electron beam drawing device that can be surely implemented by remote control.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム描画
装置の鏡筒内洗浄装置は、電子ビーム描画装置の鏡筒内
にラジカルを含んだエッチングガスを流して、内部に配
置された部品を洗浄する鏡筒内洗浄装置において、前記
鏡筒の側壁に取り付けられたゲートバルブと、前記ゲー
トバルブを介して先端が前記鏡筒に接続されたガラス製
の放電管と、前記放電管の後端に接続され、洗浄ガスを
前記放電管内に供給する洗浄ガス供給装置と、マイクロ
波発生端子とマッチングタブを有し、これら間のキャビ
ティ内を前記放電管が貫通し、前記放電管内を流れる洗
浄ガス内で放電を起こさせて、ラジカルを発生させるマ
イクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置に隣接し
て配置され、前記放電管の外から中に向けて、前記マイ
クロ波発生装置よりも強力なマイクロ波のパルスを発射
することによって、前記放電管内で放電を開始させるテ
スラーコイルと、前記放電管内が放電状態にあることを
検出するためのセンサと、前記洗浄ガス供給装置、前記
ゲートバルブ、前記マイクロ波発生装置及び前記テスラ
ーコイルをそれぞれ制御して、前記放電管内での放電の
開始及び終了を行う制御部とを備え、前記制御部は、前
記テスラーコイルの作動から予め定められた時間の経過
後に、前記放電管内が放電状態にあることが前記センサ
によって確認されなかったとき、再び前記テスラーコイ
ルを作動させる様に構成されていることを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION A cleaning device for a lens barrel of an electron beam writing apparatus according to the present invention flows an etching gas containing radicals into the lens barrel of the electron beam drawing apparatus to remove components placed inside. In a cleaning apparatus for cleaning a lens barrel, a gate valve attached to a side wall of the lens barrel, a glass discharge tube having a tip connected to the lens barrel via the gate valve, and a rear end of the discharge tube. A cleaning gas supply device that supplies cleaning gas into the discharge tube, a microwave generation terminal and a matching tab, and the discharge tube penetrates the cavity between them, and the cleaning gas flows in the discharge tube. A microwave generator that causes a discharge inside to generate radicals, and a microwave generator that is disposed adjacent to the microwave generator and is directed toward the inside from the outside of the discharge tube. Also emits a powerful microwave pulse to start a discharge in the discharge tube, a sensor for detecting that the discharge tube is in a discharge state, the cleaning gas supply device, the gate A control unit that controls the valve, the microwave generator, and the Tesler coil to start and end the discharge in the discharge tube, and the control unit is predetermined from the operation of the Tesler coil. After the passage of time, when it is not confirmed by the sensor that the inside of the discharge tube is in the discharge state, the Tesler coil is activated again.
【０００７】本発明の鏡筒内洗浄装置によれば、前記制
御部からの指令に基づき所定のシーケンスに従って、ガ
ス供給装置、ゲートバルブ、マイクロ波発生装置及びテ
スラーコイルを作動させて、自動的に洗浄ガス中で放電
を開始させる。もし、放電が起こらなかった場合にはセ
ンサによってこれを検知し、その結果に基づいて再びテ
スラーコイルを作動させて、放電を開始させる。この様
なテスラーコイルの再作動は、センサによって放電状態
が確認されるまで、所定回数、繰り返し行われる。According to the lens barrel cleaning apparatus of the present invention, the gas supply apparatus, the gate valve, the microwave generator and the Tesler coil are operated automatically in accordance with a predetermined sequence based on a command from the controller. Start the discharge in the cleaning gas. If the discharge does not occur, this is detected by the sensor, and based on the result, the Tesler coil is activated again to start the discharge. Such re-operation of the Tesler coil is repeated a predetermined number of times until the discharge state is confirmed by the sensor.
【０００８】好ましくは、前記制御部を、テスラーコイ
ルの再作動の回数が、予め設定された上限回数に到達す
るまでに放電状態が確認されなかったときには、ガス供
給装置及びマイクロ波発生装置の作動を停止するととも
に、ゲートバルブを閉じる様に構成する。[0008] Preferably, when the discharge state is not confirmed before the number of times of re-operation of the Tesler coil reaches a preset upper limit number, the control unit operates the gas supply device and the microwave generator. Is configured to stop and the gate valve is closed.
【０００９】好ましくは、前記センサとして光電センサ
を使用するとともに、放電管の中間部の周囲を遮光カバ
ーによって覆い、この遮光カバーの中に前記マイクロ波
発生装置のキャビティ部分及び前記センサを収容する。Preferably, a photoelectric sensor is used as the sensor, the middle part of the discharge tube is covered with a light shielding cover, and the cavity portion of the microwave generator and the sensor are housed in the light shielding cover.
【００１０】好ましくは、前記遮光カバーを、その内部
を排気することができる様に構成する。Preferably, the light shielding cover is constructed so that the inside thereof can be exhausted.
【００１１】好ましくは、前記ゲートバルブを、フラン
ジを介して鏡筒の側壁に取り付け、前記放電管及び前記
ゲートバルブを、それぞれの軸が一直線上に並ぶ様に配
置する。この様に構成することによって、前記マイクロ
波発生装置によって洗浄ガス内に生成されたラジカル
を、効率良く鏡筒内へ送り込むことができる。Preferably, the gate valve is attached to the side wall of the lens barrel via a flange, and the discharge tube and the gate valve are arranged so that their respective axes are aligned. With this configuration, radicals generated in the cleaning gas by the microwave generator can be efficiently sent into the lens barrel.
【００１２】好ましくは、前記マイクロ波発生装置及び
前記テスラーコイルを、電気絶縁材製のベースプレート
によって支持し、このベースプレートを鏡筒に固定す
る。この様に構成することによって、前記マイクロ波発
生装置及び前記テスラーコイルが、電子ビーム描画装置
本体に対して電気的あるいは磁気的ノイズを与えること
を防止することができる。Preferably, the microwave generator and the Tesler coil are supported by a base plate made of an electrically insulating material, and the base plate is fixed to the lens barrel. With this configuration, it is possible to prevent the microwave generator and the Tesler coil from giving electric or magnetic noise to the electron beam drawing apparatus main body.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明に基づく鏡筒内洗浄
装置の一例について、図面を用いて説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An example of a lens barrel cleaning apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１４】図１に、本発明に基づく鏡筒内洗浄装置が
取り付けられた電子ビーム描画装置の概略構成を示す。
図中、１０は電子ビーム描画装置の鏡筒部分であり、そ
の中に、電子ビーム発生部１１、各種電子レンズ１２、
１３、１４、１５、可変成形ビーム用の第一アパーチャ
１６及び第二アパーチャ１７、ビーム成形用偏向器１８
ａ、１８ｂ、ビーム位置制御用偏向器１９などが配置さ
れている。鏡筒１０の下部には描画室２０が設けられ、
その内部にＸＹステージ２２が設けられている。被描画
材２１は、ＸＹステージ２２の上に保持される。本発明
の鏡筒内洗浄装置３０は、鏡筒１０の第一アパーチャ１
６と電子レンズ１３の間に該当する位置で、ゲートバル
ブ３４を介して鏡筒１０に取り付けられている。FIG. 1 shows a schematic structure of an electron beam drawing apparatus equipped with a lens barrel cleaning apparatus according to the present invention.
In the figure, 10 is a lens barrel of the electron beam drawing apparatus, in which an electron beam generator 11, various electron lenses 12,
13, 14, 15, first and second apertures 16 and 17 for variable shaped beam, beam shaping deflector 18
a, 18b, a beam position control deflector 19 and the like are arranged. A drawing chamber 20 is provided below the lens barrel 10,
An XY stage 22 is provided inside thereof. The drawing material 21 is held on the XY stage 22. The cleaning device 30 for cleaning a lens barrel according to the present invention includes the first aperture 1 of the lens barrel 10.
It is attached to the lens barrel 10 via the gate valve 34 at a position between 6 and the electron lens 13.
【００１５】この電子ビーム描画装置では、電子ビーム
発生部１１から発射された電子ビームを、電子レンズ１
２によって第一アパーチャ１６上で焦点を結ばせて、所
定の断面形状の電子ビームとする。これを電子レンズ１
３、１４によって第二アパーチャ１７上で焦点を結ばせ
るとともに、ビーム成形用偏向器１８ａ、１８ｂによっ
て偏向させて、所望の断面形状の電子ビームとする。こ
れを電子レンズ１５によって被描画材２１上で焦点を結
ばせるとともに、ビーム位置制御用偏向器１９によって
電子ビームを被描画材２１上に導いて、被描画材２１上
に所定のパターンを描画する。In this electron beam drawing apparatus, the electron beam emitted from the electron beam generating section 11 is moved to the electron lens 1
2 is focused on the first aperture 16 to form an electron beam having a predetermined sectional shape. This is an electronic lens 1
3 and 14 are used to focus on the second aperture 17 and are deflected by the beam shaping deflectors 18a and 18b to form an electron beam having a desired sectional shape. This is focused on the drawing material 21 by the electron lens 15, and the electron beam is guided onto the drawing material 21 by the beam position control deflector 19 to draw a predetermined pattern on the drawing material 21. .
【００１６】なお、電子ビーム描画装置の本体部分の構
成自体は、本発明の主題ではないので、公知の種々の形
態でも良く、このため、概要のみを示して詳細な説明は
省略する。Since the structure of the main body of the electron beam drawing apparatus itself is not the subject of the present invention, various known forms may be used. Therefore, only the outline is shown and the detailed description is omitted.
【００１７】図２に、鏡筒内洗浄装置３０の主要部の軸
方向断面図を示す。鏡筒内洗浄装置３０は、ゲートバル
ブ３４、放電管４０、洗浄ガス供給装置４５、マイクロ
波発生装置４８、テスラーコイル４９及び光電センサ５
０（センサ）などから構成される。FIG. 2 shows an axial sectional view of the main part of the lens-barrel cleaning device 30. The lens barrel cleaning device 30 includes a gate valve 34, a discharge tube 40, a cleaning gas supply device 45, a microwave generator 48, a Tesler coil 49, and a photoelectric sensor 5.
0 (sensor).
【００１８】鏡筒１０の側壁には、フランジ３１がボル
ト３２によって固定されている。このフランジ３１の背
面（図２において左側面）には、ゲートバルブ３４がボ
ルト３３によって固定されている。フランジ３１の背面
には、更に、ブラケット５６を介して電気絶縁材製（例
えば、塩化ビニールの様な樹脂製）のベースプレート５
５が取り付けられている。A flange 31 is fixed to the side wall of the lens barrel 10 with a bolt 32. A gate valve 34 is fixed to the back surface (left side surface in FIG. 2) of the flange 31 by a bolt 33. On the back surface of the flange 31, a base plate 5 made of an electrically insulating material (for example, a resin such as vinyl chloride) is further provided via a bracket 56.
5 is attached.
【００１９】ゲートバルブ３４は、フランジ３１を介し
て鏡筒１０に取り付けられている。フランジ３１は、そ
の中央に、前後に貫通する孔３５を有している。この孔
３５は、ゲートバルブ３４の出口側の通孔３６に対して
一直線上で連通し、孔３５の鏡筒１０側には、ガス導入
用のノズル３７が取り付けられている。ゲートバルブ３
４は、圧空式で、空圧シリンダ（図示せず）によって自
動的に開閉される。The gate valve 34 is attached to the lens barrel 10 via a flange 31. The flange 31 has a hole 35 at its center, which penetrates in the front-rear direction. This hole 35 communicates with the through hole 36 on the outlet side of the gate valve 34 in a straight line, and a nozzle 37 for introducing gas is attached to the lens barrel 10 side of the hole 35. Gate valve 3
4 is a pneumatic type, which is automatically opened and closed by a pneumatic cylinder (not shown).
【００２０】ゲートバルブ３４の入口側の通孔３８に
は、石英ガラス製の放電管４０の先端部が、継手３９を
介して気密に取り付けられている。放電管４０は、上記
通孔３８に対して一直線上で連通する様に配置されてい
る。A distal end of a discharge tube 40 made of quartz glass is hermetically attached to a through hole 38 on the inlet side of the gate valve 34 through a joint 39. The discharge tube 40 is arranged so as to communicate with the through hole 38 in a straight line.
【００２１】放電管４０の後端には、洗浄ガス供給装置
４５が、継手４３及び管継手４４を介して気密に接続さ
れている。継手４３は、ブラケット５７を介して、ベー
スプレート５５の先端部分（図２では左端）の上に支持
されている。A cleaning gas supply device 45 is hermetically connected to the rear end of the discharge tube 40 via a joint 43 and a pipe joint 44. The joint 43 is supported on the tip portion (left end in FIG. 2) of the base plate 55 via the bracket 57.
【００２２】ベースプレート５５の中央付近には、取付
台４６を介して遮光カバー４７が取り付けられている。
遮光カバー４７は、放電管４０の中間部分の周囲を覆う
様に設けられている。この遮光カバー４７の中に、マイ
クロ波発生装置４８のキャビティ部分が収容されてい
る。マイクロ波発生装置４８は、互いに対を成すマイク
ロ波発生端子４８ａ及び調整用のマッチングタブ４８ｂ
を有し、これらの間に形成されたキャビティ（共振空
洞）内を放電管４０が貫通している。更に、遮光カバー
４７の中には、放電管４０内での放電の有無を検出する
ための光電センサ５０が収容されている。遮光カバー４
７には、マイクロ波によって発生するオゾンガスなどを
排気するためのパイプ４７ａが接続されている。A light shielding cover 47 is attached near the center of the base plate 55 via a mounting base 46.
The light shielding cover 47 is provided so as to cover the periphery of the intermediate portion of the discharge tube 40. The cavity portion of the microwave generator 48 is housed in the light shielding cover 47. The microwave generator 48 includes a microwave generating terminal 48a and a matching matching tab 48b which are paired with each other.
And the discharge tube 40 penetrates through the cavity (resonance cavity) formed between them. Further, in the light shielding cover 47, a photoelectric sensor 50 for detecting the presence or absence of discharge in the discharge tube 40 is housed. Shading cover 4
A pipe 47 a for exhausting ozone gas or the like generated by microwaves is connected to 7.
【００２３】更に、遮光カバー４７に隣接して、放電管
４０に沿ってマイクロ波発生装置４８よりも上流側に、
テスラーコイル４９が配置されている。このテスラーコ
イル４９もベースプレート５５上に支持されている。Further, adjacent to the light shielding cover 47, along the discharge tube 40 and upstream of the microwave generator 48,
A Tesler coil 49 is arranged. The Tesler coil 49 is also supported on the base plate 55.
【００２４】図３に、図２のＡ−Ａ断面図を示す。テス
ラーコイル４９は、図３に示す様に、その端子４９ａの
先端が放電管４０の中心軸に向けられ、マイクロ波発生
装置４８よりも強力なマイクロ波のパルスを発射して、
放電管４０内で放電を開始させる様になっている。遮光
カバー４７の中には、先に述べた様に、光電センサ５０
が収容されている。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. As shown in FIG. 3, the Tessler coil 49 has a terminal 49 a whose tip is directed toward the central axis of the discharge tube 40 and emits a microwave pulse stronger than the microwave generator 48.
Discharge is started in the discharge tube 40. As described above, the photoelectric sensor 50 is provided in the light shielding cover 47.
Is housed.
【００２５】図４に、鏡筒内洗浄装置の制御ブロック図
を示す。洗浄ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マ
イクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９は、制御
部６２からの指令に従って制御される。制御部６２は、
操作部６１からの洗浄開始の信号を受けて、所定のシー
ケンスに従って上記各装置を作動させ、放電管４０内で
の放電を開始させるとともに、鏡筒１０内へラジカルを
含んだエッチングガスを供給する。同様に、制御部６２
は、操作部６１からの洗浄終了の信号を受けて、放電管
４０内での放電を停止させるとともに、鏡筒１０内へ洗
浄ガスの供給を停止する。また、後述する様に、放電管
４０内で放電が起こらなかった場合には、制御部６２
は、光電センサ５０からの検出信号を受けてテスラーコ
イル４９の作動を制御することにより、放電開始動作を
繰り返す。FIG. 4 shows a control block diagram of the lens barrel cleaning device. The cleaning gas supply device 45, the gate valve 34, the microwave generation device 48, and the Tesler coil 49 are controlled according to a command from the control unit 62. The control unit 62
In response to a cleaning start signal from the operation section 61, each of the above devices is operated in accordance with a predetermined sequence to start discharge in the discharge tube 40, and at the same time, supply an etching gas containing radicals into the lens barrel 10. . Similarly, the control unit 62
In response to the cleaning completion signal from the operation section 61, the discharge is stopped in the discharge tube 40 and the supply of the cleaning gas into the lens barrel 10 is stopped. Further, as will be described later, when no discharge occurs in the discharge tube 40, the control unit 62
Receives the detection signal from the photoelectric sensor 50 and controls the operation of the Tesler coil 49 to repeat the discharge start operation.
【００２６】図５に、制御部６２による制御のフローチ
ャートを示す。なお、（ａ）は洗浄開始のフロー、
（ｂ）は洗浄終了のフローである。FIG. 5 shows a flow chart of control by the control unit 62. In addition, (a) is a flow for starting cleaning,
(B) is a flow of cleaning completion.
【００２７】累計描画時間や電子ビームのドリフト量か
ら、鏡筒内の洗浄が必要と判断されたとき、描画作業を
中断し、操作部６１（図４）から制御部６２へ洗浄開始
の指令信号を与える。制御部６２は、この指令信号を受
けて、図５（ａ）に示す洗浄開始フローを実行し、洗浄
ガス供給装置４５、ゲートバルブ３４、マイクロ波発生
装置４８及びテスラーコイル４９を作動させる。When it is determined from the accumulated drawing time or the drift amount of the electron beam that the interior of the lens barrel needs to be cleaned, the drawing operation is interrupted and the operation unit 61 (FIG. 4) sends a command signal to the controller 62 to start cleaning. give. Upon receiving this command signal, the control unit 62 executes the cleaning start flow shown in FIG. 5A to operate the cleaning gas supply device 45, the gate valve 34, the microwave generator 48 and the Tesler coil 49.
【００２８】即ち、先ず、洗浄ガス供給装置４５から洗
浄ガスの供給を開始する（ステップＳＴ１）。次いで、
ゲートバルブ３４を開く（ステップＳＴ２）。これによ
り、洗浄ガス（例えば、Ｏ２とＣＦ４の混合ガス）が、
洗浄ガス供給装置４５から放電管４０、ゲートバルブ３
４及びノズル３７を順に通って、鏡筒１０内へ送り込ま
れる。That is, first, the supply of the cleaning gas from the cleaning gas supply device 45 is started (step ST1). Then
The gate valve 34 is opened (step ST2). Thereby, the cleaning gas (for example, a mixed gas of O 2 and CF 4 ) becomes
Cleaning gas supply device 45 to discharge tube 40, gate valve 3
4 and the nozzle 37 in order, and is fed into the lens barrel 10.
【００２９】この状態で、マイクロ波発生装置４８を作
動させる（ステップＳＴ３）。なお、このマイクロ波発
生装置４８の作動のみでは、放電管４０内で放電は起こ
らない。次のステップで（ステップＳＴ４）、テスラー
コイル４９を作動させることによって放電が起こり、そ
の後は、マイクロ波発生装置４８によって放電状態が維
持される。このマイクロ波発生装置４８による放電状態
は、光電センサ５０によって検出される。しかしなが
ら、テスラーコイル４９による放電の開始、あるいはこ
れに続くマイクロ波発生装置４８による放電状態の維持
に失敗することがある。このため、テスラーコイル４９
の作動後、２〜３秒待機した後（ステップＳＴ５）、光
電センサ５０を用いて放電管５０内での放電状態を確認
する。In this state, the microwave generator 48 is operated (step ST3). It should be noted that no discharge occurs in the discharge tube 40 only by operating the microwave generator 48. In the next step (step ST4), the Tesler coil 49 is operated to cause discharge, and thereafter, the microwave generator 48 maintains the discharge state. The discharge state of the microwave generator 48 is detected by the photoelectric sensor 50. However, in some cases, the start of discharge by the Tesler coil 49 or the subsequent maintenance of the discharge state by the microwave generator 48 may fail. Therefore, the Tesler coil 49
After waiting 2 to 3 seconds after the operation of (step ST5), the discharge state in the discharge tube 50 is confirmed using the photoelectric sensor 50.
【００３０】その結果、放電管５０内で放電状態が維持
されていない場合には、ステップＳＴ４に戻り、再び、
テスラーコイル４９を作動させて、放電を開始させる。
この様なテスラーコイル４９の再作動の動作は、光電セ
ンサ５０によって放電状態が確認されるまで繰り返し行
われる。As a result, when the discharge state is not maintained in the discharge tube 50, the process returns to step ST4 and again.
The Tesler coil 49 is activated to start discharge.
The operation of reactivating the Tesler coil 49 is repeated until the photoelectric sensor 50 confirms the discharge state.
【００３１】なお、予め設定された所定の回数、テスラ
ーコイル４９を再作動させても、放電が確認されない場
合には、放電管４０の破損など装置が故障している可能
性があるので、マイクロ波発生装置４８及び洗浄ガス供
給装置４５の作動を停止するとともに、ゲートバルブ３
４を閉じる。一方、ステップＳＴ６で放電状態が確認さ
れた場合には、ラジカル生成開始を表示して（ステップ
ＳＴ７）、洗浄開始フローを終了する。If the discharge is not confirmed even if the Tesler coil 49 is re-operated a predetermined number of times, there is a possibility that the device is broken such as damage of the discharge tube 40. The operation of the wave generator 48 and the cleaning gas supply device 45 is stopped, and the gate valve 3
Close 4 On the other hand, when the discharge state is confirmed in step ST6, the start of radical generation is displayed (step ST7), and the cleaning start flow is ended.
【００３２】放電管４０内における洗浄ガス中での放電
によって、洗浄ガス中にラジカルが生成され、ラジカル
を含んだエッチングガスが、ゲートバルブ３４及びフラ
ンジ３１を通ってノズル３７から鏡筒１０内へ供給され
る。ラジカルを含んだエッチングガスは、ビーム成形用
偏向器１８ａ、１８ｂ（図１）などの部品に沿って流
れ、それらの表面に堆積している絶縁膜などをエッチン
グした後、排気口２５（図１）を介して排出される。The discharge in the cleaning gas in the discharge tube 40 generates radicals in the cleaning gas, and the etching gas containing the radicals passes through the gate valve 34 and the flange 31 from the nozzle 37 into the lens barrel 10. Supplied. The etching gas containing radicals flows along the components such as the beam forming deflectors 18a and 18b (FIG. 1) to etch the insulating film and the like deposited on their surfaces, and then to the exhaust port 25 (FIG. 1). ) Is discharged via.
【００３３】このとき、ラジカルの発生位置、即ち、マ
イクロ波発生装置４８のキャビティを貫通する放電管４
０の内部（放電位置）は、ゲートバルブ３４及びフラン
ジ３１のみの短く且つ直線状の経路を介して、鏡筒１０
に接続されているので、生成されたラジカルの失活が少
なく、ラジカルの密度が高い洗浄ガスが鏡筒１０内へ供
給される。At this time, the discharge tube 4 penetrating the radical generation position, that is, the cavity of the microwave generator 48.
The inside of 0 (discharging position) is a lens barrel 10 through a short and linear path of only the gate valve 34 and the flange 31.
Since the generated radicals are not deactivated, the cleaning gas having a high radical density is supplied into the lens barrel 10.
【００３４】この様にして、鏡筒１０（図１）内の洗浄
工程が終了した後、操作部６１（図４）から制御部６２
へ洗浄終了の指令信号を与える。制御部６２は、この指
令信号を受けて、図５（ｂ）に示す洗浄終了フローを実
行する。即ち、操作部６１からの洗浄終了の指令信号を
受けて、マイクロ波発生装置４８を停止し（ステップＳ
Ｔ１１）、次いで、洗浄ガス供給装置４５からの洗浄ガ
スの供給を停止するとともに（ステップＳＴ１２）、ゲ
ートバルブ３４を閉じる（ステップＳＴ１３）。In this way, after the cleaning process for the inside of the lens barrel 10 (FIG. 1) is completed, the operation section 61 (FIG. 4) to the control section 62.
Give a command signal to the cleaning end. The control unit 62 receives this command signal and executes the cleaning end flow shown in FIG. That is, the microwave generator 48 is stopped in response to the cleaning end command signal from the operation unit 61 (step S
Then, the supply of the cleaning gas from the cleaning gas supply device 45 is stopped (step ST12), and the gate valve 34 is closed (step ST13).
【００３５】なお、この洗浄終了フローは、図５（ａ）
に示したステップＳＴ７からの経過時間や、排気口２５
（図１）から排出されるガスの分析データなどに基づい
て自動的に実行させる様にしてもよい。The cleaning end flow is shown in FIG.
Elapsed time from step ST7 and exhaust port 25
It may be automatically executed based on the analysis data of the gas discharged from (FIG. 1).
【００３６】以上の鏡筒内の洗浄作業自体は、描画を停
止させて行うので、描画精度に悪影響を及ぼすことはな
い。但し、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル
４９はいずれも接地され、鏡筒１０も接地されているの
で（図示せず）、仮に、マイクロ波発生装置４８及びテ
スラーコイル４９を鏡筒１０に対して電気的に絶縁して
おかないと、これらを結ぶ電気回路が構成され、マイク
ロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９の非作動時に
も、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれがある。このため、図２に示した例で
は、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
を、電気絶縁材製（例えば、塩化ビニール）のベースプ
レート５５の上に支持し、このベースプレート５５をブ
ラケット５６を介して鏡筒１０に取り付けている。従っ
て、マイクロ波発生装置４８及びテスラーコイル４９
が、電子ビーム描画装置本体に電気的または磁気的ノイ
ズを与えるおそれはない。The above-described cleaning operation inside the lens barrel itself is performed with the drawing stopped, so that the drawing accuracy is not adversely affected. However, since the microwave generator 48 and the Tesler coil 49 are both grounded and the lens barrel 10 is also grounded (not shown), the microwave generator 48 and the Tesler coil 49 are assumed to be connected to the lens barrel 10. If they are not electrically insulated, an electric circuit connecting them is configured, and there is a possibility that electric or magnetic noise may be given to the electron beam drawing apparatus main body even when the microwave generator 48 and the Tesler coil 49 are inactive. is there. Therefore, in the example shown in FIG. 2, the microwave generator 48 and the Tesler coil 49 are
Is supported on a base plate 55 made of an electrically insulating material (for example, vinyl chloride), and the base plate 55 is attached to the lens barrel 10 via a bracket 56. Therefore, the microwave generator 48 and the Tesler coil 49
However, there is no possibility of giving electrical or magnetic noise to the main body of the electron beam drawing apparatus.
【００３７】[0037]
【発明の効果】本発明の鏡筒内洗浄装置によれば、ラジ
カルを含んだエッチングガスによる鏡筒内の洗浄作業
を、遠隔操作によって確実に実施することができる。According to the apparatus for cleaning the inside of the lens barrel of the present invention, the cleaning work inside the lens barrel with the etching gas containing radicals can be reliably performed by remote control.
【図１】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置が取り付けられ
た電子ビーム描画装置の構成を示す概略図。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an electron beam drawing apparatus to which a lens barrel cleaning apparatus according to the present invention is attached.
【図２】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の主要部の構成
を示す詳細図。FIG. 2 is a detailed view showing a configuration of a main part of the apparatus for cleaning a lens barrel according to the present invention.
【図３】図２のＡ−Ａ断面図。3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
【図４】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の制御ブロック
図。FIG. 4 is a control block diagram of the lens barrel cleaning apparatus according to the present invention.
【図５】本発明に基づく鏡筒内洗浄装置の制御フローチ
ャートであって、（ａ）は洗浄開始のフロー、（ｂ）は
洗浄終了のフローである。5A and 5B are control flowcharts of the lens barrel cleaning apparatus according to the present invention, in which FIG. 5A is a cleaning start flow and FIG.
１０・・・鏡筒、 １１・・・電子ビーム発生部、 １２，１３，１４，１５・・・電子レンズ、 １６・・・第一アパーチャ、 １７・・・第二アパーチャ、 １８ａ、１８ｂ・・・ビーム成形用偏向器、 １９・・・ビーム位置制御用偏向器、 ２０・・・描画室、 ２１・・・被描画材、 ２２・・・ＸＹステージ、 ２５・・・排気口、 ３０・・・鏡筒内洗浄装置、 ３１・・・フランジ、 ３４・・・ゲートバルブ、 ３７・・・ノズル、 ３９・・・継手部、 ４０・・・放電管、 ４３・・・継手、 ４４・・・管継手、 ４５・・・ガス供給装置、 ４６・・・取付台、 ４７・・・遮光カバー、 ４７ａ・・・（排気用の）パイプ、 ４８・・・マイクロ波発生装置、 ４８ａ・・・マイクロ波発生端子、 ４８ｂ・・・マッチングタブ、 ４９・・・テスラーコイル、 ５０・・・光電センサ（センサ）、 ５５・・・ベースプレート、 ５６・・・ブラケット、 ５７・・・ブラケット、 ６１・・・操作部、 ６２・・・制御部。 10 ... lens barrel, 11 ... Electron beam generator, 12, 13, 14, 15 ... Electronic lens, 16 ... first aperture, 17 ... second aperture, 18a, 18b ... Beam forming deflector, 19 ... Beam position control deflector, 20 ... Drawing room, 21 ... drawing material, 22 ... XY stage, 25 ... Exhaust port, 30 ... Cleaning device for lens barrel, 31 ... flange, 34 ... Gate valve, 37 ... Nozzle 39 ... Joint, 40 ... Discharge tube, 43 ... Joint, 44 ... Pipe fitting, 45 ... Gas supply device, 46 ... Mounting base, 47 ... Shading cover, 47a ... (for exhaust) pipe, 48 ... Microwave generator, 48a: microwave generation terminal, 48b ... Matching tab, 49 ... Tessler coil, 50 ... Photoelectric sensor (sensor), 55 ... Base plate, 56 ... Bracket, 57 ... Bracket, 61 ... Operation unit, 62 ... Control unit.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｇ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (51) Int.Cl. 7 Identification Code FI H01L 21/30 541G
Claims (6)
を含んだエッチングガスを流して、内部に配置された部
品を洗浄する鏡筒内洗浄装置において、 前記鏡筒の側壁に取り付けられたゲートバルブと、 前記ゲートバルブを介して先端が前記鏡筒に接続された
ガラス製の放電管と、 前記放電管の後端に接続され、洗浄ガスを前記放電管内
に供給する洗浄ガス供給装置と、 マイクロ波発生端子とマッチングタブを有し、これら間
のキャビティ内を前記放電管が貫通し、前記放電管内を
流れる洗浄ガス内で放電を起こさせて、ラジカルを発生
させるマイクロ波発生装置と、 前記マイクロ波発生装置に隣接して配置され、前記放電
管の外から中に向けて、前記マイクロ波発生装置よりも
強力なマイクロ波のパルスを発射することによって、前
記放電管内で放電を開始させるテスラーコイルと、 前記放電管内が放電状態にあることを検出するためのセ
ンサと、 前記洗浄ガス供給装置、前記ゲートバルブ、前記マイク
ロ波発生装置及び前記テスラーコイルをそれぞれ制御し
て、前記放電管内での放電の開始及び終了を行う制御部
とを備え、 前記制御部は、前記テスラーコイルの作動から予め定め
られた時間の経過後に、前記放電管内が放電状態にある
ことが前記センサによって確認されなかったとき、再び
前記テスラーコイルを作動させる様に構成されているこ
とを特徴とする電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。1. An in-lens barrel cleaning apparatus for cleaning an internal component by flowing an etching gas containing radicals into the barrel of an electron beam drawing apparatus, the gate being attached to a side wall of the barrel. A bulb, a glass discharge tube whose tip is connected to the barrel through the gate valve, a cleaning gas supply device connected to the rear end of the discharge tube, and supplying a cleaning gas into the discharge tube, A microwave generation device having a microwave generation terminal and a matching tab, wherein the discharge tube penetrates the cavity between them to cause a discharge in the cleaning gas flowing in the discharge tube to generate radicals; It is arranged adjacent to the microwave generator, and emits a microwave pulse stronger than the microwave generator from the outside to the inside of the discharge tube, so as to emit the microwave. A Tesler coil that starts discharge in the tube, a sensor for detecting that the discharge tube is in a discharge state, the cleaning gas supply device, the gate valve, the microwave generator and the Tesler coil respectively controlled. A control unit for starting and ending discharge in the discharge tube, wherein the control unit is in a discharge state after the elapse of a predetermined time from the operation of the Tesler coil. The apparatus for cleaning an inside of a lens barrel of an electron beam drawing apparatus, wherein the apparatus is configured to operate the Tesler coil again when it is not confirmed by the sensor.
作動の回数が、予め設定された上限回数に到達するまで
に放電状態が確認されなかったとき、前記洗浄ガス供給
装置及び前記マイクロ波発生装置の作動を停止するとと
もに、前記ゲートバルブを閉じる様に構成されているこ
とを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置の鏡
筒内洗浄装置。2. The cleaning gas supply device and the microwave generator, when the discharge state is not confirmed before the number of re-operations of the Tesler coil reaches a preset upper limit number. The apparatus for cleaning an inside of a lens barrel of an electron beam drawing apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is configured to stop the operation of the apparatus and close the gate valve.
れ、この遮光カバーの中に前記マイクロ波発生装置のキ
ャビティ部分及び前記センサが収容されていることを特
徴とする請求項１に記載の電子ビーム描画装置の鏡筒内
洗浄装置。3. The sensor is a photoelectric sensor, and a periphery of an intermediate portion of the discharge tube is covered with a light shielding cover, and the cavity portion of the microwave generator and the sensor are housed in the light shielding cover. The apparatus for cleaning an inside of a lens barrel of an electron beam drawing apparatus according to claim 1, wherein:
成されていることを特徴とする請求項３に記載の電子ビ
ーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。4. The lens barrel cleaning apparatus for an electron beam drawing apparatus according to claim 3, wherein the light-shielding cover is configured to be able to exhaust the inside.
鏡筒の側壁に取り付けられ、 前記放電管及び前記ゲートバルブは、それぞれの軸が一
直線上に並ぶ様に配置されていることを特徴とする請求
項１に記載の電子ビーム描画装置の鏡筒内洗浄装置。5. The gate valve is attached to a side wall of a lens barrel via a flange, and the discharge tube and the gate valve are arranged so that their respective axes are aligned. The lens barrel cleaning device of the electron beam drawing apparatus according to claim 1.
ーコイルは、電気絶縁材製のベースプレートによって支
持され、このベースプレートを介して鏡筒に取り付けら
れていることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム
描画装置の鏡筒内洗浄装置。6. The electronic device according to claim 1, wherein the microwave generator and the Tesler coil are supported by a base plate made of an electrically insulating material and are attached to a lens barrel via the base plate. Cleaning device for lens barrel of beam drawing device.
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| JP29398599A JP3372911B2 (en) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | Cleaning equipment for the electron beam lithography system |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP29398599A JP3372911B2 (en) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | Cleaning equipment for the electron beam lithography system |
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Family Applications (1)
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