JP3361695B2 - Method of forming dynamic pressure generating groove using cylindrical photomask - Google Patents
Method of forming dynamic pressure generating groove using cylindrical photomaskInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は円筒状フォトマスク
及びその製造方法並びに円筒状フォトマスクを用いた動
圧発生溝の形成方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cylindrical photomask, a method of manufacturing the same, and a method of forming a dynamic pressure generating groove using the cylindrical photomask.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、流体軸受用軸体等に動圧発生溝を
形成するに当っては、次のような方法が採用されてい
た。これを図１に基づき説明すれば、スリット２を設け
た光遮蔽体３の片面側に、表面にフォトレジスト４（以
下、フォトレジストを単にレジストという）が塗布され
た軸体１をその軸芯５が上記スリット２に相対するよう
に配置し、更に光遮蔽体３と軸体１との間に、所望の形
状の動圧発生溝のパターンがポジティブ又はネガティブ
に形成された平面状のフォトマスク６を配置する。フォ
トマスク６の位置を固定しておき、軸体１の周面とフォ
トマスク６の軸体１側の面とが相互にズレるようなこと
のないよう圧接させて（尚、図では便宜上、離間させて
ある）、軸体１の周面に形成すべきパターン周期とフォ
トマスク６のパターン周期との同期状態を維持しなが
ら、例えば軸体１を図中矢印ａ方向に回転させつつ図中
矢印ｂ方向に移動させると共に、スリット２が常に軸芯
５に相対しているように光遮蔽体３を図中矢印ｃ方向に
移動させながら、光遮蔽体３の上方から図中矢印ｄ方向
に紫外線等のフォトレジスト感光光線（以下、単に光と
いう）を照射して、動圧発生溝のパターンに相当する軸
体の金属面を露出させるように形成された硬化レジスト
膜を形成する。ここにおいて、通常、光遮蔽体３とフォ
トマスク６とは接触させつつ滑動させるか、若しくは僅
かな隙間がある状態で行なわれている（尚、図では便宜
上、離間させてある）。またスリット２の幅は０．１〜
０．５ｍｍ程度である。その後、この硬化レジスト膜を
エッチングマスク（エッチング処理によって軸体表面が
食刻されるのを阻止する阻止被覆材）としてエッチング
を行い、軸体１の外周部に動圧発生溝を形成する。2. Description of the Related Art Conventionally, in forming a dynamic pressure generating groove in a fluid bearing shaft or the like, the following method has been adopted. This will be described with reference to FIG. 1. A shaft body 1 having a surface coated with a photoresist 4 (hereinafter, the photoresist is simply referred to as a resist) is provided on one side of a light shield 3 having a slit 2. 5 is arranged so as to face the slit 2, and a flat photomask in which a dynamic pressure generating groove pattern having a desired shape is formed between the light shield 3 and the shaft 1 in a positive or negative manner. Place 6 The position of the photomask 6 is fixed, and the peripheral surface of the shaft body 1 and the surface of the photomask 6 on the shaft body 1 side are pressed against each other so as not to be displaced from each other. While maintaining the synchronous state of the pattern period to be formed on the peripheral surface of the shaft body 1 and the pattern period of the photomask 6, for example, while rotating the shaft body 1 in the direction of arrow a in the figure, the arrow in the figure While moving in the b direction and moving the light shield 3 in the direction of arrow c in the figure so that the slit 2 always faces the axis 5, ultraviolet rays are emitted from above the light shield 3 in the direction of arrow d in the figure. A photoresist photosensitive light beam (hereinafter, simply referred to as light) or the like is irradiated to form a cured resist film formed so as to expose the metal surface of the shaft body corresponding to the pattern of the dynamic pressure generating groove. Here, usually, the light shield 3 and the photomask 6 are slid while making contact with each other, or in a state where there is a slight gap (it is separated for convenience in the figure). The width of the slit 2 is 0.1
It is about 0.5 mm. Then, this hardened resist film is used as an etching mask (a blocking coating material that prevents the surface of the shaft body from being etched by the etching process) to perform etching to form a dynamic pressure generating groove in the outer peripheral portion of the shaft body 1.
【０００３】また上記方法以外に次のような動圧発生溝
形成方法も知られている。例えば、特開昭６１−１３０
４９０号公報は、所望の動圧発生溝の形状が形成された
平板状フォトマスクを巻いて接着テープで止めたり或い
は接着剤で貼り付けて円筒状にし、これを、表面にレジ
ストを塗布した軸体に被せた後、これらを一体的に回転
させつつ一定方向からフォトマスクに向けて露光してレ
ジストを感光させ、その後エッチングすることにより軸
体の外周部に動圧発生溝を形成する方法を開示してい
る。In addition to the above method, the following dynamic pressure generating groove forming method is also known. For example, JP-A-61-130
Japanese Patent No. 490 discloses a shaft in which a plate-shaped photomask having a desired dynamic pressure generation groove shape is rolled and fixed with an adhesive tape or attached with an adhesive to form a cylindrical shape, and the surface of which is coated with a resist. After covering the body, a method of forming a dynamic pressure generating groove on the outer peripheral portion of the shaft by exposing the resist by exposing it to a photomask from a certain direction while rotating them integrally and then etching Disclosure.
【０００４】更に、特公昭６３−３１５５６号公報は、
表面にレジストを塗布した被加工軸に、フィルム製又は
金属板製の平面マスクを巻きつけて必要に応じて継ぎ目
を接着テープなどで止めた後、露光を行ない、次いでエ
ッチングすることにより軸体の外周部に動圧発生溝を形
成する方法を開示している。Further, Japanese Patent Publication No. 63-31556 discloses that
Wrap a film or metal plate flat mask around the shaft to which the resist has been applied on the surface, and if necessary, stop the seams with adhesive tape, etc., then perform exposure and then etch the shaft body. Disclosed is a method of forming a dynamic pressure generating groove on the outer peripheral portion.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光遮蔽
板の水平移動と軸体の回転移動とを同期させて露光する
方法（以下、回転同期法という）では、露光作業に非常
に時間がかかり生産効率に劣るものであった。更に、現
状では完全な平行光線を得ることは極めて困難であり、
従って露光の際にフォトマスクの光透過部を通り抜けた
光が被露光部、直接にはレジスト表面、に到達する迄の
距離が長いと光が拡散して必要以上に幅が広く且つエッ
ジの正確さに欠ける線画が形成されてしまい、フォトマ
スクのパターンに忠実なパターンの再現が不可能となっ
て細密で正確な線画パターンの形成が不可能となるとい
う問題がある。そこで上記フォトマスクと被露光部との
間の距離を如何に小さくできるかが、細密で正確な線画
パターンを形成するにあたっての重要課題となる。しか
し、被露光部が円柱状の前記軸体のようなものである場
合、フォトマスクが平面状である限り被露光部がフォト
マスクと密接できる部分はある非常に狭い幅をもった線
でしかなく、それ以外の部分はフォトマスクとの間隔が
拡がる状態となる。従って、できるだけ細密で正確な線
画パターンを形成するためには、被露光部がフォトマス
クと密接できる非常に狭い幅の線が構成する領域を一単
位としてこの単位毎にそれぞれ充分な時間の露光が必要
となり、被露光部表面の全領域を露光し終わるまでの間
に数単位の露光が行なわれなければならないから、全体
として露光に非常に長い時間を要していた。However, in the method of exposing by synchronizing the horizontal movement of the light shield plate and the rotational movement of the shaft (hereinafter referred to as the rotation synchronization method), the exposure work takes a very long time, It was inefficient. Furthermore, it is extremely difficult to obtain perfect parallel rays at present,
Therefore, if the light that has passed through the light-transmitting portion of the photomask at the time of exposure reaches the exposed portion, that is, the resist surface directly, if the distance is long, the light will diffuse and the width will be wider than necessary and the edge will be accurate. However, there is a problem in that a line drawing lacking in depth is formed, a pattern faithful to the pattern of the photomask cannot be reproduced, and a fine and accurate line drawing pattern cannot be formed. Therefore, how to reduce the distance between the photomask and the exposed portion is an important issue in forming a fine and accurate line drawing pattern. However, when the exposed portion is like the cylindrical shaft body, there is a portion where the exposed portion can come into close contact with the photomask as long as the photomask is a flat surface. However, the other portions are in a state where the distance from the photomask is widened. Therefore, in order to form a line drawing pattern that is as fine and accurate as possible, exposure is performed for a sufficient time for each unit, with the region formed by a line having a very narrow width that allows the exposed portion to be in close contact with the photomask as one unit. It is necessary, and several units of exposure must be performed until the entire area of the surface of the exposed portion has been exposed, so that the overall exposure requires a very long time.
【０００６】一方、上記特開昭６１−１３０４９０号公
報に開示されている方法によれば、フォトマスクが被露
光部の外周の全面に対して一応は密着した状態となるた
め、一度の露光を比較的広い範囲で行なっても線画が所
望とする形状以上に幅広く形成されるという虞れはな
く、また露光時間の短縮を図れるものと考えられる。し
かしながら、円筒状フォトマスクを得るに当っては、平
板状フォトマスクを軸体に巻きつけて接着テープで止め
たり或いは接着剤で貼り付けて円筒状にしているため、
真円度を出すことができないという欠点がある。そのた
め、軸体の被加工部の表面にレジストを塗布した部位、
即ち被露光部に円筒状フォトマスクを被せるに当って、
軸ズレなくまた隙間なく或いは強く擦れたりすることな
く正確に被嵌するということはできず、実際には被露光
部に密着させた状態で被嵌することは不可能であるか
ら、通常は円筒状フォトマスクと被露光部との間に隙間
ができる状態となる。そして、被露光部との間に隙間が
できれば細密で正確な線画の形成が不可能となる。On the other hand, according to the method disclosed in the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 61-130490, since the photomask is in close contact with the entire outer peripheral surface of the exposed portion, one exposure is performed. Even if it is performed in a relatively wide range, there is no fear that the line drawing will be formed wider than the desired shape, and it is considered that the exposure time can be shortened. However, in obtaining a cylindrical photomask, a flat photomask is wound around a shaft body and fixed with an adhesive tape, or affixed with an adhesive to form a cylindrical photomask.
There is a drawback that it is not possible to achieve roundness. Therefore, the part where the resist is applied to the surface of the processed part of the shaft body,
That is, in covering the exposed portion with the cylindrical photomask,
It is not possible to fit accurately without axial misalignment, without gaps, or without strong rubbing, and in practice it is impossible to fit in a state in which it is in close contact with the exposed portion. A gap is formed between the photomask and the exposed portion. If a gap is formed between the exposed portion and the exposed portion, it is impossible to form a fine and accurate line drawing.
【０００７】また上記フォトマスクを金属製とした場合
には次のような問題も生じる。即ち、動圧発生溝がヘリ
ングボーン形状である場合において、平板状フォトマス
クを円筒状に巻いた時、ヘリングボーン形状を形作るＶ
字のうちの尖鋭突起部分が完全には曲面に沿った形状と
ならず、円周と外側方向に立ち上がった形状となってし
まい、その結果、被露光部に密着せずに隙間ができ、細
密で正確な線画の形成ができないという問題がある。If the photomask is made of metal, the following problems will occur. That is, in the case where the dynamic pressure generating groove has a herringbone shape, when the flat plate-shaped photomask is rolled into a cylindrical shape, a herringbone shape is formed.
The sharp protrusions of the letter do not completely follow the curved surface, but rise to the circumference and the outer direction.As a result, a gap is created without adhering to the exposed area, resulting in a fine shape. However, there is a problem that an accurate line drawing cannot be formed.
【０００８】更に、平板状フォトマスクを円筒状に巻く
に当って、端部同士を重なり合わせた場合は合わせ目に
隙間が生じ、また端部を突き合わせた場合にも突き合わ
せ部に僅かな隙間が生じ、いずれの場合も隙間から光が
入って不要な部分が露光されてパターニングされてしま
うという欠点がある。Further, when the flat photomask is wound in a cylindrical shape, when the ends are overlapped with each other, a gap is formed at the joint, and when the ends are butted, a slight gap is made at the butted part. In any case, there is a drawback that light enters through the gap and an unnecessary portion is exposed and patterned.
【０００９】また、平板状フォトマスクを巻いて端部を
継ぎ合わせて円筒状としたのでは、均一寸法のものを作
ることができず、寸法上のバラツキが生じ、安定した品
質の動圧発生溝を形成することが困難である。Further, if a flat photomask is wound and the end portions are joined to form a cylindrical shape, it is impossible to make a uniform size, and dimensional variation occurs, and dynamic pressure generation of stable quality is generated. It is difficult to form the groove.
【００１０】また、特公昭６３−３１５５６号公報に開
示された方法も同様に平板状フォトマスクを円筒状に巻
きつけるものであるため、上記したと同様の欠点を包含
している。The method disclosed in Japanese Examined Patent Publication No. 63-31556 also involves winding a flat photomask in a cylindrical shape, and therefore has the same drawbacks as described above.
【００１１】本発明者等は、上記従来の欠点を解消する
ため鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は露光に要する時間を飛躍的に短縮できしか
も細密で且つ正確なパターンを形成することを可能にす
る円筒状フォトマスク及びその製造方法を完成し、この
円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法を提
供することにある。特に筒状体の内周面に所望の動圧発
生溝パターンの形成、および特殊な構造体を有する軸体
に所望の動圧発生溝パターンの形成方法を提供するもの
である。 The present inventors have completed the present invention as a result of intensive studies to solve the above-mentioned conventional drawbacks. That is, the present invention has completed a cylindrical photomask and a method for manufacturing the same, which can drastically reduce the time required for exposure and enable formation of a fine and accurate pattern. It is to provide a method for forming a dynamic pressure generation groove using a mask. Especially, the desired dynamic pressure is generated on the inner peripheral surface of the cylindrical body.
Shaft body with raw groove pattern formation and special structure
To provide a desired dynamic pressure generating groove pattern forming method
Is.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、動
圧発生溝被形成体にフォトエッチング法を用いて動圧発
生溝を形成する方法において、動圧発生溝被形成体の被
加工部の表面にフォトレジスト層を形成した被露光部
に、所望の動圧発生溝パターンを有する透孔を形成して
なる円筒状フォトマスクを嵌合して光照射して露光した
後、現像処理、エッチング処理を行って動圧発生溝被形
成体に所望の動圧発生溝を形成する方法において、
（１）筒状体の内周面にフォトレジスト層を形成した被
露光部を有する動圧発生溝被形成体の内空部に、所望の
動圧発生溝パターンを有する透孔を形成してなる円筒状
フォトマスクを嵌合し、該円筒状フォトマスクの内側中
心部から被露光部に光を照射して露光した後、円筒状フ
ォトマスクを被露光部から取り除きフォトレジスト層を
現像処理した後、エッチング処理を行い筒状体の内周面
に動圧発生溝を形成することを特徴とする円筒状フォト
マスクを用いた動圧発生溝の形成方法、および（２）軸
体と鍔体とが一体となった構造体の軸体表面にフォトレ
ジスト層を形成した被露光部に、所望の動圧発生溝パタ
ーンを有する透孔を形成してなる円筒状フォトマスク外
側全周から被露光部に向けて光照射が行われるように光
反射板を配置し、光を照射して露光した後、円筒状フォ
トマスクを被露光部から取り除き、フォトレジスト層を
現像処理した後、エッチング処理を行い軸体と鍔体とが
一体となった構造体の軸部に動圧発生溝を形成すること
を特徴とする円筒状フォトマスクを用いた動圧発生溝の
形成方法を要旨とする。 That is, the present invention is
Dynamic pressure generation by using photo-etching method on the pressure generation groove formation object
In the method of forming the raw groove, the dynamic pressure generating groove
Exposed area with photoresist layer formed on the surface of processed area
To form a through hole having a desired dynamic pressure generating groove pattern.
It was exposed by irradiating light by fitting a cylindrical photomask
After that, development processing and etching processing are performed to form the dynamic pressure generation groove.
In a method of forming a desired dynamic pressure generating groove in an adult,
(1) A cylindrical body having a photoresist layer formed on the inner peripheral surface thereof.
A desired pressure is formed in the inner space of the dynamic pressure generation groove forming body having the exposed portion.
Cylindrical shape with through holes having dynamic pressure generating groove pattern
Fit the photomask, and inside the cylindrical photomask
After irradiating the exposed area with light from the core,
Remove the photomask from the exposed area and remove the photoresist layer.
After development processing, etching processing is applied to the inner peripheral surface of the cylindrical body.
Cylindrical photo characterized by forming dynamic pressure generating grooves in the
Method for forming dynamic pressure generating groove using mask, and (2) axis
On the surface of the shaft of the structure where the body and the collar are integrated.
A desired dynamic pressure generation groove pattern is formed on the exposed portion on which the dist layer is formed.
Outside a cylindrical photomask formed by forming through holes having
Light is applied so that light is irradiated from the entire circumference of the side toward the exposed area.
After arranging a reflector and irradiating it with light to expose it,
The photoresist mask from the exposed area and remove the photoresist layer.
After development processing, etching processing is performed so that the shaft body and the collar body
Forming a dynamic pressure generation groove on the shaft of the integrated structure
Of a dynamic pressure generating groove using a cylindrical photomask characterized by
The forming method is the main point.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明を詳細
に説明する。図２、図３は本発明の円筒状フォトマスク
の実施例を示し、同図において７は円筒状フォトマス
ク、８は透孔、９は例えば軸体の如き動圧発生溝被形成
体、１０はレジスト層、１１は被露光部を表す。被露光
部１１は、動圧発生溝被形成体９の被加工部９１の表面
にレジスト層１０を形成した状態の部位である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below with reference to the drawings. 2 and 3 show an embodiment of a cylindrical photomask according to the present invention. In FIG. 2, 7 is a cylindrical photomask, 8 is a through hole, and 9 is a dynamic pressure generating groove forming object such as a shaft. Is a resist layer, and 11 is an exposed portion. The exposed portion 11 is a portion where the resist layer 10 is formed on the surface of the processed portion 91 of the dynamic pressure generation groove forming body 9.
【００１４】尚、図２は動圧発生溝被形成体９が軸体で
あり、該軸体の外周部に動圧発生溝を形成する場合の、
円筒状フォトマスク７と被露光部１１との嵌合関係を示
す図である。また図３は動圧発生溝被形成体９が、内空
部を有する筒体であり、該筒体の内空部に動圧発生溝を
形成する場合の、円筒状フォトマスク７と被露光部１１
との嵌合関係を示す図である。In FIG. 2, the dynamic pressure generation groove forming body 9 is a shaft body, and the dynamic pressure generation groove is formed on the outer peripheral portion of the shaft body.
It is a figure which shows the fitting relationship of the cylindrical photomask 7 and the to-be-exposed part 11. Further, FIG. 3 shows a case where the dynamic pressure generation groove forming object 9 is a cylinder having an inner space, and when the dynamic pressure generation groove is formed in the inner space of the cylinder, the cylindrical photomask 7 and the exposed surface are exposed. Part 11
It is a figure which shows the fitting relationship with.
【００１５】本発明において、動圧発生溝被形成体９と
しては、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ハードディスク、ビデオ
カメラ等に用いられる回転駆動機構における回転駆動軸
やその軸受け等が挙げられるが、これらに限定されな
い。In the present invention, examples of the dynamic pressure generation groove forming body 9 include, but are not limited to, a rotary drive shaft in a rotary drive mechanism used in a CD-ROM, a hard disk, a video camera, and the like. Not done.
【００１６】円筒状フォトマスク７は、エレクトロフォ
ーミング法を用いて得られたものであり、エレクトロフ
ォーミング法によって析出した金属、例えばニッケルを
主体とした金属からなる。該金属のビッカース硬さ（Ｈ
ｖ）は５００以上、好ましくは５８０〜６３０であり、
抗張力は９０ｋｇ／ｍｍ2 以上、好ましくは１００〜１
３０ｋｇ／ｍｍ2 であり、またヤング率は１８０００以
上、好ましくは２００００ｋｇ／ｍｍ2 である。エレク
トロフォーミング法は、従来公知の方法によって実施す
ることができる。The cylindrical photomask 7 is obtained by using the electroforming method, and is made of a metal deposited by the electroforming method, for example, a metal mainly containing nickel. Vickers hardness (H
v) is 500 or more, preferably 580 to 630,
Tensile strength is 90 kg / mm 2 or more, preferably 100 to 1
It is 30 kg / mm 2 , and Young's modulus is 18,000 or more, preferably 20,000 kg / mm 2 . The electroforming method can be carried out by a conventionally known method.
【００１７】円筒状フォトマスク７の厚みｔは、該円筒
状フォトマスク７が容易に変形しない程度に、その硬さ
に見合った厚みであれば任意である。通常、硬さ（Ｈ
ｖ）が５８０〜６１０の時に、厚みｔは１５〜５０μｍ
で、フォトマスクとして充分使用に耐え得る。通常、厚
みｔは２０〜３０μｍである。The thickness t of the cylindrical photomask 7 is arbitrary as long as the cylindrical photomask 7 is not deformed easily and has a thickness commensurate with its hardness. Generally, hardness (H
When v) is 580 to 610, the thickness t is 15 to 50 μm.
Thus, it can be used as a photomask sufficiently. Usually, the thickness t is 20 to 30 μm.
【００１８】また、上記円筒状フォトマスク７の内径Ｒ
1 又は外径Ｒ2 、長さＬ1 は、動圧発生溝被形成体９の
被加工部９１の表面にレジスト層１０を形成した被露光
部１１の外径Ｒ3 又は内径Ｒ4 、長さＬ2 に相応し、被
露光部１１に嵌合可能な大きさであれば任意であるが、
通常、内径Ｒ1 は１〜６ｍｍ、外径Ｒ2 は内径Ｒ1 に厚
みｔの２倍を加えた長さ、長さＬ1 はＬ2 以上の長さで
ある。尚、レジスト層１０は通常、５〜２５μｍ程度の
厚みに形成される。The inner diameter R of the cylindrical photomask 7 is
1 or the outer diameter R 2 and the length L 1 are the outer diameter R 3 or the inner diameter R 4 of the exposed portion 11 in which the resist layer 10 is formed on the surface of the processed portion 91 of the dynamic pressure generation groove forming body 9, respectively. The size is arbitrary as long as it corresponds to the height L 2 and can be fitted into the exposed portion 11,
Usually, the inner diameter R 1 is 1 to 6 mm, the outer diameter R 2 is the inner diameter R 1 plus twice the thickness t, and the length L 1 is L 2 or more. The resist layer 10 is usually formed to have a thickness of about 5 to 25 μm.
【００１９】円筒状フォトマスク７は、被露光部１１に
嵌合可能に形成されている。前述したように尚、円筒状
フォトマスク７と被露光部１１とを嵌合させる態様とし
ては、図２、図３に示すように、円筒状フォトマスク７
を被露光部１１の外周面に嵌合する態様（図２）、円筒
状フォトマスク７を被露光部１１の内空部に嵌合する態
様（図３）とがある。The cylindrical photomask 7 is formed so that it can be fitted into the exposed portion 11. As described above, as a mode of fitting the cylindrical photomask 7 and the exposed portion 11 to each other, as shown in FIGS.
Is fitted to the outer peripheral surface of the exposed portion 11 (FIG. 2), and the cylindrical photomask 7 is fitted to the inner space of the exposed portion 11 (FIG. 3).
【００２０】円筒状フォトマスク７と被露光部１１との
嵌め合い時の隙間ｇは、通常、１０〜４０μｍの範囲で
ある。The gap g at the time of fitting between the cylindrical photomask 7 and the exposed portion 11 is usually in the range of 10 to 40 μm.
【００２１】透孔８は、所望の動圧発生溝のパターンに
対応したパターン形状を有している。該パターン形状は
動圧発生溝によって回転による動圧が発生するような任
意の形状とすることができるが、通常、例えば図２、図
３に示すようなヘリングボーン形状が採用される。The through hole 8 has a pattern shape corresponding to a desired dynamic pressure generating groove pattern. The pattern shape can be any shape in which a dynamic pressure is generated by rotation by the dynamic pressure generating groove, but normally, a herringbone shape as shown in FIGS. 2 and 3, for example, is adopted.
【００２２】透孔８のパターン幅は、通常の動圧発生溝
を充分に形成できる程度の幅であれば任意である。通常
の動圧発生溝の幅は一例として０．３ｍｍであるが、こ
の幅の動圧発生溝を形成するためには透孔８のパターン
幅もほぼ０．３ｍｍ程度である。The pattern width of the through holes 8 may be any width as long as it can sufficiently form a normal dynamic pressure generating groove. The width of the normal dynamic pressure generating groove is 0.3 mm as an example, but the pattern width of the through hole 8 is also about 0.3 mm in order to form the dynamic pressure generating groove of this width.
【００２３】次に、上記した本発明の円筒状フォトマス
クの製造方法について説明する。上記したような本発明
の円筒状フォトマスクを製造するに当っては、例えばフ
ォトリソグラフ法を用いて基材の表面に所望の動圧発生
溝のパターンに対応するパターンの硬化レジスト層を形
成して陰型を得る方法を採用することができる。Next, a method for manufacturing the above-mentioned cylindrical photomask of the present invention will be described. In manufacturing the cylindrical photomask of the present invention as described above, a cured resist layer having a pattern corresponding to a desired dynamic pressure generating groove pattern is formed on the surface of a base material using, for example, a photolithographic method. A method of obtaining a negative shape can be adopted.
【００２４】本発明は、上記のようにして得られた陰型
を用い、エレクトロフォーミング法によって該陰型の表
面の上記硬化レジスト層をエレクトロフォーミングマス
ク（エレクトロフォーミング処理によって金属が析出す
るのを阻止する阻止被覆材）として用い、上記硬化レジ
スト層以外の部分に金属を析出させるものである。The present invention uses the negative mold obtained as described above, and an electroforming method is used to form the cured resist layer on the surface of the negative mold by an electroforming mask (preventing metal deposition by electroforming treatment). And a metal is deposited on the portion other than the above-mentioned cured resist layer.
【００２５】以下、エレクトロフォーミング法を用いて
本発明の円筒状フォトマスクを製造する方法を図１及び
図４、図５、図６に基づき詳細に説明する。図１中、１
２は基材、１３は基材１２の軸芯、１４はスリット１５
を設けた光遮蔽体、１６はレジスト層、１７は所望の動
圧発生溝パターンが形成されたフォトマスクを表す。上
記基材１２として、例えばアルミニウム製パイプを用い
ることができる。該基材１２は被露光部に嵌合可能な外
径を有しており、その表面にはレジスト層１６が塗布形
成される。Hereinafter, a method for manufacturing the cylindrical photomask of the present invention using the electroforming method will be described in detail with reference to FIGS. 1, 4, 5, and 6. 1 in FIG.
2 is a base material, 13 is an axis of the base material 12, and 14 is a slit 15.
Is a light shield, 16 is a resist layer, and 17 is a photomask on which a desired dynamic pressure generating groove pattern is formed. As the base material 12, for example, an aluminum pipe can be used. The base material 12 has an outer diameter that can be fitted to the exposed portion, and a resist layer 16 is applied and formed on the surface thereof.
【００２６】基材１２の表面にレジスト層１６を形成す
る方法としては、ディップコーティング方式、スプレー
コーテイング方式等、従来公知の方法を用いることがで
きる。As a method of forming the resist layer 16 on the surface of the base material 12, a conventionally known method such as a dip coating method or a spray coating method can be used.
【００２７】本発明はまず、基材１２に動圧発生溝のパ
ターンに対応したパターン通りの硬化レジスト層を形成
してエレクトロフォーミングマスクを得るが、このエレ
クトロフォーミングマスクを得るに当って、本発明は従
来の回転同期法を用いることができる。In the present invention, first, a cured resist layer having a pattern corresponding to the pattern of the dynamic pressure generating groove is formed on the base material 12 to obtain an electroforming mask. In obtaining the electroforming mask, the present invention is performed. Can use the conventional rotation synchronization method.
【００２８】即ち、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、
光遮蔽体１４の下方に、ポジ型又はネガ型のレジスト層
１６が塗布形成された基材１２をその軸芯１３が光遮蔽
体１４のスリット１５に相対するように配置し、更に光
遮蔽体１４と基材１２との間に、所望の形状の動圧発生
溝のパターンがポジティブ又はネガティブに形成された
平面状のフォトマスク１７を配置する。フォトマスク１
７の位置を固定しておき、基材１２の周面とフォトマス
ク１７の基材１２側の面とが相互にズレるようなことの
ないよう圧接させて、基材１２の周面に形成したいパタ
ーン周期とフォトマスク１７のパターン周期との同期状
態を維持しながら、例えば基材１２を図中矢印ａ方向に
回転させつつ図中矢印ｂ方向に移動させると共に、スリ
ット１５が常に軸芯１３に相対しているように光遮蔽体
１４を図中矢印ｃ方向に移動させながら、光遮蔽体１４
の上方から図中矢印ｄ方向に光を照射する。通常、光遮
蔽体１４はフォトマスク１７に接触させつつ滑動させる
ようにする。またスリット１５の幅は従来同様、０．１
〜０．５ｍｍ程度とすることができる。尚、光遮蔽体１
４と基材１２とを同期させて移動させる代わりに、光遮
蔽体１４と基材１２の軸芯の位置を固定し、フォトマス
ク１７を水平移動させながら基材１２を回転させるよう
にしてもよい。That is, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b),
A base material 12 on which a positive or negative resist layer 16 is applied and formed is disposed below the light shield 14 such that an axis 13 of the base material 12 faces a slit 15 of the light shield 14. Between the substrate 14 and the substrate 12, a planar photomask 17 in which a dynamic pressure generating groove pattern having a desired shape is formed positively or negatively is arranged. Photo mask 1
7 is fixed, and the peripheral surface of the base material 12 and the surface of the photomask 17 on the base material 12 side are pressed against each other so as not to be displaced from each other to form the peripheral surface of the base material 12. While maintaining the synchronized state of the pattern period and the pattern period of the photomask 17, for example, the substrate 12 is moved in the direction of arrow b in the figure while being rotated in the direction of arrow a in the figure, and the slit 15 is always aligned with the axis 13. While moving the light shield 14 in the direction of arrow c in the figure so as to face each other,
Light is emitted from above in the direction of arrow d in the figure. Normally, the light shield 14 is made to slide while being in contact with the photomask 17. The width of the slit 15 is 0.1 as in the conventional case.
It can be set to about 0.5 mm. The light shield 1
Instead of synchronously moving 4 and the base material 12, the light shield 14 and the base material 12 may be fixed in axial position, and the base material 12 may be rotated while horizontally moving the photomask 17. Good.
【００２９】レジスト層１６としては上記したようにポ
ジ型レジストを用いても、或いはネガ型レジストを用い
てもよいが、いずれを用いる場合でも、３〜３０％水酸
化ナトリウム水溶液で膨潤又は溶解するものであるのが
好ましい。As the resist layer 16, a positive resist or a negative resist may be used as described above. In any case, it swells or dissolves in a 3 to 30% sodium hydroxide aqueous solution. It is preferably one.
【００３０】レジスト１６としてポジ型レジストを用い
た場合は、フォトマスク１７としては動圧発生溝のパタ
ーンの光が透過しないように形成されたフィルム状のフ
ォトマスクを用いる。この組合せを用いた場合は、露光
によってレジスト１６は動圧発生溝のパターン以外の、
光が透過した部分が分解して、現像工程を経ることによ
り動圧発生溝以外の部分が除去され、その結果、図４に
示すように、動圧発生溝のパターンが形成された硬化レ
ジスト層１６ａが基材１２の表面に残ることとなる。When a positive type resist is used as the resist 16, a film-shaped photomask formed so as not to transmit the light of the pattern of the dynamic pressure generating groove is used as the photomask 17. When this combination is used, the resist 16 is exposed by exposure to a pattern other than the pattern of the dynamic pressure generating groove.
The light-transmitted portion is decomposed, and a development step is performed to remove portions other than the dynamic pressure generating groove, and as a result, a cured resist layer having a dynamic pressure generating groove pattern is formed as shown in FIG. 16a will remain on the surface of the base material 12.
【００３１】またレジスト層１６としてネガ型レジスト
を用いた場合は、フォトマスク１７としては動圧発生溝
のパターンの光を透過するように形成されたフィルム状
やメタルマスク等のフォトマスクを用いる。この組合せ
を用いた場合は、露光によってレジスト層１６は動圧発
生溝のパターンの、光が透過した部分が硬化して、現像
工程を経ることにより動圧発生溝以外の部分が除去さ
れ、その結果、図４に示すように、動圧発生溝のパター
ンが形成された硬化レジスト層１６ａが基材１２の表面
に残ることとなる。When a negative type resist is used as the resist layer 16, a photomask such as a film-shaped or metal mask formed so as to transmit the light of the pattern of the dynamic pressure generating groove is used as the photomask 17. In the case of using this combination, the resist layer 16 cures the light-transmitting portion of the pattern of the dynamic pressure generating groove in the resist layer 16 and removes the portion other than the dynamic pressure generating groove by the developing process. As a result, as shown in FIG. 4, the cured resist layer 16a having the pattern of the dynamic pressure generating groove remains on the surface of the base material 12.
【００３２】尚、基材１２としてパイプ状のものを用い
た場合は、パイプ孔内部にエレクトロフォーミング処理
による金属の析出が行なわれないようにする必要があ
り、その手段としては、図４に示す如く、パイプの両
端部１８，１８の孔を硬化レジスト層１６ａで塞ぐ方
法、図４において示すパイプ内面１９にも硬化レジス
ト層（図示せず）を形成させる方法等が挙げられ、上記
いずれの方法を採用することもできるが、本実施例では
上記の例を示しており、この方法が最も簡便で好まし
い。パイプの孔径が２ｍｍ程度以下ならばこの方法でも
充分に対応できる。ただ、ポジ型レジストを用いた場合
は、端部１８の端面及びパイプ内面１９に光が当たらな
いようにしさえすれば、上記に依る方法も簡便に実施
できる。When a pipe-shaped material is used as the base material 12, it is necessary to prevent the metal from being deposited inside the pipe hole by the electroforming process. As described above, a method of closing the holes of both ends 18, 18 of the pipe with the cured resist layer 16a, a method of forming a cured resist layer (not shown) on the inner surface 19 of the pipe shown in FIG. Although the above example can be adopted, this example shows the above example, and this method is the most simple and preferable. If the hole diameter of the pipe is about 2 mm or less, this method can be sufficiently applied. However, when a positive resist is used, the method according to the above can be easily implemented as long as the end face of the end portion 18 and the pipe inner face 19 are not exposed to light.
【００３３】露光終了後、現像液を作用させてレジスト
層１６の未硬化部分を除去すると、レジストの硬化部分
によって動圧発生溝のパターンを有する硬化レジスト層
１６ａが形成され、これによって陰型２０が得られる。
現像液としては従来公知のものが用いられる。After the exposure is completed, the developing solution is applied to remove the uncured portion of the resist layer 16, and the cured portion of the resist forms a cured resist layer 16a having a pattern of dynamic pressure generating grooves. Is obtained.
A conventionally known developer is used as the developer.
【００３４】以上のようにして、基材１２の表面にエレ
クトロフォーミングマスクとしての硬化レジスト層１６
ａを形成してなる陰型２０を得た後、この陰型２０に対
してエレクトロフォーミング処理を行い、図５に示すよ
うに、陰型２０において硬化レジスト層１６ａが形成さ
れている部分以外の部分、即ち基材１２の下地金属露出
部分にエレクトロフォーミング金属を所望の膜厚となる
ように析出させ、金属層２１を形成する。エレクトロフ
ォーミング処理を行なうに当って、処理液成分組成、処
理浴の温度、濃度、電流密度等の処理条件は以下の通り
である。
１）処理液組成・・・硫酸ニッケル ６水物 ３５０ｇ／リットル
塩化ニッケル ６水物 ４５ｇ／リットル
硼酸 ３０ｇ／リットル
２）処理浴温度・・・４０〜５５℃
３）電流密度・・・・０．５〜２．０Ａ／ｄｍ2 As described above, the cured resist layer 16 as an electroforming mask is formed on the surface of the base material 12.
After the negative mold 20 formed by forming a is obtained, the negative mold 20 is subjected to electroforming treatment, and as shown in FIG. 5, the negative mold 20 is subjected to electroforming except for the portion where the cured resist layer 16a is formed. Electroforming metal is deposited to a desired film thickness on a portion, that is, a base metal exposed portion of the base material 12, to form a metal layer 21. In performing the electroforming treatment, the treatment conditions such as the composition of the treatment liquid, the temperature of the treatment bath, the concentration and the current density are as follows. 1) Composition of treatment liquid: Nickel sulfate 6-hydrate 350 g / liter Nickel chloride 6-hydrate 45 g / liter Boric acid 30 g / liter 2) Treatment bath temperature ... 40 to 55 ° C. 3) Current density ... 5 to 2.0 A / dm 2
【００３５】尚、本発明の円筒状フォトマスクは、高い
真円度が要求されるため、析出金属に内部ストレスがで
きるだけ残存していないのが好ましい。そのためには、
内部ストレスを調整するための調整剤として、一次光沢
剤、二次光沢剤を用いることが重要であり、それらの組
成、添加割合は以下の通りである。
一次光沢剤
１，３，６−ナフタリントリスルフォン酸ナトリウム
・・・・・・・０．５〜２．０ｇ／リットル
二次光沢剤
１，４−ブチンジオール
・・・・・・・０．０５〜０．５ｇ／リットルSince the cylindrical photomask of the present invention is required to have a high roundness, it is preferable that internal stress does not remain in the deposited metal as much as possible. for that purpose,
It is important to use a primary brightener and a secondary brightener as a regulator for controlling the internal stress, and their compositions and addition ratios are as follows. Primary brightener 1,3,6-Naphthalene sodium trisulfonate sodium ... 0.5-2.0 g / liter Secondary brightener 1,4-butynediol ........ 0.05 ~ 0.5 g / liter
【００３６】エレクトロフォーミング処理終了後、剥離
液を用いて硬化レジスト層１６ａを除去する。剥離液と
しては３〜３０％水酸化ナトリウム水溶液又は有機溶剤
が用いられる。次いで、３〜３０％水酸化ナトリウム水
溶液を用いてアルミニウム製パイプからなる基材１２を
溶解除去すると、金属層２１のみが残り、それにより図
６（ａ），（ｂ）に示す如き金属層２１から構成される
円筒状フォトマスク７が得られる。そして剥離除去され
た硬化レジスト層１６ａに対応する部分に動圧発生溝の
パターンを有する透孔８が形成される。尚、硬化レジス
ト層１６ａと基材１２の除去は一度の処理で同時に行な
ってもよい。After the electroforming process is completed, the cured resist layer 16a is removed using a stripping solution. As the stripping solution, a 3 to 30% aqueous sodium hydroxide solution or an organic solvent is used. Next, when the base material 12 made of an aluminum pipe is dissolved and removed using a 3 to 30% sodium hydroxide aqueous solution, only the metal layer 21 remains, whereby the metal layer 21 as shown in FIGS. A cylindrical photomask 7 composed of is obtained. Then, the through hole 8 having the pattern of the dynamic pressure generating groove is formed in the portion corresponding to the cured resist layer 16a which has been peeled and removed. The cured resist layer 16a and the base material 12 may be removed at the same time by one treatment.
【００３７】本発明の円筒状フォトマスクの製造方法に
おいて、基材１２の材料として、アルミニウム以外に亜
鉛等の金属や、ＡＢＳ樹脂、ポリプロピレン樹脂、スチ
レン樹脂等の合成樹脂を用いることができる。合成樹脂
製の基材を用いる場合、その表面に必要により離型処理
を施した後、銀鏡法によって銀を析出させるか、或いは
蒸着法等によってアルミニウム、クロム、銀又は銅等の
金属皮膜を形成する等して導体化処理を施す。尚、基材
１２はパイプ状に限らず、棒状でもよい。In the method of manufacturing the cylindrical photomask of the present invention, as the material of the base material 12, besides aluminum, a metal such as zinc or a synthetic resin such as ABS resin, polypropylene resin or styrene resin can be used. When a synthetic resin substrate is used, the surface of the substrate is subjected to a release treatment if necessary, and then silver is deposited by a silver mirror method or a metal film of aluminum, chromium, silver, copper or the like is formed by a vapor deposition method or the like. Conducting treatment such as by conducting. The base material 12 is not limited to the pipe shape and may be a rod shape.
【００３８】合成樹脂からなる基材１２を用いる場合に
おいて、基材を除去するに当っては、加熱して基材１２
を軟化させて引き抜く。金属層２１と基材１２とは剥離
し易く、基材１２の除去は容易である。When the base material 12 made of synthetic resin is used, the base material 12 is heated to remove the base material.
Soften and pull out. The metal layer 21 and the base material 12 are easily separated, and the base material 12 is easily removed.
【００３９】また、合成樹脂製基材の他の除去方法とし
て、有機溶剤で溶解して除去するようにしてもよい。As another method of removing the synthetic resin base material, the base material may be dissolved in an organic solvent and removed.
【００４０】次に、上記した本発明の円筒状フォトマス
クを用いて、動圧発生溝を形成する方法を図面に基づき
説明する。図７、図８、図９において７は円筒状フォト
マスク、９ａ，９ｂは動圧発生溝被形成体、１０はポジ
型レジスト、１１は被露光部を表す。被露光部１１は動
圧発生溝被形成体９ａ，９ｂの被加工部９１の表面にポ
ジ型レジスト層１０を塗布形成した状態の部位である。
動圧発生溝被形成体９ａ，９ｂとしては、金属からなる
軸体や筒体が挙げられる。Next, a method of forming a dynamic pressure generating groove using the above-mentioned cylindrical photomask of the present invention will be described with reference to the drawings. 7, 8 and 9, 7 is a cylindrical photomask, 9a and 9b are dynamic pressure generating groove forming bodies, 10 is a positive type resist, and 11 is an exposed portion. The exposed portion 11 is a portion where the positive resist layer 10 is applied and formed on the surface of the processed portion 91 of the dynamic pressure generation groove forming bodies 9a and 9b.
Examples of the dynamic pressure generation groove forming bodies 9a and 9b include a shaft body and a cylindrical body made of metal.
【００４１】軸体の場合には、軸体の外周面に動圧発生
溝が形成される。本発明の円筒状フォトマスクを用いた
動圧発生溝の形成方法においては、まず、予め、金属製
軸体９ａの被加工部９１の外周面にポジ型レジスト層１
０を塗布形成して被露光部１１を形成したものを用意し
ておく。塗布方法としては、ディップコーティング方
式、スプレーコーテイング方式等、従来公知の方法を用
いることができる。In the case of the shaft body, the dynamic pressure generating groove is formed on the outer peripheral surface of the shaft body. In the method of forming the dynamic pressure generating groove using the cylindrical photomask of the present invention, first, the positive resist layer 1 is previously formed on the outer peripheral surface of the processed portion 91 of the metal shaft 9a.
An object to be exposed 11 is prepared by coating 0. As a coating method, a conventionally known method such as a dip coating method or a spray coating method can be used.
【００４２】次いで、上記被露光部１１の外周に円筒状
フォトマスク７を嵌合し、フォトマスク７の外側から被
露光部１１に向けて露光する。露光に際しては、図７
（ａ）に示すように、被露光部１１に円筒状フォトマス
ク７が嵌合された軸体９ａを固定して、円筒状フォトマ
スク７の外側全周乃至はほぼ全周から被露光部１１に向
けて光を照射して一度に露光を行なってもよく、或いは
図７（ｂ）に示すように、特定方向から光を照射しつ
つ、円筒状フォトマスク７の外周面全面に万遍なく光が
照射されるように、被露光部１１に円筒状フォトマスク
７が嵌合された軸体９ａを例えば図中矢印ｈ方向に回転
させて露光を行なってもよい。Then, a cylindrical photomask 7 is fitted on the outer periphery of the exposed portion 11 and exposed from the outside of the photomask 7 toward the exposed portion 11. At the time of exposure,
As shown in (a), the shaft 9a in which the cylindrical photomask 7 is fitted is fixed to the exposed portion 11, and the exposed portion 11 is exposed from the entire outer circumference or substantially the entire circumference of the cylindrical photomask 7. It is possible to irradiate light at once to expose at once, or as shown in FIG. 7B, while irradiating light from a specific direction, the entire outer peripheral surface of the cylindrical photomask 7 is evenly distributed. Exposure may be performed by rotating the shaft body 9a in which the cylindrical photomask 7 is fitted to the exposed portion 11 so as to be irradiated with light, for example, in the direction of arrow h in the figure.
【００４３】透孔８を通して入射した光は透孔８と対応
位置にあるレジストを分解する。The light incident through the through hole 8 decomposes the resist at the position corresponding to the through hole 8.
【００４４】露光が終了した後、円筒状フォトマスク７
を被露光部１１から取り外し、次いで被露光部１１の現
像を行なう。現像液としては従来公知のものを用いるこ
とができる。現像によって、分解したレジストは溶解除
去され、それにより動圧発生溝のパターン通りの空孔が
形成された硬化レジスト層が得られる。After the exposure is completed, the cylindrical photomask 7 is formed.
Is removed from the exposed portion 11, and then the exposed portion 11 is developed. A conventionally known developer can be used as the developer. By the development, the decomposed resist is dissolved and removed, thereby obtaining a cured resist layer in which holes having the pattern of the dynamic pressure generating grooves are formed.
【００４５】得られた硬化レジスト層をエッチングマス
クとして機能させてエッチングを行い、金属製軸体９ａ
の金属表面が露出した部分にエッチング液を作用させて
該部分を食刻する。エッチング液としてはボーメ度３５
〜４５度の塩化第二鉄が用いられる。食刻の深さは通
常、２０μｍ程度であるが、これに限られない。Etching is carried out by using the obtained cured resist layer as an etching mask to form a metal shaft 9a.
The etching solution is applied to the exposed portion of the metal surface to etch the portion. Baume degree of 35 as etching liquid
Ferric chloride at ~ 45 degrees is used. The depth of etching is usually about 20 μm, but not limited to this.
【００４６】次いで、硬化レジスト層を溶解剥離又は膨
潤剥離等して除去する。かくして、図８に示す如き、金
属製軸体９ａの被加工部９１の表面に動圧発生溝２２が
形成される。Then, the cured resist layer is removed by dissolution peeling or swelling peeling. Thus, as shown in FIG. 8, the dynamic pressure generating groove 22 is formed on the surface of the processed portion 91 of the metal shaft body 9a.
【００４７】一方、動圧発生溝被形成体が筒体の場合に
は、筒体の内周面に動圧発生溝が形成される。この場
合、図９に示すように、まず筒体９ｂの内周面にポジ型
レジスト層１０を塗布形成して被露光部１１を形成した
ものを用意しておく。そして、被露光部１１の内空部に
円筒状フォトマスク７を嵌合し、該円筒状フォトマスク
７の中心側から被露光部１２に向けて光を照射して露光
する。露光に当っては、先端にプリズム等の光屈折手段
２３を備えた光ファイバー２４を上記内空部に差し込
み、光ファイバー２４を上下に移動させると共に回転さ
せて光を照射する。尚、光ファイバーを回転させる代わ
りに、被露光部１１に円筒状フォトマスク７を嵌合した
状態の筒体９ｂを回転させてもよい。On the other hand, when the dynamic pressure generation groove forming body is a cylindrical body, the dynamic pressure generation groove is formed on the inner peripheral surface of the cylindrical body. In this case, as shown in FIG. 9, first, a positive resist layer 10 is applied and formed on the inner peripheral surface of the cylindrical body 9b to form the exposed portion 11, which is prepared. Then, the cylindrical photomask 7 is fitted into the inner space of the exposed portion 11, and light is irradiated from the center side of the cylindrical photomask 7 toward the exposed portion 12 for exposure. At the time of exposure, an optical fiber 24 having a light refraction means 23 such as a prism at its tip is inserted into the inner space, and the optical fiber 24 is moved up and down and rotated to irradiate light. Instead of rotating the optical fiber, the cylindrical body 9b in which the cylindrical photomask 7 is fitted to the exposed portion 11 may be rotated.
【００４８】露光終了後、円筒状フォトマスク７を取り
外し、次いで前記の場合と同様な処理を行なって、筒体
９ｂの内周面に動圧発生溝を形成する。After the exposure is completed, the cylindrical photomask 7 is removed, and the same process as described above is performed to form the dynamic pressure generating groove on the inner peripheral surface of the cylindrical body 9b.
【００４９】また本発明は、図１０に示す如き、軸体９
ａと鍔体９ｃとが一体となった構造を有するものにも同
様に適用できる。この場合、軸体９ａに円筒状フォトマ
スク７を嵌合し、該円筒状フォトマスク７の周囲に光反
射板２５を配置して、円筒状フォトマスク７の外側全周
から被露光部１１に向けて光を照射して露光を行なう。
尚、光の照射は特定方向からの照射とし、被露光部を回
転させることにより、被露光部の外側全周から光を照射
するようにしてもよい。Further, according to the present invention, as shown in FIG.
The same can be applied to a structure having a structure in which a and the collar body 9c are integrated. In this case, the cylindrical photomask 7 is fitted to the shaft body 9a, the light reflection plate 25 is arranged around the cylindrical photomask 7, and the exposed portion 11 is exposed from the entire outer circumference of the cylindrical photomask 7. Exposure is performed by irradiating light toward it.
The light may be emitted from a specific direction, and the light may be emitted from the entire outer circumference of the exposed portion by rotating the exposed portion.
【００５０】軸体と鍔体とが一体となった構造体におい
ては、平板状フォトマスクによる露光は不可能であり、
本発明の円筒状フォトマスクを用いることによって動圧
発生溝形成が初めて可能となる。In the structure in which the shaft body and the collar body are integrated, the exposure by the flat plate photomask is impossible,
The use of the cylindrical photomask of the present invention makes it possible for the first time to form a dynamic pressure generation groove.
【００５１】[0051]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の円筒状フ
ォトマスクは、エレクトロフォーミング法を用いて得ら
れる金属製の円筒状フォトマスクであるから、真円度並
びに寸法精度において優れており被露光部に密に嵌合で
きる。そのため被露光部との間の隙間が極めて僅かなた
め、被露光部に対して透孔のパターンに忠実に露光を行
なうことができ、細密で正確な線画の形成が可能となる
という効果を奏する。また、被露光部への嵌合操作も容
易に行なうことができる。本発明フォトマスクは継ぎ目
のない一体的構造を有しており、従って、継ぎ目部分に
隙間が生じるということもなく、隙間から光が透過して
パターニングが不明瞭になるという虞れがない。本発明
のフォトマスクは、エレクトロフォーミング法を用いて
処理を行なった時に析出する金属によって構成されるも
のであるから、パターン再現性の精度が極めて高いとい
う利点があり、従って、本発明フォトマスクを用いて動
圧発生溝形成処理を行なった時は、動圧発生溝のパター
ンの細密性を忠実に再現でき、形成不良箇所のない動圧
発生溝の形成を行なうことができる。本発明のフォトマ
スクは寸法、形状、剛性等の物性において製品毎のバラ
ツキが極めて小さく、品質的に均一なフォトマスクを提
供できる。本発明フォトマスクは耐久性に優れているた
め、１０万回／月以上の使用頻度で、長期間にわたって
繰り返し使用しても、優れた真円度並びに形状の寸法精
度を維持できるという効果を奏する。As described above, since the cylindrical photomask of the present invention is a metallic cylindrical photomask obtained by using the electroforming method, it has excellent roundness and dimensional accuracy. Can be closely fitted to the exposed part. Therefore, since the gap between the exposed portion and the exposed portion is extremely small, the exposed portion can be exposed faithfully to the pattern of the through holes, and the fine and accurate line drawing can be formed. . Also, the fitting operation to the exposed portion can be easily performed. Since the photomask of the present invention has a seamless integrated structure, there is no possibility that a gap will be formed in the joint portion, and there is no fear that light will pass through the gap and patterning will be unclear. Since the photomask of the present invention is composed of a metal that is deposited when processing is performed using the electroforming method, it has the advantage of extremely high accuracy of pattern reproducibility. When the dynamic pressure generating groove forming process is performed using the above, the fineness of the pattern of the dynamic pressure generating groove can be faithfully reproduced, and the dynamic pressure generating groove can be formed without forming defects. The photomask of the present invention has extremely small variations in physical properties such as size, shape, rigidity and the like, and can provide a photomask of uniform quality. Since the photomask of the present invention has excellent durability, it has an effect that excellent circularity and dimensional accuracy of shape can be maintained even if it is repeatedly used for a long period of time with a usage frequency of 100,000 times / month or more. .
【００５２】本発明の円筒状フォトマスクの製造方法に
よれば、円筒状フォトマスクを継ぎ目のない一体的に構
成されたものとして得ることができる。また、本発明の
製造方法によれば、設計された動圧発生溝のパターンに
忠実な透孔を形成することができ、しかも製造容易であ
るという効果を奏する。According to the method of manufacturing a cylindrical photomask of the present invention, the cylindrical photomask can be obtained as a seamless and integrally configured one. Further, according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to form a through hole that is faithful to the designed pattern of the dynamic pressure generating groove, and moreover, it is easy to manufacture.
【００５３】本発明は、円筒状フォトマスクを被露光部
に嵌合した状態で露光を行ない、動圧発生溝を形成する
ものであるから、処理操作が容易となり、動圧発生溝形
成に要する時間を大幅に短縮することができると共に形
成不良を極めて少なくでき、且つ安定した品質の動圧発
生溝形成体を得ることができるので、歩留りを格段に向
上できる。その結果、生産効率を著しく向上できると共
に経済的にも有利となるという効果を奏する。According to the present invention, the cylindrical photomask is exposed in a state where the cylindrical photomask is fitted to the exposed portion to form the dynamic pressure generating groove, which facilitates the processing operation and is required for forming the dynamic pressure generating groove. The time can be significantly shortened, formation defects can be extremely reduced, and a dynamic pressure generation groove formation body of stable quality can be obtained, so that the yield can be remarkably improved. As a result, the production efficiency can be remarkably improved, and it is economically advantageous.
【図１】従来の動圧発生溝の形成方法について説明する
ための説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a conventional method for forming a dynamic pressure generation groove.
【図２】本発明の円筒状フォトマスクとその使用態様を
示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a cylindrical photomask of the present invention and a usage mode thereof.
【図３】本発明の円筒状フォトマスクとその別の使用態
様を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a cylindrical photomask of the present invention and another usage mode thereof.
【図４】本発明の円筒状フォトマスクの製造工程のう
ち、硬化フォトレジスト層が形成された状態を示す図で
あり、（ａ）は平面図、（ｂ）は断面略図である。FIG. 4 is a diagram showing a state where a cured photoresist layer is formed in the manufacturing process of the cylindrical photomask of the present invention, (a) is a plan view, and (b) is a schematic cross-sectional view.
【図５】本発明の円筒状フォトマスクの製造工程のう
ち、エレクトロフォーミング処理によって金属層が形成
された状態を示す断面略図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a metal layer is formed by an electroforming process in the manufacturing process of the cylindrical photomask of the present invention.
【図６】本発明の円筒状フォトマスクの製造工程のう
ち、硬化フォトレジスト層及び基材が除去された状態を
示す断面及び斜視略図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view and a perspective view showing a state where the cured photoresist layer and the base material are removed in the manufacturing process of the cylindrical photomask of the present invention.
【図７】本発明の円筒状フォトマスクを用いた動圧発生
溝形成工程のうち、露光工程における態様を示す断面略
図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an aspect in an exposure step of the dynamic pressure generation groove forming step using the cylindrical photomask of the present invention.
【図８】図７の露光工程を途中に経て、最終的に得られ
た動圧発生溝を示す斜視図である。8 is a perspective view showing a dynamic pressure generation groove finally obtained through the exposure process of FIG.
【図９】本発明の円筒状フォトマスクを用いた動圧発生
溝形成工程のうち、露光工程における別の態様を示す断
面略図である。FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing another aspect in the exposure step of the dynamic pressure generation groove forming step using the cylindrical photomask of the present invention.
【図１０】本発明の円筒状フォトマスクを用いた動圧発
生溝形成工程のうち、露光工程における更に別の態様を
示す断面略図である。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing yet another aspect in the exposure step of the dynamic pressure generation groove forming step using the cylindrical photomask of the present invention.
７ 円筒状フォトマスク ８ 透孔 ９ 動圧発生溝被形成体 ９１ 被加工部 １０ フォトレジスト層 １１ 被露光部 １２ 基材 １６ａ 硬化フォトレジスト層 ２０ 陰型 ２１ 金属層 ２２ 動圧発生溝 7 Cylindrical photomask 8 through holes 9 Dynamic pressure generation groove object 91 Work piece 10 Photoresist layer 11 Exposed area 12 Base material 16a Cured photoresist layer 20 negative type 21 metal layer 22 Dynamic pressure generation groove
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−304212（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−142332（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−130490（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23F 1/00 - 1/02 F16C 17/02,33/14 G03F 1/08 ─────────────────────────────────────────────────── --Continued from the front page (56) References JP-A-2-304212 (JP, A) JP-A-53-142332 (JP, A) JP-A-61-130490 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) C23F 1/00-1/02 F16C 17 / 02,33 / 14 G03F 1/08
Claims (2)
した被露光部を有する動圧発生溝被形成体の内空部に、In the inner space of the dynamic pressure generation groove forming object having the exposed portion,
所望の動圧発生溝パターンを有する透孔を形成してなるA through hole having a desired dynamic pressure generating groove pattern is formed.
円筒状フォトマスクを嵌合し、該円筒状フォトマスクのAfter fitting the cylindrical photomask,
内側中心部から被露光部に光を照射して露光した後、円After exposing by exposing the exposed area from the inner center,
筒状フォトマスクを被露光部から取り除きフォトレジスRemove the cylindrical photomask from the exposed area
ト層を現像処理した後、エッチング処理を行い筒状体のAfter the developing layer has been developed, it is etched to form a cylindrical body.
内周面に動圧発生溝を形成することを特徴とする円筒状Cylindrical shape characterized by forming a dynamic pressure generating groove on the inner peripheral surface
フォトマスクを用いた動圧発生溝の形成方法。A method for forming a dynamic pressure generating groove using a photomask.
表面にフォトレジスト層を形成した被露光部に、所望の
動圧発生溝パターンを有する透孔を形成してなる円筒状
フォトマスク外側全周から被露光部に向けて光照射が行
われるように光反射板を配置し、光を照射して露光した
後、円筒状フォトマスクを被露光部から取り除き、フォ
トレジスト層を現像処理した後、エッチング処理を行い
軸体と鍔体とが一体となった構造体の軸部に動圧発生溝
を形成することを特徴とする円筒状フォトマスクを用い
た動圧発生溝の形成方法 。 2. A shaft body having a structure in which the shaft body and the collar body are integrated.
On the exposed area with the photoresist layer formed on the surface,
Cylindrical shape with through holes having dynamic pressure generating groove pattern
Light is irradiated from the entire circumference of the photomask toward the exposed area.
Arrange the light reflection plate so that it is exposed, and irradiate it with light to expose it.
After that, remove the cylindrical photomask from the exposed area, and
After developing the photoresist layer, etching treatment is performed.
Dynamic pressure generation groove on the shaft part of the structure where the shaft body and the collar body are integrated
Using a cylindrical photomask characterized by forming
Method for forming dynamic pressure generating groove .
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