JP3348467B2 - Exposure apparatus and method - Google Patents

Exposure apparatus and method

Info

Publication number
JP3348467B2
JP3348467B2 JP16158893A JP16158893A JP3348467B2 JP 3348467 B2 JP3348467 B2 JP 3348467B2 JP 16158893 A JP16158893 A JP 16158893A JP 16158893 A JP16158893 A JP 16158893A JP 3348467 B2 JP3348467 B2 JP 3348467B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
projection optical
light
optical system
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP16158893A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0757986A (en
Inventor
正司 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP16158893A priority Critical patent/JP3348467B2/en
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to KR1019940015475A priority patent/KR100319216B1/en
Publication of JPH0757986A publication Critical patent/JPH0757986A/en
Priority to US08/453,538 priority patent/US5729331A/en
Priority to US08/587,346 priority patent/US6157497A/en
Priority to US09/173,530 priority patent/US6351305B1/en
Priority to US09/722,278 priority patent/US6480262B1/en
Priority to US09/722,515 priority patent/US6509954B1/en
Priority to US09/722,516 priority patent/US6556278B1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3348467B2 publication Critical patent/JP3348467B2/en
Priority to US10/382,874 priority patent/US6795169B2/en
Priority to US10/920,294 priority patent/US7023527B2/en
Priority to US11/101,553 priority patent/US7088425B2/en
Priority to US11/471,658 priority patent/US7372543B2/en
Priority to US11/797,605 priority patent/US7372544B2/en
Priority to US12/078,863 priority patent/US7956984B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、第１の物体と第２の物
体とを移動させつつ露光を行なう走査型の投影露光装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning type projection exposure apparatus that performs exposure while moving a first object and a second object.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、ワープロ、パソコン、テレビ等の
表示素子として、液晶表示パネルが多用されるようにな
った。液晶表示パネルは、ガラス基板上に透明薄膜電極
をフォトリソグラフィの手法で所望の形状にパターンニ
ングして作られる。このリソグラフィのための装置とし
て、マスク上に形成された原画パターンを投影光学系を
介してガラス基板上のフォトレジスト層に露光するミラ
ープロジェクションタイプのアライナーが使われてい
る。このようなアライナーとしては、例えば図１４(a),
(b) に示すものが知られている。図１４(a) は、従来の
アライナーの構成を示す斜視図であり、図１４(b) は、
アライナーの投影光学系のレンズ断面図である。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display panels have been frequently used as display elements for word processors, personal computers, televisions, and the like. A liquid crystal display panel is manufactured by patterning a transparent thin-film electrode on a glass substrate into a desired shape by a photolithography technique. As an apparatus for the lithography, a mirror projection type aligner that exposes an original pattern formed on a mask to a photoresist layer on a glass substrate via a projection optical system is used. As such an aligner, for example, FIG.
The one shown in (b) is known. FIG. 14A is a perspective view showing a configuration of a conventional aligner, and FIG.
It is a lens sectional view of the projection optical system of an aligner.

【０００３】図１４(a) において、図示なき照明光学系
によりマスク７１ｃが円弧状の照野７２ａにて照明され
る。この照野７２ａの像７２ｂは、図１４(b) に示す如
く、台形ミラー７３の反射面７３ａにて光路が９０°偏
向され、凹面鏡７４及び凸面鏡７５を介して、再び凹面
鏡７４にて反射される。凹面鏡７４からの光は、台形ミ
ラー７３の反射面７３ｂにて光路が９０°偏向され、プ
レート７６上にマスク７１ｃの像を形成する。そして、
このアライナーにおいては、プレート７６とマスク７１
ｃとを走査露光する、即ち図中Ｘ方向に沿って移動させ
つつ露光を行なうことで、マスク７１ｃ上の回路パター
ンをプレート７６上に転写していた。In FIG. 14A, a mask 71c is illuminated by an illumination optical system (not shown) in an arcuate illumination field 72a. As shown in FIG. 14 (b), the light path of the image 72b of the illumination field 72a is deflected by 90 ° at the reflection surface 73a of the trapezoidal mirror 73, and is reflected again by the concave mirror 74 via the concave mirror 74 and the convex mirror 75. You. The light path from the concave mirror 74 is deflected by 90 ° at the reflection surface 73b of the trapezoidal mirror 73 to form an image of the mask 71c on the plate 76. And
In this aligner, a plate 76 and a mask 71
The circuit pattern on the mask 71c was transferred onto the plate 76 by performing scanning exposure on the substrate 71c, that is, performing exposure while moving the substrate 71 along the X direction in the figure.

【０００４】最近、液晶表示パネルの大型化が望まれて
いる。それに伴い、上述の如きアライナーにおいても、
露光領域の拡大が望まれている。Recently, it has been desired to increase the size of a liquid crystal display panel. Along with that, even in the aligner as described above,
It is desired to enlarge the exposure area.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述の如き投影露光装
置において、露光領域を拡大させるためには、露光領域
を分割して露光していた。具体的には、図１４(a) に示
す如く、プレート７６上を領域７６ａ，７６ｂ，７６
ｃ，７６ｄに４分割して、まず、マスク７１ａと領域７
６ａとを走査露光して、領域７６ａ上にマスク７１ａの
回路パターンを転写する。次に、マスク７１ａをマスク
７１ｂに交換すると共に、投影光学系の露光領域と領域
７６ｂとが重なるように、プレート７６を図中ＸＹ平面
内でステップ的に移動させる。そして、マスク７１ｂと
プレート７６とを走査露光して、マスク７１ｂの回路パ
ターンを領域７６ｂ上に転写する。以下同様に、マスク
７１ｃ、７１ｄの回路パターンをそれぞれ領域７６ｃ、
７６ｄに転写していた。In the projection exposure apparatus as described above, in order to enlarge the exposure area, the exposure area is divided and exposed. More specifically, as shown in FIG. 14A, the regions 76a, 76b, 76
c and 76d. First, the mask 71a and the region 7
6a is exposed by scanning to transfer the circuit pattern of the mask 71a onto the area 76a. Next, the mask 71a is replaced with a mask 71b, and the plate 76 is moved stepwise in the XY plane in the figure so that the exposure area of the projection optical system and the area 76b overlap. Then, the mask 71b and the plate 76 are scanned and exposed, and the circuit pattern of the mask 71b is transferred onto the region 76b. Similarly, the circuit patterns of the masks 71c and 71d are respectively replaced with the regions 76c and
76d.

【０００６】このように、分割して露光を行なう場合に
は、多数回の露光を行なうため、スループット（単位時
間当たり露光できる基板の量）の低下を招いていた。さ
らに、分割露光の場合には、隣合う露光領域間の継ぎ精
度を高める必要がある。このため、投影露光装置におい
ては、投影光学系の倍率誤差を０に近づける必要がある
と共に、アライメント精度の大幅な向上が要求され、装
置のコスト高を招くという問題点がある。As described above, when the exposure is performed in a divided manner, since the exposure is performed many times, the throughput (the amount of the substrate that can be exposed per unit time) is reduced. Furthermore, in the case of divided exposure, it is necessary to increase the joining accuracy between adjacent exposure regions. For this reason, in the projection exposure apparatus, there is a problem that the magnification error of the projection optical system needs to be close to zero, and a great improvement in alignment accuracy is required, resulting in an increase in the cost of the apparatus.

【０００７】また、大きな露光領域を一括して転写する
ために、投影光学系の大型化を図ることが考えられる。
しかしながら、投影光学系の大型化を図るためには、大
型な光学素子を非常に高精度に製作する必要があり、製
作コストの増大と装置の大型化とを招く問題点がある。
また、投影光学系の大型化により収差も増大する問題点
がある。In order to collectively transfer a large exposure area, it is conceivable to increase the size of the projection optical system.
However, in order to increase the size of the projection optical system, it is necessary to manufacture a large-sized optical element with extremely high precision, which causes a problem of increasing the manufacturing cost and increasing the size of the apparatus.
Also, there is a problem that the aberration increases due to the enlargement of the projection optical system.

【０００８】そこで、本発明は、露光領域が大きな場合
でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能の
もとで回路パターンを転写できる露光装置を提供するこ
とを目的とする。Accordingly, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus capable of transferring a circuit pattern with good imaging performance without lowering the throughput even when the exposure area is large.

【０００９】上記目的を達成するために、本発明の請求
項１による露光装置は、以下の構成を有する。例えば図
１に示す如く、第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光装
置は、第１の物体の等倍の正立像を第２の物体上に形成
する第１及び第２の投影光学系を有する。そして、第１
及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテレセント
リックで構成される。[0009] To achieve the above object, according to the present invention
The exposure apparatus according to item 1 has the following configuration. For example, as shown in FIG. 1, an exposure apparatus for projecting and exposing an image of a first object onto a second object while moving a first object and a second object has a size equal to that of the first object. There are first and second projection optical systems for forming a standing image on the second object. And the first
And the second projection optical system is configured so that at least the image side is telecentric.

【００１０】ここで、本発明において、正立像とは、上
下左右の横倍率が正となる像のことを指す。本発明の請
求項２にかかる発明では、請求項１の構成において、前
記第１及び第２の投影光学系は、光の入射側に凹面を向
けたレンズ面と、同じく光の入射側に凹面を向けた反射
面とを有するダイソン型光学系であることを特徴とす
る。 本発明の請求項３にかかる発明では、請求項１また
は２の構成において、前記第１及び第２の投影光学系
は、第１部分光学系と第２部分光学系とを有し、前記第
２部分光学系は、前記第１部分光学系が形成する物体の
１次像からの光によって２次像を形成することを特徴と
する。 本発明の請求項４にかかる発明では、請求項３の
構成において、前記第１及び第２部分光学系は、それぞ
れ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射面を有
し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面を向け
るように配置されることを特徴とする。 本発明の請求項
５にかかる発明では、請求項３または４の構成におい
て、前記第１部分光学系による前記１次像が形成される
位置には、視野絞りが配置されることを特徴とする。 本
発明の請求項６にかかる発明では、請求項５の構成にお
いて、前記視野絞りは、略台形状の開口部を有し、該開
口部によって定まる露光領域の移動方向における長さの
和は、前記移動方向と直交する方向において常に等しく
なる如く規定されることを特徴とする。 本発明の請求項
７にかかる発明では、請求項１〜６の何れか一項の構成
において、前記第１及び第２の投影光学系は、レンズ
と、凹面反射面とを有することを特徴とする。 本発明の
請求項８にかかる発明では、請求項７の構成において、
前記レンズと前記凹面反射面との間は空間であることを
特徴とする。 本発明の請求項９にかかる発明では、請求
項１の構成において、前記第１及び第２の投影光学系は
凹面反射面を有することを特徴とする。 本発明の請求項
１０にかかる発明では、請求項９の構成において、前記
第１の 投影光学系は第１凹面反射面を有し、前記第２の
投影光学系は第２凹面反射面を有し、前記第１及び第２
凹面反射面は凹面が互いに向かい合うように配置される
ことを特徴とする。 本発明の請求項１１にかかる発明で
は、請求項１０鋸雨声において、前記第１の投影光学系
は第３凹面反射面を有し、前記第２の投影光学系は第４
凹面反射面を有し、前記第１及び前記第３凹面反射面は
同一方向に凹面を向けるように配置され、前記第２及び
第４反射面は同一方向に凹面を向けるように配置される
ことを特徴とする。 本発明の請求項１２にかかる発明で
は、請求項９の構成において、前記第１及び第２の投影
光学系は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記凹
面反射面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反
射された光を偏向させる第２偏向部材とを有することを
特徴とする。 本発明の請求項１３にかかる発明では、請
求項１２の構成において、前記第１及び第２の投影光学
系は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前
記第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射
面へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射
された光を偏向させる第４偏向部材とを有することを特
徴とする。 本発明の請求項１４にかかる発明では、請求
項１３の構成において、前記第１及び第２の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前記
第１物体の中間像を形成することを特徴とする。 本発明
の請求項１５にかかる発明では、請求項１４の構成にお
いて、前記第１及び第２の投影光学系は、前記第２偏向
部材と前記第３偏向部材との間に配置された視野絞りを
有することを特徴とする。 本発明の請求項１６にかかる
発明では、請求項１３〜１５の何れか一項の構成におい
て、前記凹面反射面と前記別の凹面反射面とは同一方向
に凹面を向けるように配置されることを特徴とする。 本
発明の請求項１７にかかる発明では、請求項１の構成に
おいて、前記第１の物体の等倍の正立像を前記第２の物
体上に形成する第３の投影光学系をさらに有し、前記第
３の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリック
で構成される ことを特徴とする。 本発明の請求項１８に
かかる発明では、請求項１７の構成において、前記第３
の投影光学系は、第１部分光学系と第２部分光学系とを
有し、前記第２部分光学系は、前記第１部分光学系が形
成する物体の１次像からの光によって２次像を形成する
ことを特徴とする。 本発明の請求項１９にかかる発明で
は、請求項１８の構成において、前記第１及び第２部分
光学系は、それぞれ光の入射側に凹面を向けた第１及び
第２の反射面を有し、該第１及び第２の反射面は、同一
方向に凹面を向けるように配置されることを特徴とす
る。 本発明の請求項２０にかかる発明では、請求項１８
または１９鋸雨声において、前記第１部分光学系による
前記１次像が形成される位置には、視野絞りが配置され
ることを特徴とする。 本発明の請求項２１にかかる発明
では、請求項１７の構成において、前記第１、第２及び
第３の投影光学系は凹面反射面を有することを特徴とす
る。 本発明の請求項２２にかかる発明では、請求項２１
の構成において、前記第１の投影光学系は第１凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反射面を有
し、前記第３の投影光学系は第３凹面反射面を有し、前
記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向かい合うよ
うに配置され、前記第１及び第３凹面反射面は同一方向
に凹面を向けるように配置されることを特徴とする。 本
発明の請求項２３にかかる発明では、請求項２２の構成
において、前記第１の投影光学系は第４凹面反射面を有
し、前記第２の投影光学系は第５凹面反射面を有し、前
記第３の投影光学系は第６凹面反射面を有し、前記第１
及び前記第４凹面反射面は同一方向に凹面を向けるよう
に配置され、前記第２及び第５反射面は同一方向に凹面
を向けるように配置され、前記第３及び第６反射面は同
一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴とす
る。 本発明の請求項２４にかかる発明では、請求項２１
の構成において、前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射
面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射され
た光を偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴と
する。 本発明の請求項２５にかかる発明では、請求項２
４の構成において、前記第１、第２及び第３の投影光学
系は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前
記第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射
面へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射
された光を偏向させる第４偏向部材とを有することを特
徴とする。 本発明の請求項２６にかかる発明では、請求
項２５の構成において、前記第１、第２及び第３の投影
光学系は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間
に前記第１物体の中間像を形成することを特徴とする。
本発明の請求項２７にかかる発明では、請求項２６の構
成において、前記第１、第２及び第３の投影光学系は、
前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置され
た視野絞りを有することを特徴とする。 本発明の請求項
２８にかかる発明では、請求項２５〜２７の何れか一項
の構成において、前記凹面反射面と前記別の凹面反射面
とは同一方向に凹面を向けるように配置されることを特
徴とする。 本発明の請求項２９にかかる発明では、請求
項２８の構成において、前記第１の投影光学系中の前記
凹面反射面と前記第２の投影光学系中の前記凹面反射面
とは凹面が互いに向かい合うように配置され、前記第１
の投影光学系中の前記凹面反射面と前記第３の投影光学
系中の前記凹面反射面とは同一方向に凹面を向けるよう
に配置されることを特徴とする。 本発明の請求項３０に
かかる発明は、第１の物体と第２の物体とを走査方向に
沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体上
へ投影露光する露光装置であって、前記第１物体からの
光に基づいて、前記第２物体上に第１の露光領域を形成
する第１投影光学系と；前記第１物体からの光に基づい
て、前記第２物体上に前記第１の露光領域とは異なる第
２の露光領域を形成する第２投影光学系と；を有し、前
記第１及び第２の投影光学系は少なくとも像側がテレセ
ントリックで構成される。 本発明の請求項３１にかかる
発明では、請求項３０の構成において、前記第１及び第
２の露光領域は、非走査方向に並んで配置されることを
特徴とする。 本発明の請求項３２にかかる発明では、請
求項３０の構成において、前記第１ 及び第２の露光領域
は、非走査方向において異なる位置に配置されることを
特徴とする。 本発明の請求項３３にかかる発明では、請
求項３２の構成において、前記第１物体からの光に基づ
いて、前記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域と
は異なる第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成される第３の投影光学系をさらに
有し、前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前
記走査方向において異なる位置に配置されることを特徴
とする。 本発明の請求項３４にかかる発明では、請求項
３３の構成において、前記第１の露光領域と前記第２の
露光領域とは非走査方向において間隔をもって配置され
ることを特徴とする。 本発明の請求項３５にかかる発明
では、請求項３４の構成において、前記第３の露光領域
は前記第１及び第２の露光領域の前記間隔の間を走査で
きるように位置決めされることを特徴とする。 本発明の
請求項３６にかかる発明では、請求項３０の構成におい
て、前記第１及び第２の露光領域は、前記走査方向にお
いて異なる位置に配置されることを特徴とする。 本発明
の請求項３７にかかる発明では、請求項３６の構成にお
いて、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体
上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる第３の露光
領域を形成し、少なくとも像側がテレセントリックで構
成される第３の投影光学系をさらに有し、前記第３の露
光領域は前記第２の露光領域とは前記走査方向において
異なる位置に配置されることを特徴とする。 本発明の請
求項３８にかかる発明では、請求項３７の構成におい
て、前記第１、第２及び第３の露光領域は台形形状であ
り、前記第２の露光領域の前記台形の短辺は前記第３の
露光領域側へ向けられており、前記第３の露光領域の前
記台形の短辺は前記第２の露光領域側へ向けられている
ことを特徴とする。 本発明の請求項３９にかかる発明で
は、請求項３６の構成において、前記第１、第２及び第
３の露光領域は台形形状であり、前記第１の露光領域の
前記台形の短辺は前記第２の露光領域側へ向けられてお
り、前記第２の露光領域の前記台形の短辺は前記第１の
露光領域側へ向けられていることを特徴とする。 本発明
の請求項４０にかかる発明では、請求項３０〜３７の何
れか一項の構成において、前記第１、第２及び第３の露
光領域は、台形形状または六角形形状であることを特徴
とする。 本発明の請求項４１にかかる発明は、第１の物
体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ前記
第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光装置
であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２
物体上に台形形状の第１の露光領域を形成する第１投影
光学系と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２
物体上の前記第１の露光領域とは異なる位置に台形形状
の第２の露光領域を形成する第２投影光学系と；を有す
る。 本発明の請求項４２にかかる発明では、請求項４１
の構成において、前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に並んで配置されることを特徴とする。 本発明の
請求項４３にかかる発明では、請求項４１の構成におい
て、前記第１及び第２の露光領域は、非走査方向におい
て異なる位置に配置されることを特徴とする。 本発明の
請求項４４にかかる発明では、請求項４３の構成におい
て、前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
の前記第１及び第２の露光領域とは異なる位置に台形形
状の第３の露光領域を形成する第３の投影光学系をさら
に有し、前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは
前記走査方向において異なる位置に配置されることを特
徴とする。 本発明の請求項４５にかかる発明では、請求
項４４の構成において、前記第１の露光領域と前記第２
の露光領域とは非走査方向において間隔をもって配置さ
れることを特徴とする。 本発明の請求項４６にかかる発
明では、請求項４５の構成において、前記第３の露光領
域は前記第１及び第２の露光領域の前記間隔の間を走査
できるように位置決めされることを特徴とする。 本発明
の請求項４７にかかる発明では、請求項４１の構成にお
いて、前記第１及び第２の露光領域は、前記走査方向に
おいて異なる位置に配置されることを特徴とする。 本発
明の請求項４８にかかる発明では、請求項４７の構成に
おいて、前記第１ 物体からの光に基づいて、前記第２物
体上の前記第１及び第２の露光領域とは異なる位置に第
３の露光領域を形成する第３の投影光学系をさらに有
し、前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する。 本発明の請求項４９にかかる発明は、第１の物体
と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ前記第
１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光装置で
あって、台形形状の第１の視野領域を有する第１投影光
学系と；台形形状の第２の視野領域を有する第２投影光
学系と；を有し、前記第１の視野領域の台形の短辺は、
前記第１投影光学系が有する最大視野領域の円弧側に向
けられており、前記第２の視野領域の台形の短辺は、前
記第２投影光学系が有する最大視野領域の円弧側に向け
られている。 本発明の請求項５０にかかる発明では、請
求項４９の露光装置において、前記第１及び第２投影光
学系が有する前記最大視野領域は半円状であることを特
徴とする請求項４９記載の露光装置。 本発明の請求項５
１にかかる発明は、第１の物体と第２の物体とを走査方
向に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物
体上へ投影露光する露光装置であって、前記第１物体か
らの光に基づいて、前記第２物体上に第１の露光領域を
形成する第１投影光学系と；前記第１物体からの光に基
づいて、前記第２物体上に前記第１の露光領域とは異な
る第２の露光領域を形成する第２投影光学系と；前記第
１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１
及び第２の露光領域とは異なる第３の露光領域を形成す
る第３投影光学系と；を有し、前記第１、第２及び第３
の投影光学系は少なくとも像側がテレセントリックで構
成される。 本発明の請求項５２にかかる発明では、請求
項５１の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、非走査方向において異なる位置に配置されることを
特徴とする。 本発明の請求項５３にかかる発明では、請
求項５２の構成において、前記第３の露光領域は、前記
走査方向において前記第１及び第２の露光領域と異なる
位置に配置されることを特徴とする。 本発明の請求項５
４にかかる発明では、請求項５２または５３の構成にお
いて、前記第１の露光領域と前記第２の露光領域とは非
走査方向において間隔をもって配置され、前記第３の露
光領域は前記第１及び第２の露光領域の前記間隔の間を
走査できるように位置決めされることを特徴とする。 本
発明の請求項５５にかかる発明は、第１の物体と第２の
物体とを走査方向に沿って移動させつつ前記第１の物体
の像を第２の物体上へ投影露光する露光装置であって、
前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系は少なく
とも像側テレセントリックに構成され、前記第１及び第
２の露光領域の前記走査方向における幅の和は、前記走
査方向と直交する走査直交方向において一定である。 本
発明の請求項５６にかかる発明は、第１の物体と第２の
物体とを走査方向に沿って移動させつつ前記第１の物体
の像を第２の物体上へ投影露光する露光装置であって、
前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と；前記第１物
体からの光に基づいて、前記第２物体上に前記第１の露
光領域とは異なる第２の露光領域を形成する第２投影光
学系と；を有し、前記第１及び第２投影光学系の光軸
は、前記第１の物体の面内方向と平行である。 本発明の
請求項５７にかかる発明では、請求項５６の構成におい
て、前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の
第１及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光
学系の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交す
る方向の幅をφ F とし、前記第１及び第２投影光学系の
光軸間距離をＫとするとき、 ２φ F ＞Ｋ を満足することを特徴とする。 本発明の請求項５８にか
かる発明では、請求項５６または５７の構成において、
前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１
及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系
の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方
向の幅をφ F とし、前記第１及び第２投影光学系の外径
の最大値をφ D と するとき、 φ F ＞φ D ／２ を満足することを特徴とする。 本発明の請求項５９にか
かる発明は、第１の物体と第２の物体とを走査方向に沿
って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体上へ
投影露光する露光装置であって、前記第１物体からの光
に基づいて、前記第２物体上に第１の露光領域を形成す
る第１投影光学系と；前記第１物体からの光に基づい
て、前記第２物体上に前記第１の露光領域とは異なる第
２の露光領域を形成する第２投影光学系と；を有し、前
記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１及
び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系の
取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方向
の幅をφ F とし、前記第１及び第２投影光学系の外径の
最大値をφ D とするとき、 φ F ＞φ D ／２ を満足する。 本発明の請求項６０にかかる発明は、第１
の物体と第２の物体とを走査方向に沿って移動させつつ
前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光
装置であって、前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に第１の露光領域を形成する第１投影光学系
と；前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上
に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成
する第２投影光学系と；を有し、前記第１及び第２投影
光学系は前記第１の物体上の第１及び第２視野領域を有
し、前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野
領域の前記走査方向と直交する方向の幅をφ F とし、前
記第１及び第２投影光学系の光軸間距離をＫとすると
き、 ２φ F ＞Ｋ を満足する。 本発明の請求項６１にかかる発明では、請
求項５９または６０の構成において、前記第１及び第２
投影光学系は少なくとも像側テレセントリックで構成さ
れることを特徴とする。 本発明の請求項６２にかかる発
明は、第１の物体と第２の物体とを走査方向に 沿って移
動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体上へ投影露
光する露光装置であって、前記第１物体からの光に基づ
いて、前記第２物体上に第１の露光領域を形成する第１
投影光学系と；前記第１物体からの光に基づいて、前記
第２物体上に前記第１の露光領域とは異なる第２の露光
領域を形成する第２投影光学系と；を有し、前記第１及
び第２投影光学系は少なくとも像側テレセントリックで
構成され、かつダハ面を有する。 本発明の請求項６３に
かかる発明は、マスクと感光性基板とを走査方向に沿っ
て移動させつつ前記マスクの像を前記感光性基板上へ投
影露光する露光装置であって、前記マスク上の第１視野
領域からの光に基づいて、前記感光性基板上に第１の露
光領域を形成する第１の投影光学系と；前記マスク上の
第２視野領域からの光に基づいて、前記感光性基板上に
前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成す
る第２の投影光学系と；を備え、前記第１視野領域は前
記マスク上の回路パターン領域の縁と一致する辺を有す
る。 本発明の請求項６４にかかる発明は、第１物体の像
を第２物体上へ投影露光する露光方法であって、像側テ
レセントリックな光束に基づいて前記第１物体の正立像
を第１の露光領域上に形成する第１工程と；前記像側テ
レセントリックな光束とは異なる別の像側テレセントリ
ックな光束に基づいて前記第１物体の正立像を前記第１
の露光領域とは異なる第２の露光領域上に形成する第２
工程と；前記第１物体と前記第２物体とを走査方向に沿
って移動させる第３工程と；を有する。 本発明の請求項
６５にかかる発明では、請求項６４の構成において、前
記第１及び第２工程は、凹面反射鏡で光を反射させる補
助工程を有することを特徴とする。 本発明の請求項６６
にかかる発明では、請求項６４の構成において、前記第
１及び第２工程は、それぞれ前記第１物体の中間像を形
成する補助工程を有することを特徴とする。 本発明の請
求項６７にかかる発明では、請求項６６の構成におい
て、前記第１及び第２工程は、それぞれ前記中間像から
２次像を形成する補助工程を有することを特徴とする。
本発明の請求項６８にかかる発明では、請求項６７の構
成において、前記第１及び第２工程は、それぞれ凹面反
射鏡で光を反射させて前記中間像へ導く補助工程と、凹
面反射鏡で光を反射させて前記２次像へ導く補助工程と
を有することを特徴とする。 本発明の請求項６９にかか
る発明では、請求項６７〜６８の何れか一項の構成にお
いて、前記第１及び第２工程は、それぞれ視野絞りに光
を通す補助工程を有することを特徴とする。 本発明の請
求項７０にかかる発明では、請求項６５の構成におい
て、前記第１工程中の前記凹面反射鏡で光を反射させる
補助工程と、前記第２工程中の前記凹面反射鏡で光を反
射させる補助工程とでは、互いに反対側へ光を反射させ
ることを特徴とする。 本発明の請求項７１にかかる発明
では、請求項６５の構成において、前記第１及び第２工
程は、それぞれレンズに光を通過する補助工程を有する
ことを特徴とする。 本発明の請求項７２にかかる発明で
は、請求項６５の構成において、前記第１及び第２工程
は、第１凹面反射鏡で光を反射させる第１補助工程と、
第１補助工程の後に前記第１物体の中間像を形成する第
２補助工程と、第２補助工程の後に第２凹面反射鏡で光
を反射させる第３補助工程とをそれぞれ有することを特
徴とする。 本発明の請求項７３にかかる発明では、請求
項７２の構成において、前記第１及び第２工程は、前記
第１物体からの光を前記第１凹面反射鏡へ向けて偏向さ
せる第４補助工程と、前記第１凹面反射鏡からの光を前
記中間像へ向けて偏向させる第５補助工程と、前記中間
像からの光を前記第２凹面反射鏡へ向けて偏向させる第
６補助工程と、前記第２凹面反射鏡からの光を前記第２
物体へ向けて偏向させる第７補助工程とをそれぞれ有す
ることを特徴とする。 本発明の請求項７４にかかる発明
では、請求項７３の構成において、前記第１及び第２工
程は、前記第４補助工程にて偏向された光を第１レンズ
に導いた後に前記第１凹面反射鏡へ導く第８補助工程
と、前記第１凹面反射鏡にて反射された光を前記第１レ
ンズに導く第９補助工程と、前記第６補助工程にて偏向
された光 を第２レンズに導いた後に前記第２凹面反射鏡
へ導く第１０補助工程と、前記第２凹面反射鏡にて反射
された光を前記第２レンズに導く第１０補助工程とをさ
らに有することを特徴とする。 本発明の請求項７５にか
かる発明では、請求項７３または７４の構成において、
前記第１工程中の前記第４補助工程での光の偏向する方
向と、前記第２工程中の前記第４補助工程での光の偏向
する方向は逆向きであることを特徴とする。 本発明の請
求項７６にかかる発明では、請求項７３〜７５の何れか
一項の構成において、前記第１工程中の前記第６補助工
程での光の偏向する方向と、前記第２工程中の前記第６
補助工程での光の偏向する方向とは逆向きであることを
特徴とする。 本発明の請求項７７にかかる発明では、請
求項６５の構成において、前記第１及び第２工程は、第
１凹面反射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第２凹
面反射鏡で光を反射させる第２補助工程とを有すること
を特徴とする。 本発明の請求項７８にかかる発明では、
請求項７７の構成において、前記第１補助工程での光の
反射方向と前記第２補助工程での光の反射方向とは同一
方向であることを特徴とする。 本発明の請求項７９にか
かる発明では、請求項７８の構成において、前記第１工
程中の前記第１補助工程での光の反射方向と、前記第２
工程中の前記第１補助工程での光の反射方向とは逆向き
であることを特徴とする。 本発明の請求項８０にかかる
発明では、請求項６５の構成において、前記第１及び第
２工程は、前記第１物体からの光を前記凹面反射鏡へ偏
向させる偏向補助工程をさらに有し、前記第１工程中の
偏向補助工程での光の偏向方向と、前記第２工程中の偏
向補助工程での光の偏向方向とは逆向きであることを特
徴とする。 本発明の請求項８１にかかる発明では、請求
項６４の構成において、前記第１及び第２の露光領域
は、走査方向と直交する方向において一部重複すること
を特徴とする。 本発明の請求項８２にかかる発明では、
請求項６４の構成において、像側テレセントリックな光
束に基づいて前記第１物体の正立像を前記第１及び第２
の露光領域とは異なる第３の露光領域上に形成する第４
工程をさらに有することを特徴 とする。 本発明の請求項
８３にかかる発明では、請求項６４の構成において、前
記第１及び第２の露光領域は、非走査方向に沿って並ん
で配置されることを特徴とする。 本発明の請求項８４に
かかる発明では、請求項６４の構成において、前記第１
及び第２の露光領域は、非走査方向において異なる位置
に配置されることを特徴とする。 本発明の請求項８５に
かかる発明では、請求項８４の構成において、像側テレ
セントリックな光束に基づいて前記第１物体の正立像を
前記第１及び第２の露光領域とは異なる第３の露光領域
上に形成する第４工程をさらに有することを特徴とす
る。 本発明の請求項８６にかかる発明では、請求項８５
の構成において、前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第１の露光領域とは異なる位置に配置され
ることを特徴とする。 本発明の請求項８７にかかる発明
では、請求項８６の構成において、前記第１及び第３の
露光領域は、前記非走査方向で間隔を持つように配置さ
れることを特徴とする。 本発明の請求項８８にかかる発
明では、請求項６４の構成において、前記第１及び第２
の露光領域は、前記走査方向において異なる位置に配置
されることを特徴とする。 本発明の請求項８９にかかる
発明では、請求項８８の構成において、像側テレセント
リックな光束に基づいて前記第１物体の正立像を前記第
１及び第２の露光領域とは異なる第３の露光領域上に形
成する第４工程をさらに有することを特徴とする。 本発
明の請求項９０にかかる発明では、請求項８９の構成に
おいて、前記第３の露光領域は、前記走査方向において
前記第２の露光領域とは異なる位置に配置されることを
特徴とする。 本発明の請求項９１にかかる発明では、請
求項６４〜９０の何れか一項の構成において、前記第１
及び第２の露光領域は、台形形状または六角形形状であ
るこ とを特徴とする。 本発明の請求項９２にかかる発明
は、第１物体の像を第２物体上へ投影露光する露光方法
であって、請求項１〜６３の何れか一項記載の露光装置
を用いて前記第２物体上に前記第１物体の像を形成しつ
つ前記第１及び第２物体を移動させる。 本発明の請求項
９３にかかる発明では、請求項６４〜９２の何れか一項
の構成において、前記第１物体と前記第２物体とを移動
させつつ前記第１物体の像を一回の露光で第２物体上へ
転写することを特徴とする。 Here, in the present invention, the erect image is an upper image.
Refers to an image where the lower left and right lateral magnifications are positive.The present invention
In the invention according to claim 2, in the structure of claim 1,
The first and second projection optical systems have concave surfaces facing the light incident side.
Reflection with a concave lens facing the light incident side
A Dyson-type optical system having a surface
You. In the invention according to claim 3 of the present invention, claim 1 or
In the configuration of 2, the first and second projection optical systems
Has a first partial optical system and a second partial optical system,
The two-part optical system is a part of the object formed by the first partial optical system.
Forming a secondary image by light from the primary image;
I do. In the invention according to claim 4 of the present invention,
In the configuration, the first and second partial optical systems each include:
First and second reflecting surfaces with concave surfaces facing the light incident side.
The first and second reflecting surfaces are concave in the same direction.
It is characterized by being arranged so that. Claims of the invention
According to a fifth aspect of the present invention, in the configuration of the third or fourth aspect,
Thus, the primary image is formed by the first partial optical system.
A field stop is arranged at the position. Book
In the invention according to claim 6 of the present invention,
The field stop has a substantially trapezoidal opening.
The length of the exposure area in the direction of movement determined by the mouth
The sum is always equal in the direction orthogonal to the moving direction.
It is characterized by being defined as follows. Claims of the invention
In the invention according to claim 7, the configuration according to any one of claims 1 to 6
In the first and second projection optical systems, a lens
And a concave reflecting surface. Of the present invention
According to an eighth aspect of the present invention, in the configuration of the seventh aspect,
It is a space between the lens and the concave reflecting surface.
Features. According to the ninth aspect of the present invention,
Item 1. In the configuration of Item 1, the first and second projection optical systems are
It has a concave reflecting surface. Claims of the invention
According to a tenth aspect of the present invention, in the configuration of the ninth aspect,
First The projection optical system has a first concave reflecting surface, and the second
The projection optical system has a second concave reflecting surface, and the first and second
Concave reflective surfaces are arranged so that the concave surfaces face each other
It is characterized by the following. The invention according to claim 11 of the present invention
The first projection optical system according to claim 10, wherein
Has a third concave reflecting surface, and the second projection optical system has a fourth
A concave reflecting surface, wherein the first and third concave reflecting surfaces are
Are arranged so as to face the concave surface in the same direction;
The fourth reflecting surface is arranged so as to face the concave surface in the same direction.
It is characterized by the following. According to the twelfth aspect of the present invention,
Is the first and second projections in the configuration of claim 9
The optical system deflects light from the first object to generate the concave light.
A first deflecting member directed to the surface reflecting surface,
Having a second deflecting member for deflecting the emitted light.
Features. According to the invention of claim 13 of the present invention,
The structure of claim 12, wherein the first and second projection optics
The system comprises another concave reflecting surface different from said concave reflecting surface,
The light from the second deflecting member is deflected to reflect the another concave surface.
Reflection on the third deflecting member directed to the surface and the another concave reflection surface
And a fourth deflecting member for deflecting the reflected light.
Sign. According to the fourteenth aspect of the present invention,
Item 13. In the configuration of Item 13, the first and second projection optical systems
Is between the second deflecting member and the third deflecting member.
An intermediate image of the first object is formed. The present invention
In the invention according to claim 15, the structure of claim 14
And wherein the first and second projection optical systems are provided with the second deflection optical system.
A field stop disposed between the member and the third deflecting member.
It is characterized by having. According to claim 16 of the present invention.
According to the invention, in the configuration according to any one of claims 13 to 15,
The concave reflecting surface and the another concave reflecting surface are in the same direction.
Are arranged so as to face the concave surface to the. Book
According to the seventeenth aspect of the present invention,
The same-size erect image of the first object is referred to as the second object.
A third projection optical system formed on a body;
3. The projection optical system is telecentric at least on the image side.
Composed of It is characterized by the following. Claim 18 of the present invention
According to this invention, in the configuration of claim 17, the third
Of the projection optical system of the first, the first partial optical system and the second partial optical system
Wherein the second partial optical system has the shape of the first partial optical system.
Forming a secondary image by light from the primary image of the object to be formed
It is characterized by the following. The invention according to claim 19 of the present invention
The configuration according to claim 18, wherein the first and second parts are
The optical system has first and second concave surfaces facing the light incident side, respectively.
A second reflecting surface, wherein the first and second reflecting surfaces are the same
Characterized by being arranged so that the concave surface faces in the direction
You. In the invention according to claim 20 of the present invention, claim 18
Or in the 19th serpentine voice, by the first partial optical system
A field stop is arranged at a position where the primary image is formed.
It is characterized by that. Claim 21 of the present invention
Then, in the configuration of claim 17, the first, second, and
The third projection optical system has a concave reflecting surface.
You. In the invention according to claim 22 of the present invention, claim 21
Wherein the first projection optical system has a first concave reflection
And the second projection optical system has a second concave reflecting surface.
The third projection optical system has a third concave reflecting surface;
The first and second concave reflecting surfaces have concave surfaces facing each other.
And the first and third concave reflecting surfaces are in the same direction.
Are arranged so as to face the concave surface to the. Book
According to the twenty-third aspect of the present invention, the configuration of the twenty-second aspect is provided.
, The first projection optical system has a fourth concave reflecting surface.
The second projection optical system has a fifth concave reflecting surface;
The third projection optical system has a sixth concave reflecting surface, and
And the fourth concave reflecting surface faces the concave surface in the same direction.
And the second and fifth reflecting surfaces are concave in the same direction.
And the third and sixth reflecting surfaces are the same.
Characterized in that they are arranged so that the concave surface faces in one direction.
You. In the invention according to claim 24 of the present invention, claim 21
, The first, second and third projection optical systems
Deflects light from the first object to reflect the concave surface
A first deflecting member facing the surface, and reflected by the concave reflecting surface
And a second deflecting member for deflecting the reflected light.
I do. In the invention according to claim 25 of the present invention, claim 2
In the configuration of 4, the first, second and third projection optics
The system comprises another concave reflecting surface different from said concave reflecting surface,
The light from the second deflecting member is deflected to reflect the another concave surface.
Reflection on the third deflecting member directed to the surface and the another concave reflection surface
And a fourth deflecting member for deflecting the reflected light.
Sign. In the invention according to claim 26 of the present invention,
Item 25. In the configuration according to Item 25, the first, second, and third projections
An optical system is provided between the second deflecting member and the third deflecting member.
Forming an intermediate image of the first object.
In the invention according to claim 27 of the present invention, the structure according to claim 26 is provided.
Wherein the first, second, and third projection optical systems include:
And disposed between the second deflecting member and the third deflecting member.
Characterized by having a visual field stop. Claims of the invention
In the invention according to Item 28, any one of Claims 25 to 27
In the configuration, the concave reflecting surface and the another concave reflecting surface
Is characterized by being arranged so that the concave surface faces in the same direction.
Sign. In the invention according to claim 29 of the present invention,
Item 28. The configuration according to Item 28, wherein the first projection optical system includes:
A concave reflecting surface and the concave reflecting surface in the second projection optical system
Are arranged such that the concave surfaces face each other, and the first
The concave reflecting surface in the projection optical system and the third projection optical system
The concave surface should be directed in the same direction as the concave reflecting surface in the system.
It is characterized by being arranged in. Claim 30 of the present invention
According to this invention, the first object and the second object are moved in the scanning direction.
Moving the image of the first object on the second object
An exposure apparatus for projecting and exposing the light from the first object.
Forming a first exposure area on the second object based on the light
A first projection optical system, which is based on light from the first object
A second exposure area different from the first exposure area on the second object.
A second projection optical system for forming the second exposure area;
The first and second projection optical systems have a telescope at least on the image side.
It is composed of tricks. According to claim 31 of the present invention
According to the invention, in the configuration of claim 30, the first and the second
2 that the exposure areas are arranged side by side in the non-scanning direction.
Features. According to the invention of claim 32 of the present invention,
The structure of claim 30, wherein the first And the second exposure area
Must be placed at different positions in the non-scanning direction.
Features. In the invention according to claim 33 of the present invention,
32. The configuration according to claim 32, wherein the light source based on the light from the first object is
And the first and second exposure areas on the second object.
Forms a different third exposure area, and at least the image side
A third projection optical system composed of
And wherein the third exposure area is in front of the first exposure area.
Characteristically located at different positions in the scanning direction
And In the invention according to claim 34 of the present invention,
33, the first exposure area and the second exposure area
The exposure area is located at a distance in the non-scanning direction.
It is characterized by that. The invention according to claim 35 of the present invention.
In the configuration according to claim 34, the third exposure area
Scans between the intervals between the first and second exposure areas
It is characterized in that it is positioned so that it can be moved. Of the present invention
According to the invention of claim 36, in the constitution of claim 30,
The first and second exposure areas are located in the scanning direction.
And are arranged at different positions. The present invention
In the invention according to claim 37, the structure of claim 36
And based on the light from the first object, the second object
A third exposure different from the first and second exposure areas
A region is formed and at least the image side is telecentric.
A third projection optical system, wherein the third
The light area is different from the second exposure area in the scanning direction.
It is characterized by being arranged at different positions. The present invention
In the invention according to claim 38, the invention according to claim 37 has the structure
The first, second and third exposure areas are trapezoidal in shape.
The short side of the trapezoid of the second exposure area is the third side of the third exposure area.
Facing the exposure area side and in front of the third exposure area
The short side of the trapezoid is directed to the second exposure area side
It is characterized by the following. The invention according to claim 39 of the present invention
Is the configuration of claim 36, wherein the first, second and
The exposure area 3 has a trapezoidal shape, and the exposure area 3
The short side of the trapezoid is directed toward the second exposure area.
The short side of the trapezoid of the second exposure area is
It is characterized by being directed to the exposure area side. The present invention
In the invention according to claim 40, what is claimed in claims 30 to 37 is
In the configuration of any one of the above, the first, second, and third dew
Light area is trapezoidal or hexagonal shaped
And The invention according to claim 41 of the present invention is the first object
Moving the body and the second object along the scanning direction,
Exposure apparatus for projecting and exposing an image of a first object onto a second object
Wherein, based on light from the first object, the second
First projection for forming a trapezoidal first exposure area on an object
An optical system; and the second system based on light from the first object.
Trapezoidal shape at a position on the object different from the first exposure area
A second projection optical system for forming a second exposure area of
You. In the invention according to claim 42 of the present invention, claim 41
In the configuration, the first and second exposure regions are
It is characterized by being arranged side by side in the inspection direction. Of the present invention
According to the invention of claim 43, in the structure of claim 41,
The first and second exposure areas are located in the non-scanning direction.
In different positions. Of the present invention
According to the invention of claim 44, in the constitution of claim 43,
And based on the light from the first object, on the second object
Trapezoid at a position different from the first and second exposure areas
A third projection optical system for forming a third exposure region in a shape of a circle.
And the third exposure area is different from the first exposure area.
It is characterized that they are arranged at different positions in the scanning direction.
Sign. In the invention according to claim 45 of the present invention,
Item 44. The configuration according to Item 44, wherein the first exposure area and the second exposure area
Are spaced from each other in the non-scanning direction.
It is characterized by being performed. The invention according to claim 46 of the present invention.
47. The structure according to claim 45, wherein the third exposure area is
Area scans between said intervals of said first and second exposure areas
It is characterized in that it is positioned so as to be able to. The present invention
In the invention according to claim 47, the structure of claim 41
And the first and second exposure areas are arranged in the scanning direction.
In different positions. Departure
In the invention according to claim 48, the structure of claim 47
In the first The second object based on light from the object
The first and second exposure areas on the body at a position different from the first and second exposure areas.
A third projection optical system for forming the third exposure area.
The third exposure area is different from the second exposure area
It is characterized by being arranged at different positions in the scanning direction
I do. The invention according to claim 49 of the present invention is directed to a first object
While moving the second object and the second object in the scanning direction.
An exposure apparatus that projects and exposes an image of one object onto a second object
And a first projection light having a trapezoidal first viewing area.
And second projection light having a trapezoidal second viewing area
And the short side of the trapezoid of the first viewing area is:
Toward the arc side of the maximum viewing area of the first projection optical system
And the short side of the trapezoid of the second field of view is
To the arc side of the maximum field of view of the second projection optical system
Have been. In the invention according to claim 50 of the present invention,
50. The exposure apparatus according to claim 49, wherein the first and second projection lights
The maximum field of view of the academic system is semicircular.
50. The exposure apparatus according to claim 49, wherein: Claim 5 of the present invention
The invention according to 1 is a method for scanning a first object and a second object.
Moving the image of the first object along with the second object
An exposure apparatus for projecting and exposing on a body, wherein the first object is
Based on these lights, a first exposure area is formed on the second object.
A first projection optical system to be formed; based on light from the first object
Therefore, a different area from the first exposure area is provided on the second object.
A second projection optical system for forming a second exposure area;
The first object is placed on the second object based on light from one object.
And forming a third exposure region different from the second exposure region.
A third projection optical system, the first, second and third
The projection optical system is telecentric at least on the image side.
Is done. In the invention according to claim 52 of the present invention,
Item 51. In the configuration according to Item 51, the first and second exposure regions
Must be placed at different positions in the non-scanning direction.
Features. According to the invention of claim 53 of the present invention,
53. The configuration of claim 52, wherein the third exposure area is
Different from the first and second exposure areas in the scanning direction
It is characterized by being arranged at a position. Claim 5 of the present invention
In the invention according to the fourth aspect, the configuration according to claim 52 or 53 is provided.
And the first exposure region and the second exposure region are not
The third exposure device is arranged at intervals in the scanning direction.
The light area is between the distance between the first and second exposure areas.
It is characterized by being positioned so that it can be scanned. Book
The invention according to claim 55 of the invention is characterized in that the first object and the second object
The first object while moving the object along the scanning direction.
Exposure apparatus for projecting and exposing the image of
Based on light from the first object, a second
A first projection optical system for forming one exposure area; and the first object
The first dew on the second object based on light from the body;
A second projection light forming a second exposure area different from the light area
And the first and second projection optical systems are few.
Both are configured on the image side telecentric, and the first and second
The sum of the widths of the exposure areas 2 in the scanning direction is determined by the scanning
It is constant in the scanning orthogonal direction orthogonal to the inspection direction. Book
The invention according to claim 56 of the invention is characterized in that the first object and the second object
The first object while moving the object along the scanning direction.
Exposure apparatus for projecting and exposing the image of
Based on light from the first object, a second
A first projection optical system for forming one exposure area; and the first object
The first dew on the second object based on light from the body;
A second projection light forming a second exposure area different from the light area
And an optical axis of the first and second projection optical systems.
Is parallel to the in-plane direction of the first object. Of the present invention
According to the invention of claim 57, in the structure of claim 56,
Wherein the first and second projection optics are on the first object.
First and second projection light having first and second viewing areas
Perpendicular to the scanning direction of the largest possible field of view
Φ F And the first and second projection optical systems
When the distance between optical axes is K, 2φ F > K Is satisfied. Claim 58 of the present invention
According to the invention, in the structure of claim 56 or 57,
The first and second projection optics include a first projection optical system on the first object.
And the first and second projection optical systems.
Direction perpendicular to the scanning direction of the largest field of view that can be taken
Direction width φ F Outer diameters of the first and second projection optical systems
Maximum value of φ D When and when, φ F > Φ D / 2 Is satisfied. According to claim 59 of the present invention
According to the invention, the first object and the second object are arranged along the scanning direction.
Moving the image of the first object onto the second object
An exposure apparatus for performing projection exposure, wherein light from the first object is provided.
Forming a first exposure area on the second object based on
A first projection optical system, based on light from the first object
A second exposure area different from the first exposure area on the second object.
A second projection optical system for forming the second exposure area;
The first and second projection optical systems include first and second projection optical systems on the first object.
And a second field of view, wherein the first and second projection optical systems
Direction perpendicular to the scanning direction of the largest possible viewing area
The width of φ F And the outer diameter of the first and second projection optical systems
Maximum value φ D When φ F > Φ D / 2 To be satisfied. The invention according to claim 60 of the present invention is directed to the first aspect.
While moving the object and the second object along the scanning direction
Exposure for projecting and exposing an image of the first object onto a second object
The apparatus, based on light from the first object,
A first projection optical system for forming a first exposure area on a second object
And on the second object based on light from the first object
Forming a second exposure area different from the first exposure area
A second projection optical system for performing the first and second projections.
The optical system has first and second viewing areas on the first object.
And the maximum possible field of view of the first and second projection optical systems
The width of the region in the direction orthogonal to the scanning direction is φ F And before
If the distance between the optical axes of the first and second projection optical systems is K,
Come 2φ F > K To be satisfied. According to the invention of claim 61 of the present invention,
The structure of claim 59 or 60, wherein the first and second
The projection optics is at least image-side telecentric
It is characterized by being performed. The invention according to claim 62 of the present invention
Akira moves the first object and the second object in the scanning direction. Move along
Projecting an image of the first object onto a second object while moving
An exposure apparatus that emits light, based on light from the first object.
And forming a first exposure area on the second object.
A projection optical system; based on light from the first object,
A second exposure different from said first exposure area on a second object
A second projection optical system for forming an area;
And the second projection optical system is at least image-side telecentric.
It has a roof surface. Claim 63 of the present invention
According to the invention, the mask and the photosensitive substrate are arranged along the scanning direction.
The image of the mask onto the photosensitive substrate while moving
An exposure apparatus for performing shadow exposure, wherein a first field of view on the mask is provided.
A first exposure on the photosensitive substrate based on light from the area;
A first projection optical system for forming a light area;
On the photosensitive substrate based on light from the second viewing area
Forming a second exposure area different from the first exposure area;
A second projection optical system, wherein the first field of view is
Has a side that matches the edge of the circuit pattern area on the mask
You. The invention according to claim 64 of the present invention provides an image of a first object
An exposure method for projecting an image onto a second object by exposure.
An erect image of the first object based on a centric beam
Forming a first exposure area on a first exposure area; and
Different image-side telecentricity that is different from the centric beam
An erect image of the first object based on the
A second exposure region formed on a second exposure region different from the second exposure region
Step; moving the first object and the second object along a scanning direction.
And a third step of moving. Claims of the invention
In the invention according to Claim 65, in the structure of Claim 64,
The first and second steps are complementary to reflecting light with a concave reflecting mirror.
It is characterized by having an auxiliary process. Claim 66 of the present invention
In the invention according to the sixth aspect, in the configuration of the thirty-fourth aspect, the second aspect,
The first and second steps respectively form an intermediate image of the first object.
It is characterized by having an auxiliary step to perform. The present invention
In the invention according to claim 67, the structure according to claim 66 is provided.
The first and second steps are respectively performed from the intermediate image.
It is characterized by having an auxiliary step of forming a secondary image.
In the invention according to claim 68 of the present invention, the structure of claim 67
In the above, the first and second steps each include a concave surface
An auxiliary step of reflecting light with a mirror to guide the light to the intermediate image;
An auxiliary process of reflecting light with a surface reflecting mirror to guide the light to the secondary image;
It is characterized by having. According to claim 69 of the present invention
According to another aspect of the present invention, there is provided a configuration according to any one of claims 67 to 68.
In the first and second steps, light is applied to the field stop, respectively.
It is characterized by having an auxiliary step of passing through. The present invention
In the invention according to claim 70, the structure according to claim 65 is provided.
The light is reflected by the concave reflecting mirror in the first step.
Auxiliary step and light reflected by the concave reflecting mirror in the second step.
In the auxiliary process, the light is reflected to the opposite sides
It is characterized by that. The invention according to claim 71 of the present invention.
In the configuration of claim 65, the first and second steps are performed.
Each has an auxiliary step of passing light through the lens
It is characterized by the following. With the invention according to claim 72 of the present invention,
The method according to claim 65, wherein the first and second steps are performed.
Comprises: a first auxiliary step of reflecting light with a first concave reflecting mirror;
Forming an intermediate image of the first object after the first assisting step;
After the second auxiliary step and the second auxiliary step, light is
And a third auxiliary step of reflecting light.
Sign. In the invention according to claim 73 of the present invention,
Item 72, in the first and second steps, wherein
The light from the first object is deflected toward the first concave reflecting mirror.
A fourth auxiliary step of causing the light from the first concave reflecting mirror to
A fifth auxiliary step of deflecting toward the intermediate image;
A second light source for deflecting light from an image toward said second concave reflecting mirror;
(6) an auxiliary process, and light from the second concave reflecting mirror is transferred to the second
And a seventh auxiliary process for deflecting toward the object.
It is characterized by that. The invention according to claim 74 of the present invention.
Then, in the configuration of claim 73, the first and second steps
In the step, the light deflected in the fourth auxiliary step is transmitted to the first lens.
Eighth auxiliary step of leading to the first concave reflecting mirror after being guided to
And the light reflected by the first concave reflecting mirror.
In the ninth auxiliary step leading to the lens and the sixth auxiliary step
Light After the light is guided to the second lens, the second concave reflecting mirror
10th auxiliary process to guide the light to the second concave reflecting mirror
And a tenth auxiliary step of guiding the emitted light to the second lens.
It is characterized by having. Claim 75 of the present invention
According to the invention, in the constitution of claim 73 or 74,
A method of deflecting light in the fourth auxiliary step in the first step
Direction and light deflection in the fourth auxiliary step in the second step
It is characterized in that the direction of the movement is opposite. The present invention
In the invention according to claim 76, any one of claims 73 to 75 is provided.
In one configuration, the sixth assistant during the first step
The direction of light deflection during the second step and the sixth direction during the second step.
Make sure that the direction of light deflection in the auxiliary process is
Features. In the invention according to claim 77 of the present invention,
65. The structure of claim 65, wherein the first and second steps are performed in a
(1) a first auxiliary step of reflecting light with a concave reflecting mirror;
Having a second auxiliary step of reflecting light with a surface reflecting mirror
It is characterized by. In the invention according to claim 78 of the present invention,
78. The configuration according to claim 77, wherein light in the first auxiliary step is
The reflection direction is the same as the light reflection direction in the second auxiliary step.
Direction. According to claim 79 of the present invention
According to the present invention, in the configuration of claim 78, the first process
The direction of light reflection in the first auxiliary process during
Opposite to the light reflection direction in the first auxiliary step during the process
It is characterized by being. According to claim 80 of the present invention
According to the invention, in the structure of claim 65, the first and the second
In the two steps, light from the first object is polarized to the concave reflecting mirror.
Further comprising a deflection assisting step of directing,
The direction of light deflection in the deflection assisting step and the deflection in the second step
The direction is opposite to the light deflection direction in the direction assisting process.
Sign. In the invention according to claim 81 of the present invention,
Item 64. In the configuration of Item 64, the first and second exposure regions
Must partially overlap in the direction perpendicular to the scanning direction.
It is characterized by. In the invention according to claim 82 of the present invention,
66. The image-side telecentric light of claim 64.
Erect images of the first object based on the first and second bundles
A fourth exposure region formed on a third exposure region different from the first exposure region
It is characterized by having further steps And Claims of the invention
In the invention according to Item 83, in the structure of Item 64,
The first and second exposure areas are arranged along the non-scanning direction.
It is characterized by being arranged in. Claim 84 of the present invention
According to this invention, in the configuration of claim 64, the first
And the second exposure area has different positions in the non-scanning direction.
It is characterized by being arranged in. Claim 85 of the present invention
According to this invention, in the configuration of claim 84, the image-side
An erect image of the first object based on the centric flux
A third exposure area different from the first and second exposure areas
The method further comprises a fourth step of forming thereon.
You. In the invention according to claim 86 of the present invention, claim 85
In the configuration, the third exposure area is located in the scanning direction.
At a position different from the first exposure area.
It is characterized by that. The invention according to claim 87 of the present invention.
In the configuration of claim 86, the first and third components
The exposure areas are arranged so as to have an interval in the non-scanning direction.
It is characterized by being performed. The invention according to claim 88 of the present invention.
For clarity, in the configuration of claim 64, the first and the second
Are located at different positions in the scanning direction.
It is characterized by being performed. According to claim 89 of the present invention
According to the invention, in the constitution of claim 88, the image-side telecent
An erect image of the first object based on the
Form on a third exposure area different from the first and second exposure areas
The method further comprises a fourth step of forming. Departure
In the invention according to claim 90, the constitution of claim 89 is
In the above, the third exposure area is located in the scanning direction.
That the second exposure area is arranged at a different position from the second exposure area.
Features. In the invention according to claim 91 of the present invention,
90. In the configuration of any one of claims 64 to 90,
And the second exposure area is trapezoidal or hexagonal in shape.
Ruko And features. Claim 92 of the present invention
Is an exposure method for projecting and exposing an image of a first object onto a second object
An exposure apparatus according to any one of claims 1 to 63.
Forming an image of the first object on the second object using
And moving the first and second objects. Claims of the invention
In the invention according to Item 93, any one of Claims 64 to 92 is provided.
Moving the first object and the second object
The image of the first object onto the second object in a single exposure
It is characterized by transferring.

【００１１】[0011]

【作用】上述の如き本発明による露光装置においては、
複数の投影光学系を組み合わせる構成であるため、個々
の投影光学系の露光領域を大きくすることなく、大きな
露光領域を得ることができる。従って、投影光学系が小
型化されるため、高精度な投影光学系を容易に製造する
ことができる。また、投影光学系を構成する各光学部材
が小型であるため、絶対的な収差量の発生が減少する。
従って、良好な光学性能のもとで走査露光が実現でき
る。In the exposure apparatus according to the present invention as described above,
Since the configuration is such that a plurality of projection optical systems are combined, a large exposure area can be obtained without increasing the exposure area of each projection optical system. Therefore, the size of the projection optical system is reduced, so that a highly accurate projection optical system can be easily manufactured. Further, since each optical member constituting the projection optical system is small, the occurrence of an absolute amount of aberration is reduced.
Therefore, scanning exposure can be realized with good optical performance.

【００１２】また、本発明による露光装置では、大きな
露光領域を一回の露光で得ることができるため、スルー
プットが高い利点がある。In the exposure apparatus according to the present invention, a large exposure area can be obtained by one exposure, so that there is an advantage that the throughput is high.

【００１３】[0013]

【実施例】以下、図面を参照して本発明による実施例を
説明する。図１は、本発明による露光装置の斜視図であ
る。なお、図１では、所定の回路パターンが設けられた
マスク８と、ガラス基板上にレジストが塗布されたプレ
ート９とが搬送される方向（走査方向）をＸ軸、マスク
８の平面内でＸ軸と直交する方向をＹ軸、マスク８の法
線方向をＺ軸とした座標系をとっている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an exposure apparatus according to the present invention. In FIG. 1, the direction (scanning direction) in which the mask 8 provided with the predetermined circuit pattern and the plate 9 coated with the resist on the glass substrate are X-axis, and the X-axis is within the plane of the mask 8. A coordinate system is used in which the direction orthogonal to the axis is the Y axis and the normal direction of the mask 8 is the Z axis.

【００１４】図１において、照明光学系１０による露光
光は、図中ＸＹ平面内のマスク８を均一に照明する。こ
の照明光学系１０としては、例えば図２に示す如き構成
のものが好適である。図２は、図１に示す照明光学系１
０の具体的な構成の一例を示す図である。図２におい
て、楕円鏡１０２の内部には、例えばｇ線(435nm) 、あ
るいはｉ線(365nm) の露光光を供給する水銀ランプ等の
光源が設けられており、この光源からの露光光は、楕円
鏡１０２により集光され、ライトガイド１０３の入射端
に光源像を形成する。ライトガイド１０３は、その射出
端１０３ａ、１０３ｂに均一な光強度分布の２次光源面
を形成する。尚、ライトガイド１０３は、ランダムに束
ねられた光ファイバーで構成されることが望ましい。In FIG. 1, exposure light from an illumination optical system 10 uniformly illuminates a mask 8 in an XY plane in the figure. The illumination optical system 10 preferably has, for example, a configuration as shown in FIG. FIG. 2 shows the illumination optical system 1 shown in FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a specific configuration of 0. In FIG. 2, a light source such as a mercury lamp that supplies g-line (435 nm) or i-line (365 nm) exposure light is provided inside the elliptical mirror 102, and the exposure light from this light source is: The light is condensed by the elliptical mirror 102 and forms a light source image at the incident end of the light guide 103. The light guide 103 forms a secondary light source surface having a uniform light intensity distribution at its emission ends 103a and 103b. Note that the light guide 103 is desirably composed of randomly bundled optical fibers.

【００１５】ライトガイド１０３から射出した光束は、
リレーレンズ１０４ａ、１０４ｂをそれぞれ介して、フ
ライアイレンズ１０５ｂに達する。これらのフライアイ
レンズ１０５ａ、１０５ｂの射出面側には、複数の２次
光源が形成される。複数の２次光源からの光は、２次光
源形成位置に前側焦点が位置するように設けられたコン
デンサレンズ１０６ａ、１０６ｂを介して、矩形状の開
口部１０７ａ、１０７ｂを有する視野絞り１０７を均一
に照明する。視野絞り１０７を介した露光光は、それぞ
れレンズ１０８ａ、１０８ｂを介して、ミラー１０９
ａ、１０９ｂによって光路が９０°偏向され、レンズ１
１０ａ、１１０ｂに達する。ここで、レンズ１０８ａ、
１１０ａとレンズ１０８ｂ、１１０ｂとは、視野絞り１
０８とマスク８とを共役にするリレー光学系であり、レ
ンズ１１０ａ、１１０ｂを介した露光光は、視野絞り１
０８の開口部１０８ａ、１０８ｂの像である照明領域１
１１ａ、１１１ｂを形成する。The light beam emitted from the light guide 103 is
The light reaches the fly-eye lens 105b via the relay lenses 104a and 104b, respectively. A plurality of secondary light sources are formed on the exit surface side of these fly-eye lenses 105a and 105b. Light from a plurality of secondary light sources passes through field lenses 107 having rectangular openings 107a and 107b through condenser lenses 106a and 106b provided such that a front focal point is located at a secondary light source forming position. Light up. Exposure light passing through the field stop 107 passes through lenses 108a and 108b,
a, 109b deflects the optical path by 90 °, and the lens 1
10a and 110b are reached. Here, the lens 108a,
110a and lenses 108b and 110b are connected to the field stop 1
08 and the mask 8 are conjugated, and the exposure light passing through the lenses 110a and 110b
Illumination area 1 which is an image of apertures 108a and 108b at 08
11a and 111b are formed.

【００１６】尚、視野絞り１０８の開口部１０８ａ，１
０８ｂの形状は、矩形状に限ることはない。この照明領
域の形状としては、投影光学系の視野の形状に可能な限
り相似であることが望ましい。また、図２においては、
説明を簡単にするために、照明領域１１１ｃ〜１１１ｇ
を形成する照明光学系は、その光軸のみを示している。
なお、図２では図示省略されているが、ライトガイド１
０３の射出端は、照明領域の数に対応して設けられてお
り、これらの照明領域１１１ｃ〜１１１ｇには、図示省
略したライトガイド１０３の射出端からの露光光が供給
される。The apertures 108a, 1 of the field stop 108
The shape of 08b is not limited to a rectangular shape. It is desirable that the shape of the illumination area be as similar as possible to the shape of the field of view of the projection optical system. In FIG. 2,
For simplicity, the illumination areas 111c to 111g
Are shown only on the optical axis.
Although not shown in FIG. 2, the light guide 1
The exit end of 03 is provided corresponding to the number of illumination regions, and exposure light from the exit end of the light guide 103 (not shown) is supplied to these illumination regions 111c to 111g.

【００１７】また、図２に示すように、１つの光源では
光量不足になる場合、図３に示すような構成を適用して
も良い。図３は、照明光学系の変形例の要部を模式的に
示す図であって、水銀ランプ等の光源２０１ａ〜２０１
ｃからの露光光は、楕円鏡２０２ａ〜２０２ｃにより集
光され、光源像を形成する。そして、この光源像形成位
置に入射端が位置するようにライトガイド２０３が設け
られており、ライトガイド２０３を介した露光光は、複
数の射出端２０３ａ〜２０３ｅに均一な光強度分布の２
次光源面を形成する。このライトガイド２０３も図２の
ライトガイド１０３と同じく光ファイバーをランダムに
束ねて構成されることが望ましい。射出端２０３ａ〜２
０３ｅからマスク８に至るまでの光路は、図２に示す照
明光学系と同じであるため、ここでは説明を省略する。Further, as shown in FIG. 2, when one light source is insufficient in light quantity, a configuration as shown in FIG. 3 may be applied. FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a main part of a modification of the illumination optical system, and includes light sources 201a to 201 such as mercury lamps.
Exposure light from c is converged by the elliptical mirrors 202a to 202c to form a light source image. The light guide 203 is provided so that the incident end is located at the light source image forming position. Exposure light passing through the light guide 203 is transmitted to the plurality of exit ends 203a to 203e with a uniform light intensity distribution.
The next light source surface is formed. It is desirable that the light guide 203 be configured by randomly bundling optical fibers similarly to the light guide 103 of FIG. Injection ends 203a-2
Since the optical path from 03e to the mask 8 is the same as that of the illumination optical system shown in FIG. 2, the description is omitted here.

【００１８】なお、上述の如き複数の照明領域１１１ａ
〜１１１ｇを形成する複数の照明光学系の代わりに、走
査方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に延びた一
つの矩形状の領域でマスク８を照明する照明光学系を適
用しても良い。このような光学系としては、Ｙ方向に延
びた棒状の光源を用いたものが考えられる。さて、マス
ク８の下方には、複数の投影光学系２ａ〜２ｇが配置さ
れている。以下、図４を参照して投影光学系２ａ〜２ｇ
について説明する。なお、投影光学系２ａ〜２ｇは、そ
れぞれ同じ構成を有するため、説明を簡単にするために
投影光学系２ａのみについて述べる。The plurality of illumination areas 111a as described above
Instead of a plurality of illumination optical systems forming ~ 111g, an illumination optical system that illuminates the mask 8 with one rectangular area extending in a direction (Y direction) orthogonal to the scanning direction (X direction) is applied. Is also good. As such an optical system, a system using a rod-shaped light source extending in the Y direction is conceivable. Now, below the mask 8, a plurality of projection optical systems 2a to 2g are arranged. Hereinafter, referring to FIG. 4, the projection optical systems 2a to 2g will be described.
Will be described. Since the projection optical systems 2a to 2g have the same configuration, only the projection optical system 2a will be described for the sake of simplicity.

【００１９】図４は、投影光学系２ａのレンズ構成図で
あり、この投影光学系２ａは、２組のダイソン型光学系
を組み合わせた構成である。図４において、投影光学系
２ａは、第１部分光学系２１〜２４と、視野絞り２５
と、第２部分光学系２６〜２９とから構成されており、
これらの第１及び第２部分光学系は、それぞれダイソン
型光学系を変形したものである。FIG. 4 is a diagram showing the lens configuration of the projection optical system 2a. This projection optical system 2a has a configuration in which two sets of Dyson optical systems are combined. 4, a projection optical system 2a includes first partial optical systems 21 to 24 and a field stop 25.
And second partial optical systems 26 to 29.
These first and second partial optical systems are respectively modifications of the Dyson optical system.

【００２０】第１部分光学系は、マスク８面に対して４
５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プリズム２１
と、マスク８の面内方向に沿った光軸を有し、凸面を直
角プリズム２１の反対側に向けた平凸レンズ成分２２
と、全体としてメニスカス形状であって凹面を平凸レン
ズ成分２２側に向けた反射面を有するレンズ成分２３
と、直角プリズム２１の反射面と直交しかつマスク８面
に対して４５°の傾斜で配置された反射面を持つ直角プ
リズム２４とを有する。The first partial optical system is provided with 4
Right angle prism 21 having a reflection surface arranged at an inclination of 5 °
And a plano-convex lens component 22 having an optical axis along the in-plane direction of the mask 8 and having a convex surface facing the opposite side of the right-angle prism 21
And a lens component 23 having a reflective surface with a meniscus shape as a whole and a concave surface facing the plano-convex lens component 22 side.
And a right-angle prism 24 having a reflection surface orthogonal to the reflection surface of the right-angle prism 21 and arranged at an angle of 45 ° with respect to the mask 8 surface.

【００２１】そして、マスク８を介した照明光学系から
の光は、直角プリズム２１によって光路が９０°偏向さ
れ、直角プリズム２１に接合された平凸レンズ成分２２
に入射する。このレンズ成分２２には、平凸レンズ成分
２２とは異なる硝材にて構成されたレンズ成分２３が接
合されており、直角プリズム２１からの光は、レンズ成
分２２、２３の接合面２２ａにて屈折し、反射膜が蒸着
された反射面２３ａに達する。反射面２３ａで反射され
た光は、接合面２２ａで屈折され、レンズ成分２２に接
合された直角プリズム２４に達する。レンズ成分２２か
らの光は、直角プリズム２４により光路が９０°偏向さ
れて、この直角プリズム２４の射出面側に、マスク８の
１次像を形成する。ここで、第１部分光学系２１〜２４
が形成するマスク８の１次像は、Ｘ方向（光軸方向）の
横倍率が正であり、かつＹ方向の横倍率が負となる等倍
像である。The light from the illumination optical system through the mask 8 is deflected by 90 ° in the optical path by the right-angle prism 21, and the plano-convex lens component 22 joined to the right-angle prism 21
Incident on. A lens component 23 made of a glass material different from the plano-convex lens component 22 is joined to the lens component 22. Light from the right-angle prism 21 is refracted at a joining surface 22 a of the lens components 22 and 23. Reaches the reflection surface 23a on which the reflection film is deposited. The light reflected by the reflection surface 23a is refracted by the joint surface 22a and reaches the right-angle prism 24 joined to the lens component 22. The light from the lens component 22 is deflected in the optical path by 90 ° by the right-angle prism 24 to form a primary image of the mask 8 on the exit surface side of the right-angle prism 24. Here, the first partial optical systems 21 to 24
The primary image formed by the mask 8 is a 1 × image having a positive lateral magnification in the X direction (optical axis direction) and a negative lateral magnification in the Y direction.

【００２２】１次像からの光は、第２部分光学系２６〜
２９を介して、マスク８の２次像をプレート９上に形成
する。なお、第２部分光学系の構成は、第１部分光学系
と同一であるため説明を省略する。この第２部分光学系
２６〜２９は、第１部分光学系と同じく、Ｘ方向が正か
つＹ方向が負となる横倍率の等倍像を形成する。よっ
て、プレート９上に形成される２次像は、マスク８の等
倍の正立像（上下左右方向の横倍率が正となる像）とな
る。ここで、投影光学系２ａ（第１及び第２部分光学
系）は、両側テレセントリック光学系である。Light from the primary image passes through the second partial optical system 26 to
Via 29, a secondary image of the mask 8 is formed on the plate 9. Note that the configuration of the second partial optical system is the same as that of the first partial optical system, and a description thereof will be omitted. Like the first partial optical system, the second partial optical systems 26 to 29 form the same magnification image having a lateral magnification in which the X direction is positive and the Y direction is negative. Therefore, the secondary image formed on the plate 9 is an equal-size erect image of the mask 8 (an image having a positive horizontal magnification in the vertical and horizontal directions). Here, the projection optical system 2a (first and second partial optical systems) is a double-sided telecentric optical system.

【００２３】なお、上述の第１及び第２部分光学系は、
反射面２３ａ，２８ａが共に同じ向きとなるように構成
されている。これにより、投影光学系全体の小型化を図
ることができる。本実施例による第１及び第２部分光学
系は、平凸レンズ成分２２，２７と、反射面２３ａ，２
８ａとの間の光路中を硝材で埋める構成となっている。
これにより、平凸レンズ成分２２，２７と反射面２３
ａ，２８ａとの偏心が生じない利点がある。The first and second partial optical systems described above are:
The reflecting surfaces 23a and 28a are configured to be in the same direction. This makes it possible to reduce the size of the entire projection optical system. The first and second partial optical systems according to the present embodiment include plano-convex lens components 22 and 27 and reflection surfaces 23a and 2a.
8a is filled with a glass material in the optical path.
Thereby, the plano-convex lens components 22 and 27 and the reflecting surface 23
There is an advantage that eccentricity with the a and 28a does not occur.

【００２４】また、図５に示すように、第１及び第２部
分光学系は、平凸レンズ成分２２，２７と反射面２３
ａ，２８ａとの間を空気とする、いわゆるダイソン型光
学系そのものの構成でも良い。なお、このようなダイソ
ン型光学系に関しては、J.O.S.A.vol.49 (1959年発行)
のP713〜P716に詳述されている。さて、本実施例におい
ては、第１部分光学系が形成する１次像の位置に、視野
絞り２５を配置している。視野絞り２５は、例えば図６
(a) に示す如き台形状の開口部を有する。この視野絞り
２５により、プレート９上の露光領域が台形状に規定さ
れる。ここで、図６(b) に破線で示すように、本実施例
におけるダイソン型光学系において、レンズ成分２２、
２３、２７、２８の断面（ＹＺ平面）形状が円形である
ため、取り得る最大の視野の領域がほぼ半円形状とな
る。このとき、視野絞り２５にて規定される台形状の視
野領域８ａは、一対の平行辺のうちの短辺が半円状の領
域（最大の視野の領域）の円弧側を向くことが好まし
い。これにより、ダイソン型光学系の取り得る最大の視
野領域に対して、視野領域の走査方向（Ｘ方向）の幅を
最大とすることができ、走査速度を向上させることが可
能となる。As shown in FIG. 5, the first and second partial optical systems include plano-convex lens components 22, 27 and a reflecting surface 23.
The so-called Dyson-type optical system itself may be configured by using air between the a and 28a. For such a Dyson-type optical system, refer to JOSA vol. 49 (1959)
P713 to P716. In the present embodiment, the field stop 25 is arranged at the position of the primary image formed by the first partial optical system. The field stop 25 is, for example, as shown in FIG.
It has a trapezoidal opening as shown in FIG. The field stop 25 defines an exposure area on the plate 9 in a trapezoidal shape. Here, as shown by a broken line in FIG. 6B, in the Dyson-type optical system of the present embodiment, the lens component 22
Since the cross-sectional shape (YZ plane) of 23, 27, and 28 is circular, the maximum field of view that can be taken is substantially semicircular. At this time, the trapezoidal viewing region 8a defined by the field stop 25 preferably has a short side of the pair of parallel sides facing the arc side of a semicircular region (region of the largest field of view). Thus, the width of the visual field in the scanning direction (X direction) can be maximized with respect to the maximum visual field that the Dyson optical system can take, and the scanning speed can be improved.

【００２５】また、視野絞り２５としては、図６(c) に
示すように、六角形状の開口部を有する構成であっても
良い。このとき、図６(d) に示す如く、六角形状の開口
部の大きさは、図中破線で示される最大視野領域の範囲
内となる。なお、図６(b) 及び図６(d) に破線にて示す
最大視野領域は、第１及び第２部分光学系をケラれなく
通過する軸外光束のうち、最も外側を通過する光束がマ
スク８上で通過する点を囲む領域である。As shown in FIG. 6C, the field stop 25 may have a hexagonal opening. At this time, as shown in FIG. 6 (d), the size of the hexagonal opening is within the range of the maximum visual field area indicated by the broken line in the figure. 6 (b) and FIG. 6 (d), the maximum visual field region indicated by the broken line indicates that the outermost light beam among the off-axis light beams passing through the first and second partial optical systems without vignetting. This is an area surrounding a point passing on the mask 8.

【００２６】図１に戻って、投影光学系２ａ〜２ｇの配
置について説明する。図１においては、投影光学系２ａ
〜２ｇは、投影光学系内の視野絞りによって規定される
視野領域８ａ〜８ｇを有している。これらの視野領域８
ａ〜８ｇの像は、プレート９上の露光領域９ａ〜９ｇ上
に等倍の正立像として形成される。ここで、投影光学系
２ａ〜２ｄは、視野領域８ａ〜８ｄが図中Ｙ方向に沿っ
て配列されるように設けられている。また、投影光学系
２ｅ〜２ｇは、図中Ｘ方向で視野領域８ａ〜８ｄとは異
なる位置に、視野領域８ｅ〜８ｇがＹ方向に沿って配列
されるように設けられている。このとき、投影光学系２
ａ〜２ｄと、投影光学系２ｅ〜２ｇとは、それぞれが有
する直角プリズム同士が極近傍に位置するように設けら
れる。なお、Ｘ方向において、視野領域８ａ〜８ｄと視
野領域８ｅ〜８ｇとの間隔を広げるように投影光学系２
ａ〜２ｇを配置しても構わないが、このときには、走査
露光を行なうための走査量（マスク８とプレート９の移
動量）が増し、スループットの低下を招くため好ましく
ない。Returning to FIG. 1, the arrangement of the projection optical systems 2a to 2g will be described. In FIG. 1, the projection optical system 2a
2g have field regions 8a to 8g defined by a field stop in the projection optical system. These viewing areas 8
The images a to 8g are formed as the same-size erect images on the exposure areas 9a to 9g on the plate 9. Here, the projection optical systems 2a to 2d are provided such that the field regions 8a to 8d are arranged along the Y direction in the drawing. Further, the projection optical systems 2e to 2g are provided at positions different from the viewing regions 8a to 8d in the X direction in the figure so that the viewing regions 8e to 8g are arranged along the Y direction. At this time, the projection optical system 2
a to 2d and the projection optical systems 2e to 2g are provided such that their right-angle prisms are located extremely close to each other. Note that, in the X direction, the projection optical system 2 is configured to widen the interval between the visual field regions 8a to 8d and the visual field regions 8e to 8g.
Although a to 2 g may be arranged, at this time, a scanning amount (moving amount of the mask 8 and the plate 9) for performing the scanning exposure increases, which is not preferable because the throughput is reduced.

【００２７】プレート９上には、投影光学系２ａ〜２ｄ
によって、図中Ｙ方向に沿って配列された露光領域９ａ
〜９ｄが形成され、投影光学系２ｅ〜２ｇによって、露
光領域９ａ〜９ｄとは異なる位置にＹ方向に沿って配列
された露光領域９ｅ〜９ｇが形成される。これらの露光
領域９ａ〜９ｇは、視野領域８ａ〜８ｄの等倍の正立像
である。On the plate 9, projection optical systems 2a to 2d
The exposure regions 9a arranged along the Y direction in the drawing
To 9d are formed, and the projection optical systems 2e to 2g form exposure regions 9e to 9g arranged along the Y direction at positions different from the exposure regions 9a to 9d. These exposure regions 9a to 9g are erect images of the same size as the viewing regions 8a to 8d.

【００２８】ここで、マスク８は図示なきマスクステー
ジ上に載置されており、プレート９は、プレートステー
ジ６０上に載置されている。ここで、マスクステージと
プレートステージとは、図中Ｘ方向に同期して移動す
る。これにより、プレート９上には、照明光学系１０に
より照明されたマスク８の像が逐次転写され、所謂走査
露光が行なわれる。マスク８の移動により、視野領域８
ａ〜８ｇによるマスク８の全面の走査が完了すると、プ
レート９上の全面に渡ってマスク８の像が転写される。Here, the mask 8 is mounted on a mask stage (not shown), and the plate 9 is mounted on a plate stage 60. Here, the mask stage and the plate stage move synchronously in the X direction in the figure. As a result, the image of the mask 8 illuminated by the illumination optical system 10 is sequentially transferred onto the plate 9, and so-called scanning exposure is performed. The movement of the mask 8 causes the viewing area 8
When the scanning of the entire surface of the mask 8 by a to 8g is completed, the image of the mask 8 is transferred over the entire surface of the plate 9.

【００２９】プレートステージ６０上には、Ｙ軸に沿っ
た反射面を有する反射部材６１と、Ｘ軸に沿った反射面
を有する反射部材６２とが設けられている。また、露光
装置本体側には、干渉計として、例えばＨｅ−Ｎｅ(633
nm) 等のレーザ光を供給するレーザ光源６３、レーザ光
源６３からのレーザ光をＸ方向測定用のレーザ光とＹ方
向測定用のレーザ光とに分割するビームスプリッタ６
４、ビームスプリッタ６４からのレーザ光を反射部材６
１へ投射するためのプリズム６５及びビームスプリッタ
６４からのレーザ光を反射部材６２上の２点へ投射する
ためのプリズム６６、６７が設けられている。これによ
り、ステージのＸ方向の位置、Ｙ方向の位置及びＸＹ平
面内での回転を検出することができる。なお、図１にお
いては、反射部材６１、６２にて反射されたレーザ光と
参照用レーザ光とを干渉させた後に検出する検出系につ
いて図示省略している。On the plate stage 60, a reflecting member 61 having a reflecting surface along the Y axis and a reflecting member 62 having a reflecting surface along the X axis are provided. On the side of the exposure apparatus main body, for example, He-Ne (633
nm), and a beam splitter 6 that splits the laser light from the laser light source 63 into a laser beam for X-direction measurement and a laser beam for Y-direction measurement.
4. The laser beam from the beam splitter 64 is reflected by the reflecting member 6.
A prism 65 for projecting the laser beam to the first member 1 and prisms 66 and 67 for projecting the laser beam from the beam splitter 64 to two points on the reflecting member 62 are provided. Thus, the position of the stage in the X direction, the position in the Y direction, and the rotation in the XY plane can be detected. In FIG. 1, a detection system for detecting the laser light reflected by the reflection members 61 and 62 and the reference laser light after making the laser light interfere with each other is not shown.

【００３０】次に、図７を参照して本実施例による視野
領域の配置について説明する。図７は、投影光学系２ａ
〜２ｇによる視野領域８ａ〜８ｇと、マスク８との平面
的な位置関係を示す図である。図７において、マスク８
上には、回路パターンＰＡが形成されており、この回路
パターンＰＡの領域を囲むように遮光部ＬＳＡが設けら
れている。図２に示される照明光学系は、図中破線にて
囲まれる照明領域１１１ａ〜１１１ｇを均一に照明す
る。この照明領域１１１ａ〜１１１ｇ内には、前述の視
野領域８ａ〜８ｇが配列されている。これらの視野領域
８ａ〜８ｇは、投影光学系２ａ〜２ｇ内の視野絞りによ
り、その形状がほぼ台形状となる。ここで、視野領域８
ａ〜８ｄの上辺（一対の平行な辺のうちの短辺）と、視
野領域８ｅ〜８ｇの上辺（一対の平行な辺のうちの短
辺）とが対向するように配列されている。ここで、遮光
部ＬＳＡに沿った視野領域８ａ及び８ｄの形状は、遮光
部ＬＳＡ側の斜辺（一対の平行な辺以外の辺）が回路パ
ターンＰＡの領域の縁と一致するように規定される。な
お、視野領域８ａ及び８ｄがマスク８の遮光部ＬＳＡと
重なるような形状でも良い。Next, the arrangement of the visual field regions according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 shows a projection optical system 2a.
FIG. 9 is a diagram showing a planar positional relationship between the visual field regions 8a to 8g and the mask 8 by 2g. In FIG. 7, the mask 8
A circuit pattern PA is formed thereon, and a light-shielding portion LSA is provided so as to surround a region of the circuit pattern PA. The illumination optical system shown in FIG. 2 uniformly illuminates the illumination regions 111a to 111g surrounded by broken lines in the drawing. The visual field regions 8a to 8g described above are arranged in the illumination regions 111a to 111g. These field regions 8a to 8g have a substantially trapezoidal shape due to the field stop in the projection optical systems 2a to 2g. Here, the viewing area 8
The upper sides a to 8d (short sides of a pair of parallel sides) and the upper sides of the viewing areas 8e to 8g (short sides of a pair of parallel sides) are arranged to face each other. Here, the shapes of the viewing areas 8a and 8d along the light-shielding portion LSA are defined such that the oblique sides (the sides other than the pair of parallel sides) on the light-shielding portion LSA side coincide with the edges of the area of the circuit pattern PA. . Note that the shape may be such that the visual field regions 8a and 8d overlap the light shielding portion LSA of the mask 8.

【００３１】本実施例においては、投影光学系２ａ〜２
ｇが両側テレセントリック光学系であるため、ＸＹ平面
内において、投影光学系２ａ〜２ｇが占める領域が、そ
れぞれ視野領域８ａ〜８ｇの占める領域よりも大きくな
る。従って、視野領域８ａ〜８ｄの配列は、それぞれの
領域８ａ〜８ｄの間で間隔を持つように構成せざるを得
ない。この場合、視野領域８ａ〜８ｄのみを用いて走査
露光を行なうならば、視野領域８ａ〜８ｄの間のマスク
８上の領域をプレート９上に投影転写することができな
い。そこで、本実施例においては、視野領域８ａ〜８ｄ
の間の領域について走査露光を行なうために、投影光学
系２ｅ〜２ｇによって視野領域８ｅ〜８ｇを設けるよう
に構成している。In this embodiment, the projection optical systems 2a to 2a
Since g is a double-sided telecentric optical system, the area occupied by the projection optical systems 2a to 2g in the XY plane is larger than the area occupied by the visual field areas 8a to 8g, respectively. Therefore, the arrangement of the visual field regions 8a to 8d has to be configured so as to have an interval between the respective regions 8a to 8d. In this case, if scanning exposure is performed using only the visual field areas 8a to 8d, the area on the mask 8 between the visual field areas 8a to 8d cannot be projected and transferred onto the plate 9. Therefore, in the present embodiment, the visual field regions 8a to 8d
In order to perform the scanning exposure for the region between, the projection optical systems 2e to 2g are provided to provide the viewing regions 8e to 8g.

【００３２】このとき、走査方向（Ｘ方向）に沿った視
野領域８ａ〜８ｇ（または露光領域９ａ〜９ｇ）の幅の
総和が、どのＹ方向の位置においても常に一定となるこ
とが望ましい。以下、図８を参照して説明する。図８
(a),(b) は、プレート９上のＹ方向に関する露光量の分
布を示すものであり、縦軸に露光量Ｅ、横軸にプレート
９のＹ方向の位置をとっている。図８(a)において、プ
レート９上には、台形状の露光領域９ａ〜９ｇのそれぞ
れに対応する露光量分布９０ａ〜９０ｇが得られる。こ
こで、走査露光するにあたって、露光領域９ａ〜９ｇの
Ｘ方向の幅の和が一定となるように規定されているた
め、露光領域９ａ〜９ｇの重なる領域に関しては常に同
じ露光量となる。例えば、露光領域９ａに対応する露光
量分布９０ａと、露光領域９ｅに対応する露光量分布９
０ｅとの重なる領域に関しては、露光領域９ａのＸ方向
の幅と露光領域９ｅのＸ方向の幅との和が一定であるた
め、この重なる領域の露光量の和は、重ならない領域の
露光量と同じ露光量となる。従って、プレート９上に
は、全面にわたって均一な露光量分布９１が得られるこ
とになる。なお、上述の説明では、露光領域が台形状で
ある場合について説明しているが、均一な露光量分布を
得るための露光領域の組合せは、台形状に限られない。
例えば、図６(c) に示す如き視野絞り２５によって、六
角形状の露光領域が複数形成される場合、各露光領域の
走査方向の幅が常に一定となるように、各露光領域を規
定する。これにより、プレート９上の全面にわたって均
一な露光量分布を得ることができる。At this time, it is desirable that the sum of the widths of the visual field regions 8a to 8g (or the exposure regions 9a to 9g) along the scanning direction (X direction) is always constant at any position in the Y direction. Hereinafter, description will be made with reference to FIG. FIG.
(a) and (b) show the distribution of the exposure amount on the plate 9 in the Y direction. The vertical axis shows the exposure amount E, and the horizontal axis shows the position of the plate 9 in the Y direction. In FIG. 8A, on the plate 9, exposure dose distributions 90a to 90g corresponding to trapezoidal exposure regions 9a to 9g are obtained. Here, in the scanning exposure, since the sum of the widths of the exposure regions 9a to 9g in the X direction is defined to be constant, the same exposure amount is always obtained for the overlapping region of the exposure regions 9a to 9g. For example, the exposure amount distribution 90a corresponding to the exposure region 9a and the exposure amount distribution 9 corresponding to the exposure region 9e
0e, since the sum of the width in the X direction of the exposure region 9a and the width in the X direction of the exposure region 9e is constant, the sum of the exposure amounts in the overlapping region is the exposure amount in the non-overlapping region. The same exposure amount is obtained. Therefore, a uniform exposure distribution 91 is obtained on the entire surface of the plate 9. In the above description, the case where the exposure region has a trapezoidal shape is described. However, the combination of the exposure regions for obtaining a uniform exposure amount distribution is not limited to the trapezoidal shape.
For example, when a plurality of hexagonal exposure regions are formed by the field stop 25 as shown in FIG. 6C, each exposure region is defined so that the width of each exposure region in the scanning direction is always constant. Thereby, a uniform exposure amount distribution can be obtained over the entire surface of the plate 9.

【００３３】次に、図９を参照して、本実施例における
投影光学系の望ましき配置関係について説明する。図９
は、投影光学系の配置を説明するための平面図であり、
投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 をマスク８側（物体側）から見
た状態を示す。図９において、投影光学系Ｄ1 は、平凸
レンズ成分Ｌ1 と凹面鏡Ｍ1 とから構成され、投影光学
系Ｄ2 は、平凸レンズ成分Ｌ2 と凹面鏡Ｍ2 とから構成
され、投影光学系Ｄ3は、平凸レンズ成分Ｌ3 と凹面鏡
Ｍ3 とから構成される。ここで、各投影光学系Ｄ1,Ｄ2,
Ｄ3 の構成は、共に同じである。なお、図９では、説明
を簡単にするために、各投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 の光路
は、物体から凹面鏡（反射鏡）Ｍ1,Ｍ2,Ｍ3 へ向かう光
路のみを示し、光路をＺ方向に偏向させる直角プリズム
は図示省略している。Next, with reference to FIG. 9, a desirable arrangement relationship of the projection optical system in this embodiment will be described. FIG.
Is a plan view for explaining the arrangement of the projection optical system,
This shows a state where the projection optical systems D 1 , D 2 and D 3 are viewed from the mask 8 side (object side). In FIG. 9, the projection optical system D 1 is composed of a plano-convex lens component L 1 and a concave mirror M 1, and the projection optical system D 2 is composed of a plano-convex lens component L 2 and a concave mirror M 2. 3 is composed of a plano-convex lens component L 3 and the concave mirror M 3 Prefecture. Here, each of the projection optical systems D 1 , D 2 ,
Configuration of the D 3 are both the same. In FIG. 9, for the sake of simplicity, the optical paths of the projection optical systems D 1 , D 2 , and D 3 include only the optical paths from the object to the concave mirrors (reflecting mirrors) M 1 , M 2 , and M 3 . The right-angle prism for deflecting the optical path in the Z direction is not shown.

【００３４】さて、投影光学系Ｄ1 の取り得る最大の視
野領域のＹ方向の幅をφF1、投影光学系Ｄ2 の取り得る
最大の視野領域のＹ方向の幅をφF2、投影光学系Ｄ3 の
取り得る最大の視野領域のＹ方向の幅をφF3とする。こ
れらの視野領域のＹ方向の幅φF1〜φF3は、それぞれ図
６(b),(d) に破線で示す最大視野領域の半径方向の長さ
に対応する。Now, the maximum width of the field of view of the projection optical system D 1 in the Y direction, φ F1 , the maximum width of the field of view of the projection optical system D 2 in the Y direction, φ F2 , the maximum Y directional width of the viewing area of possible D 3 and phi F3. The widths φ F1 to φ F3 of these visual field areas in the Y direction correspond to the radial lengths of the maximum visual field areas indicated by broken lines in FIGS. 6B and 6D, respectively.

【００３５】このとき、Ｙ方向に隣接して配置された投
影光学系Ｄ1,Ｄ3 の光軸間距離をＫとすると、At this time, if the distance between the optical axes of the projection optical systems D 1 and D 3 arranged adjacent to each other in the Y direction is K,

【００３６】[0036]

【数１】 φF1／２＋φF2＋φF3／２＞Ｋ …（１） を満足することが望ましい。ここで、φF1＝φF2＝φF3
＝φF （ただし、φF ：各投影光学系の取り得る最大の
視野領域のＹ方向の幅）とすると、上記（１）式は、以
下の如く書換えることができる。It is desirable that the following formula is satisfied: φ F1 / 2 + φ F2 + φ F3 / 2> K (1) Where φ F1 = φ F2 = φ F3
= Φ F (where φ F is the maximum width of the projection optical system in the Y direction), the above equation (1) can be rewritten as follows.

【００３７】[0037]

【数２】 ２φF ＞Ｋ …（２） すなわち、各投影光学系の取り得る最大の視野領域のＹ
方向の幅は、各投影光学系のＹ方向における光軸間距離
の半分以上であることが望ましい。ここで、各投影光学
系の配置が上記（１）式または（２）式の範囲から外れ
る場合には、各視野領域がＹ方向で重ならない恐れがあ
るため好ましくない。2φ F > K (2) That is, Y of the maximum field of view that each projection optical system can take
The width in the direction is preferably at least half the distance between the optical axes in the Y direction of each projection optical system. Here, it is not preferable that the arrangement of the projection optical systems deviates from the range of the above formula (1) or (2), since the respective visual field regions may not overlap in the Y direction.

【００３８】また、平凸レンズ成分Ｌ1 〜Ｌ3 の直径
（Ｙ方向の長さ）をφL1〜φL3、凹面鏡Ｍ1 〜Ｍ3 の直
径（Ｙ方向の長さ）をφM1〜φM3とし、これらの直径の
なかで大きい方の直径（即ち、投影光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3
の外径の最大値）をφD1〜φD3とする。ここで、各投影
光学系Ｄ1,Ｄ2,Ｄ3 の構成が共に同じであるため、The diameters (length in the Y direction) of the plano-convex lens components L 1 to L 3 are φ L1 to φ L3 , and the diameters (length in the Y direction) of the concave mirrors M 1 to M 3 are φ M1 to φ M3. And the larger one of these diameters (that is, the projection optical systems D 1 , D 2 , D 3
The maximum value of the outer diameter) and φ D1 ~φ D3. Here, since the configuration of each projection optical system D 1 , D 2 , D 3 is the same,

【００３９】[0039]

【数３】 φL1＝φL2＝φL3、 φM1＝φM2＝φM3、 φD1＝φD2＝φD3＝φD 、 がそれぞれ成立する。このとき、各投影光学系の取り得
る最大の視野領域のＹ方向の幅をφF とすると、The following holds: φ L1 = φ L2 = φ L3 , φ M1 = φ M2 = φ M3 , φ D1 = φ D2 = φ D3 = φ D. At this time, when the width of the Y direction of maximum field area that can be taken for each projection optical system and phi F,

【００４０】[0040]

【数４】 φF ＞φD ／２ …（４） を満足することが望ましい。ここで、各投影光学系Ｄ1
〜Ｄ3 が上記（４）式を満足しない、即ち、各投影光学
系の取り得る最大の視野領域のＹ方向の幅φF が各投影
光学系の外径の最大値φD の半分以上でない場合には、
Ｙ方向に隣接して配置された投影光学系Ｄ1,Ｄ3 が互い
に干渉する恐れがあるため好ましくない。尚、投影光学
系の外径の最大値が光路を９０°偏向させる直角プリズ
ムにより定まるときには、上記外径の最大値φD を直角
プリズムのＹ方向の長さとすれば良い。また、上記
（１）式〜（４）式の関係は、ダイソン型光学系に限る
ことなく、オフナー型光学系にも適用できる。Equation 4] φ F> φ D / 2 ... (4) is preferably satisfied. Here, each projection optical system D 1
To D 3 does not satisfy the equation (4), i.e., the width phi F in the Y direction of maximum field area that can be taken for each projection optical system is not more than half of the maximum value phi D of the outer diameter of the projection optical system in case of,
It is not preferable because the projection optical systems D 1 and D 3 arranged adjacent to each other in the Y direction may interfere with each other. Incidentally, when the maximum value of the outer diameter of the projection optical system is determined by the right-angle prism that 90 ° deflects the optical path may be the length of the Y direction of the rectangular prism maximum value phi D of the outer diameter. Further, the relations of the expressions (1) to (4) are not limited to the Dyson-type optical system but can be applied to the Offner-type optical system.

【００４１】さて、上述の実施例では、投影光学系とし
て２組の光学系を組み合わせているが、その代わりに、
図１０及び図１１に示す光学系を適用しても良い。図１
０は、ダイソン型光学系の直角プリズムの代わりに、ダ
ハ面を持つ直角ダハプリズム３４を適用したものであ
る。図１０において、直角プリズム３１、平凸レンズ成
分３２及び反射面３３ａを持つレンズ成分３３は、それ
ぞれ図４に示す直角プリズム２１、平凸レンズ成分２２
及びレンズ成分３３と同一の機能を有するため、ここで
は説明を省略する。２組の直角プリズムを有するダイソ
ン型光学系では、光軸に沿った方向の横倍率が正とな
り、かつ光軸直交方向（物体面及び像面に沿った方向）
の横倍率が負となる像を形成する。図１０の如き直角ダ
ハプリズム３４を有するダイソン型光学系では、ダハ面
によって、物体面及び像面内での光軸直交方向（紙面垂
直方向）の像向きが逆転するため、光軸に沿った方向
（Ｘ方向）及び物体面及び像面内での光軸直交方向（Ｙ
方向）の横倍率が共に正となる正立像を形成できる。In the above-described embodiment, two sets of optical systems are combined as a projection optical system.
The optical system shown in FIGS. 10 and 11 may be applied. FIG.
Reference numeral 0 denotes a case where a right-angle roof prism 34 having a roof surface is applied instead of the right-angle prism of the Dyson optical system. 10, a right-angle prism 31, a plano-convex lens component 32, and a lens component 33 having a reflection surface 33a are respectively a right-angle prism 21, a plano-convex lens component 22 shown in FIG.
Since it has the same function as the lens component 33, the description is omitted here. In a Dyson-type optical system having two sets of right-angle prisms, the lateral magnification in the direction along the optical axis is positive, and the direction orthogonal to the optical axis (the direction along the object plane and the image plane).
An image having a negative lateral magnification is formed. In the Dyson-type optical system having the right-angle roof prism 34 as shown in FIG. 10, since the image direction in the direction perpendicular to the optical axis (perpendicular to the paper plane) in the object plane and the image plane is reversed by the roof plane, the direction along the optical axis (X direction) and a direction orthogonal to the optical axis in the object plane and the image plane (Y
Direction) can be formed.

【００４２】図１１は、光路を折り返すための反射面を
設けたダイソン型光学系の一例のレンズ構成図である。
図１１において、マスク８からの光は、光の入射方向
（Ｚ軸方向）に対して４５°に斜設された半反射面４１
ａによって、光路が９０°偏向されて、平凸レンズ成分
４２に入射する。なお、図１１に示す平凸レンズ成分４
２及び平凸レンズ成分４２に接合されるレンズ成分４３
は、それぞれ図４の平凸レンズ成分２２及びレンズ成分
２３と同一の機能を有する。FIG. 11 is a lens configuration diagram of an example of a Dyson-type optical system provided with a reflecting surface for turning an optical path.
In FIG. 11, the light from the mask 8 is applied to a semi-reflective surface 41 inclined at 45 ° to the light incident direction (Z-axis direction).
By a, the optical path is deflected by 90 ° and enters the plano-convex lens component. The plano-convex lens component 4 shown in FIG.
2 and a lens component 43 joined to the plano-convex lens component 42
Have the same functions as the plano-convex lens component 22 and the lens component 23 of FIG. 4, respectively.

【００４３】そして、平凸レンズ成分４２に入射した光
は、反射面４３ａにて反射され、再び平凸レンズ成分４
２を介して、平凸レンズ成分４２の射出側にマスク８の
１次像を形成する。この１次像形成位置には、反射面４
１ｂが設けられている。ここで、半反射面４１ａと反射
面４１ｂとは、反射部材４１に設けられている。そし
て、反射面４１ｂ上の１次像からの光は、もとの光路を
逆進して、平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３を介
した後、半反射面４１ａを透過する。半反射面４１ａの
透過方向には、光線の入射方向（透過方向）に対して１
１２．５°で斜設された反射面４４ａと、この反射面４
４ａに対して４５°で斜設された反射面４４ｂとを有す
る反射部材４４が設けられている。ここで、反射面４４
ａ，４４ｂがペンタプリズムの機能を有するため、この
反射部材４４に入射した光は、反射面４４ａ，４４ｂで
の反射により、光路が９０°偏向される。The light incident on the plano-convex lens component 42 is reflected by the reflecting surface 43a, and is again reflected by the plano-convex lens component 4.
2, a primary image of the mask 8 is formed on the exit side of the plano-convex lens component 42. The reflection surface 4 is located at the primary image forming position.
1b is provided. Here, the semi-reflective surface 41a and the reflective surface 41b are provided on the reflective member 41. The light from the primary image on the reflection surface 41b travels in the original optical path backward, passes through the plano-convex lens component 42 and the lens component 43, and then passes through the semi-reflection surface 41a. The transmission direction of the semi-reflective surface 41a is 1 to the incident direction (transmission direction) of the light beam.
The reflecting surface 44a inclined at 12.5 ° and the reflecting surface 4
A reflection member 44 having a reflection surface 44b inclined at 45 ° to 4a is provided. Here, the reflection surface 44
Since the light beams a and 44b have the function of a pentaprism, the light path of the light incident on the reflection member 44 is deflected by 90 ° by the reflection on the reflection surfaces 44a and 44b.

【００４４】反射面４４ａ，４４ｂで反射された光は、
反射部材４４の射出側にマスク８の２次像を形成する。
ここで、この２次像は、等倍の正立像となる。なお、図
１１においては、マスク８から反射面４１ｂまでの光路
長と、反射面４１ｂからプレート９までの光路長とが等
しくなるように構成している。ここで、図１１に示す投
影光学系においては、反射面４１ｂの形状が視野絞りの
形状となる。例えば、ＹＺ平面内で短辺が紙面上側とな
る台形状の反射面４１ｂである場合には、視野領域及び
露光領域は、ＸＹ平面で紙面右側に短辺が位置する台形
状の領域となる。なお、図１１の投影光学系において、
平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３の光軸近傍を通
過する光束は、反射面４１ｂに達しないため結像に寄与
しない。しかしながら、半反射面４１ａから反射面４３
ａへ向かう光路と反射面４１ｂから反射面４３ａへ向か
う光路とが混じることを避けるため、平凸レンズ成分４
２及びレンズ成分４３の光軸上及びその近傍を通過する
光束を用いることは少ない。従って、図１１のように、
平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３の光軸近傍を通
過する光束が遮光されていても、実用上何ら差し支えは
ない。The light reflected by the reflecting surfaces 44a and 44b is
A secondary image of the mask 8 is formed on the exit side of the reflection member 44.
Here, this secondary image is an erect image of the same magnification. In FIG. 11, the optical path length from the mask 8 to the reflecting surface 41b is equal to the optical path length from the reflecting surface 41b to the plate 9. Here, in the projection optical system shown in FIG. 11, the shape of the reflecting surface 41b becomes the shape of the field stop. For example, when the short side is the trapezoidal reflection surface 41b whose upper side is the upper side of the paper in the YZ plane, the viewing area and the exposure area are trapezoidal areas where the shorter side is located on the right side of the paper on the XY plane. In the projection optical system of FIG.
The light flux passing near the optical axis of the plano-convex lens component 42 and the lens component 43 does not reach the reflecting surface 41b and does not contribute to image formation. However, from the semi-reflective surface 41a to the reflective surface 43
In order to avoid mixing of the optical path going to the reflecting surface 41b and the optical path going from the reflecting surface 41b to the reflecting surface 43a, the plano-convex lens component 4
It is rare to use a light beam passing on and near the optical axis of the lens component 2 and the lens component 43. Therefore, as shown in FIG.
Even if the light beam passing near the optical axis of the plano-convex lens component 42 and the lens component 43 is shielded, there is no problem in practice.

【００４５】なお、図１０及び図１１に示す投影光学系
において、物体側と像側とを逆転させる構成であっても
良いことはいうまでもない。上述の如き図１１に示す投
影光学系では、ペンタプリズムと同様の機能を持つ２つ
の反射面４４ａ，４４ｂを適用していたが、その代わり
に、図１２に示す如く、光路折り返し用の反射面を２枚
の反射面で構成しても良い。図１２において、図１１の
投影光学系と異なる箇所は、Ｙ方向（紙面垂直方向）に
沿った稜線を持つダハ面を構成する２つの反射面５１
ｂ，５１ｃを光路折り返し用の反射面４１ｂの代わりに
設け、プレート９の面に対して４５に斜設された反射面
５４ａを２つの反射面４４ａ，４４ｂの代わりに設けた
点である。なお、図１２において、平凸レンズ成分５２
及び反射面５３ａを持つレンズ成分５３は、それぞれ図
１１の平凸レンズ成分４２及びレンズ成分４３と同一の
機能を有する。In the projection optical system shown in FIGS. 10 and 11, it goes without saying that the configuration may be such that the object side and the image side are reversed. In the projection optical system shown in FIG. 11 as described above, two reflecting surfaces 44a and 44b having the same function as the pentaprism are applied. Instead, as shown in FIG. 12, a reflecting surface for turning back the optical path is used. May be composed of two reflecting surfaces. 12, a different point from the projection optical system of FIG. 11 is that two reflection surfaces 51 forming a roof surface having a ridge line along the Y direction (perpendicular to the paper surface) are provided.
b and 51c are provided instead of the reflection surface 41b for turning back the optical path, and a reflection surface 54a inclined at 45 with respect to the surface of the plate 9 is provided instead of the two reflection surfaces 44a and 44b. In FIG. 12, the plano-convex lens component 52
The lens component 53 having the reflection surface 53a has the same function as the plano-convex lens component 42 and the lens component 43 of FIG. 11, respectively.

【００４６】図１２において、マスク８からの光は、半
反射面５１ａにて光路が９０°偏向され、平凸レンズ成
分５２及びレンズ成分５３を介して反射面５１ｂ，５１
ｃに達し、マスク８の１次像を形成する。この１次像
は、反射面５１ｂ，５１ｃによりその上下が逆転され、
再び平凸レンズ成分５２及びレンズ成分５３を介して、
半反射面５１ａを透過する。半反射面５１ａを透過した
光は、反射面５４ａにて光路が９０°偏向され、反射部
材５４から射出し、マスク８の２次像を形成する。ここ
で、この２次像は、等倍の正立像となる。In FIG. 12, the light path from the mask 8 is deflected by 90 ° at the semi-reflective surface 51a, and the light is reflected by the reflective surfaces 51b and 51 via the plano-convex lens component 52 and the lens component 53.
c and a primary image of the mask 8 is formed. This primary image is turned upside down by the reflecting surfaces 51b and 51c,
Again through the plano-convex lens component 52 and the lens component 53,
The light passes through the semi-reflective surface 51a. The light transmitted through the semi-reflective surface 51a is deflected by 90 ° in the optical path at the reflective surface 54a, exits from the reflective member 54, and forms a secondary image of the mask 8. Here, this secondary image is an erect image of the same magnification.

【００４７】また、上記実施例では、等倍の正立像を得
る投影光学系として、平凸レンズ成分と凹面鏡とを持つ
ダイソン型光学系を適用しているが、投影光学系として
はダイソン型光学系に限られることはない。例えば、図
１３に示すように、凹面鏡、凸面鏡及び凹面鏡が順に配
列されたオフナー型光学系を適用することもできる。図
１３は、第１及び第２部分光学系として図１４(b) に示
すオフナー型光学系を適用したものであり、説明を簡単
にするために、図１４(b) に示す部材と同一の機能を有
する部材には、同じ符号を付してある。なお、図１３に
おいて、第１部分光学系が形成するマスク８の１次像形
成位置には、円弧形状の開口部を有する視野絞り２５が
設けられている。このような２組のオフナー型光学系に
よっても、両側（物体側及び像側）がテレセントリック
であり、物体の等倍の正立像を形成する投影光学系を得
ることができる。In the above embodiment, a Dyson-type optical system having a plano-convex lens component and a concave mirror is applied as a projection optical system for obtaining an erect image of the same magnification. It is not limited to. For example, as shown in FIG. 13, an Offner-type optical system in which a concave mirror, a convex mirror, and a concave mirror are sequentially arranged can be applied. FIG. 13 shows an application of the Offner type optical system shown in FIG. 14 (b) as the first and second partial optical systems. For simplicity, the same members as those shown in FIG. 14 (b) are used. Members having functions are given the same reference numerals. In FIG. 13, a field stop 25 having an arc-shaped opening is provided at a primary image forming position of the mask 8 formed by the first partial optical system. Even with such two sets of Offner-type optical systems, it is possible to obtain a projection optical system that is telecentric on both sides (object side and image side) and forms an erect image of the same size as an object.

【００４８】以上から、等倍の正立像を得る投影光学系
としては、種々の構成を取り得ることが分かる。なお、
図１０に示す如き中間像（１次像）を形成しない投影光
学系や、図１２に示す如き中間像形成位置に視野絞りを
配置できない光学系においては、照明光学系による照明
領域の形状を所望の視野領域の形状と相似となるように
すれば良い。例えば、図２の照明光学系の視野絞り１０
７の開口部１０７ａ，１０７ｂの形状を台形状とすれ
ば、台形状の照明領域を得ることができる。From the above, it can be seen that the projection optical system for obtaining an erect image of the same magnification can have various configurations. In addition,
In a projection optical system that does not form an intermediate image (primary image) as shown in FIG. 10 or an optical system in which a field stop cannot be arranged at an intermediate image forming position as shown in FIG. 12, the shape of the illumination area by the illumination optical system is desired. May be made similar to the shape of the visual field region. For example, the field stop 10 of the illumination optical system shown in FIG.
If the shapes of the openings 107a and 107b are trapezoidal, a trapezoidal illumination area can be obtained.

【００４９】このように、本実施例による露光装置によ
れば、複数の投影光学系によって、走査方向と直交する
幅が広い露光領域を形成しているため、個々の投影光学
系を大型化することなく、露光領域の大画面化に対応で
きる。ここで、本実施例では、投影光学系の大型化を招
かないため、比例拡大による収差の増大を防止できる利
点がある。As described above, according to the exposure apparatus of this embodiment, since a plurality of projection optical systems form an exposure area having a wide width orthogonal to the scanning direction, each projection optical system is enlarged. This makes it possible to cope with an increase in the screen size of the exposure area without any problem. In this embodiment, since the projection optical system does not increase in size, there is an advantage that an increase in aberration due to proportional enlargement can be prevented.

【００５０】また、本実施例では、画面を継ぐことな
く、一回の露光で大画面の露光が実行できるため、スル
ープットの向上が図れる利点や画面の継ぎ目が無くなる
利点がある。Further, in this embodiment, since exposure of a large screen can be executed by one exposure without repeating the screen, there is an advantage that the throughput can be improved and there is an advantage that there is no seam of the screen.

【００５１】[0051]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、露光領域
が大きな場合でも、スループットを低下させずに、回路
パターンを転写できる露光装置が提供できる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide an exposure apparatus capable of transferring a circuit pattern without reducing the throughput even when the exposure area is large.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の実施例の一例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an embodiment of the present invention.

【図２】本発明による露光装置に適用される照明光学系
の一例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an example of an illumination optical system applied to the exposure apparatus according to the present invention.

【図３】照明光学系の変形例を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a modification of the illumination optical system.

【図４】本発明による露光装置に適用される投影光学系
のレンズ構成図である。FIG. 4 is a lens configuration diagram of a projection optical system applied to the exposure apparatus according to the present invention.

【図５】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。FIG. 5 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図６】視野絞りの形状の説明するための平面図であ
る。FIG. 6 is a plan view for explaining the shape of a field stop.

【図７】投影光学系による視野領域とマスクとの平面的
な位置関係を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a planar positional relationship between a field of view and a mask by a projection optical system.

【図８】プレート上の露光量分布を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an exposure amount distribution on a plate.

【図９】複数の投影光学系の配置関係を説明するための
平面図である。FIG. 9 is a plan view for explaining an arrangement relationship of a plurality of projection optical systems.

【図１０】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。FIG. 10 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図１１】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。FIG. 11 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図１２】投影光学系の変形例を示すレンズ構成図であ
る。FIG. 12 is a lens configuration diagram showing a modification of the projection optical system.

【図１３】投影光学系としてオフナー型光学系を適用し
た場合のレンズ構成図である。FIG. 13 is a lens configuration diagram when an Offner-type optical system is applied as a projection optical system.

【図１４】従来の露光装置の一例を示す斜視図である。FIG. 14 is a perspective view showing an example of a conventional exposure apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２ａ〜２ｇ…投影光学系、 ８…マスク、 ９…プレー
ト、１０…照明光学系、2a to 2g: projection optical system, 8: mask, 9: plate, 10: illumination optical system,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−15266（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−251812（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−161243（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−277612（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−201666（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−299330（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−69129（ＪＰ，Ｕ) 実開 平５−81841（ＪＰ，Ｕ) 米国特許4696889（ＵＳ，Ａ) 米国特許4769680（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 ＩＮＳＰＥＣ（ＤＩＡＬＯＧ)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-52-15266 (JP, A) JP-A-4-251812 (JP, A) JP-A-1-161243 (JP, A) JP-A-4- 277612 (JP, A) JP-A-1-201666 (JP, A) JP-A-63-299330 (JP, A) JP-A-3-69129 (JP, U) JP-A-5-81841 (JP, U) U.S. Pat. No. 4,696,889 (US, A) U.S. Pat. No. 4,769,880 (US, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 G03F 7/20 INSPEC (DIALOG)

Claims (93)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ投影露光す
る露光装置において、 前記第１の物体の等倍の正立像を前記第２の物体上に形
成する第１及び第２の投影光学系を有し、 前記第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成されることを特徴とする露光装
置。1. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto the second object while moving a first object and a second object, wherein: It has first and second projection optical systems for forming an erect image on the second object, and the first and second projection optical systems are configured such that at least the image side is telecentric. Exposure equipment. 【請求項２】 前記第１及び第２の投影光学系は、光の
入射側に凹面を向けたレンズ面と、同じく光の入射側に
凹面を向けた反射面とを有するダイソン型光学系である
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。2. The first and second projection optical systems are Dyson type optical systems having a lens surface having a concave surface facing the light incident side and a reflecting surface having a concave surface facing the light incident side. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein: 【請求項３】 前記第１及び第２の投影光学系は、第１
部分光学系と第２部分光学系とを有し、前記第２部分光
学系は、前記第１部分光学系が形成する物体の１次像か
らの光によって２次像を形成することを特徴とする請求
項１または２記載の露光装置。3. The first and second projection optical systems include a first projection optical system,
It has a partial optical system and a second partial optical system, wherein the second partial optical system forms a secondary image by light from a primary image of an object formed by the first partial optical system. 3. The exposure apparatus according to claim 1, wherein 【請求項４】 前記第１及び第２部分光学系は、それぞ
れ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射面を有
し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面を向け
るように配置されることを特徴とする請求項３記載の露
光装置。4. The first and second partial optical systems have first and second reflecting surfaces each having a concave surface facing the light incident side, and the first and second reflecting surfaces are the same. 4. The exposure apparatus according to claim 3, wherein the exposure apparatus is arranged so that the concave surface faces in the direction. 【請求項５】 前記第１部分光学系による前記１次像が
形成される位置には、視野絞りが配置されることを特徴
とする請求項３または４記載の露光装置。5. The exposure apparatus according to claim 3, wherein a field stop is arranged at a position where the primary image is formed by the first partial optical system. 【請求項６】 前記視野絞りは、略台形状の開口部を有
し、該開口部によって定まる露光領域の移動方向におけ
る長さの和は、前記移動方向と直交する方向において常
に等しくなる如く規定されることを特徴とする請求項５
記載の露光装置。6. The field stop has a substantially trapezoidal opening, and the sum of the lengths in the moving direction of the exposure region defined by the opening is defined to be always equal in a direction orthogonal to the moving direction. 6. The method according to claim 5, wherein
Exposure apparatus according to the above. 【請求項７】 前記第１及び第２の投影光学系は、レン
ズと、凹面反射面とを有することを特徴とする請求項１
〜６の何れか一項記載の露光装置。7. The system according to claim 1, wherein the first and second projection optical systems have a lens and a concave reflecting surface.
The exposure apparatus according to any one of claims 1 to 6. 【請求項８】 前記レンズと前記凹面反射面との間は空
間であることを特徴とする請求項７記載の露光装置。8. The exposure apparatus according to claim 7, wherein a space is provided between the lens and the concave reflecting surface. 【請求項９】 前記第１及び第２の投影光学系は凹面反
射面を有することを特徴とする請求項１記載の露光装
置。9. An exposure apparatus according to claim 1, wherein said first and second projection optical systems have a concave reflecting surface. 【請求項１０】 前記第１の投影光学系は第１凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反射面を有
し、前記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向かい
合うように配置されることを特徴とする請求項９記載の
露光装置。10. The first projection optical system has a first concave reflecting surface, the second projection optical system has a second concave reflecting surface, and the first and second concave reflecting surfaces are concave. 10. The exposure apparatus according to claim 9, wherein the exposure apparatuses are arranged so as to face each other. 【請求項１１】 前記第１の投影光学系は第３凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第４凹面反射面を有
し、前記第１及び前記第３凹面反射面は同一方向に凹面
を向けるように配置され、前記第２及び第４反射面は同
一方向に凹面を向けるように配置されることを特徴とす
る請求項１０記載の露光装置。11. The first projection optical system has a third concave reflecting surface, the second projection optical system has a fourth concave reflecting surface, and the first and third concave reflecting surfaces are 11. The exposure apparatus according to claim 10, wherein the second and fourth reflecting surfaces are arranged so as to face the concave surface in the same direction. 【請求項１２】 前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射面へ向
ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射された光を
偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴とする請
求項９記載の露光装置。12. The first and second projection optical systems deflect light from the first object and direct the light to the concave reflecting surface, and light reflected by the concave reflecting surface. 10. The exposure apparatus according to claim 9, further comprising a second deflecting member for deflecting light. 【請求項１３】 前記第１及び第２の投影光学系は、前
記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前記第２偏
向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射面へ向け
る第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射された光
を偏向させる第４偏向部材とを有することを特徴とする
請求項１２記載の露光装置。13. The first and second projection optical systems further include: a different concave reflecting surface different from the concave reflecting surface; and a second reflecting member that deflects light from the second deflecting member to the different concave reflecting surface. 13. The exposure apparatus according to claim 12, further comprising a third deflecting member for directing the light, and a fourth deflecting member for deflecting the light reflected by the another concave reflecting surface. 【請求項１４】 前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前記第１物
体の中間像を形成することを特徴とする請求項１３記載
の露光装置。14. The system according to claim 13, wherein the first and second projection optical systems form an intermediate image of the first object between the second deflecting member and the third deflecting member. Exposure apparatus according to the above. 【請求項１５】 前記第１及び第２の投影光学系は、前
記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置された
視野絞りを有することを特徴とする請求項１４記載の露
光装置。15. The exposure according to claim 14, wherein the first and second projection optical systems have a field stop disposed between the second deflecting member and the third deflecting member. apparatus. 【請求項１６】 前記凹面反射面と前記別の凹面反射面
とは同一方向に凹面を向けるように配置されることを特
徴とする請求項１３〜１５の何れか一項に記載の露光装
置。16. The exposure apparatus according to claim 13, wherein the concave reflecting surface and the another concave reflecting surface are arranged so that the concave surfaces face in the same direction. 【請求項１７】 前記第１の物体の等倍の正立像を前記
第２の物体上に形成する第３の投影光学系をさらに有
し、 前記第３の投影光学系は、少なくとも像側がテレセント
リックで構成されることを特徴とする請求項１記載の露
光装置。17. A third projection optical system for forming an equal-size erect image of the first object on the second object, wherein at least an image side of the third projection optical system is telecentric. 2. The exposure apparatus according to claim 1, wherein the exposure apparatus comprises: 【請求項１８】 前記第３の投影光学系は、第１部分光
学系と第２部分光学系とを有し、前記第２部分光学系
は、前記第１部分光学系が形成する物体の１次像からの
光によって２次像を形成することを特徴とする請求項１
７記載の露光装置。18. The third projection optical system has a first partial optical system and a second partial optical system, and the second partial optical system is a part of the object formed by the first partial optical system. 2. A secondary image is formed by light from the secondary image.
8. The exposure apparatus according to 7. 【請求項１９】 前記第１及び第２部分光学系は、それ
ぞれ光の入射側に凹面を向けた第１及び第２の反射面を
有し、該第１及び第２の反射面は、同一方向に凹面を向
けるように配置されることを特徴とする請求項１８記載
の露光装置。19. The first and second partial optical systems have first and second reflection surfaces each having a concave surface facing the light incident side, and the first and second reflection surfaces are the same. 19. The exposure apparatus according to claim 18, wherein the exposure apparatus is arranged so as to face the concave surface in the direction. 【請求項２０】 前記第１部分光学系による前記１次像
が形成される位置には、視野絞りが配置されることを特
徴とする請求項１８または１９記載の露光装置。20. The exposure apparatus according to claim 18, wherein a field stop is disposed at a position where the primary image is formed by the first partial optical system. 【請求項２１】 前記第１、第２及び第３の投影光学系
は凹面反射面を有することを特徴とする請求項１７記載
の露光装置。21. An exposure apparatus according to claim 17, wherein said first, second and third projection optical systems have a concave reflecting surface. 【請求項２２】 前記第１の投影光学系は第１凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第２凹面反射面を有
し、前記第３の投影光学系は第３凹面反射面を有し、 前記第１及び第２凹面反射面は凹面が互いに向かい合う
ように配置され、 前記第１及び第３凹面反射面は同一方向に凹面を向ける
ように配置されることを特徴とする請求項２１記載の露
光装置。22. The first projection optical system has a first concave reflecting surface, the second projection optical system has a second concave reflecting surface, and the third projection optical system has a third concave surface. A reflecting surface, wherein the first and second concave reflecting surfaces are disposed such that the concave surfaces face each other, and the first and third concave reflecting surfaces are disposed such that the concave surfaces face in the same direction. The exposure apparatus according to claim 21, wherein 【請求項２３】 前記第１の投影光学系は第４凹面反射
面を有し、前記第２の投影光学系は第５凹面反射面を有
し、前記第３の投影光学系は第６凹面反射面を有し、 前記第１及び前記第４凹面反射面は同一方向に凹面を向
けるように配置され、前記第２及び第５反射面は同一方
向に凹面を向けるように配置され、前記第３及び第６反
射面は同一方向に凹面を向けるように配置されることを
特徴とする請求項２２記載の露光装置。23. The first projection optical system has a fourth concave reflecting surface, the second projection optical system has a fifth concave reflecting surface, and the third projection optical system has a sixth concave surface. A reflecting surface, wherein the first and fourth concave reflecting surfaces are arranged so as to face the concave surface in the same direction, and the second and fifth reflecting surfaces are arranged so as to face the concave surface in the same direction; 23. The exposure apparatus according to claim 22, wherein the third and sixth reflection surfaces are arranged so that the concave surfaces face in the same direction. 【請求項２４】 前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第１の物体からの光を偏向させて前記凹面反射
面へ向ける第１偏向部材と、前記凹面反射面で反射され
た光を偏向させる第２偏向部材とを有することを特徴と
する請求項２１記載の露光装置。24. The first, second, and third projection optical systems deflect light from the first object to direct the light toward the concave reflecting surface, and reflect the light from the concave reflecting surface. 22. The exposure apparatus according to claim 21, further comprising a second deflecting member that deflects the emitted light. 【請求項２５】 前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記凹面反射面とは異なる別の凹面反射面と、前記
第２偏向部材からの光を偏向させて前記別の凹面反射面
へ向ける第３偏向部材と、前記別の凹面反射面で反射さ
れた光を偏向させる第４偏向部材とを有することを特徴
とする請求項２４記載の露光装置。25. The first, second, and third projection optical systems each further include a different concave reflecting surface different from the concave reflecting surface, and a different concave surface formed by deflecting light from the second deflecting member. 25. The exposure apparatus according to claim 24, further comprising a third deflecting member for directing the light to the reflecting surface, and a fourth deflecting member for deflecting the light reflected by the another concave reflecting surface. 【請求項２６】 前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に前記
第１物体の中間像を形成することを特徴とする請求項２
５記載の露光装置。26. The projection optical system according to claim 1, wherein the first, second, and third projection optical systems form an intermediate image of the first object between the second deflection member and the third deflection member. Claim 2
6. The exposure apparatus according to 5. 【請求項２７】 前記第１、第２及び第３の投影光学系
は、前記第２偏向部材と前記第３偏向部材との間に配置
された視野絞りを有することを特徴とする請求項２６記
載の露光装置。27. The projection optical system according to claim 26, wherein the first, second, and third projection optical systems include a field stop disposed between the second deflection member and the third deflection member. Exposure apparatus according to the above. 【請求項２８】 前記凹面反射面と前記別の凹面反射面
とは同一方向に凹面を向けるように配置されることを特
徴とする請求項２５〜２７の何れか一項に記載の露光装
置。28. The exposure apparatus according to claim 25, wherein the concave reflecting surface and the another concave reflecting surface are arranged so as to face the concave surface in the same direction. 【請求項２９】 前記第１の投影光学系中の前記凹面反
射面と前記第２の投影光学系中の前記凹面反射面とは凹
面が互いに向かい合うように配置され、前記第１の投影
光学系中の前記凹面反射面と前記第３の投影光学系中の
前記凹面反射面とは同一方向に凹面を向けるように配置
されることを特徴とする請求項２８記載の露光装置。29. The first projection optical system, wherein the concave reflection surface in the first projection optical system and the concave reflection surface in the second projection optical system are arranged so that concave surfaces face each other. 29. The exposure apparatus according to claim 28, wherein the concave reflecting surface in the inside and the concave reflecting surface in the third projection optical system are arranged so that the concave surfaces face in the same direction. 【請求項３０】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２の投影光学系は少なくとも像側がテレ
セントリックで構成されることを特徴とする露光装置。30. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving a first object and a second object along a scanning direction, wherein: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the above; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. And a second projection optical system that forms a second exposure region different from the first and second projection optical systems, wherein the first and second projection optical systems are configured so that at least the image side is telecentric. 【請求項３１】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に並んで配置されることを特徴とする請求項３０
記載の露光装置。31. The apparatus according to claim 30, wherein the first and second exposure areas are arranged side by side in a non-scanning direction.
Exposure apparatus according to the above. 【請求項３２】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項３０記載の露光装置。32. The exposure apparatus according to claim 30, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in a non-scanning direction. 【請求項３３】 前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる
第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテレセント
リックで構成される第３の投影光学系をさらに有し、 前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項３２記載の露光装置。33. A third exposure area different from the first and second exposure areas is formed on the second object based on light from the first object, and at least an image side is configured to be telecentric. 33. The exposure apparatus according to claim 32, further comprising a third projection optical system, wherein the third exposure region is arranged at a position different from the first exposure region in the scanning direction. 【請求項３４】 前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置されるこ
とを特徴とする請求項３３記載の露光装置。34. The exposure apparatus according to claim 33, wherein the first exposure area and the second exposure area are arranged at an interval in a non-scanning direction. 【請求項３５】 前記第３の露光領域は前記第１及び第
２の露光領域の前記間隔の間を走査できるように位置決
めされることを特徴とする請求項３４記載の露光装置。35. The exposure apparatus according to claim 34, wherein the third exposure area is positioned so as to scan between the intervals between the first and second exposure areas. 【請求項３６】 前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項３０記載の露光装置。36. The exposure apparatus according to claim 30, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in the scanning direction. 【請求項３７】 前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上に前記第１及び第２の露光領域とは異なる
第３の露光領域を形成し、少なくとも像側がテレセント
リックで構成される第３の投影光学系をさらに有し、 前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項３６記載の露光装置。37. A third exposure area different from the first and second exposure areas is formed on the second object based on light from the first object, and at least an image side is configured to be telecentric. 37. The exposure apparatus according to claim 36, further comprising a third projection optical system, wherein the third exposure area is arranged at a position different from the second exposure area in the scanning direction. 【請求項３８】 前記第１、第２及び第３の露光領域は
台形形状であり、前記第２の露光領域の前記台形の短辺
は前記第３の露光領域側へ向けられており、前記第３の
露光領域の前記台形の短辺は前記第２の露光領域側へ向
けられていることを特徴とする請求項３７記載の露光装
置。38. The first, second and third exposure areas are trapezoidal, and the short side of the trapezoid of the second exposure area is directed toward the third exposure area, 39. The exposure apparatus according to claim 37, wherein a short side of the trapezoid of the third exposure area is directed toward the second exposure area. 【請求項３９】 前記第１、第２及び第３の露光領域は
台形形状であり、前記第１の露光領域の前記台形の短辺
は前記第２の露光領域側へ向けられており、前記第２の
露光領域の前記台形の短辺は前記第１の露光領域側へ向
けられていることを特徴とする請求項３６記載の露光装
置。39. The first, second, and third exposure areas are trapezoidal, and a short side of the trapezoid of the first exposure area is directed toward the second exposure area. 37. The exposure apparatus according to claim 36, wherein a short side of the trapezoid of the second exposure area is directed toward the first exposure area. 【請求項４０】 前記第１、第２及び第３の露光領域
は、台形形状または六角形形状であることを特徴とする
請求項３０〜３７の何れか一項記載の露光装置。40. The exposure apparatus according to claim 30, wherein the first, second, and third exposure areas have a trapezoidal shape or a hexagonal shape. 【請求項４１】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に台
形形状の第１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上の前
記第１の露光領域とは異なる位置に台形形状の第２の露
光領域を形成する第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成される ことを特徴とする露光装
置。 41. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving a first object and a second object along a scanning direction, comprising: A first projection optical system that forms a trapezoidal first exposure area on the second object based on the light of the first object; and the first projection optical system on the second object based on the light from the first object. of the second projection optical system to form a second exposed regions of the trapezoidal position different from the exposure area; have a, the first and second projection optical system, at least the image side Te
An exposure apparatus characterized by being centric . 【請求項４２】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に並んで配置されることを特徴とする請求項４１
記載の露光装置。42. The apparatus according to claim 41, wherein the first and second exposure areas are arranged side by side in a non-scanning direction.
Exposure apparatus according to the above. 【請求項４３】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項４１記載の露光装置。43. The exposure apparatus according to claim 41, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in a non-scanning direction. 【請求項４４】 前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域とは異なる
位置に台形形状の第３の露光領域を形成する第３の投影
光学系をさらに有し、 前記第３の露光領域は前記第１の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項４３記載の露光装置。44. A third trapezoidal third exposure area formed at a position different from the first and second exposure areas on the second object based on light from the first object. 44. The exposure apparatus according to claim 43, further comprising a projection optical system, wherein the third exposure area is arranged at a position different from the first exposure area in the scanning direction. 【請求項４５】 前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置されるこ
とを特徴とする請求項４４記載の露光装置。45. The exposure apparatus according to claim 44, wherein the first exposure area and the second exposure area are arranged at an interval in a non-scanning direction. 【請求項４６】 前記第３の露光領域は前記第１及び第
２の露光領域の前記間隔の間を走査できるように位置決
めされることを特徴とする請求項４５記載の露光装置。46. The exposure apparatus according to claim 45, wherein the third exposure area is positioned so as to scan the space between the first and second exposure areas. 【請求項４７】 前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項４１記載の露光装置。47. The exposure apparatus according to claim 41, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in the scanning direction. 【請求項４８】 前記第１物体からの光に基づいて、前
記第２物体上の前記第１及び第２の露光領域とは異なる
位置に第３の露光領域を形成する第３の投影光学系をさ
らに有し、 前記第３の露光領域は前記第２の露光領域とは前記走査
方向において異なる位置に配置されることを特徴とする
請求項４７記載の露光装置。48. A third projection optical system that forms a third exposure area on the second object at a position different from the first and second exposure areas based on light from the first object. 48. The exposure apparatus according to claim 47, further comprising: wherein the third exposure region is arranged at a position different from the second exposure region in the scanning direction. 【請求項４９】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 台形形状の第１の視野領域を有する第１投影光学系と； 台形形状の第２の視野領域を有する第２投影光学系と； を有し、 前記第１の視野領域の台形の短辺は、前記第１投影光学
系が有する最大視野領域の円弧側に向けられており、 前記第２の視野領域の台形の短辺は、前記第２投影光学
系が有する最大視野領域の円弧側に向けられていること
を特徴とする露光装置。49. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object on a second object while moving the first object and the second object along a scanning direction, wherein the first object has a trapezoidal shape. A second projection optical system having a trapezoidal second field of view; and a trapezoidal short side of the first field of view is the first projection. That the short side of the trapezoid of the second field of view is directed to the arc side of the maximum field of view of the second projection optical system. An exposure apparatus characterized by the following. 【請求項５０】 前記第１及び第２投影光学系が有する
前記最大視野領域は半円状であることを特徴とする請求
項４９記載の露光装置。50. The exposure apparatus according to claim 49, wherein the maximum viewing area of each of the first and second projection optical systems has a semicircular shape. 【請求項５１】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１及び第２の露光領域とは異なる第３の露光領域を
形成する第３投影光学系と； を有し、 前記第１、第２及び第３の投影光学系は少なくとも像側
がテレセントリックで構成されることを特徴とする露光
装置。51. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving a first object and a second object along a scanning direction, wherein: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the first object; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. A second projection optical system forming a second exposure region different from the first exposure region; and a third different from the first and second exposure regions on the second object based on light from the first object. An exposure apparatus, comprising: a third projection optical system that forms an exposure area; and wherein the first, second, and third projection optical systems are configured so that at least the image side is telecentric. 【請求項５２】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項５１記載の露光装置。52. The exposure apparatus according to claim 51, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in a non-scanning direction. 【請求項５３】 前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第１及び第２の露光領域と異なる位置に配
置されることを特徴とする請求項５２記載の露光装置。53. The exposure apparatus according to claim 52, wherein the third exposure area is arranged at a position different from the first and second exposure areas in the scanning direction. 【請求項５４】 前記第１の露光領域と前記第２の露光
領域とは非走査方向において間隔をもって配置され、 前記第３の露光領域は前記第１及び第２の露光領域の前
記間隔の間を走査できるように位置決めされることを特
徴とする請求項５２または５３記載の露光装置。54. The first exposure area and the second exposure area are arranged at intervals in a non-scanning direction, and the third exposure area is located between the first and second exposure areas. The exposure apparatus according to claim 52 or 53, wherein the exposure apparatus is positioned so as to scan the image. 【請求項５５】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２投影光学系は少なくとも像側テレセン
トリックに構成され、 前記第１及び第２の露光領域の前記走査方向における幅
の和は、前記走査方向と直交する走査直交方向において
一定であることを特徴とする露光装置。55. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving a first object and a second object along a scanning direction, wherein: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the first object; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. A second projection optical system that forms a second exposure region different from the first and second projection optical systems, wherein the first and second projection optical systems are configured to be at least image-side telecentric, An exposure apparatus, wherein a sum of widths in the scanning direction is constant in a scanning orthogonal direction orthogonal to the scanning direction. 【請求項５６】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２投影光学系の光軸は、前記第１の物体
の面内方向と平行であることを特徴とする露光装置。56. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving the first object and the second object along a scanning direction, comprising: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the first object; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. And a second projection optical system that forms a second exposure region different from the first object. The optical axes of the first and second projection optical systems are parallel to an in-plane direction of the first object. Exposure apparatus characterized by the above-mentioned. 【請求項５７】 前記第１及び第２投影光学系は前記第
１の物体上の第１及び第２視野領域を有し、 前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野領域
の前記走査方向と直交する方向の幅をφFとし、前記第
１及び第２投影光学系の光軸間距離をＫとするとき、 ２φF＞Ｋ を満足することを特徴とする請求項５６記載の露光装
置。57. The first and second projection optical systems have first and second viewing areas on the first object, and the first and second projection optical systems have the largest possible viewing area. wherein the scanning direction orthogonal to the direction of the width phi F, when the first and distance between the optical axes of the second projection optical system is K, claim 56, characterized by satisfying the 2 [phi F> K Exposure equipment. 【請求項５８】 前記第１及び第２投影光学系は前記第
１の物体上の第１及び第２視野領域を有し、 前記第１及び第２投影光学系の取り得る最大の視野領域
の前記走査方向と直交する方向の幅をφFとし、前記第
１及び第２投影光学系の外径の最大値をφDとすると
き、 φF＞φD／２ を満足することを特徴とする請求項５６または５７記載
の露光装置。58. The first and second projection optical systems have first and second viewing areas on the first object, and the first and second projection optical systems have the largest possible viewing area. when the direction of the width perpendicular to the scanning direction and phi F, the maximum value of the outer diameter of the first and second projection optical system and phi D, and satisfies the φ F> φ D / 2 The exposure apparatus according to Claim 56 or 57. 【請求項５９】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１
及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系
の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方
向の幅をφFとし、前記第１及び第２投影光学系の外径
の最大値をφDとするとき、 φF＞φD／２ を満足し、 前記第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成される ことを特徴とする露光装
置。 59. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving the first object and the second object along a scanning direction, wherein: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the above; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. And a second projection optical system for forming a second exposure area different from the first and second projection optical systems, wherein the first and second projection optical systems are arranged on a first object on the first object.
And a second viewing region, the first and the width in the direction perpendicular to the scanning direction of possible maximum viewing area of the second projection optical system and phi F, of the first and second projection optical system when the maximum value of the outer diameter phi D, satisfy φ F> φ D / 2, the first and second projection optical system, at least the image side Te
An exposure apparatus characterized by being centric . 【請求項６０】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２投影光学系は前記第１の物体上の第１
及び第２視野領域を有し、前記第１及び第２投影光学系
の取り得る最大の視野領域の前記走査方向と直交する方
向の幅をφFとし、前記第１及び第２投影光学系の光軸
間距離をＫとするとき、 ２φF＞Ｋ を満足し、 前記第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテ
レセントリックで構成される ことを特徴とする露光装
置。 60. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving the first object and the second object along a scanning direction, comprising: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the first object; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. And a second projection optical system that forms a second exposure area different from the first projection optical system.
And a second viewing region, the first and the width in the direction perpendicular to the scanning direction of possible maximum viewing area of the second projection optical system and phi F, of the first and second projection optical system when the distance between the optical axes is K, satisfy 2 [phi F> K, the first and second projection optical system, at least the image side Te
An exposure apparatus characterized by being centric . 【請求項６１】61. 前記照明光学系は、前記第１投影光学The illumination optical system includes the first projection optical system.
系の第１視野領域に第１照明領域を形成すると共に、前Forming a first illumination area in a first viewing area of the system and
記第２投影光学系の第２視野領域に第２照明領域を形成Forming a second illumination area in a second viewing area of the second projection optical system;
し、And 前記第１及び第２照明領域の前記走査方向における幅のWidth of the first and second illumination areas in the scanning direction
和は、前記走査方向と直交する走査直交方向において一The sum is one in a scanning orthogonal direction orthogonal to the scanning direction.
定であることを特徴とする請求項５５記載の露光装置。56. The exposure apparatus according to claim 55, wherein the constant is constant. 【請求項６２】 第１の物体と第２の物体とを走査方向
に沿って移動させつつ前記第１の物体の像を第２の物体
上へ投影露光する露光装置において、 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に第
１の露光領域を形成する第１投影光学系と； 前記第１物体からの光に基づいて、前記第２物体上に前
記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域を形成する
第２投影光学系と； を有し、 前記第１及び第２投影光学系は少なくとも像側テレセン
トリックで構成され、かつダハ面を有することを特徴と
する露光装置。62. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the first object onto a second object while moving the first object and the second object along a scanning direction, wherein: A first projection optical system that forms a first exposure area on the second object based on the light of the first object; and a first exposure area on the second object based on the light from the first object. And a second projection optical system for forming a second exposure region different from the first and second projection optical systems, wherein the first and second projection optical systems are at least image-side telecentric and have a roof surface. Exposure equipment. 【請求項６３】 マスクと感光性基板とを走査方向に沿
って移動させつつ前記マスクの像を前記感光性基板上へ
投影露光する露光装置において、 前記マスク上の第１視野領域からの光に基づいて、前記
感光性基板上に第１の露光領域を形成する第１の投影光
学系と； 前記マスク上の第２視野領域からの光に基づいて、前記
感光性基板上に前記第１の露光領域とは異なる第２の露
光領域を形成する第２の投影光学系と； を備え、 前記第１視野領域は前記マスク上の回路パターン領域の
縁と一致する辺を有することを特徴とする露光装置。63. An exposure apparatus for projecting and exposing an image of the mask onto the photosensitive substrate while moving the mask and the photosensitive substrate along a scanning direction, comprising: A first projection optical system that forms a first exposure area on the photosensitive substrate based on the light; and a first projection optical system on the photosensitive substrate based on light from a second viewing area on the mask. A second projection optical system that forms a second exposure region different from the exposure region; and wherein the first viewing region has a side coincident with an edge of a circuit pattern region on the mask. Exposure equipment. 【請求項６４】 第１物体の像を第２物体上へ投影露光
する露光方法において、 像側テレセントリックな光束に基づいて前記第１物体の
正立像を第１の露光領域上に形成する第１工程と； 前記像側テレセントリックな光束とは異なる別の像側テ
レセントリックな光束に基づいて前記第１物体の正立像
を前記第１の露光領域とは異なる第２の露光領域上に形
成する第２工程と； 前記第１物体と前記第２物体とを走査方向に沿って移動
させる第３工程と； を有することを特徴とする露光方法。64. An exposure method for projecting and exposing an image of a first object onto a second object, wherein an erect image of the first object is formed on a first exposure area based on an image-side telecentric light beam. Forming an erect image of the first object on a second exposure area different from the first exposure area based on another image-side telecentric light flux different from the image-side telecentric light flux. And a third step of moving the first object and the second object along a scanning direction. 【請求項６５】 前記第１及び第２工程は、凹面反射鏡
で光を反射させる補助工程を有することを特徴とする請
求項６４記載の露光方法。65. The exposure method according to claim 64, wherein the first and second steps include an auxiliary step of reflecting light with a concave reflecting mirror. 【請求項６６】 前記第１及び第２工程は、それぞれ前
記第１物体の中間像を形成する補助工程を有することを
特徴とする請求項６４記載の露光方法。66. The exposure method according to claim 64, wherein each of the first and second steps includes an auxiliary step of forming an intermediate image of the first object. 【請求項６７】 前記第１及び第２工程は、それぞれ前
記中間像から２次像を形成する補助工程を有することを
特徴とする請求項６６記載の露光方法。67. The exposure method according to claim 66, wherein said first and second steps each include an auxiliary step of forming a secondary image from said intermediate image. 【請求項６８】 前記第１及び第２工程は、それぞれ凹
面反射鏡で光を反射させて前記中間像へ導く補助工程
と、凹面反射鏡で光を反射させて前記２次像へ導く補助
工程とを有することを特徴とする請求項６７記載の露光
方法。68. The first and second steps are an auxiliary step of reflecting light by a concave reflecting mirror to guide the light to the intermediate image, and an auxiliary step of reflecting light by a concave reflecting mirror to guide the light to the secondary image. 70. The exposure method according to claim 67, comprising: 【請求項６９】 前記第１及び第２工程は、それぞれ視
野絞りに光を通す補助工程を有することを特徴とする請
求項６７〜６８の何れか一項に記載の露光方法。69. The exposure method according to claim 67, wherein each of the first and second steps has an auxiliary step of passing light through a field stop. 【請求項７０】 前記第１工程中の前記凹面反射鏡で光
を反射させる補助工程と、前記第２工程中の前記凹面反
射鏡で光を反射させる補助工程とでは、互いに反対側へ
光を反射させることを特徴とする請求項６５記載の露光
方法。70. The assisting step of reflecting light with the concave reflecting mirror in the first step and the assisting step of reflecting light with the concave reflecting mirror in the second step The exposure method according to claim 65, wherein the light is reflected. 【請求項７１】 前記第１及び第２工程は、それぞれレ
ンズに光を通過する補助工程を有することを特徴とする
請求項６５記載の露光方法。71. The exposure method according to claim 65, wherein each of the first and second steps has an auxiliary step of passing light through a lens. 【請求項７２】 前記第１及び第２工程は、第１凹面反
射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第１補助工程の
後に前記第１物体の中間像を形成する第２補助工程と、
第２補助工程の後に第２凹面反射鏡で光を反射させる第
３補助工程とをそれぞれ有することを特徴とする請求項
６５記載の露光方法。72. The first and second steps include a first auxiliary step of reflecting light with a first concave reflecting mirror, and a second auxiliary step of forming an intermediate image of the first object after the first auxiliary step. When,
The exposure method according to claim 65, further comprising a third auxiliary step of reflecting light with the second concave reflecting mirror after the second auxiliary step. 【請求項７３】 前記第１及び第２工程は、前記第１物
体からの光を前記第１凹面反射鏡へ向けて偏向させる第
４補助工程と、前記第１凹面反射鏡からの光を前記中間
像へ向けて偏向させる第５補助工程と、前記中間像から
の光を前記第２凹面反射鏡へ向けて偏向させる第６補助
工程と、前記第２凹面反射鏡からの光を前記第２物体へ
向けて偏向させる第７補助工程とをそれぞれ有すること
を特徴とする請求項７２記載の露光方法。73. The first and second steps are: a fourth auxiliary step of deflecting light from the first object toward the first concave reflecting mirror; and converting the light from the first concave reflecting mirror to light. A fifth auxiliary step of deflecting the light toward the intermediate image, a sixth auxiliary step of deflecting the light from the intermediate image toward the second concave reflecting mirror, and the light from the second concave reflecting mirror to the second 73. The exposure method according to claim 72, further comprising a seventh auxiliary step of deflecting the light toward an object. 【請求項７４】 前記第１及び第２工程は、前記第４補
助工程にて偏向された光を第１レンズに導いた後に前記
第１凹面反射鏡へ導く第８補助工程と、前記第１凹面反
射鏡にて反射された光を前記第１レンズに導く第９補助
工程と、前記第６補助工程にて偏向された光を第２レン
ズに導いた後に前記第２凹面反射鏡へ導く第１０補助工
程と、前記第２凹面反射鏡にて反射された光を前記第２
レンズに導く第１０補助工程とをさらに有することを特
徴とする請求項７３記載の露光方法。74. The first and second steps include: an eighth auxiliary step of guiding the light deflected in the fourth auxiliary step to the first lens and then to the first concave reflecting mirror; A ninth auxiliary step of guiding the light reflected by the concave reflecting mirror to the first lens, and a ninth auxiliary step of guiding the light deflected in the sixth auxiliary step to the second lens and then to the second concave reflecting mirror. (10) an auxiliary process, and the light reflected by the second concave reflecting mirror
The exposure method according to claim 73, further comprising: a tenth auxiliary step of leading to a lens. 【請求項７５】 前記第１工程中の前記第４補助工程で
の光の偏向する方向と、前記第２工程中の前記第４補助
工程での光の偏向する方向は逆向きであることを特徴と
する請求項７３または７４記載の露光方法。75. A light deflecting direction in the fourth auxiliary step in the first step and a light deflecting direction in the fourth auxiliary step in the second step are opposite to each other. The exposure method according to claim 73 or 74, wherein: 【請求項７６】 前記第１工程中の前記第６補助工程で
の光の偏向する方向と、前記第２工程中の前記第６補助
工程での光の偏向する方向とは逆向きであることを特徴
とする請求項７３〜７５の何れか一項記載の露光方法。76. A direction in which light is deflected in the sixth auxiliary step in the first step is opposite to a direction in which light is deflected in the sixth auxiliary step in the second step. The exposure method according to any one of claims 73 to 75, wherein: 【請求項７７】 前記第１及び第２工程は、第１凹面反
射鏡で光を反射させる第１補助工程と、第２凹面反射鏡
で光を反射させる第２補助工程とを有することを特徴と
する請求項６５記載の露光方法。77. The first and second steps include a first auxiliary step of reflecting light with a first concave reflecting mirror and a second auxiliary step of reflecting light with a second concave reflecting mirror. The exposure method according to claim 65, wherein 【請求項７８】 前記第１補助工程での光の反射方向と
前記第２補助工程での光の反射方向とは同一方向である
ことを特徴とする請求項７７記載の露光方法。78. The exposure method according to claim 77, wherein the light reflection direction in said first auxiliary step and the light reflection direction in said second auxiliary step are the same. 【請求項７９】 前記第１工程中の前記第１補助工程で
の光の反射方向と、前記第２工程中の前記第１補助工程
での光の反射方向とは逆向きであることを特徴とする請
求項７８記載の露光方法。79. A light reflection direction in the first auxiliary step in the first step and a light reflection direction in the first auxiliary step in the second step are opposite to each other. The exposure method according to claim 78, wherein 【請求項８０】 前記第１及び第２工程は、前記第１物
体からの光を前記凹面反射鏡へ偏向させる偏向補助工程
をさらに有し、 前記第１工程中の偏向補助工程での光の偏向方向と、前
記第２工程中の偏向補助工程での光の偏向方向とは逆向
きであることを特徴とする請求項６５記載の露光方法。80. The first and second steps further include a deflection assisting step of deflecting light from the first object to the concave reflecting mirror, and the light assisting in the deflection assisting step in the first step. 66. The exposure method according to claim 65, wherein the direction of deflection is opposite to the direction of light deflection in the deflection assisting step of the second step. 【請求項８１】 前記第１及び第２の露光領域は、走査
方向と直交する方向において一部重複することを特徴と
する請求項６４記載の露光方法。81. The exposure method according to claim 64, wherein the first and second exposure areas partially overlap in a direction orthogonal to a scanning direction. 【請求項８２】 像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項６４記載の露光方法。82. The method according to claim 82, further comprising: forming an erect image of the first object on a third exposure area different from the first and second exposure areas based on an image-side telecentric light beam. 65. The exposure method according to claim 64, wherein: 【請求項８３】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向に沿って並んで配置されることを特徴とする請求
項６４記載の露光方法。83. The exposure method according to claim 64, wherein the first and second exposure areas are arranged side by side in a non-scanning direction. 【請求項８４】 前記第１及び第２の露光領域は、非走
査方向において異なる位置に配置されることを特徴とす
る請求項６４記載の露光方法。84. The exposure method according to claim 64, wherein said first and second exposure areas are arranged at different positions in a non-scanning direction. 【請求項８５】 像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項８４記載の露光方法。85. A fourth step of forming an erect image of the first object on a third exposure area different from the first and second exposure areas based on an image-side telecentric light beam. 85. The exposure method according to claim 84, wherein: 【請求項８６】 前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第１の露光領域とは異なる位置に配置され
ることを特徴とする請求項８５記載の露光方法。86. The exposure method according to claim 85, wherein the third exposure area is arranged at a position different from the first exposure area in the scanning direction. 【請求項８７】 前記第１及び第３の露光領域は、前記
非走査方向で間隔を持つように配置されることを特徴と
する請求項８６記載の露光方法。87. The exposure method according to claim 86, wherein the first and third exposure areas are arranged so as to have an interval in the non-scanning direction. 【請求項８８】 前記第１及び第２の露光領域は、前記
走査方向において異なる位置に配置されることを特徴と
する請求項６４記載の露光方法。88. The exposure method according to claim 64, wherein the first and second exposure areas are arranged at different positions in the scanning direction. 【請求項８９】 像側テレセントリックな光束に基づい
て前記第１物体の正立像を前記第１及び第２の露光領域
とは異なる第３の露光領域上に形成する第４工程をさら
に有することを特徴とする請求項８８記載の露光方法。89. A fourth step of forming an erect image of the first object on a third exposure area different from the first and second exposure areas based on an image-side telecentric light beam. The exposure method according to claim 88, wherein the exposure method is characterized in that: 【請求項９０】 前記第３の露光領域は、前記走査方向
において前記第２の露光領域とは異なる位置に配置され
ることを特徴とする請求項８９記載の露光方法。90. The exposure method according to claim 89, wherein the third exposure area is arranged at a position different from the second exposure area in the scanning direction. 【請求項９１】 前記第１及び第２の露光領域は、台形
形状または六角形形状であることを特徴とする請求項６
４〜９０の何れか一項に記載の露光方法。91. The exposure apparatus according to claim 6, wherein the first and second exposure areas are trapezoidal or hexagonal.
The exposure method according to any one of Items 4 to 90. 【請求項９２】 第１物体の像を第２物体上へ投影露光
する露光方法において、 請求項１〜６３の何れか一項記載の露光装置を用いて前
記第２物体上に前記第１物体の像を形成しつつ前記第１
及び第２物体を移動させることを特徴とする露光方法。92. An exposure method for projecting and exposing an image of a first object onto a second object, wherein the first object is placed on the second object using the exposure apparatus according to claim 1. Forming the image of the first
And moving the second object. 【請求項９３】 前記第１物体と前記第２物体とを移動
させつつ前記第１物体の像を一回の露光で第２物体上へ
転写することを特徴とする請求項６４〜９２の何れか一
項記載の露光方法。93. The method according to claim 64, wherein the image of the first object is transferred onto the second object by one exposure while moving the first object and the second object. The exposure method according to claim 1.
JP16158893A 1993-06-30 1993-06-30 Exposure apparatus and method Expired - Lifetime JP3348467B2 (en)

Priority Applications (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16158893A JP3348467B2 (en) 1993-06-30 1993-06-30 Exposure apparatus and method
KR1019940015475A KR100319216B1 (en) 1993-06-30 1994-06-30 Exposure device
US08/453,538 US5729331A (en) 1993-06-30 1995-05-30 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US08/587,346 US6157497A (en) 1993-06-30 1996-01-16 Exposure apparatus
US09/173,530 US6351305B1 (en) 1993-06-30 1998-10-15 Exposure apparatus and exposure method for transferring pattern onto a substrate
US09/722,278 US6480262B1 (en) 1993-06-30 2000-11-28 Illumination optical apparatus for illuminating a mask, method of manufacturing and using same, and field stop used therein
US09/722,515 US6509954B1 (en) 1993-06-30 2000-11-28 Aperture stop having central aperture region defined by a circular ARC and peripheral region with decreased width, and exposure apparatus and method
US09/722,516 US6556278B1 (en) 1993-06-30 2000-11-28 Exposure/imaging apparatus and method in which imaging characteristics of a projection optical system are adjusted
US10/382,874 US6795169B2 (en) 1993-06-30 2003-03-07 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US10/920,294 US7023527B2 (en) 1993-06-30 2004-08-18 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US11/101,553 US7088425B2 (en) 1993-06-30 2005-04-08 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US11/471,658 US7372543B2 (en) 1993-06-30 2006-06-21 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US11/797,605 US7372544B2 (en) 1993-06-30 2007-05-04 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus
US12/078,863 US7956984B2 (en) 1993-06-30 2008-04-07 Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16158893A JP3348467B2 (en) 1993-06-30 1993-06-30 Exposure apparatus and method

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000369737A Division JP3348721B2 (en) 2000-12-05 2000-12-05 Lighting device and method
JP2000369736A Division JP2001201688A (en) 2000-12-05 2000-12-05 Exposure device, exposing method, illuminator and illuminating method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0757986A JPH0757986A (en) 1995-03-03
JP3348467B2 true JP3348467B2 (en) 2002-11-20

Family

ID=15737989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16158893A Expired - Lifetime JP3348467B2 (en) 1993-06-30 1993-06-30 Exposure apparatus and method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3348467B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8305556B2 (en) 2006-02-16 2012-11-06 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, exposure method, display manufacturing method, mask, and mask manufacturing method

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3339144B2 (en) * 1993-11-11 2002-10-28 株式会社ニコン Scanning exposure apparatus and exposure method
JP3477838B2 (en) * 1993-11-11 2003-12-10 株式会社ニコン Scanning exposure apparatus and exposure method
JPH08211294A (en) * 1995-02-02 1996-08-20 Nikon Corp Projection exposing device
US5585972A (en) * 1995-02-15 1996-12-17 Ultratech Stepper, Inc. Arbitrarily wide lens array with an image field to span the width of a substrate
JP3521416B2 (en) * 1995-10-06 2004-04-19 株式会社ニコン Projection exposure equipment
JP3689949B2 (en) * 1995-12-19 2005-08-31 株式会社ニコン Projection exposure apparatus and pattern forming method using the projection exposure apparatus
US6317196B1 (en) 1996-06-25 2001-11-13 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6049372A (en) * 1996-06-25 2000-04-11 Nikon Corporation Exposure apparatus
KR980005341A (en) * 1996-06-25 1998-03-30 고노 시게오 Exposure equipment
JPH10223525A (en) * 1997-02-10 1998-08-21 Nikon Corp Focus control method for aligner
US6522386B1 (en) 1997-07-24 2003-02-18 Nikon Corporation Exposure apparatus having projection optical system with aberration correction element
DE19757074A1 (en) 1997-12-20 1999-06-24 Zeiss Carl Fa Projection exposure system and exposure method
TW447009B (en) 1999-02-12 2001-07-21 Nippon Kogaku Kk Scanning exposure method and scanning type exposure device
JP2001209188A (en) 2000-01-27 2001-08-03 Nikon Corp Scanning type aligner, method for scanning exposure and mask
TW495836B (en) 2000-02-02 2002-07-21 Nikon Corp Scanning exposure method and device
JP4581262B2 (en) * 2000-02-18 2010-11-17 株式会社ニコン Exposure apparatus and exposure method
DE102004013886A1 (en) 2004-03-16 2005-10-06 Carl Zeiss Smt Ag Multiple Exposure Method, Microlithography Projection Exposure System and Projection System
JP4858439B2 (en) 2005-01-25 2012-01-18 株式会社ニコン Exposure apparatus, exposure method, and microdevice manufacturing method
US20090128896A1 (en) * 2005-02-03 2009-05-21 Carl Zeiss Smt Ag, Catadioptric projection objective with intermediate image
DE102005030839A1 (en) * 2005-07-01 2007-01-11 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure system with a plurality of projection lenses
JP2007318069A (en) * 2005-12-06 2007-12-06 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method, device producing method, and projection optical system
US7782442B2 (en) 2005-12-06 2010-08-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, projection optical system and device producing method
TW200722935A (en) * 2005-12-06 2007-06-16 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method, projection optical system and device manufacturing method
JP4984810B2 (en) 2006-02-16 2012-07-25 株式会社ニコン Exposure method, exposure apparatus, and photomask
US7839487B2 (en) * 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
JP5211487B2 (en) 2007-01-25 2013-06-12 株式会社ニコン Exposure method, exposure apparatus, and microdevice manufacturing method
JP2008292761A (en) * 2007-05-24 2008-12-04 Canon Inc Exposure apparatus and method for manufacturing device
CN101925976B (en) 2008-01-21 2012-11-07 株式会社尼康 Illuminating apparatus, exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method
JP2009258551A (en) * 2008-04-21 2009-11-05 Nikon Corp Lighting device, exposure device, exposure method, and device manufacturing method
JP5704535B2 (en) * 2011-04-05 2015-04-22 株式会社ブイ・テクノロジー Exposure system using microlens array
JP5825470B2 (en) * 2011-05-16 2015-12-02 株式会社ブイ・テクノロジー Exposure apparatus and shading plate
JP5782336B2 (en) * 2011-08-24 2015-09-24 キヤノン株式会社 Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JPWO2013088551A1 (en) * 2011-12-15 2015-04-27 キヤノン株式会社 Exposure apparatus and device manufacturing method
CN104166312B (en) * 2013-05-17 2016-08-24 上海微电子装备有限公司 A kind of multiple light courcess big field stitching illuminator
JP6635904B2 (en) 2016-10-14 2020-01-29 キヤノン株式会社 Projection optical system, exposure apparatus and article manufacturing method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8305556B2 (en) 2006-02-16 2012-11-06 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, exposure method, display manufacturing method, mask, and mask manufacturing method
US8867019B2 (en) 2006-02-16 2014-10-21 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, exposure method, display manufacturing method, mask, and mask manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0757986A (en) 1995-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3348467B2 (en) Exposure apparatus and method
JP5071382B2 (en) Scanning exposure apparatus and microdevice manufacturing method
JP5534176B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
JP4952182B2 (en) Scanning exposure apparatus, microdevice manufacturing method, scanning exposure method, and mask
US20080165333A1 (en) Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, photomask, and device and photomask manufacturing method
JPH088169A (en) Exposure system
JP2001297975A (en) Aligner and method of exposure
TWI432914B (en) Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
JP3348721B2 (en) Lighting device and method
KR101527234B1 (en) Projection optical apparatus, exposure method and apparatus, photomask, and device and photomask manufacturing method
JP3385718B2 (en) Exposure apparatus and method
JP3451721B2 (en) Projection optical apparatus, exposure apparatus having the same, and method of adjusting the same
JP3505813B2 (en) Scanning exposure apparatus and scanning exposure method
JP2001201688A (en) Exposure device, exposing method, illuminator and illuminating method
JP2013021265A (en) Illumination device, exposure device, exposure method, and manufacturing method of device
JP4110606B2 (en) Scanning exposure apparatus and exposure method
JPH0845819A (en) Exposure device
KR100319216B1 (en) Exposure device
JP3316710B2 (en) Exposure equipment
JP4707924B2 (en) Projection optical system, exposure apparatus, and microdevice manufacturing method
JP3316760B2 (en) Scanning exposure method
JP3341838B2 (en) Exposure equipment
JP4505666B2 (en) Exposure apparatus, illumination apparatus, and microdevice manufacturing method
JP2006047670A (en) Aligner and exposure method
JP2008166650A (en) Scanning type exposure apparatus, method for manufacturing device and mask

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term