JP3342790B2 - Nozzle standby pot - Google Patents
Nozzle standby potInfo
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ノズル待機ポット
に関し、より特定的には、各種基板用の現像装置におい
て使用される現像液吐出ノズルを、ホームポジションに
て待機させるための待機ポットに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nozzle standby pot, and more particularly, to a standby pot for holding a developer discharge nozzle used in a developing device for various substrates at a home position.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス
基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基
板等の表面に形成されたフォトリソグラフィー工程に使
用されるフォトレジストや、層間絶縁膜形成用の感光性
ポリイミド樹脂などの各種感光性樹脂膜へ所望のパター
ンを露光した後、当該基板表面に現像液を供給して、露
光パターンを現像するための現像装置が、従来から知ら
れている（例えば、特開平７−２３０１７３号公報参
照）。2. Description of the Related Art A photoresist used in a photolithography process formed on the surface of a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for an optical disk, etc., and an interlayer insulating film. 2. Description of the Related Art A developing apparatus for exposing a desired pattern to various photosensitive resin films such as a photosensitive polyimide resin and supplying a developing solution to the surface of the substrate to develop the exposed pattern is conventionally known ( For example, see JP-A-7-230173).
【０００３】従来、上記のような現像装置において、現
像液供給源から供給される現像液は、基板上の所定位置
に移動された現像液吐出ノズルを介して、基板表面に供
給される。この現像液吐出ノズルは、回動アームの先端
に支持され、当該回動アームによって基板と平行な面内
で回動される。基板に対する現像処理が終了すると、現
像液吐出ノズルは、基板上から待避して、待機ポット内
で次の現像処理まで待機する。これは、不所望な部位に
現像液が飛散するのを防ぐためである。また、現像処理
によって現像液吐出ノズルに付着した液滴を吸引するた
めでもある。そのために、待機ポット内には、現像液吐
出ノズルと対向するように、液滴吸引機構が設けられて
いる。Conventionally, in the above-described developing apparatus, a developing solution supplied from a developing solution supply source is supplied to a substrate surface through a developing solution discharge nozzle moved to a predetermined position on the substrate. The developer discharge nozzle is supported by a tip of a turning arm, and is turned by the turning arm in a plane parallel to the substrate. When the developing process on the substrate is completed, the developing solution discharge nozzle is evacuated from the substrate and stands by in the waiting pot until the next developing process. This is to prevent the developer from scattering at an undesired portion. It is also for sucking droplets attached to the developing solution discharge nozzle by the developing process. For this purpose, a droplet suction mechanism is provided in the standby pot so as to face the developer discharge nozzle.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、待機ポ
ットは、現像液の飛散を防止するために設けられるので
あるから、現像液（主として、アルカリ性の溶液）に対
して耐薬品性を有する必要がある。また、現像液吐出ノ
ズルが液滴吸引機構に直接的に接触すると、現像液吐出
ノズルが傷損する恐れがあるので、現像液吐出ノズルの
先端と液滴吸引機構との間には、一定のクリアランスを
確保する必要がある。そのため、このクリアランスが確
保されているか否か、確保されていない場合はそれを調
整するために、待機ポットは、少なくとも現像液吐出ノ
ズルの先端と液滴吸引機構との間の近接部分が外部から
観察できるように構成されていることが好ましい。As described above, since the standby pot is provided to prevent the developer from scattering, it has chemical resistance to the developer (mainly an alkaline solution). There is a need. Further, if the developer discharge nozzle comes into direct contact with the droplet suction mechanism, the developer discharge nozzle may be damaged, so a certain clearance is provided between the tip of the developer discharge nozzle and the droplet suction mechanism. Need to be secured. Therefore, in order to determine whether or not this clearance is secured, and to adjust it if it is not secured, at least the close part between the tip of the developer discharge nozzle and the droplet suction mechanism is externally controlled. It is preferable that it is constituted so that observation is possible.
【０００５】従来、待機ポットは、耐薬品性に優れたポ
リプロピレン（ＰＰ）の薄肉成型によって構成されてい
た。しかしながら、ポリプロピレンは、半透明樹脂であ
るので、内部を見通すことが難しい。そのため、現像液
吐出ノズルの先端と液滴吸引機構との間のクリアランス
を観察することが困難であった。Conventionally, the waiting pot has been formed by thin-wall molding of polypropylene (PP) having excellent chemical resistance. However, since polypropylene is a translucent resin, it is difficult to see through the interior. Therefore, it has been difficult to observe the clearance between the tip of the developer discharge nozzle and the droplet suction mechanism.
【０００６】そこで、完全な透明性が得られるアクリル
板（ＰＭＭＡ）で、待機ポットの全体または観察用の窓
を構成することが考えられたが、アクリル板は、耐薬品
性の面で問題があるので、これも好ましくない。[0006] Therefore, it has been considered that an acrylic plate (PMMA) which can obtain complete transparency constitutes the entire standby pot or a window for observation. However, the acrylic plate has a problem in terms of chemical resistance. This is not desirable either.
【０００７】また、ポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）によっ
て待機ポットを構成することも考えられた。ポリ塩化ビ
ニールは、透明性を有するが、燃焼すると塩素ガス（Ｃ
ｌ2）を発生するので、環境保護の面で好ましくない。
さらに、ポリ塩化ビニールは、耐薬品性の面でも問題が
ある。[0007] It has also been considered that a standby pot is made of polyvinyl chloride (PVC). Polyvinyl chloride is transparent, but when burned, chlorine gas (C
l 2 ), which is not preferable in terms of environmental protection.
Further, polyvinyl chloride has a problem in terms of chemical resistance.
【０００８】それ故に、本発明の目的は、耐薬品性に優
れ、しかも内部の観察が容易なノズル待機ポットを提供
することである。[0008] Therefore, an object of the present invention is to provide a nozzle standby pot which is excellent in chemical resistance and can easily observe the inside.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明は、基板に対して現像液を供給することにより、現
像処理を行う装置において用いられ、現像液を基板に吐
出するための現像液吐出ノズルを、現像処理以外のとき
に待機させておくためのノズル待機ポットであって、現
像液に対して耐薬品性を有し、かつ透明性を有する樹脂
材によって構成されていることを特徴とする。Means for Solving the Problems and Effects of the Invention The first invention is used in an apparatus for performing a developing process by supplying a developing solution to a substrate, and a developing device for discharging the developing solution to the substrate. A nozzle standby pot for holding the liquid discharge nozzle at a standby time other than the development processing, wherein the pot has a chemical resistance to the developer and is made of a transparent resin material. Features.
【００１０】上記のように、第１の発明では、待機ポッ
トが、現像液に対して耐薬品性を有し、かつ透明性を有
する樹脂材によって構成されているため、現像液が付着
しても変質せず、しかも内部を観察することが容易とな
る。As described above, in the first aspect, the standby pot is made of a resin material having chemical resistance to the developing solution and having transparency, so that the developing solution adheres. Is not deteriorated, and the inside can be easily observed.
【００１１】なお、上記樹脂材としては、一例として、
非結晶性ポリオレフィンが挙げられる。また、その表面
に、非結晶性ポリオレフィンまたは透明のフッ素樹脂が
コーティングされた透明の樹脂板を用いても良い。As an example of the resin material,
Amorphous polyolefins may be mentioned. Further, a transparent resin plate whose surface is coated with an amorphous polyolefin or a transparent fluororesin may be used.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る待機ポットを用いた現像装置の構成を示す斜視図であ
る。図２は、図１に示す待機ポット７内の構成を示す断
面図である。以下、これら図１および図２を参照して、
本発明の一実施形態の詳細について説明する。FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a developing device using a standby pot according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration inside the standby pot 7 shown in FIG. Hereinafter, with reference to FIGS. 1 and 2,
An embodiment of the present invention will be described in detail.
【００１３】図１において、基板支持部材１の上には、
現像されるべき半導体ウエハ等の基板２が載置されてい
る。基板支持部材１は、モータ３によって回転するよう
に構成されている。基板支持部材１の周囲には、昇降自
在な外部への飛散防止壁４が設けられる。この飛散防止
壁４は、現像処理時に上昇し、基板２上の現像液が周囲
に飛散するのを防ぐ役目を果たす。In FIG. 1, on a substrate supporting member 1,
A substrate 2 such as a semiconductor wafer to be developed is placed. The substrate support member 1 is configured to be rotated by a motor 3. Around the substrate support member 1, a wall 4 is provided that can be raised and lowered and that is prevented from scattering to the outside. The scattering prevention wall 4 rises during the development processing, and serves to prevent the developer on the substrate 2 from scattering around.
【００１４】また、基板支持部材１の近傍には、軸ＡＸ
の回りに回動可能で、かつ昇降可能な回動アーム５が設
けられる。この回動アーム５の先端部には、垂直下方に
向けて突出する２本の現像液吐出ノズル６が設けられて
いる。これら現像液吐出ノズル６は、配管６１を介し
て、図示しない現像液タンクと連結されている。現像液
吐出ノズル６は、回動アーム５によって、基板２と平行
な面内で回動し、回動アーム５が所定角度位置にきたと
きに、基板２の中心位置のほぼ直上に位置するように、
その取り付け位置が決められている。In the vicinity of the substrate supporting member 1, an axis AX
A rotary arm 5 is provided which is rotatable about and can move up and down. At the distal end of the pivot arm 5, two developer discharge nozzles 6 projecting vertically downward are provided. These developer discharge nozzles 6 are connected to a developer tank (not shown) via a pipe 61. The developing solution discharge nozzle 6 is rotated by a rotation arm 5 in a plane parallel to the substrate 2, and is positioned almost directly above the center position of the substrate 2 when the rotation arm 5 reaches a predetermined angle position. To
The mounting position is determined.
【００１５】また、基板支持部材１の近傍には、本実施
形態の特徴となる待機ポット７が設けられる。この待機
ポット７は、基板２上から待避した現像液吐出ノズル６
を受け入れ、次の現像処理まで待機させるためのもので
ある。図２に示すように、待機ポット７内には、待機中
の現像液吐出ノズル６と対向するように、液滴吸引機構
８が設けられる。この液滴吸引機構８の上面には、２本
の現像液吐出ノズル６と対向する位置に１対の吸引口８
１が設けられている。これら吸引口８１は、内部の中空
部８２と連通しており、当該中空部８２は、チューブ８
３を介して真空吸引されている。これによって、現像液
吐出ノズル６の先端に付着した液滴が吸引される。In the vicinity of the substrate supporting member 1, there is provided a standby pot 7, which is a feature of the present embodiment. The standby pot 7 is provided with the developer discharge nozzle 6 evacuated from the substrate 2.
And waits for the next development processing. As shown in FIG. 2, a droplet suction mechanism 8 is provided in the standby pot 7 so as to face the developer discharge nozzle 6 in the standby state. On a top surface of the droplet suction mechanism 8, a pair of suction ports 8 are provided at positions opposed to the two developer discharge nozzles 6.
1 is provided. These suction ports 81 communicate with an internal hollow portion 82, and the hollow portion 82
3 through which a vacuum is drawn. As a result, droplets attached to the tip of the developer discharge nozzle 6 are sucked.
【００１６】上記した実施形態において、重要なこと
は、待機ポット７が、現像液に対して十分な耐薬品性を
有し、しかも内部の観察が容易なように透明な樹脂材で
構成されていることである。このような樹脂材として
は、例えば、非結晶性ポリオレフィン（ＡＰＯ）が挙げ
られる。また、透明な樹脂板（例えば、アクリル板）
に、非結晶性ポリオレフィン、または透明のフッ素樹脂
をコーティングしたものであっても良い。In the above-described embodiment, it is important that the standby pot 7 is made of a transparent resin material which has sufficient chemical resistance to the developing solution and is easy to observe the inside. It is that you are. Examples of such a resin material include non-crystalline polyolefin (APO). Also, a transparent resin plate (for example, an acrylic plate)
May be coated with a non-crystalline polyolefin or a transparent fluororesin.
【００１７】上記のような構成を有する現像装置におい
て、基板支持部材１の上には、その表面に感光性樹脂膜
（フォトレジスト、感光性ポリイミド樹脂等）が形成さ
れ、かつ所望パターンの露光が終了した基板（半導体ウ
エハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用の
ガラス基板、光ディスク用の基板等）２が載置され、真
空吸着等によって固定される。次に、モータ３によって
所定の回転数で基板支持部材１かつ従って基板２が回転
される。次に、回動アーム５が上昇、回動、下降し、基
板２のほぼ中心位置直上に現像液吐出ノズル６が移動さ
れる。次に、飛散防止壁４が所定高さまで上昇し、図示
しない現像液タンクから現像液吐出ノズル６に現像液が
供給される。その結果、現像液吐出ノズル６から現像液
が吐出され、基板２の表面に供給される。このとき、基
板２は、回転しているため、供給された現像液は、基板
２の全体に広がる。次に、基板２の回転が停止され、現
像効果を得るために所定時間待機する。このとき、回動
アーム５が、上昇、回動、下降し、現像液吐出ノズル６
が待機ポット７内に収納される。以後、現像液吐出ノズ
ル６は、次の現像処理が開始されるまで、待機ポット７
内で待機する。このとき、液滴吸引機構８が作動し、現
像液吐出ノズル６の先端に付着した液滴が吸引される。
上記現像処理の終了後、必要に応じて、基板２に対する
洗浄処理、乾燥処理が行われる。In the developing device having the above-described structure, a photosensitive resin film (photoresist, photosensitive polyimide resin, etc.) is formed on the surface of the substrate support member 1 and the desired pattern is exposed. The completed substrate (semiconductor wafer, glass substrate for photomask, glass substrate for liquid crystal display device, substrate for optical disk, etc.) 2 is placed and fixed by vacuum suction or the like. Next, the motor 3 rotates the substrate supporting member 1 and thus the substrate 2 at a predetermined rotation speed. Next, the rotating arm 5 is raised, rotated, and lowered, and the developing solution discharge nozzle 6 is moved almost immediately above the center position of the substrate 2. Next, the scattering prevention wall 4 is raised to a predetermined height, and the developer is supplied to the developer discharge nozzle 6 from a developer tank (not shown). As a result, the developer is discharged from the developer discharge nozzle 6 and supplied to the surface of the substrate 2. At this time, since the substrate 2 is rotating, the supplied developer spreads over the entire substrate 2. Next, the rotation of the substrate 2 is stopped, and the process waits for a predetermined time to obtain a developing effect. At this time, the rotating arm 5 is raised, rotated and lowered, and the developer discharging nozzle 6
Is stored in the standby pot 7. Thereafter, the developing solution discharge nozzle 6 moves the standby pot 7 until the next developing process is started.
Wait in. At this time, the droplet suction mechanism 8 operates, and the droplets attached to the tip of the developer discharge nozzle 6 are sucked.
After the completion of the developing process, a cleaning process and a drying process are performed on the substrate 2 as necessary.
【図１】本発明の一実施形態の待機ポットを使用した現
像装置の外観斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view of a developing device using a standby pot according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示す待機ポットの内部の構成を示す断面
図である。FIG. 2 is a sectional view showing an internal configuration of a standby pot shown in FIG.
１…基板支持部材 ２…基板 ４…モータ ５…回動アーム ６…現像液吐出ノズル ７…待機ポット ８…液滴吸引機構 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate support member 2 ... Substrate 4 ... Motor 5 ... Rotating arm 6 ... Developer discharge nozzle 7 ... Stand-by pot 8 ... Droplet suction mechanism
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−120132（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−158055（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−310417（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−163384（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−151294（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−269426（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 B05C 5/00 - 5/04 B05C 7/00 - 21/00 B05D 1/00 - 7/26 B08B 3/00 - 3/14 Continuation of front page (56) References JP-A-6-120132 (JP, A) JP-A-5-158055 (JP, A) JP-A-6-310417 (JP, A) JP-A-6-163384 (JP) JP-A-6-151294 (JP, A) JP-A-5-269426 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 B05C 5/00- 5/04 B05C 7/00-21/00 B05D 1/00-7/26 B08B 3/00-3/14
Claims (4)
り、現像処理を行う装置において用いられ、前記現像液
を前記基板に吐出するための現像液吐出ノズルを、現像
処理以外のときに待機させておくためのノズル待機ポッ
トであって、 前記現像液に対して耐薬品性を有し、かつ透明性を有す
る樹脂材によって構成されていることを特徴とする、ノ
ズル待機ポット。1. A developing solution discharge nozzle for discharging a developing solution to the substrate, which is used in an apparatus for performing a developing process by supplying a developing solution to a substrate, and waits for a time other than the developing process. A nozzle standby pot for keeping the nozzle standby pot, wherein the nozzle standby pot is made of a resin material having chemical resistance to the developer and having transparency.
れた、請求項１に記載のノズル待機ポット。2. The nozzle standby pot according to claim 1, wherein the nozzle standby pot is made of an amorphous polyolefin.
ーティングされた透明の樹脂板によって構成された、請
求項１に記載のノズル待機ポット。3. The nozzle standby pot according to claim 1, wherein the nozzle standby pot is constituted by a transparent resin plate whose surface is coated with an amorphous polyolefin.
ングされた透明の樹脂板によって構成された、請求項１
に記載のノズル待機ポット。4. A transparent resin plate whose surface is coated with a transparent fluororesin.
A nozzle standby pot according to any one of the above.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP31251195A JP3342790B2 (en) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | Nozzle standby pot |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
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| JPH09152719A JPH09152719A (en) | 1997-06-10 |
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| JPH09152719A (en) | 1997-06-10 |
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