JP3340307B2 - プリント配線板用銅箔の製造方法 - Google Patents
プリント配線板用銅箔の製造方法Info
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/022—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板用
銅箔の製造方法に関するものであり、特に、銅イオンを
含む電解液が供給される電解槽中で回転する陰極ドラム
上に銅を電着させ、陰極ドラムを電解槽中で回転させつ
つ銅箔を陰極ドラムから剥離させてプリント配線板用銅
箔を連続的に製造する連続電解式製造方法に関するもの
である。
銅箔の製造方法に関するものであり、特に、銅イオンを
含む電解液が供給される電解槽中で回転する陰極ドラム
上に銅を電着させ、陰極ドラムを電解槽中で回転させつ
つ銅箔を陰極ドラムから剥離させてプリント配線板用銅
箔を連続的に製造する連続電解式製造方法に関するもの
である。
【０００２】近年、プリント配線板は多層化が促進され
ており、これに伴ってプリント配線板用の銅箔中におけ
るホイルクラックの発生防止が問題となっている。この
ような観点から、特に、１８０℃での熱間の伸び率（以
下、「熱間伸び率」と言う）の高い銅箔が要望されるに
至っている。そして、熱間伸び率を高めるため、従来よ
り、電解液中に各種添加剤を添加することが提案されて
いる。
ており、これに伴ってプリント配線板用の銅箔中におけ
るホイルクラックの発生防止が問題となっている。この
ような観点から、特に、１８０℃での熱間の伸び率（以
下、「熱間伸び率」と言う）の高い銅箔が要望されるに
至っている。そして、熱間伸び率を高めるため、従来よ
り、電解液中に各種添加剤を添加することが提案されて
いる。
【０００３】例えば、特開昭６３−３１０９８９号公報
および同６３−３１０９９０号公報には、トリイソアミ
ルアミンやヒドロキシウキルアミンと塩化物およびゼラ
チンを組み合わせてなる添加剤を電解液中に添加するこ
とが記載されている。特公平２−２５９９５号公報にも
同様なトリイソプロパノールアミンとゼラチンを組み合
わせて添加剤とすることが記載されている。特開平２−
１８２８９０号公報には水溶性セルロースエーテルを添
加液とすることが記載されている。さらに、特開平７−
２７８８６６号公報にはニカワ濃度が０．５５ｐｐｍ以
下で塩化物イオン２０〜１００ｐｐｍ、硫酸濃度２０〜
２００ｇ／ｌ、電解液温２０〜７０℃の条件下で銅箔を
得る方法が、また、特開平７−２７８８６７号公報には
電解液中に０．１μｇ／ｌ〜２５０ｍｇ／ｌのタングス
テンまたはタングステン化合物を添加する方法がそれぞ
れ記載されている。
および同６３−３１０９９０号公報には、トリイソアミ
ルアミンやヒドロキシウキルアミンと塩化物およびゼラ
チンを組み合わせてなる添加剤を電解液中に添加するこ
とが記載されている。特公平２−２５９９５号公報にも
同様なトリイソプロパノールアミンとゼラチンを組み合
わせて添加剤とすることが記載されている。特開平２−
１８２８９０号公報には水溶性セルロースエーテルを添
加液とすることが記載されている。さらに、特開平７−
２７８８６６号公報にはニカワ濃度が０．５５ｐｐｍ以
下で塩化物イオン２０〜１００ｐｐｍ、硫酸濃度２０〜
２００ｇ／ｌ、電解液温２０〜７０℃の条件下で銅箔を
得る方法が、また、特開平７−２７８８６７号公報には
電解液中に０．１μｇ／ｌ〜２５０ｍｇ／ｌのタングス
テンまたはタングステン化合物を添加する方法がそれぞ
れ記載されている。
【０００４】このような従来技術においては、上述した
ように特殊な添加剤を使用することが多く、必然的にコ
スト増となるのみならず、例えばアミンと塩化物および
ゼラチン等、複数の添加物の濃度管理が必要とされ、さ
らには、これら添加剤の分解生成物の蓄積が生じるため
に電解液の管理が繁雑となる。また、前記特開平７−２
７８８６７号公報に記載された方法では、タングステン
の沈殿生成を抑制するために亜燐酸、燐酸ピロリン酸、
ポリリン酸、亜ヒ酸、メタバナジン酸のいずれか一種を
添加する必要があるが、これらの物質はいずれも毒物で
あり、かつ、多量に添加すると銅箔の物性に悪影響を及
ぼす等の問題がある。
ように特殊な添加剤を使用することが多く、必然的にコ
スト増となるのみならず、例えばアミンと塩化物および
ゼラチン等、複数の添加物の濃度管理が必要とされ、さ
らには、これら添加剤の分解生成物の蓄積が生じるため
に電解液の管理が繁雑となる。また、前記特開平７−２
７８８６７号公報に記載された方法では、タングステン
の沈殿生成を抑制するために亜燐酸、燐酸ピロリン酸、
ポリリン酸、亜ヒ酸、メタバナジン酸のいずれか一種を
添加する必要があるが、これらの物質はいずれも毒物で
あり、かつ、多量に添加すると銅箔の物性に悪影響を及
ぼす等の問題がある。
【０００５】さらに、プリント配線板用の銅箔として、
一般的には前述したように熱間伸び率の高い銅箔が要望
されている反面、熱間伸び率が過度に高い銅箔は加工工
程に際しての熱処理に起因して引張強度が低下する傾向
があるため、用途に応じて熱間伸び率レベルの異なる銅
箔が要望されている。しかるに従来技術では熱間伸び率
レベルの異なる銅箔を作り分けるのが困難であり、か
つ、得られた銅箔は熱間伸び率のバラツキが大きいため
に加工時に問題となっている。
一般的には前述したように熱間伸び率の高い銅箔が要望
されている反面、熱間伸び率が過度に高い銅箔は加工工
程に際しての熱処理に起因して引張強度が低下する傾向
があるため、用途に応じて熱間伸び率レベルの異なる銅
箔が要望されている。しかるに従来技術では熱間伸び率
レベルの異なる銅箔を作り分けるのが困難であり、か
つ、得られた銅箔は熱間伸び率のバラツキが大きいため
に加工時に問題となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した各
種問題点に鑑み、従来技術よりも熱間伸び率のレベルの
異なる銅箔の作り分けが容易で、しかも熱間伸び率のバ
ラツキが小さい電解銅箔を製造することのできる新規な
製造方法を提案することを主要な課題とする。特に本発
明は、特殊な添加剤を必要とせず、かつ、添加剤の濃度
管理が容易となるのみならず、添加剤濃度を調整するこ
とにより任意の熱間伸び率を容易に達成することがで
き、しかも熱間伸び率のバラツキを小さくすることが可
能となるとの着想に立脚している。
種問題点に鑑み、従来技術よりも熱間伸び率のレベルの
異なる銅箔の作り分けが容易で、しかも熱間伸び率のバ
ラツキが小さい電解銅箔を製造することのできる新規な
製造方法を提案することを主要な課題とする。特に本発
明は、特殊な添加剤を必要とせず、かつ、添加剤の濃度
管理が容易となるのみならず、添加剤濃度を調整するこ
とにより任意の熱間伸び率を容易に達成することがで
き、しかも熱間伸び率のバラツキを小さくすることが可
能となるとの着想に立脚している。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そして、上記課題の解決
手段として本発明は、電解液が供給される電解槽中で回
転する陰極ドラム上に銅を電着させ、陰極ドラムを回転
させつつ銅箔を陰極ドラムから剥離させてプリント配線
板用銅箔を製造する連続電解方法において、電解槽中に
供給される電解液を活性炭処理し、活性炭処理後の電解
補給液に添加剤の添加量を制御して所望範囲の１８０℃
熱間の伸び率の銅箔を得ることを特徴とするプリント配
線板用銅箔の製造方法を提案するものである。
手段として本発明は、電解液が供給される電解槽中で回
転する陰極ドラム上に銅を電着させ、陰極ドラムを回転
させつつ銅箔を陰極ドラムから剥離させてプリント配線
板用銅箔を製造する連続電解方法において、電解槽中に
供給される電解液を活性炭処理し、活性炭処理後の電解
補給液に添加剤の添加量を制御して所望範囲の１８０℃
熱間の伸び率の銅箔を得ることを特徴とするプリント配
線板用銅箔の製造方法を提案するものである。
【０００８】本発明によれば、電解槽中に供給される電
解液を活性炭処理して電解液中の残留添加剤を一旦完全
に取り除いた後、新たに所定量の添加剤を添加すること
により電解補給液中の添加剤濃度を所望の値に精密に制
御することが可能となる。したがって、銅箔物性を容易
に制御することができる。また添加剤の添加量を調整し
て熱間伸び率のレベルの異なる銅箔の作り分けが可能で
ある。
解液を活性炭処理して電解液中の残留添加剤を一旦完全
に取り除いた後、新たに所定量の添加剤を添加すること
により電解補給液中の添加剤濃度を所望の値に精密に制
御することが可能となる。したがって、銅箔物性を容易
に制御することができる。また添加剤の添加量を調整し
て熱間伸び率のレベルの異なる銅箔の作り分けが可能で
ある。
【０００９】本発明の方法を実施するにあたり、活性炭
処理は、例えば３０cm/sec以下の空塔速度で行うのが望
ましい。
処理は、例えば３０cm/sec以下の空塔速度で行うのが望
ましい。
【００１０】活性炭処理後の電解補給液に添加する添加
剤は、活性炭により吸着除去可能なものであれば種類を
問わず、また複数の添加剤を組み合わせることも可能で
ある。したがって、活性炭により容易に吸着されるもの
であれば従来より銅の電解に用いられている一般的およ
び特殊な添加剤でも良く、例えば、ブドウ糖、チオ尿
素、グリシン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレングリコー
ル、トリエタノールアミン、ヒドラジン、酢酸ビニル等
を本発明においても添加剤として使用することができ
る。しかし、実用上の観点からは、比較的安価に入手可
能なニカワ又はゼラチンを添加剤として使用するのが望
ましい。
剤は、活性炭により吸着除去可能なものであれば種類を
問わず、また複数の添加剤を組み合わせることも可能で
ある。したがって、活性炭により容易に吸着されるもの
であれば従来より銅の電解に用いられている一般的およ
び特殊な添加剤でも良く、例えば、ブドウ糖、チオ尿
素、グリシン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレングリコー
ル、トリエタノールアミン、ヒドラジン、酢酸ビニル等
を本発明においても添加剤として使用することができ
る。しかし、実用上の観点からは、比較的安価に入手可
能なニカワ又はゼラチンを添加剤として使用するのが望
ましい。
【００１１】
【実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づいて詳述
する。
する。
【００１２】図１は従来方法を実施するための電解設備
の概要を示すフローチャート、図２は本発明方法を実施
するための電解設備の概要を示す同様なフローチャー
ト、図３は添加剤としてのゼラチンの濃度と電解銅箔の
熱間伸び率との関係を示すグラフ、図４は従来方法によ
り電解液の循環サイクル毎に残留添加剤及び分解生成物
が蓄積される状況を示す説明図、図５は本発明方法によ
り電解液の循環サイクル毎に残留添加剤及び分解生成物
が取り除かれる状況を示す説明図である。
の概要を示すフローチャート、図２は本発明方法を実施
するための電解設備の概要を示す同様なフローチャー
ト、図３は添加剤としてのゼラチンの濃度と電解銅箔の
熱間伸び率との関係を示すグラフ、図４は従来方法によ
り電解液の循環サイクル毎に残留添加剤及び分解生成物
が蓄積される状況を示す説明図、図５は本発明方法によ
り電解液の循環サイクル毎に残留添加剤及び分解生成物
が取り除かれる状況を示す説明図である。
【００１３】図１および図２において、参照数字１は陰
極ドラムが回転可能に配置された電解槽、２は尾液槽、
３は溶解塔、４，４’は補給液貯槽、５は活性炭塔、６
は添加剤槽であって所定濃度に調合された添加剤水溶液
が蓄えられている。また、符号ｐは定量ポンプを表して
いる。銅箔の連続電解設備においては、銅イオンを含有
する電解液を循環させて陰極ドラムとこれに対向する陽
極（図示せず）との間に通液しながら電解を行い、陰極
ドラム上に銅を電着させ、陰極ドラムを連続回転させつ
つ銅箔を陰極ドラムから剥離させて巻き取りドラムｄ上
に巻き取るものである。
極ドラムが回転可能に配置された電解槽、２は尾液槽、
３は溶解塔、４，４’は補給液貯槽、５は活性炭塔、６
は添加剤槽であって所定濃度に調合された添加剤水溶液
が蓄えられている。また、符号ｐは定量ポンプを表して
いる。銅箔の連続電解設備においては、銅イオンを含有
する電解液を循環させて陰極ドラムとこれに対向する陽
極（図示せず）との間に通液しながら電解を行い、陰極
ドラム上に銅を電着させ、陰極ドラムを連続回転させつ
つ銅箔を陰極ドラムから剥離させて巻き取りドラムｄ上
に巻き取るものである。
【００１４】ところで、従来技術においては、図１に示
すとおり、添加剤槽６内の添加剤を濃度が所定範囲内に
収まるよう定量ポンプｐにより補給液貯槽４に連続的に
添加している。この場合、添加剤の添加量は自然分解お
よび電解によって消費される添加物の量と同等とすべき
ことは言うまでもない。しかし、自然分解による添加物
消費量および電解による添加物消費量がいずれも正確に
測定できないため、もっぱら作業者の経験や勘と得られ
た銅箔の物性等に基づいて管理されているのが実状であ
り、また電解補給液中の添加剤の濃度が一定せず、その
結果として銅箔物性のバラツキが増大する等の問題が不
可避的となっている。
すとおり、添加剤槽６内の添加剤を濃度が所定範囲内に
収まるよう定量ポンプｐにより補給液貯槽４に連続的に
添加している。この場合、添加剤の添加量は自然分解お
よび電解によって消費される添加物の量と同等とすべき
ことは言うまでもない。しかし、自然分解による添加物
消費量および電解による添加物消費量がいずれも正確に
測定できないため、もっぱら作業者の経験や勘と得られ
た銅箔の物性等に基づいて管理されているのが実状であ
り、また電解補給液中の添加剤の濃度が一定せず、その
結果として銅箔物性のバラツキが増大する等の問題が不
可避的となっている。
【００１５】これに対して本発明においては、補給液貯
槽４’の下流側に活性炭塔５を配設して補給液貯槽４’
内の補給液を活性炭塔５に通すことにより、補給液に含
まれていた古い添加剤を吸着除去した後、新たに必要量
の添加剤を定量ポンプｐで添加・混合された補給液を電
解槽１に供給する。そのために、補給液中の添加剤の濃
度を、添加される添加剤の量と電解補給液の流量によっ
て容易に管理することが可能である。
槽４’の下流側に活性炭塔５を配設して補給液貯槽４’
内の補給液を活性炭塔５に通すことにより、補給液に含
まれていた古い添加剤を吸着除去した後、新たに必要量
の添加剤を定量ポンプｐで添加・混合された補給液を電
解槽１に供給する。そのために、補給液中の添加剤の濃
度を、添加される添加剤の量と電解補給液の流量によっ
て容易に管理することが可能である。
【００１６】図２に示した電解設備において、活性炭処
理は例えば３０cm/sec以下の空塔速度で行うことができ
る。なお、添加剤溶液は活性炭塔５の出口配管に直接圧
入しても良く、この場合には補給液貯槽４’を省略でき
る。
理は例えば３０cm/sec以下の空塔速度で行うことができ
る。なお、添加剤溶液は活性炭塔５の出口配管に直接圧
入しても良く、この場合には補給液貯槽４’を省略でき
る。
【００１７】本発明によれば、電解補給液中の添加剤濃
度を制御することにより銅箔の物性を容易に制御するこ
とが可能である。前述したとおり、添加剤としては活性
炭により容易に吸着除去可能な有機物、好適にはニカワ
又はゼラチンを使用する。そして、目標とする熱間伸び
率等の物性を得るために好適な添加剤濃度は、使用する
添加剤に応じて異なることは言うまでもない。例えば、
添加剤としてゼラチンを使用する場合には、図３に示す
ように、供給液中の添加剤濃度を０〜１０ｐｐｍの間で
調整することにより熱間伸び率が２％〜３０％の範囲内
で添加剤濃度に対応した熱間伸び率の銅箔を容易に得る
ことができる。
度を制御することにより銅箔の物性を容易に制御するこ
とが可能である。前述したとおり、添加剤としては活性
炭により容易に吸着除去可能な有機物、好適にはニカワ
又はゼラチンを使用する。そして、目標とする熱間伸び
率等の物性を得るために好適な添加剤濃度は、使用する
添加剤に応じて異なることは言うまでもない。例えば、
添加剤としてゼラチンを使用する場合には、図３に示す
ように、供給液中の添加剤濃度を０〜１０ｐｐｍの間で
調整することにより熱間伸び率が２％〜３０％の範囲内
で添加剤濃度に対応した熱間伸び率の銅箔を容易に得る
ことができる。
【００１８】電解銅箔の製造設備における工程保有液量
は規模にもよるが通常は数百ｍ3 である。この電解液は
工程内を循環して電解槽に供給される。その際、電解供
給液中の添加剤の種類と濃度が銅箔の物性を決定する重
要な因子である。
は規模にもよるが通常は数百ｍ3 である。この電解液は
工程内を循環して電解槽に供給される。その際、電解供
給液中の添加剤の種類と濃度が銅箔の物性を決定する重
要な因子である。
【００１９】従来方法では、電解液中に古い残存添加剤
およびその分解生成物と新たな添加剤とが混在してお
り、電解液の循環サイクル毎に残存添加剤および分解生
成物が図４に示すように蓄積していくことと相俟って、
それぞれの濃度を管理することが困難であるのみなら
ず、添加剤によってはその分解生成物が銅箔の物性（引
張強度や伸び率）に悪影響を及ぼすことがある。
およびその分解生成物と新たな添加剤とが混在してお
り、電解液の循環サイクル毎に残存添加剤および分解生
成物が図４に示すように蓄積していくことと相俟って、
それぞれの濃度を管理することが困難であるのみなら
ず、添加剤によってはその分解生成物が銅箔の物性（引
張強度や伸び率）に悪影響を及ぼすことがある。
【００２０】これに対して本発明方法では、図５に示す
ように、電解液の循環サイクル毎に電解液中の古い残存
添加剤およびその分解生成を活性炭処理により除去する
ため、新たな添加剤の濃度のみを管理すれば良く、古い
添加剤等による箔物性のバラツキを低減し、物性の安定
化を容易に達成し得る利点がある。
ように、電解液の循環サイクル毎に電解液中の古い残存
添加剤およびその分解生成を活性炭処理により除去する
ため、新たな添加剤の濃度のみを管理すれば良く、古い
添加剤等による箔物性のバラツキを低減し、物性の安定
化を容易に達成し得る利点がある。
【００２１】
【実施例】以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさ
らに具体的に説明する。 ［実施例１］図２に示す銅箔の製造設備において、銅イ
オン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、塩素イオ
ン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用いて電流密度
６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μｍ厚さの電解
銅箔を作成した。その際、補給液貯槽４’と電解槽１と
の間に設置された活性炭槽５に３０ｃｍ／ｓｅｃの空塔
速度で補給液を通液し、その後に新田ゼラチン（株）製
の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、補給液中の濃度が
５ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
らに具体的に説明する。 ［実施例１］図２に示す銅箔の製造設備において、銅イ
オン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、塩素イオ
ン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用いて電流密度
６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μｍ厚さの電解
銅箔を作成した。その際、補給液貯槽４’と電解槽１と
の間に設置された活性炭槽５に３０ｃｍ／ｓｅｃの空塔
速度で補給液を通液し、その後に新田ゼラチン（株）製
の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、補給液中の濃度が
５ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
【００２２】［実施例２］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
新田ゼラチン（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチン
を、補給液中の濃度が２ｐｐｍとなるよう定量ポンプで
連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
新田ゼラチン（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチン
を、補給液中の濃度が２ｐｐｍとなるよう定量ポンプで
連続的に補給した。
【００２３】［実施例３］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
新田ゼラチン（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチン
を、補給液中の濃度が０．２ｐｐｍとなるよう定量ポン
プで連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
新田ゼラチン（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチン
を、補給液中の濃度が０．２ｐｐｍとなるよう定量ポン
プで連続的に補給した。
【００２４】［実施例４］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が１５ｐｐｍとなるよう定量ポンプ
で連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が１５ｐｐｍとなるよう定量ポンプ
で連続的に補給した。
【００２５】［実施例５］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が１０ｐｐｍとなるよう定量ポンプ
で連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が１０ｐｐｍとなるよう定量ポンプ
で連続的に補給した。
【００２６】［実施例６］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう定量ポンプで
連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
昭和電工（株）製の食品添加物に用いられるグリシン
を、補給液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう定量ポンプで
連続的に補給した。
【００２７】［実施例７］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コール（ＰＶＡ）の鹸化度９８．５％品を、補給液中の
濃度が２０ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給
した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コール（ＰＶＡ）の鹸化度９８．５％品を、補給液中の
濃度が２０ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給
した。
【００２８】［実施例８］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コールの鹸化度９８．５％品を、補給液中の濃度が１０
ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コールの鹸化度９８．５％品を、補給液中の濃度が１０
ｐｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
【００２９】［実施例９］図２に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コールの鹸化度９８．５％品を、補給液中の濃度が５ｐ
ｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、活性炭槽５に３
０ｃｍ／ｓｅｃの空塔速度で補給液を通液し、その後に
クラレ（株）製の化粧品等に用いられるポリビニルアル
コールの鹸化度９８．５％品を、補給液中の濃度が５ｐ
ｐｍとなるよう定量ポンプで連続的に補給した。
【００３０】［比較例１］図１に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、新田ゼラチン
（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、予め補給
液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう調整しておいた電解液
を使用し、電解中は補給液槽４の添加剤槽６から定量ポ
ンプｐを用いて、経験的観点から得られる消費量相当よ
り若干多いと思われる添加濃度３．７５ｐｐｍで連続添
加しながら銅箔を作成した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、新田ゼラチン
（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、予め補給
液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう調整しておいた電解液
を使用し、電解中は補給液槽４の添加剤槽６から定量ポ
ンプｐを用いて、経験的観点から得られる消費量相当よ
り若干多いと思われる添加濃度３．７５ｐｐｍで連続添
加しながら銅箔を作成した。
【００３１】［比較例２］図１に示す銅箔の製造設備に
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、新田ゼラチン
（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、予め補給
液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう調整しておいた電解液
を使用し、電解中は補給液槽４の添加剤槽６から定量ポ
ンプｐを用いて経験的観点から得られる消費量相当より
若干少ないと思われる添加濃度２．５ｐｐｍで連続添加
しながら銅箔を作成した。
おいて、銅イオン濃度８５ｇ／ｌ、硫酸濃度１５０ｇ／
ｌ、塩素イオン濃度３０ｍｇ／ｌに調整した電解液を用
いて電流密度６０Ａ／ｄｍ2 で連続電解を行い、３５μ
ｍ厚さの電解銅箔を作成した。その際、新田ゼラチン
（株）製の食品添加物用の水溶性ゼラチンを、予め補給
液中の濃度が５ｐｐｍとなるよう調整しておいた電解液
を使用し、電解中は補給液槽４の添加剤槽６から定量ポ
ンプｐを用いて経験的観点から得られる消費量相当より
若干少ないと思われる添加濃度２．５ｐｐｍで連続添加
しながら銅箔を作成した。
【００３２】表１は、上記の実施例１〜９および比較例
１〜２において１０日間連続使用された電解液で得られ
た銅箔の物性を示すものである。実施例１〜９における
添加物の添加に際しては、添加量を補給液流量と添加濃
度から計算によって算出した。表１から明らかなとお
り、本発明におけるように予め活性炭処理を施した電解
液を用いて電解すれば、添加剤の量に応じて熱間伸び率
が２％〜３０％の範囲内で添加剤濃度に応じた伸び率の
銅箔を長期間にわたり安定に製造することができる。
１〜２において１０日間連続使用された電解液で得られ
た銅箔の物性を示すものである。実施例１〜９における
添加物の添加に際しては、添加量を補給液流量と添加濃
度から計算によって算出した。表１から明らかなとお
り、本発明におけるように予め活性炭処理を施した電解
液を用いて電解すれば、添加剤の量に応じて熱間伸び率
が２％〜３０％の範囲内で添加剤濃度に応じた伸び率の
銅箔を長期間にわたり安定に製造することができる。
【００３４】
【表１】
【００３５】実施例１および比較例１、２における電解
液を３０日間にわたって連続使用し、それぞれ１０日
目、２０日目および３０日目の添加剤濃度を分析し、各
時点における銅箔について物性評価を行った。その結果
を表２に示す。表２から明らかなとおり、本発明方法に
よれば長期の連続電解による添加剤の分解物の蓄積や濃
度のバラツキによる銅箔物性の劣化（例えば表面粗さの
上昇等）を防止することができる。
液を３０日間にわたって連続使用し、それぞれ１０日
目、２０日目および３０日目の添加剤濃度を分析し、各
時点における銅箔について物性評価を行った。その結果
を表２に示す。表２から明らかなとおり、本発明方法に
よれば長期の連続電解による添加剤の分解物の蓄積や濃
度のバラツキによる銅箔物性の劣化（例えば表面粗さの
上昇等）を防止することができる。
【００３６】
【表２】
【００３７】以上詳述したところから明らかなとおり、
本発明によれば、電解槽中に供給される電解液を活性炭
処理して電解液中の残留添加剤を一旦完全に取り除いた
後、新たに所定量の添加剤を添加するために電解補給液
中の添加剤濃度を所望の値に精密に制御することが可能
となる。したがって、銅箔の物性を容易に制御すること
ができる。また添加剤の添加量を調整して熱間伸び率の
レベルの異なる銅箔の作り分けが可能である。
本発明によれば、電解槽中に供給される電解液を活性炭
処理して電解液中の残留添加剤を一旦完全に取り除いた
後、新たに所定量の添加剤を添加するために電解補給液
中の添加剤濃度を所望の値に精密に制御することが可能
となる。したがって、銅箔の物性を容易に制御すること
ができる。また添加剤の添加量を調整して熱間伸び率の
レベルの異なる銅箔の作り分けが可能である。
【００３８】さらに本発明によれば、多量に添加すると
銅箔の物性に悪影響を及ぼすことがあり、毒性の強い特
殊な添加剤を使用する必要がなく、ニカワやゼラチン等
の安価に入手可能な物質を添加剤として使用することが
でき、かつ、電解浴中に余分な成分を必要としないため
に、添加剤の濃度管理が容易となる利点も達成し得るも
のである。従来一つの製造ラインで物性値の異なる銅箔
を作り分けることは電解液中の残留添加物の影響が大き
く、切り替え及び立上げに１〜２週間程度必要であり、
実用上別々のラインで製造していたが、本発明では残留
添加物の影響を受けないので、一つの製造ラインで物性
値の異なる銅箔を容易に製造できる。
銅箔の物性に悪影響を及ぼすことがあり、毒性の強い特
殊な添加剤を使用する必要がなく、ニカワやゼラチン等
の安価に入手可能な物質を添加剤として使用することが
でき、かつ、電解浴中に余分な成分を必要としないため
に、添加剤の濃度管理が容易となる利点も達成し得るも
のである。従来一つの製造ラインで物性値の異なる銅箔
を作り分けることは電解液中の残留添加物の影響が大き
く、切り替え及び立上げに１〜２週間程度必要であり、
実用上別々のラインで製造していたが、本発明では残留
添加物の影響を受けないので、一つの製造ラインで物性
値の異なる銅箔を容易に製造できる。
【００３９】なお、本発明の上記実施形態は単なる例示
に過ぎず、本発明の範囲内で種々の変更が可能であるこ
とは言うまでもない。
に過ぎず、本発明の範囲内で種々の変更が可能であるこ
とは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】 従来方法を実施するための電解設備の概要を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図２】 本発明方法を実施するための電解設備の概要
を示す同様なフローチャートである。
を示す同様なフローチャートである。
【図３】 添加剤としてのゼラチンの濃度と電解銅の熱
間伸び率との関係を示すグラフである。
間伸び率との関係を示すグラフである。
【図４】 従来方法により電解液の循環サイクル毎に残
留添加剤及び分解生成物が蓄積される状況を示す説明図
である。
留添加剤及び分解生成物が蓄積される状況を示す説明図
である。
【図５】 本発明方法により電解液の循環サイクル毎に
残留添加剤及び分解生成物が取り除かれる状況を示す説
明図である。
残留添加剤及び分解生成物が取り除かれる状況を示す説
明図である。
１ 電解槽 ２ 尾液槽 ３ 溶解塔 ４，４’ 補給液貯槽 ５ 活性炭塔 ６ 添加剤槽 ｐ 定量ポンプ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 1/04
Claims (3)
- 【請求項１】 電解液が供給される電解槽中で回転する
陰極ドラム上に銅を電着させ、陰極ドラムを回転させつ
つ銅箔を陰極ドラムから剥離させてプリント配線板用銅
箔を製造する連続電解方法において、溶解塔から供給さ
れた補給液を貯めるための補給液貯槽と活性炭処理液を
貯めるための補給液貯槽との間に活性炭塔を配置し、電
解槽中に供給される電解液を３０cm/sec以下の空塔速度
で活性炭処理し、活性炭処理後の電解補給液中に添加剤
の添加量を制御して所望範囲の１８０℃熱間の伸び率の
銅箔を得ることを特徴とする、プリント配線板用銅箔の
製造方法。 - 【請求項２】 前記添加剤が活性炭により吸着される有
機物であることを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記添加剤がニカワ又はゼラチンである
ことを特徴とする請求項２記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08045996A JP3340307B2 (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | プリント配線板用銅箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08045996A JP3340307B2 (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | プリント配線板用銅箔の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09241882A JPH09241882A (ja) | 1997-09-16 |
| JP3340307B2 true JP3340307B2 (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=13718851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08045996A Expired - Fee Related JP3340307B2 (ja) | 1996-03-11 | 1996-03-11 | プリント配線板用銅箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3340307B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3521074B2 (ja) * | 2000-01-06 | 2004-04-19 | 三井金属鉱業株式会社 | 電解銅箔の物性検査方法 |
| JP4770272B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-09-14 | 凸版印刷株式会社 | 銅めっき浴の管理方法及び銅めっき被膜の製造方法 |
| JP4770271B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-09-14 | 凸版印刷株式会社 | 銅めっき浴の管理方法及び銅めっき被膜の製造方法 |
| JP5132744B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2013-01-30 | パンパシフィック・カッパー株式会社 | ニカワ供給装置及びニカワ供給方法 |
| JP6650923B2 (ja) | 2015-03-24 | 2020-02-19 | 三井金属鉱業株式会社 | キャリア付極薄銅箔、その製造方法、銅張積層板及びプリント配線板 |
| KR20210056073A (ko) * | 2019-11-08 | 2021-05-18 | 에스케이넥실리스 주식회사 | 찢김 또는 주름 불량을 방지할 수 있는 전해동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조방법 |
| KR20240033095A (ko) | 2021-12-22 | 2024-03-12 | 미쓰이금속광업주식회사 | 구리박의 표면 파라미터의 측정 방법, 구리박의 선별 방법 및 표면 처리 구리박의 제조 방법 |
| CN114990642A (zh) * | 2022-06-15 | 2022-09-02 | 云南润久科技有限公司 | 电解铜箔生产中电解液快速造液方法及循环*** |
-
1996
- 1996-03-11 JP JP08045996A patent/JP3340307B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09241882A (ja) | 1997-09-16 |
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