JP3301489B2 - 化学修飾エステラーゼの使用法 - Google Patents
化学修飾エステラーゼの使用法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Enzymes And Modification Thereof (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、化学修飾されたエステ
ラーゼの新規な使用方法に関する。化学修飾エステラー
ゼの使用方法とはエステルの加水分解方法を指す。尚本
発明により得られる化学修飾エステラーゼは有機溶媒耐
性や有機溶媒親和性が付与されており、バイオリアクタ
ー素材など多方面に利用することができる。
ラーゼの新規な使用方法に関する。化学修飾エステラー
ゼの使用方法とはエステルの加水分解方法を指す。尚本
発明により得られる化学修飾エステラーゼは有機溶媒耐
性や有機溶媒親和性が付与されており、バイオリアクタ
ー素材など多方面に利用することができる。
【０００２】
【従来の技術】エステラーゼはエステルの加水分解を触
媒してその構成分である酸とアルコールとに加水分解す
る酵素の総称である。エステラーゼ中にはリパーゼを含
み、産業上も非常に重要な酵素である。また加水分解反
応の触媒だけではなく、合成、置換、付加反応等も触媒
しており、酵素反応も非常に興味深いものである。
媒してその構成分である酸とアルコールとに加水分解す
る酵素の総称である。エステラーゼ中にはリパーゼを含
み、産業上も非常に重要な酵素である。また加水分解反
応の触媒だけではなく、合成、置換、付加反応等も触媒
しており、酵素反応も非常に興味深いものである。
【０００３】基質のエステルとしては、通常のカルボン
酸エステル、トリグリセリドの脂肪酸エステル (いわゆ
る油脂) などが代表的なものである。特に油脂の加水分
解酵素はエステラーゼの中でもリパーゼとして総称さ
れ、油脂の加水分解、脂肪酸の単離、脂質の改質など特
に注目されている。
酸エステル、トリグリセリドの脂肪酸エステル (いわゆ
る油脂) などが代表的なものである。特に油脂の加水分
解酵素はエステラーゼの中でもリパーゼとして総称さ
れ、油脂の加水分解、脂肪酸の単離、脂質の改質など特
に注目されている。
【０００４】近年、酵素反応を利用した有用物質の生産
についての研究が盛んである。一般の化学反応に比べ
て、酵素反応は、温和な条件 (温度,ｐＨ）下で反応が
すすむ点、また立体特異性に富む点、副反応の少ない点
などで優れているが、反面、コストが高い点、その特異
性のために利用が限定されてしまう点など問題もある。
この様な酵素反応のうち比較的汎用性が広く、また実際
に用いられることの多い反応にエステラーゼによるエス
テルの加水分解反応がある。
についての研究が盛んである。一般の化学反応に比べ
て、酵素反応は、温和な条件 (温度,ｐＨ）下で反応が
すすむ点、また立体特異性に富む点、副反応の少ない点
などで優れているが、反面、コストが高い点、その特異
性のために利用が限定されてしまう点など問題もある。
この様な酵素反応のうち比較的汎用性が広く、また実際
に用いられることの多い反応にエステラーゼによるエス
テルの加水分解反応がある。
【０００５】例えば、エステルを立体選択的に加水分解
し、光学活性のある化合物を得るなどの研究がそれであ
る。しかし、この様な場合、しばしば問題になるのは酵
素反応を受けるべき目的の化合物 (基質) が水に難溶で
あるということである。よって基質を溶かすために、や
むおえず反応系に有機溶媒を添加することになり、これ
は酵素の失活ないし活性の低下を招くことになる。この
問題を解決する手段として、酵素を化学修飾し、有機溶
媒に親和性、あるいは耐性を付与し、酵素活性を低下な
いし失活させることなく酵素反応を有機溶媒中でも行な
わせようとする技術が試みられている。
し、光学活性のある化合物を得るなどの研究がそれであ
る。しかし、この様な場合、しばしば問題になるのは酵
素反応を受けるべき目的の化合物 (基質) が水に難溶で
あるということである。よって基質を溶かすために、や
むおえず反応系に有機溶媒を添加することになり、これ
は酵素の失活ないし活性の低下を招くことになる。この
問題を解決する手段として、酵素を化学修飾し、有機溶
媒に親和性、あるいは耐性を付与し、酵素活性を低下な
いし失活させることなく酵素反応を有機溶媒中でも行な
わせようとする技術が試みられている。
【０００６】このような酵素の化学修飾法として一般に
用いられる方法としては、アシルハライドや活性エス
テルを用いて酵素蛋白をアシル化する方法(特開昭６２
−９６０８４号公報）、グルタールアルデヒドなどを
用いて修飾試薬と酵素を架橋する方法、塩化シアヌル
を介してポリエチレングリコール類を導入する方法 (安
島他、油化学、３７、１０９７〜１１０３、１９８８
年）などいくつかの方法が提案されている。
用いられる方法としては、アシルハライドや活性エス
テルを用いて酵素蛋白をアシル化する方法(特開昭６２
−９６０８４号公報）、グルタールアルデヒドなどを
用いて修飾試薬と酵素を架橋する方法、塩化シアヌル
を介してポリエチレングリコール類を導入する方法 (安
島他、油化学、３７、１０９７〜１１０３、１９８８
年）などいくつかの方法が提案されている。
【０００７】この内、の方法は試薬の調製が容易であ
るなどの利点も多いが、しばしばアシルハライドやＮ−
ヒドロキシスクシンイミドエステルに代表される活性エ
ステル類が水に難溶であり、酵素の修飾には不適当であ
る。また、の方法は、酵素間の架橋など不用な反応が
起るので好ましくはない。の方法は、近年、しばしば
用いられるようになった化学修飾法であるが、修飾剤の
調製に手間がかかり、またポリエチレングリコールの重
合度を変える以外に修飾剤を自由に選択することができ
ないなどの問題点もある。
るなどの利点も多いが、しばしばアシルハライドやＮ−
ヒドロキシスクシンイミドエステルに代表される活性エ
ステル類が水に難溶であり、酵素の修飾には不適当であ
る。また、の方法は、酵素間の架橋など不用な反応が
起るので好ましくはない。の方法は、近年、しばしば
用いられるようになった化学修飾法であるが、修飾剤の
調製に手間がかかり、またポリエチレングリコールの重
合度を変える以外に修飾剤を自由に選択することができ
ないなどの問題点もある。
【０００８】一方、本発明者らは、酵素の化学修飾法に
ついて、化１で表される活性エステル、パラヒドロキシ
フェニルジメチルスルホニオフェニル（ＤＳＰ）エステ
ルを使用することにより、効率よく、エンドペプチダー
ゼを化学修飾できることを見出してすでに特許出願して
いる（特願平１−５５０５３号）。
ついて、化１で表される活性エステル、パラヒドロキシ
フェニルジメチルスルホニオフェニル（ＤＳＰ）エステ
ルを使用することにより、効率よく、エンドペプチダー
ゼを化学修飾できることを見出してすでに特許出願して
いる（特願平１−５５０５３号）。
【０００９】上記ＤＳＰは特開昭６３−８３６５号公報
にアシル化試薬として開示されている公知の化合物であ
る。上記ＤＳＰにより、酵素蛋白質のアミノ基を化学修
飾したエンドペプチターゼは、水−有機溶媒系において
も安定であることが本発明者らによって確認されてい
る。又、上述した特開昭６２−９６０８４号公報には、
酵素蛋白質表面のアミノ基をアルキル基により化学修飾
したリポキシゲナーゼが開示されている。しかし本発明
で開示するようなアシル化剤によりアミノ基をアシル化
してなる化学修飾エステラーゼについては、これまで報
告されていない。
にアシル化試薬として開示されている公知の化合物であ
る。上記ＤＳＰにより、酵素蛋白質のアミノ基を化学修
飾したエンドペプチターゼは、水−有機溶媒系において
も安定であることが本発明者らによって確認されてい
る。又、上述した特開昭６２−９６０８４号公報には、
酵素蛋白質表面のアミノ基をアルキル基により化学修飾
したリポキシゲナーゼが開示されている。しかし本発明
で開示するようなアシル化剤によりアミノ基をアシル化
してなる化学修飾エステラーゼについては、これまで報
告されていない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した試
薬により、化学修飾された新規なエステラーゼの使用法
を提供することを課題とする。このエステラーゼの使用
法とはエステルの加水分解方法を指す。本発明で得られ
る修飾エステラーゼは、有機溶媒耐性が強く、かつ高濃
度の有機溶媒中においてもその活性を失わないという特
長を有する。
薬により、化学修飾された新規なエステラーゼの使用法
を提供することを課題とする。このエステラーゼの使用
法とはエステルの加水分解方法を指す。本発明で得られ
る修飾エステラーゼは、有機溶媒耐性が強く、かつ高濃
度の有機溶媒中においてもその活性を失わないという特
長を有する。
【００１１】
【課題を解決するための手段】リパーゼなど一部のエス
テラーゼは有機溶媒に耐性が高く、比較的高濃度の有機
溶媒中でも活性を示すことが知られているが、その場合
でもエステラーゼ活性の低下を伴い効率よく反応をおこ
なうことができない。活性低下を防止し、かつ有機溶媒
に可溶とするために、本発明においては、エステラーゼ
のアミノ基にＲＣＯ−基を導入する。(但し、Ｒはベン
ジルオキシ基、第三ブトキシ基、９−フルオレニルメト
キシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基、炭素数Ｃ1 〜
Ｃ24であるアルキル基のいずれかを示す。)
テラーゼは有機溶媒に耐性が高く、比較的高濃度の有機
溶媒中でも活性を示すことが知られているが、その場合
でもエステラーゼ活性の低下を伴い効率よく反応をおこ
なうことができない。活性低下を防止し、かつ有機溶媒
に可溶とするために、本発明においては、エステラーゼ
のアミノ基にＲＣＯ−基を導入する。(但し、Ｒはベン
ジルオキシ基、第三ブトキシ基、９−フルオレニルメト
キシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基、炭素数Ｃ1 〜
Ｃ24であるアルキル基のいずれかを示す。)
【００１２】ＲＣＯ−基を導入するためには、本発明に
おいては、目的とするＲＣＯ−基を持つＤＳＰエステル
を使用する。この化合物は、特開昭６３−８３６５号公
報に開示された方法により目的とするＲＣＯ−基を有す
るＤＳＰエステルを調製することができる。このような
エステルとして、例えば４−（ラウロイルオキシ）フェ
ニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト、４−
（パルミトイルオキシ）フェニルジメチルスルホニウム
メチルサルフェイト、４−（ベンジルオキシカルボニル
オキシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェ
イト、４−（第三ブチルオキシカルボニルオキシ）フェ
ニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト、４−
（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）フェニ
ルジメチルスルホニウムメチルサルフェイトなどを挙げ
ることができるが、これ以外のＤＳＰエステルでも本発
明の実施にあたっては使用可能である。
おいては、目的とするＲＣＯ−基を持つＤＳＰエステル
を使用する。この化合物は、特開昭６３−８３６５号公
報に開示された方法により目的とするＲＣＯ−基を有す
るＤＳＰエステルを調製することができる。このような
エステルとして、例えば４−（ラウロイルオキシ）フェ
ニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト、４−
（パルミトイルオキシ）フェニルジメチルスルホニウム
メチルサルフェイト、４−（ベンジルオキシカルボニル
オキシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェ
イト、４−（第三ブチルオキシカルボニルオキシ）フェ
ニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト、４−
（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）フェニ
ルジメチルスルホニウムメチルサルフェイトなどを挙げ
ることができるが、これ以外のＤＳＰエステルでも本発
明の実施にあたっては使用可能である。
【００１３】修飾酵素を製造するには、酵素をｐＨ７．
８のＮａ2 Ｂ4 Ｏ7 −ＨＣｌ緩衝液に溶解し、導入しよ
うする基を有するＤＳＰエステルを酵素の総アミノ基量
に対して０．５〜１５当量加え、反応させることによ
り、蛋白質中のアミノ基に目的とするＲＣＯ−基を導入
することができる。反応温度は、酵素が失活しない条件
ならどのような条件でも可能であるが、好ましくは０〜
４０℃が適する。反応終了後は目的とする修飾酵素をゲ
ル濾過あるいは膜処理等の常法により処理し、酵素画分
を回収する。酵素画分を、凍結保存、もしくは凍結乾燥
を行い修飾酵素を得る。
８のＮａ2 Ｂ4 Ｏ7 −ＨＣｌ緩衝液に溶解し、導入しよ
うする基を有するＤＳＰエステルを酵素の総アミノ基量
に対して０．５〜１５当量加え、反応させることによ
り、蛋白質中のアミノ基に目的とするＲＣＯ−基を導入
することができる。反応温度は、酵素が失活しない条件
ならどのような条件でも可能であるが、好ましくは０〜
４０℃が適する。反応終了後は目的とする修飾酵素をゲ
ル濾過あるいは膜処理等の常法により処理し、酵素画分
を回収する。酵素画分を、凍結保存、もしくは凍結乾燥
を行い修飾酵素を得る。
【００１４】上記、ＤＳＰエステルは高い水溶性を有し
ており上述した条件以外でも適当な緩衝液を選択し、ｐ
Ｈ５．０〜１１．０において、酵素中のアミノ基へ容易
にＲＣＯ−基を導入することができる。この方法は、従
来から多用されているポリエチレングリコールなどの高
分子疎水基の導入と比較し、低分子の疎水基を導入する
ことができ、水系での反応であるため酵素の失活が少な
いなどの利点を有する。修飾酵素に導入される基は、エ
ステラーゼの総アミノ基量に対して、２０〜６０％が適
量であり、この範囲内が、有機溶媒親和性と活性維持の
上で好ましい。
ており上述した条件以外でも適当な緩衝液を選択し、ｐ
Ｈ５．０〜１１．０において、酵素中のアミノ基へ容易
にＲＣＯ−基を導入することができる。この方法は、従
来から多用されているポリエチレングリコールなどの高
分子疎水基の導入と比較し、低分子の疎水基を導入する
ことができ、水系での反応であるため酵素の失活が少な
いなどの利点を有する。修飾酵素に導入される基は、エ
ステラーゼの総アミノ基量に対して、２０〜６０％が適
量であり、この範囲内が、有機溶媒親和性と活性維持の
上で好ましい。
【００１５】このようにして得られた修飾酵素は、元の
エステラーゼが持つ、基質特異性や、反応性など酵素化
学的な特性はそのまま有しており、さらに有機溶媒耐性
や親和性が付与される。導入した基は、酸分解などの処
理により、アミノ基から遊離し、これをガスクロマトグ
ラフィーで分析することにより、本発明修飾酵素として
特定できる。
エステラーゼが持つ、基質特異性や、反応性など酵素化
学的な特性はそのまま有しており、さらに有機溶媒耐性
や親和性が付与される。導入した基は、酸分解などの処
理により、アミノ基から遊離し、これをガスクロマトグ
ラフィーで分析することにより、本発明修飾酵素として
特定できる。
【００１６】特に導入基がベンジルオキシ基、第三ブト
キシ基、９−フルオレニルメトキシ基、ｐ−メトキシベ
ンジルオキシ基の場合には、温和な条件下で導入基を切
断することが可能であり、容易にもとの天然酵素へ再生
できる。特に貴重なエステラーゼの場合は、酵素の利用
範囲が広まることで用途の拡大が期待できる。
キシ基、９−フルオレニルメトキシ基、ｐ−メトキシベ
ンジルオキシ基の場合には、温和な条件下で導入基を切
断することが可能であり、容易にもとの天然酵素へ再生
できる。特に貴重なエステラーゼの場合は、酵素の利用
範囲が広まることで用途の拡大が期待できる。
【００１７】かくして得られた酵素は、従来のエステラ
ーゼと異なり有機溶媒耐性、有機溶媒親和性を有してい
るため、ヘキサン、ベンゼン、エーテル、アセトン、シ
クロヘキサンなど有機溶媒中で酵素反応を行なうことが
できる。一般的には、本修飾酵素のいずれでも、リン酸
緩衝液など中性の緩衝液に０．１ｍｇ／ｍｌ〜１０ｍｇ
／ｍｌ程度の濃度に溶解し、ついで目的とするエステル
を１０〜２０％程度の濃度になるように溶解し、この溶
液を上述の酵素液量の１〜１０倍量採取し、酵素液と混
合し、酵素反応を行わせる。又、本エステラーゼを、樹
脂に固定したり、ゲルに封入したりした固定化酵素とし
て酵素反応を行なわせることもできる。
ーゼと異なり有機溶媒耐性、有機溶媒親和性を有してい
るため、ヘキサン、ベンゼン、エーテル、アセトン、シ
クロヘキサンなど有機溶媒中で酵素反応を行なうことが
できる。一般的には、本修飾酵素のいずれでも、リン酸
緩衝液など中性の緩衝液に０．１ｍｇ／ｍｌ〜１０ｍｇ
／ｍｌ程度の濃度に溶解し、ついで目的とするエステル
を１０〜２０％程度の濃度になるように溶解し、この溶
液を上述の酵素液量の１〜１０倍量採取し、酵素液と混
合し、酵素反応を行わせる。又、本エステラーゼを、樹
脂に固定したり、ゲルに封入したりした固定化酵素とし
て酵素反応を行なわせることもできる。
【００１８】修飾エステラーゼは、通常は、凍結乾燥、
噴霧乾燥した酵素として保存できる。又必要に応じて修
飾反応終了後の溶液のまま、あるいは、凍結して保存も
できる。
噴霧乾燥した酵素として保存できる。又必要に応じて修
飾反応終了後の溶液のまま、あるいは、凍結して保存も
できる。
【００１９】修飾エステラーゼを用いる反応としては、
エステルの加水分解反応、逆反応によるエステル化を目
的としたエステル合成、エステル交換反応があげられ
る。本発明修飾エステラーゼを用いて、これらの反応を
触媒し、目的物質を得ることができる。
エステルの加水分解反応、逆反応によるエステル化を目
的としたエステル合成、エステル交換反応があげられ
る。本発明修飾エステラーゼを用いて、これらの反応を
触媒し、目的物質を得ることができる。
【００２０】以下に実施例を示しさらに本発明を詳細に
説明する。
説明する。
【００２１】
【実施例１】本実施例においては、修飾エステラーゼの
製法例を示す。 (1) ４−（ラウロイルオキシ）フェニルジメチルスルホ
ニウム・メチルサルフェイト（Ｌａ−ＤＳＰ）を用いた
リパーゼの化学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業）１０ｍｇを０．１Ｍ Ｎａ
2 Ｂ4 Ｏ7 −ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．８）５ｍｌに溶解
する。マグネティックスターラーにて氷冷下ゆっくり撹
拌しながら、目的量のＬａ−ＤＳＰを６０分間に３回に
分けて加えた。その後、４℃で１６時間ゆっくり撹拌し
ながら反応させた。反応終了後、反応液を４℃１０００
０Ｇ１０分間遠心分離し、沈澱を除き、その上清を、分
画分子量２０００の透析膜を用い、４℃２００倍量の脱
イオン水に対して７２時間透析を行った。透析に用いた
脱イオン水は、１２時間ごとに新しいものと交換した。
透析後、目的物を含む溶液を凍結乾燥し、目的の修飾酵
素粉末を得た。
製法例を示す。 (1) ４−（ラウロイルオキシ）フェニルジメチルスルホ
ニウム・メチルサルフェイト（Ｌａ−ＤＳＰ）を用いた
リパーゼの化学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業）１０ｍｇを０．１Ｍ Ｎａ
2 Ｂ4 Ｏ7 −ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．８）５ｍｌに溶解
する。マグネティックスターラーにて氷冷下ゆっくり撹
拌しながら、目的量のＬａ−ＤＳＰを６０分間に３回に
分けて加えた。その後、４℃で１６時間ゆっくり撹拌し
ながら反応させた。反応終了後、反応液を４℃１０００
０Ｇ１０分間遠心分離し、沈澱を除き、その上清を、分
画分子量２０００の透析膜を用い、４℃２００倍量の脱
イオン水に対して７２時間透析を行った。透析に用いた
脱イオン水は、１２時間ごとに新しいものと交換した。
透析後、目的物を含む溶液を凍結乾燥し、目的の修飾酵
素粉末を得た。
【００２２】得られた凍結乾燥粉末について、ＴＮＢＳ
法 (ノボエンザイムインフォメーション：１１月号ＡＦ
−７５／１─ＧＢ（１９７０）にて、修飾を受けたアミ
ノ基量を定量し、これから修飾率を決定した。加えた修
飾剤の量、修飾酵素の収量、修飾率を第１表に示す。
法 (ノボエンザイムインフォメーション：１１月号ＡＦ
−７５／１─ＧＢ（１９７０）にて、修飾を受けたアミ
ノ基量を定量し、これから修飾率を決定した。加えた修
飾剤の量、修飾酵素の収量、修飾率を第１表に示す。
【００２３】
【表１】 ────────────────────── 修飾剤添加量 収量*1 修飾率 (アミノ基当りの当量) (mg) (%) ────────────────────── 0.5 11.18 31.4 1.0 12.00 35.8 1.5 12.28 36.1 2.0 12.93 50.5 2.5 12.81 56.4 5.0 12.90 57.8 10.0 12.89 56.9 15.0 12.87 57.5 ────────────────────── ＊１ 原料リパーゼ10mgからの収量
【００２４】(2) ４−（パルミトイルオキシ）フェニル
ジメチルスルホニウム・メチルサルフェイト（Ｐａ−Ｄ
ＳＰ）を用いたリパーゼの化学修飾 ブタ膵臓リパーゼ（エラスチンプロダクト社製）１０ｍ
ｇについて、実施例１ (1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾剤
添加量、収量及び修飾率の関係を表２に示す。
ジメチルスルホニウム・メチルサルフェイト（Ｐａ−Ｄ
ＳＰ）を用いたリパーゼの化学修飾 ブタ膵臓リパーゼ（エラスチンプロダクト社製）１０ｍ
ｇについて、実施例１ (1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾剤
添加量、収量及び修飾率の関係を表２に示す。
【００２５】
【表２】 ────────────────────── 修飾剤添加量 収量*1 修飾率 (アミノ基当りの当量) (mg) (%) ────────────────────── 0.5 12.00 30.8 1.5 11.42 38.4 2.5 12.02 54.1 10.0 12.11 55.0 ────────────────────── ＊１ 原料リパーゼ10mgからの収量
【００２６】(3) ４−（ベンジルオキシカルボニルオキ
シ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト
（Ｚ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業社）１０ｍｇについて実施例
１(1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾
剤添加量、収量及び修飾率の関係を表３に示す。
シ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイト
（Ｚ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業社）１０ｍｇについて実施例
１(1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾
剤添加量、収量及び修飾率の関係を表３に示す。
【００２７】
【表３】 ────────────────────── 修飾剤添加量 収量*1 修飾率 (アミノ基当りの当量) (mg) (%) ────────────────────── 0.5 11.10 36.6 1.5 10.98 38.9 2.5 11.38 57.1 10.0 11.29 58.8 ────────────────────── ＊１ 修飾に用いた酵素は10mg
【００２８】(4) ４−（第三ブチルオキシカルボニルオ
キシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイ
ト（Ｂｏｃ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化学修飾 ブタ膵臓リパーゼ（エラスチンプロダクト社）１０ｍｇ
について実施例１(1) と同様に修飾を行った。この結
果、得られた修飾剤添加量、収量及び修飾率の関係を表
４に示す。
キシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサルフェイ
ト（Ｂｏｃ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化学修飾 ブタ膵臓リパーゼ（エラスチンプロダクト社）１０ｍｇ
について実施例１(1) と同様に修飾を行った。この結
果、得られた修飾剤添加量、収量及び修飾率の関係を表
４に示す。
【００２９】
【表４】 ────────────────────── 修飾剤添加量 収量*1 修飾率 (アミノ基当りの当量) (mg) (%) ────────────────────── 0.5 11.20 32.2 1.5 11.38 40.0 2.5 11.10 51.9 10.0 11.39 56.8 ────────────────────── ＊１ 修飾に用いた酵素は10mg
【００３０】(5) ４−（９−フルオレニルメトキシカル
ボニルオキシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサ
ルフェイト（Ｆｍｏｃ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化
学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業社）１０ｍｇについて実施例
(1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾剤
添加量、収量及び修飾率の関係を表５に示す。
ボニルオキシ）フェニルジメチルスルホニウムメチルサ
ルフェイト（Ｆｍｏｃ−ＤＳＰ）を用いるリパーゼの化
学修飾 リパーゼＰＮ（生化学工業社）１０ｍｇについて実施例
(1) と同様に修飾を行った。この結果、得られた修飾剤
添加量、収量及び修飾率の関係を表５に示す。
【００３１】
【表５】 ────────────────────── 修飾剤添加量 収量*1 修飾率 (アミノ基当りの当量) (mg) (%) ────────────────────── 0.5 11.88 28.8 1.5 12.01 39.8 2.5 12.10 46.9 10.0 12.63 52.9 ────────────────────── ＊１ 修飾に用いた酵素は10mg
【００３２】(6) 修飾リパーゼの有機溶媒中での分散性 前記(1) 〜(5) で得られた各化学修飾リパーゼについ
て、それらの有機溶媒に対する分散性を検討した。その
方法は１ｍｇの修飾酵素を溶媒１ｍｌによく懸濁した
後、沈澱しなかった酵素量をもって分散性のめやすとし
た。この結果を表６及び表７に示す。なお、表６と表７
は同一のものである。
て、それらの有機溶媒に対する分散性を検討した。その
方法は１ｍｇの修飾酵素を溶媒１ｍｌによく懸濁した
後、沈澱しなかった酵素量をもって分散性のめやすとし
た。この結果を表６及び表７に示す。なお、表６と表７
は同一のものである。
【００３３】
【表６】
【表７】 表中修飾剤の項のＬａは、４−（ラウロイルオキシ）
フェニルジメチルスルホニウム・メチルサルフェイト
を、Ｐａは、４−（パルミトイルオキシ）フェニルジメ
チルスルホニウム・メチルサルフェイトを、Ｚは、４−
（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルジメチル
スルホニウム・メチルサルフェイトを、Ｂｏｃは、４−
（第三ブチルオキシカルボニルオキシ）フェニルジメチ
ルスルホニウム・メチルサルフェイトをそれぞれ化学修
飾剤として用いたことを示す。
フェニルジメチルスルホニウム・メチルサルフェイト
を、Ｐａは、４−（パルミトイルオキシ）フェニルジメ
チルスルホニウム・メチルサルフェイトを、Ｚは、４−
（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルジメチル
スルホニウム・メチルサルフェイトを、Ｂｏｃは、４−
（第三ブチルオキシカルボニルオキシ）フェニルジメチ
ルスルホニウム・メチルサルフェイトをそれぞれ化学修
飾剤として用いたことを示す。
【００３４】
【実施例２】本実施例においては実施例１で得た修飾エ
ステラーゼによるエステル加水分解例を示す。(1) 化学
修飾された酵素のエステラーゼ活性試験 実施例１により修飾されたリパーゼ１ｍｇをリン酸緩衝
液（ｐＨ７．０）３ｍｌに溶解させ、その溶液に基質と
してトリステアリン１ｇを２０Ｗ／Ｖ％有機溶剤溶液と
して加え３７℃で２０分インキュベートした。滴定によ
り遊離脂肪酸量を測定した。エステル加水分解活性の結
果を表８に示す。活性は未修飾酵素を１００として相対
活性で示した。
ステラーゼによるエステル加水分解例を示す。(1) 化学
修飾された酵素のエステラーゼ活性試験 実施例１により修飾されたリパーゼ１ｍｇをリン酸緩衝
液（ｐＨ７．０）３ｍｌに溶解させ、その溶液に基質と
してトリステアリン１ｇを２０Ｗ／Ｖ％有機溶剤溶液と
して加え３７℃で２０分インキュベートした。滴定によ
り遊離脂肪酸量を測定した。エステル加水分解活性の結
果を表８に示す。活性は未修飾酵素を１００として相対
活性で示した。
【００３５】
【表８】 表中の略号は次のことを示す。 ＺＭＬ−１０：リパーゼ１０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＬＭＬ−４０：リパーゼ４０％ラウロイル化修飾酵素 ＰＭＬ−４０：リパーゼ４０％パルミトイル化修飾酵素
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＬＭＬ−４０：リパーゼ４０％ラウロイル化修飾酵素 ＰＭＬ−４０：リパーゼ４０％パルミトイル化修飾酵素
【００３６】本発明の修飾リパーゼは、未修飾リパーゼ
に比べ有機溶剤中で高い活性を示し、その活性を持続す
ることが確認され、耐有機溶剤性に優れることが判明し
た。
に比べ有機溶剤中で高い活性を示し、その活性を持続す
ることが確認され、耐有機溶剤性に優れることが判明し
た。
【００３７】(2) 修飾リパーゼによるエステル加水分解 実施例１により修飾されたリパーゼ０．１ｍｇをリン酸
緩衝液（ｐＨ７．０）０．５ｍｌに溶解させ、その溶液
に基質として、ステアリン酸ステアリル５０ｍｇをシク
ロヘキサン０．５ｍｌに溶解させたものを加えた。これ
を３７℃で２０分インキュベートし、遊離するステアリ
ン酸をＨＰＬＣにより分離、定量し、分解率を求めた。
緩衝液（ｐＨ７．０）０．５ｍｌに溶解させ、その溶液
に基質として、ステアリン酸ステアリル５０ｍｇをシク
ロヘキサン０．５ｍｌに溶解させたものを加えた。これ
を３７℃で２０分インキュベートし、遊離するステアリ
ン酸をＨＰＬＣにより分離、定量し、分解率を求めた。
【００３８】
【表９】 ────────────────────── 酵 素 分解率（％） ────────────────────── 未修飾 45.3 LML-30 63.9 LML-40 64.2 LML-50 69.8 PML-30 71.0 PML-40 70.1 PML-50 79.7 ─────────────────────── 表中の略号は次のことを示す。 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−４０：リパーゼ４０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−４０：リパーゼ４０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
【００３９】本発明の修飾リパーゼは、未修飾リパーゼ
に比べ２０％以上高い分解率を示した。
に比べ２０％以上高い分解率を示した。
【００４０】
【実施例３】本実施例においてはエステルの合成例を示
す。 (1) ＥＰＡエチルエステルの合成 １ｇのエイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）にエタノールを
加え２０％Ｗ／Ｖのエタノール溶液を作り、実施例１に
より調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１２
０ｒｐｍ（ｌ＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間後
反応を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫酸
で発色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、反
応率を算出した。結果を表１０に示す。
す。 (1) ＥＰＡエチルエステルの合成 １ｇのエイコサペンタエン酸（ＥＰＡ）にエタノールを
加え２０％Ｗ／Ｖのエタノール溶液を作り、実施例１に
より調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１２
０ｒｐｍ（ｌ＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間後
反応を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫酸
で発色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、反
応率を算出した。結果を表１０に示す。
【００４１】
【表１０】 表中の略号は次のことを示す。 ＺＭＬ−１０：リパーゼ１０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
【００４２】その結果、この修飾酵素を用いる本発明に
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
【００４３】(2) コレステロールエステルの合成 水飽和ｎ−ヘキサン１０ｍｌ中にコレステロール１００
ｍｇとオレイン酸１００ｍｇを溶解し、実施例１により
調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１２０ｒ
ｐｍ（ｌ＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間後反応
を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫酸で発
色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、反応率
を算出した。結果を表１１に示す。
ｍｇとオレイン酸１００ｍｇを溶解し、実施例１により
調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１２０ｒ
ｐｍ（ｌ＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間後反応
を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫酸で発
色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、反応率
を算出した。結果を表１１に示す。
【００４４】
【表１１】 ─────────────────── 酵 素 反応（％） ─────────────────── 未修飾 2.5 PML-10 35.3 PML-30 38.8 PML-50 41.5 LML-10 10.1 LML-30 9.7 LML-50 11.9 ─────────────────── 表中の略号は次のことを示す。 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
【００４５】その結果、この修飾酵素を用いる本発明に
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
【００４６】(3) ラクトースエステルの合成 ０．０５Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ７．０）１０ｍｌ中に微
細に粉砕した乳糖粉末を１ｇ分散させ、さらにオレイン
酸１ｇを加えた酢酸エチル１０ｍｌと混合し、実施例１
により調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１
２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間
後反応を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫
酸で発色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、
反応率を算出した。結果を表１２に示す。
細に粉砕した乳糖粉末を１ｇ分散させ、さらにオレイン
酸１ｇを加えた酢酸エチル１０ｍｌと混合し、実施例１
により調製した修飾酵素を１ｍｇくわえる。３７℃、１
２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でインキュベートし２４時間
後反応を停止した。ＨＰＴＬＣを用いて展開し２０％硫
酸で発色後、デンシトメトリーにより相対比を検出し、
反応率を算出した。結果を表１２に示す。
【００４７】
【表１２】 表中の略号は次のことを示す。 ＺＭＬ−１０：リパーゼ１０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
【００４８】その結果、この修飾酵素を用いる本発明に
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
【００４９】
【実施例４】本実施例においては、エステル交換の例を
示す。 (1) トリオレインとパルミチン酸を用いたエステル交換 水飽和ｎ−ヘキサン１０ｍｌ中にトリオレイン１００ｍ
ｇとパルミチン酸１００ｍｇを溶解し、実施例１で調製
した修飾酵素１０ｍｇをくわえエステル交換反応をおこ
なった。３７℃、１２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でインキ
ュベートし、２４時間後反応を停止し、ＴＬＣにより脂
肪酸画分とグリセリド画分に分離したあと、エステル交
換率をガスクロマトグラフィにて測定した。結果を表１
３に示す。
示す。 (1) トリオレインとパルミチン酸を用いたエステル交換 水飽和ｎ−ヘキサン１０ｍｌ中にトリオレイン１００ｍ
ｇとパルミチン酸１００ｍｇを溶解し、実施例１で調製
した修飾酵素１０ｍｇをくわえエステル交換反応をおこ
なった。３７℃、１２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でインキ
ュベートし、２４時間後反応を停止し、ＴＬＣにより脂
肪酸画分とグリセリド画分に分離したあと、エステル交
換率をガスクロマトグラフィにて測定した。結果を表１
３に示す。
【００５０】
【表１３】 表中の略号は次のことを示す。 ＺＭＬ−１０：リパーゼ１０％ベンジルオキシカルボニ
ル化学修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化学修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化学修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化学修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化学修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化学修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化学修飾酵
素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化学修飾酵
素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化学修飾酵
素
ル化学修飾酵素 ＺＭＬ−３０：リパーゼ３０％ベンジルオキシカルボニ
ル化学修飾酵素 ＺＭＬ−５０：リパーゼ５０％ベンジルオキシカルボニ
ル化学修飾酵素 ＬＭＬ−１０：リパーゼ１０％ラウロイル化学修飾酵素 ＬＭＬ−３０：リパーゼ３０％ラウロイル化学修飾酵素 ＬＭＬ−５０：リパーゼ５０％ラウロイル化学修飾酵素 ＢＭＬ−５ ：リパーゼ５ ％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−１０：リパーゼ１０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−３０：リパーゼ３０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＢＭＬ−５０：リパーゼ５０％第三ブトキシカルボニル
化学修飾酵素 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化学修飾酵
素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化学修飾酵
素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化学修飾酵
素
【００５１】その結果、この修飾酵素を用いる本発明に
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
【００５２】(2) ホスファチジルコリンとＥＰＡを用い
たエステル交換 ｎ−ヘキサン１ｍｌ中に１−パルミトイル−２−ステア
ロイルホスファチジルコリン５ｍｇとＥＰＡ２０ｍｇを
溶解し実施例１により調製した、ＰＭＬ−１０、ＰＭＬ
−３０、ＰＭＬ−５０、を用いてエステル交換反応をお
こなった。３７℃、１２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でイン
キュベートし、４８時間後のエステル交換率、リゾ体へ
の分解率を測定した。エステル交換率はＴＬＣで分離
後、ガスクロマトグラフィを用いて、分解率はＨＰＬＣ
にて測定した。結果を表１４に示す。
たエステル交換 ｎ−ヘキサン１ｍｌ中に１−パルミトイル−２−ステア
ロイルホスファチジルコリン５ｍｇとＥＰＡ２０ｍｇを
溶解し実施例１により調製した、ＰＭＬ−１０、ＰＭＬ
−３０、ＰＭＬ−５０、を用いてエステル交換反応をお
こなった。３７℃、１２０ｒｐｍ（１＝５ｃｍ）でイン
キュベートし、４８時間後のエステル交換率、リゾ体へ
の分解率を測定した。エステル交換率はＴＬＣで分離
後、ガスクロマトグラフィを用いて、分解率はＨＰＬＣ
にて測定した。結果を表１４に示す。
【００５３】
【表１４】 ────────────────────────── 酵 素 交換率（％） 分解率（％） ────────────────────────── 未修飾 0.0 5.8 PML-10 3.3 20.5 PML-30 13.5 19.3 PML-50 10.8 21.5 ────────────────────────── 表中の略号は次のことを示す。 ＰＭＬ−１０：リパーゼ１０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−３０：リパーゼ３０％パルミトイル化修飾酵素 ＰＭＬ−５０：リパーゼ５０％パルミトイル化修飾酵素
【００５４】その結果、この修飾酵素を用いる本発明に
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
より、有機溶媒中でも高い反応率でエステルを合成する
ことが可能であることがわかった。
【００５５】
【発明の効果】本発明の実施により、アミノ基をＲＣＯ
−基により、化学修飾されたエステラーゼを得ることが
可能となった。またこの化学修飾エステラーゼを使用し
て有機溶媒中でのエステルの酵素加水分解、エステル合
成、あるいはエテスル交換が可能となる。本修飾エステ
ラーゼは、有機溶媒耐性、有機溶媒親和性にすぐれてお
り、バイオリアクターなどにも使用することができる。
−基により、化学修飾されたエステラーゼを得ることが
可能となった。またこの化学修飾エステラーゼを使用し
て有機溶媒中でのエステルの酵素加水分解、エステル合
成、あるいはエテスル交換が可能となる。本修飾エステ
ラーゼは、有機溶媒耐性、有機溶媒親和性にすぐれてお
り、バイオリアクターなどにも使用することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−234674（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−68282（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−151190（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−96084（ＪＰ，Ｕ) Ｉ ＡＺＵＳＥ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈ ｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｘｐｒｅｓｓ，４ （８），539−542（1989) Ｎ．Ｙａｎａｉｈａｒａ ｅｄ．, 「Ｐｅｐｔｉｄｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ 1989」，Ｐｒｏｔｅｉｎ Ｒｅｓａｒ ｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ，Ｏｓａｋ ａ，391−394（ＪＩＣＳＴ受入日1990. ３．19)
Claims (1)
- 【請求項１】 酵素中のアミノ酸総量の２０〜６０％に
ＲＣＯ−で表わされる基を導入した化学修飾エステラー
ゼを使用してエステルを加水分解することを特徴とする
エステルの加水分解方法。 （ただし、Ｒはベンジルオキシ基、第三ブトキシ基、９
−フルオレニルメトキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキ
シ基のいずれかを示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41446190A JP3301489B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-12-26 | 化学修飾エステラーゼの使用法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2128632A JPH0423981A (ja) | 1990-05-18 | 1990-05-18 | 化学修飾エステラーゼ、その製造法及びこれを用いたエステルの加水分解法 |
| JP2-128632 | 1990-05-18 | ||
| JP41446190A JP3301489B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-12-26 | 化学修飾エステラーゼの使用法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365479A JPH04365479A (ja) | 1992-12-17 |
| JP3301489B2 true JP3301489B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=26464247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41446190A Expired - Fee Related JP3301489B2 (ja) | 1990-05-18 | 1990-12-26 | 化学修飾エステラーゼの使用法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3301489B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000075295A1 (en) * | 1999-06-02 | 2000-12-14 | Novozymes A/S | Chemically modified lipolytic enzyme |
-
1990
- 1990-12-26 JP JP41446190A patent/JP3301489B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Ｉ ＡＺＵＳＥ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｅｘｐｒｅｓｓ，４（８），５３９−５４２（１９８９） |
| Ｎ．Ｙａｎａｉｈａｒａ ｅｄ．，「Ｐｅｐｔｉｄｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ １９８９」，Ｐｒｏｔｅｉｎ Ｒｅｓａｒｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ，Ｏｓａｋａ，３９１−３９４（ＪＩＣＳＴ受入日１９９０．３．１９） |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04365479A (ja) | 1992-12-17 |
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