JP3287058B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP3287058B2 JP3287058B2 JP9801893A JP9801893A JP3287058B2 JP 3287058 B2 JP3287058 B2 JP 3287058B2 JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP 3287058 B2 JP3287058 B2 JP 3287058B2
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- Japan
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- reticle
- substrate
- stage
- exposure apparatus
- reticles
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子や液晶表示基
板等の製造に用いられる投影露光装置に関するものであ
り、特に露光すべきパターンを形成したマスクを収納場
所から露光位置に搬送する搬送装置に関するものであ
る。
板等の製造に用いられる投影露光装置に関するものであ
り、特に露光すべきパターンを形成したマスクを収納場
所から露光位置に搬送する搬送装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の装置は、図4に示すよう
な構成であった。即ち、不図示の照明光学系からの光束
によってレチクルステージ5上に載置されたレチクル
(不図示)を照明し、レチクル上のパターンの像が、投
影光学系PLを介してプレートステージ7上のプレート
Pに投影される。この露光装置は不図示のアライメント
光学系によってレチクルの位置を検出する構成となって
いる。また、投影光学系PLの光軸に対してレチクルを
位置決めするため、アライメント光学系の検出結果に基
づいて、レチクルステージ5を位置決めする。
な構成であった。即ち、不図示の照明光学系からの光束
によってレチクルステージ5上に載置されたレチクル
(不図示)を照明し、レチクル上のパターンの像が、投
影光学系PLを介してプレートステージ7上のプレート
Pに投影される。この露光装置は不図示のアライメント
光学系によってレチクルの位置を検出する構成となって
いる。また、投影光学系PLの光軸に対してレチクルを
位置決めするため、アライメント光学系の検出結果に基
づいて、レチクルステージ5を位置決めする。
【0003】一方、露光に用いられる複数のレチクル
(不図示)は、それぞれ個別のケースに入れられてレチ
クルライブラリ1に保管されている。レチクルライブラ
リ1内に進入可能に配置されたフォーク2は、レチクル
ライブラリ1のケースから必要なレチクルを取り出し、
または不要なレチクルをレチクルライブラリ1に収納す
る。レチクルライブラリ1からレチクルステージ5まで
の搬送経路中には、レチクルの大まかな位置合わせを行
うプリアライメント機構3が備えられている。その他、
レチクルステージ5上にレチクルを搬入するロードアー
ム4Aと、図のY方向にロードアーム4Aと独立に、ま
た図のZ方向にはロードアーム4Aと一体に移動する構
成で、レチクルステージ5上からレチクルを搬出するア
ンロードアーム4Bとを備えている。
(不図示)は、それぞれ個別のケースに入れられてレチ
クルライブラリ1に保管されている。レチクルライブラ
リ1内に進入可能に配置されたフォーク2は、レチクル
ライブラリ1のケースから必要なレチクルを取り出し、
または不要なレチクルをレチクルライブラリ1に収納す
る。レチクルライブラリ1からレチクルステージ5まで
の搬送経路中には、レチクルの大まかな位置合わせを行
うプリアライメント機構3が備えられている。その他、
レチクルステージ5上にレチクルを搬入するロードアー
ム4Aと、図のY方向にロードアーム4Aと独立に、ま
た図のZ方向にはロードアーム4Aと一体に移動する構
成で、レチクルステージ5上からレチクルを搬出するア
ンロードアーム4Bとを備えている。
【0004】尚、フォーク2はレチクルライブラリ1か
らプリアライメント機構3までの間のレチクルの搬送を
担当し、プリアライメント機構3からレチクルステージ
5への搬送(搬入)はロードアーム4Aが、またレチク
ルステージ5からレチクルライブラリ1への搬送(搬
出)はアンロードアーム4Bとフォーク2とが、それぞ
れ受け持つ。
らプリアライメント機構3までの間のレチクルの搬送を
担当し、プリアライメント機構3からレチクルステージ
5への搬送(搬入)はロードアーム4Aが、またレチク
ルステージ5からレチクルライブラリ1への搬送(搬
出)はアンロードアーム4Bとフォーク2とが、それぞ
れ受け持つ。
【0005】先ず、レチクルライブラリ1内のレチクル
をフォーク2にてレチクルライブラリ1から取り出し、
プリアライメント機構3まで搬送する。プリアライメン
ト機構3は、フォーク2上のレチクルを所定の位置に大
まかに整合させるとともに、フォーク2からレチクルR
1を受け取る。次に、ロードアーム4Aがプリアライメ
ント機構3よりレチクルを受け取り、レチクルをレチク
ルステージ5に受け渡す。レチクルステージ5にレチク
ルが載置されると不図示のアライメント光学系に基づい
てアライメントし、プレートPに対して露光を行う。
をフォーク2にてレチクルライブラリ1から取り出し、
プリアライメント機構3まで搬送する。プリアライメン
ト機構3は、フォーク2上のレチクルを所定の位置に大
まかに整合させるとともに、フォーク2からレチクルR
1を受け取る。次に、ロードアーム4Aがプリアライメ
ント機構3よりレチクルを受け取り、レチクルをレチク
ルステージ5に受け渡す。レチクルステージ5にレチク
ルが載置されると不図示のアライメント光学系に基づい
てアライメントし、プレートPに対して露光を行う。
【0006】露光が終了すると、アンロードアーム4B
がレチクルステージ5からレチクルを受け取り、フォー
ク2を介してレチクルライブラリ1に収納する。その
後、新たなレチクルをレチクルライブラリ1から搬出し
て、上述と同様にしてレチクルステージ5上に載置し、
露光を行うことを繰り返す。
がレチクルステージ5からレチクルを受け取り、フォー
ク2を介してレチクルライブラリ1に収納する。その
後、新たなレチクルをレチクルライブラリ1から搬出し
て、上述と同様にしてレチクルステージ5上に載置し、
露光を行うことを繰り返す。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、レチクルステージ上に載置されたレチクル
を除いて、レチクルは搬送経路中には1枚しか存在する
ことができない。露光工程では、頻繁にレチクルを交換
しながら露光する場合が多く、従来の装置におけるレチ
クル交換は非効率的であった。また、レチクル交換時間
の短縮を行うためにはフォークやロードアーム等、それ
ぞれの移動速度を大きくすることが考えられるが、その
方法で行える交換時間の短縮には限界があった。
においては、レチクルステージ上に載置されたレチクル
を除いて、レチクルは搬送経路中には1枚しか存在する
ことができない。露光工程では、頻繁にレチクルを交換
しながら露光する場合が多く、従来の装置におけるレチ
クル交換は非効率的であった。また、レチクル交換時間
の短縮を行うためにはフォークやロードアーム等、それ
ぞれの移動速度を大きくすることが考えられるが、その
方法で行える交換時間の短縮には限界があった。
【0008】本発明は、露光装置のレチクル交換を効率
的に行い、スループットの高い露光装置を提供すること
を目的とする。
的に行い、スループットの高い露光装置を提供すること
を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】 上記問題点を解決する
ために一実施例を表す図面に対応して説明すると、請求
項1記載の露光装置は、複数の基板を保管する基板保管
手段(1)と、基板を所定の位置に保持する基板ステー
ジ(5)と、基板保管手段(1)と基板ステージ(5)
との間で基板を搬送する基板搬送手段(2,4A,4
B)と、基板搬送手段(2,4A,4B)による搬送経
路中に設けられ、基板を所定の位置に対して大まかに位
置決めする予備位置決め手段(3)とを備えた露光装置
であって、複数基板を一体に保持するとともに、所定の
位置に対して移動することによって基板ステージ(5)
に対して基板を受け渡す基板交換手段(6,9)と;予
備位置決め手段(3)によって位置決めされた基板を一
時的に保管する一時保管部(8)とを搬送経路中に備え
ている。請求項2記載の露光装置は、基板交換手段
(3)によって保持された複数の基板から成る第1の組
による露光中に、他の複数の基板から成る第2の組を基
板保管手段(1)から搬出し、予備位置決め手段(3)
を介して一時保管部(8)に保管し、第1の組による露
光が終了した際に第1の組と第2の組とを基板搬送手段
(2,4A,4B)によって入れ換える搬送制御手段
(CNT)を備えている。請求項3記載の露光装置は、基
板交換手段(6,9)が複数の基板のそれぞれを個別に
所定の位置に対して精密に位置決めする精密位置決め手
段を備えている。請求項4記載の露光装置は、レチクル
保管手段(1)に保管された複数のレチクルを順次レチ
クルステージ(5)に搬送して、複数のレチクルを用い
て基板にパタ−ンを露光する露光装置であって、レチク
ル保管手段(1)とレチクルステージ(5)との間に設
けられ、複数のレチクルのうち所定のレチクルを一時的
に保管する一時保管手段(8)と、一時保管手段(8)
とレチクルステージ(5)との間に設けられ、レチクル
ステージ(5)に搬送するレチクルを複数保持可能な保
持手段(6)とを備えている。請求項5記載の露光装置
は、保持手段(6)がレチクルステージ(5)との間で
レチクルを搬送する搬送手段(6A,6B,6C)を備えて
いる。請求項6記載の露光装置は、レチクル保管手段
(1)に保管された複数のレチクルを用いて基板にパタ
−ンを露光する露光装置であって、複数のレチクルのう
ち露光すべきパタ−ンを有したレチクルを複数保持する
レチクルステージ(9)と、レチクル保管手段(1)と
レチクルステージ(9)との間に設けられ、複数のレチ
クルのうち所定のレチクルを一時的に保管する一時保管
手段(8)とを備えている。請求項7記載の露光装置
は、複数のレチクルを保持したレチクルステージ(9)
を駆動制御する制御装置(CNT)を備えている。
ために一実施例を表す図面に対応して説明すると、請求
項1記載の露光装置は、複数の基板を保管する基板保管
手段(1)と、基板を所定の位置に保持する基板ステー
ジ(5)と、基板保管手段(1)と基板ステージ(5)
との間で基板を搬送する基板搬送手段(2,4A,4
B)と、基板搬送手段(2,4A,4B)による搬送経
路中に設けられ、基板を所定の位置に対して大まかに位
置決めする予備位置決め手段(3)とを備えた露光装置
であって、複数基板を一体に保持するとともに、所定の
位置に対して移動することによって基板ステージ(5)
に対して基板を受け渡す基板交換手段(6,9)と;予
備位置決め手段(3)によって位置決めされた基板を一
時的に保管する一時保管部(8)とを搬送経路中に備え
ている。請求項2記載の露光装置は、基板交換手段
(3)によって保持された複数の基板から成る第1の組
による露光中に、他の複数の基板から成る第2の組を基
板保管手段(1)から搬出し、予備位置決め手段(3)
を介して一時保管部(8)に保管し、第1の組による露
光が終了した際に第1の組と第2の組とを基板搬送手段
(2,4A,4B)によって入れ換える搬送制御手段
(CNT)を備えている。請求項3記載の露光装置は、基
板交換手段(6,9)が複数の基板のそれぞれを個別に
所定の位置に対して精密に位置決めする精密位置決め手
段を備えている。請求項4記載の露光装置は、レチクル
保管手段(1)に保管された複数のレチクルを順次レチ
クルステージ(5)に搬送して、複数のレチクルを用い
て基板にパタ−ンを露光する露光装置であって、レチク
ル保管手段(1)とレチクルステージ(5)との間に設
けられ、複数のレチクルのうち所定のレチクルを一時的
に保管する一時保管手段(8)と、一時保管手段(8)
とレチクルステージ(5)との間に設けられ、レチクル
ステージ(5)に搬送するレチクルを複数保持可能な保
持手段(6)とを備えている。請求項5記載の露光装置
は、保持手段(6)がレチクルステージ(5)との間で
レチクルを搬送する搬送手段(6A,6B,6C)を備えて
いる。請求項6記載の露光装置は、レチクル保管手段
(1)に保管された複数のレチクルを用いて基板にパタ
−ンを露光する露光装置であって、複数のレチクルのう
ち露光すべきパタ−ンを有したレチクルを複数保持する
レチクルステージ(9)と、レチクル保管手段(1)と
レチクルステージ(9)との間に設けられ、複数のレチ
クルのうち所定のレチクルを一時的に保管する一時保管
手段(8)とを備えている。請求項7記載の露光装置
は、複数のレチクルを保持したレチクルステージ(9)
を駆動制御する制御装置(CNT)を備えている。
【0010】
【作用】本発明では、レチクルステージに対して露光に
必要な複数のレチクルを交換可能に保持するレチクルチ
ェンジャを備えた露光装置のレチクル搬送系において、
レチクルチェンジャが保持するレチクルによる露光中に
新たなレチクルを準備して一時的に保管する保管庫を備
える構成としたため、レチクルの交換に要する搬送経路
がレチクルチェンジャと保管庫との間のみとなり、また
レチクルの交換準備を効率的に行うことができることと
なるので、総合的なレチクルの交換を迅速に行うことが
可能となる。
必要な複数のレチクルを交換可能に保持するレチクルチ
ェンジャを備えた露光装置のレチクル搬送系において、
レチクルチェンジャが保持するレチクルによる露光中に
新たなレチクルを準備して一時的に保管する保管庫を備
える構成としたため、レチクルの交換に要する搬送経路
がレチクルチェンジャと保管庫との間のみとなり、また
レチクルの交換準備を効率的に行うことができることと
なるので、総合的なレチクルの交換を迅速に行うことが
可能となる。
【0011】
【実施例】図1は、本発明の第1の実施例による投影露
光装置の概略的な構成を示す図である。不図示の照明光
学系からの光束によってレチクルステージ5上に載置さ
れたレチクル(不図示)を照明し、レチクル上のパター
ンの像が、投影光学系PLを介してプレートステージ7
上のプレートPに投影される。この露光装置は不図示の
アライメント光学系によってレチクルの位置を検出する
構成となっている。また、投影光学系PLに対してレチ
クルを位置決めするため、アライメント光学系の検出結
果に基づいて、レチクルステージ5を位置決めする。
光装置の概略的な構成を示す図である。不図示の照明光
学系からの光束によってレチクルステージ5上に載置さ
れたレチクル(不図示)を照明し、レチクル上のパター
ンの像が、投影光学系PLを介してプレートステージ7
上のプレートPに投影される。この露光装置は不図示の
アライメント光学系によってレチクルの位置を検出する
構成となっている。また、投影光学系PLに対してレチ
クルを位置決めするため、アライメント光学系の検出結
果に基づいて、レチクルステージ5を位置決めする。
【0012】一方、露光に用いられる複数のレチクル
(不図示)R1,R2,R3,…は、それぞれ個別のケ
ースに入れられてレチクルライブラリ1に保管されてい
る。レチクルライブラリ1内に進入可能に配置されたフ
ォーク2は、レチクルライブラリ1のケースから必要な
レチクルを取り出し、または不要なレチクルをレチクル
ライブラリ1内に収納する。レチクルライブラリ1から
レチクルステージ5までの搬送経路中には、レチクルの
大まかな位置合わせを行うプリアライメント機構3と、
複数のレチクルを一時的に保管しておく保管庫8が備え
られている。その他、レチクルステージ5上にレチクル
を搬入するロードアーム4Aと、図のY方向にロードア
ーム4Aと独立に、また図のZ方向にはロードアーム4
Aと一体に移動する構成で、レチクルステージ5上から
レチクルを搬出するアンロードアーム4Bとを備えてい
る。
(不図示)R1,R2,R3,…は、それぞれ個別のケ
ースに入れられてレチクルライブラリ1に保管されてい
る。レチクルライブラリ1内に進入可能に配置されたフ
ォーク2は、レチクルライブラリ1のケースから必要な
レチクルを取り出し、または不要なレチクルをレチクル
ライブラリ1内に収納する。レチクルライブラリ1から
レチクルステージ5までの搬送経路中には、レチクルの
大まかな位置合わせを行うプリアライメント機構3と、
複数のレチクルを一時的に保管しておく保管庫8が備え
られている。その他、レチクルステージ5上にレチクル
を搬入するロードアーム4Aと、図のY方向にロードア
ーム4Aと独立に、また図のZ方向にはロードアーム4
Aと一体に移動する構成で、レチクルステージ5上から
レチクルを搬出するアンロードアーム4Bとを備えてい
る。
【0013】尚、フォーク2はレチクルライブラリ1と
プリアライメント機構3との間のレチクルの搬送、及び
保管庫8からレチクルライブラリ1までの搬送を担当
し、プリアライメント機構3からレチクルステージ5、
若しくは保管庫8への搬送、及び保管庫8からレチクル
ステージ5への搬送はロードアーム4Aが、またレチク
ルステージ5から保管庫8への搬送はアンロードアーム
4Bが、それぞれ受け持つ。また、これらフォーク2、
ロードアーム4A、アンロードアーム4B、及び上記の
レチクルチェンジャ6の動作はコントローラCNTによ
って制御されている。さらに、コントローラCNTは、
照明光学系のシャッタやステージ7等を制御する不図示
の露光制御装置と接続されており、露光制御装置の出力
する露光指令に応じてレチクルチェンジャ6等を制御す
る構成となっている。
プリアライメント機構3との間のレチクルの搬送、及び
保管庫8からレチクルライブラリ1までの搬送を担当
し、プリアライメント機構3からレチクルステージ5、
若しくは保管庫8への搬送、及び保管庫8からレチクル
ステージ5への搬送はロードアーム4Aが、またレチク
ルステージ5から保管庫8への搬送はアンロードアーム
4Bが、それぞれ受け持つ。また、これらフォーク2、
ロードアーム4A、アンロードアーム4B、及び上記の
レチクルチェンジャ6の動作はコントローラCNTによ
って制御されている。さらに、コントローラCNTは、
照明光学系のシャッタやステージ7等を制御する不図示
の露光制御装置と接続されており、露光制御装置の出力
する露光指令に応じてレチクルチェンジャ6等を制御す
る構成となっている。
【0014】レチクルステージ5に載置されたレチクル
は、位置決めされた後に、この位置を維持したままレチ
クルチェンジャ6のレチクル保持部6A〜6Cに移替え
られ、必要に応じて再度レチクルステージ5に載置され
る。図1に示す露光装置の例では、レチクルチェンジャ
6上には3枚のレチクルを載置する構成となっており、
レチクル3枚を1組と考える。
は、位置決めされた後に、この位置を維持したままレチ
クルチェンジャ6のレチクル保持部6A〜6Cに移替え
られ、必要に応じて再度レチクルステージ5に載置され
る。図1に示す露光装置の例では、レチクルチェンジャ
6上には3枚のレチクルを載置する構成となっており、
レチクル3枚を1組と考える。
【0015】上記の装置におけるレチクルの搬送動作に
ついて図3を用いて説明する。先ず、レチクルライブラ
リ1内のレチクルR1をフォーク2にてレチクルライブ
ラリ1から取り出し、プリアライメント機構3まで搬送
する(ステップ101)。プリアライメント機構3は、
フォーク2上のレチクルR1を所定の位置に大まかに整
合させるとともに、フォーク2からレチクルR1を受け
取る(ステップ102)。
ついて図3を用いて説明する。先ず、レチクルライブラ
リ1内のレチクルR1をフォーク2にてレチクルライブ
ラリ1から取り出し、プリアライメント機構3まで搬送
する(ステップ101)。プリアライメント機構3は、
フォーク2上のレチクルR1を所定の位置に大まかに整
合させるとともに、フォーク2からレチクルR1を受け
取る(ステップ102)。
【0016】次に、ロードアーム4Aがプリアライメン
ト機構3よりレチクルR1を受け取り、レチクルR1を
レチクルステージ5に受け渡す(ステップ103)。レ
チクルステージ5にレチクルR1が載置されると、一
旦、レチクルチェンジャの全てのレチクル保持部上にレ
チクルが載置されているか否かを判断した上で、不図示
のアライメント光学系に基づいて所定位置(露光時に投
影光学系PLに対して位置決めされているべき位置)に
ステージ5上のレチクルR1をアライメントする(ステ
ップ104)。この時、図のX方向及びZ方向にそれぞ
れ所定のストローク内で移動可能なレチクルチェンジャ
のフォーク6がZ方向のストロークの下端にあり、レチ
クル保持部6Aがレチクルステージ5とのアクセス位置
(レチクルの受け渡しが可能な位置)にある。
ト機構3よりレチクルR1を受け取り、レチクルR1を
レチクルステージ5に受け渡す(ステップ103)。レ
チクルステージ5にレチクルR1が載置されると、一
旦、レチクルチェンジャの全てのレチクル保持部上にレ
チクルが載置されているか否かを判断した上で、不図示
のアライメント光学系に基づいて所定位置(露光時に投
影光学系PLに対して位置決めされているべき位置)に
ステージ5上のレチクルR1をアライメントする(ステ
ップ104)。この時、図のX方向及びZ方向にそれぞ
れ所定のストローク内で移動可能なレチクルチェンジャ
のフォーク6がZ方向のストロークの下端にあり、レチ
クル保持部6Aがレチクルステージ5とのアクセス位置
(レチクルの受け渡しが可能な位置)にある。
【0017】ここで、現在ステージ5上に載置されてい
るレチクルR1がレチクルチェンジャに対する最後のレ
チクルかどうか判断する(ステップ105)。この場合
は、まだ1枚目のレチクルなのでステップ106に移っ
てレチクルをレチクルチェンジャ上の保持部に載置す
る。つまり、フォーク6がZ方向に上昇することにより
レチクルステージ5よりレチクル保持部6A上にレチク
ルR1を受け取り、ストロークの上端で停止する。次に
フォーク6は、X方向に移動してレチクル保持部6Bが
レチクルステージ5とのアクセス位置に来た位置で停止
する。その後、Z方向のストロークの下端まで下降し、
次に受け取るべきレチクルR2の受け取り準備が完了す
る。
るレチクルR1がレチクルチェンジャに対する最後のレ
チクルかどうか判断する(ステップ105)。この場合
は、まだ1枚目のレチクルなのでステップ106に移っ
てレチクルをレチクルチェンジャ上の保持部に載置す
る。つまり、フォーク6がZ方向に上昇することにより
レチクルステージ5よりレチクル保持部6A上にレチク
ルR1を受け取り、ストロークの上端で停止する。次に
フォーク6は、X方向に移動してレチクル保持部6Bが
レチクルステージ5とのアクセス位置に来た位置で停止
する。その後、Z方向のストロークの下端まで下降し、
次に受け取るべきレチクルR2の受け取り準備が完了す
る。
【0018】以上のように、レチクルチェンジャに対す
る最後のレチクルをステージ上に載置するまで上記と同
様にしてレチクルチェンジャ上にレチクルを載置する。
即ち、1枚目のレチクルR1と同様の手順で2枚目のレ
チクルR2をレチクル保持部6Bに収納する。但し、図
のステップ101からステップ102の動作は、ステッ
プ103以降の動作と並行して行うほうが効率的であ
る。そうすれば、ステップ105で否定された後、直ち
にステップ103の動作を行うことが可能となる。
る最後のレチクルをステージ上に載置するまで上記と同
様にしてレチクルチェンジャ上にレチクルを載置する。
即ち、1枚目のレチクルR1と同様の手順で2枚目のレ
チクルR2をレチクル保持部6Bに収納する。但し、図
のステップ101からステップ102の動作は、ステッ
プ103以降の動作と並行して行うほうが効率的であ
る。そうすれば、ステップ105で否定された後、直ち
にステップ103の動作を行うことが可能となる。
【0019】一方、ステップ105で最後のレチクルで
あると判断されれば、ステップ107に移って露光を行
う。露光の際には、必要なレチクルをレチクル保持部6
A〜6Cからレチクルステージ5に移替えることによっ
てプレートPに対する露光を行うが、上記の場合、ステ
ージ5上にレチクルR3が載置されているので、このレ
チクルR3から露光を行えば効率的である。
あると判断されれば、ステップ107に移って露光を行
う。露光の際には、必要なレチクルをレチクル保持部6
A〜6Cからレチクルステージ5に移替えることによっ
てプレートPに対する露光を行うが、上記の場合、ステ
ージ5上にレチクルR3が載置されているので、このレ
チクルR3から露光を行えば効率的である。
【0020】さて、レチクルR1〜R3を用いて露光を
行っている間に、後の露光に使用する予定の(準備すべ
き)レチクルが有るか否かを判断し(ステップ10
8)、有ればそのレチクル(この場合、レチクルR4〜
R6)を保管庫8内に準備する。つまり、レチクルR4
をフォーク2にてレチクルライブラリ1から取り出し
(ステップ109)、プリアライメント機構3まで搬送
する。プリアライメント機構3は、フォーク2上のレチ
クルR4を所定の位置に整合させるとともに(ステップ
110)、フォーク2からレチクルR4を受け取る。
行っている間に、後の露光に使用する予定の(準備すべ
き)レチクルが有るか否かを判断し(ステップ10
8)、有ればそのレチクル(この場合、レチクルR4〜
R6)を保管庫8内に準備する。つまり、レチクルR4
をフォーク2にてレチクルライブラリ1から取り出し
(ステップ109)、プリアライメント機構3まで搬送
する。プリアライメント機構3は、フォーク2上のレチ
クルR4を所定の位置に整合させるとともに(ステップ
110)、フォーク2からレチクルR4を受け取る。
【0021】次に、ロードアーム4Aがプリアライメン
ト機構3よりレチクルR4を受け取るとともに、現在ロ
ードアーム4A上に載置されているレチクルR4が準備
すべき最後のレチクルかどうか判断する(ステップ11
1)。この場合は、まだ1枚目のレチクルなのでステッ
プ112に移ってレチクルを保管庫8内の1段目の収納
場所8AにレチクルR4を収納する。同様の動作にてR
5を2段目の収納場所8Bに収納する。一方、ステップ
111で最後のレチクルと判断された場合は、そのレチ
クルをロードアーム4A上に保持したまま待機する(ス
テップ113)。即ち、レチクル3枚を1組とした場合
の残りであるレチクルR6は、上述のようにプリアライ
メント機構3で整合された後は、ロードアーム4Aが受
け取ったままでレチクルR1〜R3の露光が終了するま
で待機する。
ト機構3よりレチクルR4を受け取るとともに、現在ロ
ードアーム4A上に載置されているレチクルR4が準備
すべき最後のレチクルかどうか判断する(ステップ11
1)。この場合は、まだ1枚目のレチクルなのでステッ
プ112に移ってレチクルを保管庫8内の1段目の収納
場所8AにレチクルR4を収納する。同様の動作にてR
5を2段目の収納場所8Bに収納する。一方、ステップ
111で最後のレチクルと判断された場合は、そのレチ
クルをロードアーム4A上に保持したまま待機する(ス
テップ113)。即ち、レチクル3枚を1組とした場合
の残りであるレチクルR6は、上述のようにプリアライ
メント機構3で整合された後は、ロードアーム4Aが受
け取ったままでレチクルR1〜R3の露光が終了するま
で待機する。
【0022】次のステップ114で露光が終了したと判
断すると、その時点でレチクルステージ5上に載置され
ているレチクル(例えばレチクルR1)をアンロードア
ーム4Bで取り出してY方向に移動し、レチクルライブ
ラリ1側の基準位置(図に破線で示す位置)で停止する
(ステップ115)。レチクルステージ5からレチクル
R1が搬出された後は、レチクルR6を保持したロード
アーム4AがY方向にレチクルステージ5まで移動して
レチクルR6をレチクルステージ5に受け渡し、上記基
準位置まで戻る(ステップ116)。その後、アンロー
ドアーム4Bはロードアーム4AとともにZ方向に移動
して保管庫8の3段目の収納場所への受け渡し高さで停
止し、保管庫8内に進入して3段目の収納場所8Cにレ
チクルR1を収納する。
断すると、その時点でレチクルステージ5上に載置され
ているレチクル(例えばレチクルR1)をアンロードア
ーム4Bで取り出してY方向に移動し、レチクルライブ
ラリ1側の基準位置(図に破線で示す位置)で停止する
(ステップ115)。レチクルステージ5からレチクル
R1が搬出された後は、レチクルR6を保持したロード
アーム4AがY方向にレチクルステージ5まで移動して
レチクルR6をレチクルステージ5に受け渡し、上記基
準位置まで戻る(ステップ116)。その後、アンロー
ドアーム4Bはロードアーム4AとともにZ方向に移動
して保管庫8の3段目の収納場所への受け渡し高さで停
止し、保管庫8内に進入して3段目の収納場所8Cにレ
チクルR1を収納する。
【0023】レチクルを保持していないロードアーム4
Aは2段目の収納場所8Bに対するレチクル受け渡し高
さまでZ方向の移動をし、保管庫8内に進入してレチク
ルR5を受け取る。ここでアンロードアーム4Bはロー
ドアーム4AとともにZ方向に上昇し、レチクルステー
ジ5に対する受け渡し高さで停止する。この時、既にレ
チクルステージ5上にはレチクル保持部6B上に保持さ
れていたレチクルR2が載置されている。この後は、上
述と同様にしてレチクルR2,R3をそれぞれ収納場所
8B,収納場所8Aへ収納するとともに、収納場所8
B、収納場所8Aに収納されていたレチクルR5,R4
をレチクル保持部6B,6Cに移す。以上の動作によ
り、露光の終了したレチクルR1〜R3と次回の露光に
使用するレチクルR4〜R6の交換が完了する。
Aは2段目の収納場所8Bに対するレチクル受け渡し高
さまでZ方向の移動をし、保管庫8内に進入してレチク
ルR5を受け取る。ここでアンロードアーム4Bはロー
ドアーム4AとともにZ方向に上昇し、レチクルステー
ジ5に対する受け渡し高さで停止する。この時、既にレ
チクルステージ5上にはレチクル保持部6B上に保持さ
れていたレチクルR2が載置されている。この後は、上
述と同様にしてレチクルR2,R3をそれぞれ収納場所
8B,収納場所8Aへ収納するとともに、収納場所8
B、収納場所8Aに収納されていたレチクルR5,R4
をレチクル保持部6B,6Cに移す。以上の動作によ
り、露光の終了したレチクルR1〜R3と次回の露光に
使用するレチクルR4〜R6の交換が完了する。
【0024】次のステップ117でレチクルの交換が終
了したと判断した後はレチクルR4〜R6で露光を行
い、その間にレチクルR1〜R3をレチクルライブラリ
1に収納する(ステップ118)。また、さらに準備す
べきレチクルが有る場合は(ステップ119)、レチク
ルR4〜R6の露光中に上記と同様にして準備すればよ
い。尚、レチクルR1〜R3による露光中に保管庫8に
準備するレチクルをR4〜R6としたが、時間的な余裕
があれば、さらに次のレチクルを保管庫内に準備するよ
うにしても構わない。
了したと判断した後はレチクルR4〜R6で露光を行
い、その間にレチクルR1〜R3をレチクルライブラリ
1に収納する(ステップ118)。また、さらに準備す
べきレチクルが有る場合は(ステップ119)、レチク
ルR4〜R6の露光中に上記と同様にして準備すればよ
い。尚、レチクルR1〜R3による露光中に保管庫8に
準備するレチクルをR4〜R6としたが、時間的な余裕
があれば、さらに次のレチクルを保管庫内に準備するよ
うにしても構わない。
【0025】図2は、本発明の第2の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、レチクル
チェンジャとレチクルステージとが一体に構成されてい
るものであり、レチクルチェンジャ9上のレチクル保持
部10A〜10Cの夫々にレチクルが載置されたまま図
のX方向にレチクルステージ9が移動する。つまり、図
1に示す装置のようにレチクルチェンジャとレチクルス
テージとの間でレチクルの受け渡しを行う必要がない構
成である。レチクルは、レチクル保持部10A〜10C
とロードアーム4A,アンロードアーム4Bとの間で受
け渡すようになっており、それ以外は図1に示す装置と
同様の構成である。第2の実施例では、第1の実施例に
あるレチクルチェンジャ6とレチクルステージ5の間で
の受け渡しが省略できた分、レチクル交換に要する時間
がさらに短縮する。
装置の概略的な構成を示す図である。これは、レチクル
チェンジャとレチクルステージとが一体に構成されてい
るものであり、レチクルチェンジャ9上のレチクル保持
部10A〜10Cの夫々にレチクルが載置されたまま図
のX方向にレチクルステージ9が移動する。つまり、図
1に示す装置のようにレチクルチェンジャとレチクルス
テージとの間でレチクルの受け渡しを行う必要がない構
成である。レチクルは、レチクル保持部10A〜10C
とロードアーム4A,アンロードアーム4Bとの間で受
け渡すようになっており、それ以外は図1に示す装置と
同様の構成である。第2の実施例では、第1の実施例に
あるレチクルチェンジャ6とレチクルステージ5の間で
の受け渡しが省略できた分、レチクル交換に要する時間
がさらに短縮する。
【0026】
【発明の効果】以上のように、請求項1から3記載の露
光装置は、基板交換手段と一時保管部とを備えているの
で、基板交換時の基板搬送経路が短くなり、基板交換時
間を短縮することができる。また、次の露光に必要な基
板を露光中に準備できるため、効率的な基板の搬送をす
ることができる。請求項4及び5記載の露光装置は、一
時保管手段と保持手段とを備えているので、レチクル交
換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間を短縮す
ることができる。請求項6及び7記載の露光装置は、レ
チクルステージと一時保管手段とを備えているので、レ
チクル交換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間
を短縮することができる。
光装置は、基板交換手段と一時保管部とを備えているの
で、基板交換時の基板搬送経路が短くなり、基板交換時
間を短縮することができる。また、次の露光に必要な基
板を露光中に準備できるため、効率的な基板の搬送をす
ることができる。請求項4及び5記載の露光装置は、一
時保管手段と保持手段とを備えているので、レチクル交
換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間を短縮す
ることができる。請求項6及び7記載の露光装置は、レ
チクルステージと一時保管手段とを備えているので、レ
チクル交換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間
を短縮することができる。
【図1】本発明の第1の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図2】本発明の第2の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図3】本発明の第1の実施例による露光装置の動作を
表すフローチャート
表すフローチャート
【図4】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図
す図
1 レチクルライブラリ 2 フォーク 3 プリアライメント機構 4A ロードアーム 4B アンロードアーム 5 レチクルステージ 6,9 レチクルチェンジャ 8 保管庫 CNT 制御装置
Claims (7)
- 【請求項1】 複数の基板を保管する基板保管手段と、
前記基板を所定の位置に保持する基板ステージと、前記
基板保管手段と前記基板ステージとの間で前記基板を搬
送する基板搬送手段と、該基板搬送手段による搬送経路
中に設けられ、前記基板を前記所定の位置に対して大ま
かに位置決めする予備位置決め手段とを備えた露光装置
において、 前記複数基板を一体に保持するとともに、前記所定の位
置に対して移動することによって前記基板ステージに対
して前記基板を受け渡す基板交換手段と;前記予備位置
決め手段によって位置決めされた前記基板を一時的に保
管する一時保管部とを前記搬送経路中に備えたことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項2】 前記露光装置は、前記基板交換手段によ
って保持された前記複数の基板から成る第1の組による
露光中に、他の複数の基板から成る第2の組を前記基板
保管手段から搬出し、前記予備位置決め手段を介して前
記一時保管部に保管し、前記第1の組による露光が終了
した際に該第1の組と前記第2の組とを前記基板搬送手
段によって入れ換える搬送制御手段を更に備えたことを
特徴とする露光装置。 - 【請求項3】 前記基板交換手段は、前記複数の基板の
それぞれを個別に前記所定の位置に対して精密に位置決
めする精密位置決め手段を備えていることを特徴とする
請求項1または2記載の露光装置。 - 【請求項4】 レチクル保管手段に保管された複数のレ
チクルを順次レチクルステージに搬送して、前記複数の
レチクルを用いて基板にパタ−ンを露光する露光装置に
おいて、 前記レチクル保管手段と前記レチクルステージとの間に
設けられ、前記複数のレチクルのうち所定のレチクルを
一時的に保管する一時保管手段と、 前記一時保管手段と前記レチクルステージとの間に設け
られ、前記レチクルステージに搬送するレチクルを複数
保持可能な保持手段とを備えたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項5】 前記保持手段は、前記レチクルステージ
との間で前記レチクルを搬送する搬送手段を備えている
ことを特徴とする請求項4記載の露光装置。 - 【請求項6】 レチクル保管手段に保管された複数のレ
チクルを用いて基板にパタ−ンを露光する露光装置にお
いて、 前記複数のレチクルのうち前記露光すべきパタ−ンを有
したレチクルを複数保持するレチクルステージと、 前記レチクル保管手段と前記レチクルステージとの間に
設けられ、前記複数のレチクルのうち所定のレチクルを
一時的に保管する一時保管手段とを備えたことを特徴と
する露光装置。 - 【請求項7】 前記複数のレチクルを保持したレチクル
ステージを駆動制御する制御装置を備えたことを特徴と
する請求項6記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9801893A JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9801893A JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06310398A JPH06310398A (ja) | 1994-11-04 |
JP3287058B2 true JP3287058B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=14208118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9801893A Expired - Lifetime JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3287058B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH098103A (ja) * | 1995-06-19 | 1997-01-10 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
US7242458B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
US7961291B2 (en) * | 2005-12-23 | 2011-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9801893A patent/JP3287058B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06310398A (ja) | 1994-11-04 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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