JP3287058B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JP3287058B2 JP3287058B2 JP9801893A JP9801893A JP3287058B2 JP 3287058 B2 JP3287058 B2 JP 3287058B2 JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP 9801893 A JP9801893 A JP 9801893A JP 3287058 B2 JP3287058 B2 JP 3287058B2
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- Japan
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- reticle
- substrate
- stage
- exposure apparatus
- reticles
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子や液晶表示基
板等の製造に用いられる投影露光装置に関するものであ
り、特に露光すべきパターンを形成したマスクを収納場
所から露光位置に搬送する搬送装置に関するものであ
る。
板等の製造に用いられる投影露光装置に関するものであ
り、特に露光すべきパターンを形成したマスクを収納場
所から露光位置に搬送する搬送装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の装置は、図４に示すよう
な構成であった。即ち、不図示の照明光学系からの光束
によってレチクルステージ５上に載置されたレチクル
（不図示）を照明し、レチクル上のパターンの像が、投
影光学系ＰＬを介してプレートステージ７上のプレート
Ｐに投影される。この露光装置は不図示のアライメント
光学系によってレチクルの位置を検出する構成となって
いる。また、投影光学系ＰＬの光軸に対してレチクルを
位置決めするため、アライメント光学系の検出結果に基
づいて、レチクルステージ５を位置決めする。
な構成であった。即ち、不図示の照明光学系からの光束
によってレチクルステージ５上に載置されたレチクル
（不図示）を照明し、レチクル上のパターンの像が、投
影光学系ＰＬを介してプレートステージ７上のプレート
Ｐに投影される。この露光装置は不図示のアライメント
光学系によってレチクルの位置を検出する構成となって
いる。また、投影光学系ＰＬの光軸に対してレチクルを
位置決めするため、アライメント光学系の検出結果に基
づいて、レチクルステージ５を位置決めする。
【０００３】一方、露光に用いられる複数のレチクル
（不図示）は、それぞれ個別のケースに入れられてレチ
クルライブラリ１に保管されている。レチクルライブラ
リ１内に進入可能に配置されたフォーク２は、レチクル
ライブラリ１のケースから必要なレチクルを取り出し、
または不要なレチクルをレチクルライブラリ１に収納す
る。レチクルライブラリ１からレチクルステージ５まで
の搬送経路中には、レチクルの大まかな位置合わせを行
うプリアライメント機構３が備えられている。その他、
レチクルステージ５上にレチクルを搬入するロードアー
ム４Ａと、図のＹ方向にロードアーム４Ａと独立に、ま
た図のＺ方向にはロードアーム４Ａと一体に移動する構
成で、レチクルステージ５上からレチクルを搬出するア
ンロードアーム４Ｂとを備えている。
（不図示）は、それぞれ個別のケースに入れられてレチ
クルライブラリ１に保管されている。レチクルライブラ
リ１内に進入可能に配置されたフォーク２は、レチクル
ライブラリ１のケースから必要なレチクルを取り出し、
または不要なレチクルをレチクルライブラリ１に収納す
る。レチクルライブラリ１からレチクルステージ５まで
の搬送経路中には、レチクルの大まかな位置合わせを行
うプリアライメント機構３が備えられている。その他、
レチクルステージ５上にレチクルを搬入するロードアー
ム４Ａと、図のＹ方向にロードアーム４Ａと独立に、ま
た図のＺ方向にはロードアーム４Ａと一体に移動する構
成で、レチクルステージ５上からレチクルを搬出するア
ンロードアーム４Ｂとを備えている。
【０００４】尚、フォーク２はレチクルライブラリ１か
らプリアライメント機構３までの間のレチクルの搬送を
担当し、プリアライメント機構３からレチクルステージ
５への搬送（搬入）はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５からレチクルライブラリ１への搬送（搬
出）はアンロードアーム４Ｂとフォーク２とが、それぞ
れ受け持つ。
らプリアライメント機構３までの間のレチクルの搬送を
担当し、プリアライメント機構３からレチクルステージ
５への搬送（搬入）はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５からレチクルライブラリ１への搬送（搬
出）はアンロードアーム４Ｂとフォーク２とが、それぞ
れ受け持つ。
【０００５】先ず、レチクルライブラリ１内のレチクル
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し、
プリアライメント機構３まで搬送する。プリアライメン
ト機構３は、フォーク２上のレチクルを所定の位置に大
まかに整合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ
１を受け取る。次に、ロードアーム４Ａがプリアライメ
ント機構３よりレチクルを受け取り、レチクルをレチク
ルステージ５に受け渡す。レチクルステージ５にレチク
ルが載置されると不図示のアライメント光学系に基づい
てアライメントし、プレートＰに対して露光を行う。
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し、
プリアライメント機構３まで搬送する。プリアライメン
ト機構３は、フォーク２上のレチクルを所定の位置に大
まかに整合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ
１を受け取る。次に、ロードアーム４Ａがプリアライメ
ント機構３よりレチクルを受け取り、レチクルをレチク
ルステージ５に受け渡す。レチクルステージ５にレチク
ルが載置されると不図示のアライメント光学系に基づい
てアライメントし、プレートＰに対して露光を行う。
【０００６】露光が終了すると、アンロードアーム４Ｂ
がレチクルステージ５からレチクルを受け取り、フォー
ク２を介してレチクルライブラリ１に収納する。その
後、新たなレチクルをレチクルライブラリ１から搬出し
て、上述と同様にしてレチクルステージ５上に載置し、
露光を行うことを繰り返す。
がレチクルステージ５からレチクルを受け取り、フォー
ク２を介してレチクルライブラリ１に収納する。その
後、新たなレチクルをレチクルライブラリ１から搬出し
て、上述と同様にしてレチクルステージ５上に載置し、
露光を行うことを繰り返す。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、レチクルステージ上に載置されたレチクル
を除いて、レチクルは搬送経路中には１枚しか存在する
ことができない。露光工程では、頻繁にレチクルを交換
しながら露光する場合が多く、従来の装置におけるレチ
クル交換は非効率的であった。また、レチクル交換時間
の短縮を行うためにはフォークやロードアーム等、それ
ぞれの移動速度を大きくすることが考えられるが、その
方法で行える交換時間の短縮には限界があった。
においては、レチクルステージ上に載置されたレチクル
を除いて、レチクルは搬送経路中には１枚しか存在する
ことができない。露光工程では、頻繁にレチクルを交換
しながら露光する場合が多く、従来の装置におけるレチ
クル交換は非効率的であった。また、レチクル交換時間
の短縮を行うためにはフォークやロードアーム等、それ
ぞれの移動速度を大きくすることが考えられるが、その
方法で行える交換時間の短縮には限界があった。
【０００８】本発明は、露光装置のレチクル交換を効率
的に行い、スループットの高い露光装置を提供すること
を目的とする。
的に行い、スループットの高い露光装置を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】 上記問題点を解決する
ために一実施例を表す図面に対応して説明すると、請求
項１記載の露光装置は、複数の基板を保管する基板保管
手段（１）と、基板を所定の位置に保持する基板ステー
ジ（５）と、基板保管手段（１）と基板ステージ（５）
との間で基板を搬送する基板搬送手段（２，４Ａ，４
Ｂ）と、基板搬送手段（２，４Ａ，４Ｂ）による搬送経
路中に設けられ、基板を所定の位置に対して大まかに位
置決めする予備位置決め手段（３）とを備えた露光装置
であって、複数基板を一体に保持するとともに、所定の
位置に対して移動することによって基板ステージ（５）
に対して基板を受け渡す基板交換手段（６，９）と；予
備位置決め手段（３）によって位置決めされた基板を一
時的に保管する一時保管部（８）とを搬送経路中に備え
ている。請求項２記載の露光装置は、基板交換手段
（３）によって保持された複数の基板から成る第１の組
による露光中に、他の複数の基板から成る第２の組を基
板保管手段（１）から搬出し、予備位置決め手段（３）
を介して一時保管部（８）に保管し、第１の組による露
光が終了した際に第１の組と第２の組とを基板搬送手段
（２，４Ａ，４Ｂ）によって入れ換える搬送制御手段
（CNT）を備えている。請求項３記載の露光装置は、基
板交換手段（６，９）が複数の基板のそれぞれを個別に
所定の位置に対して精密に位置決めする精密位置決め手
段を備えている。請求項４記載の露光装置は、レチクル
保管手段（１）に保管された複数のレチクルを順次レチ
クルステージ（５）に搬送して、複数のレチクルを用い
て基板にパタ−ンを露光する露光装置であって、レチク
ル保管手段（１）とレチクルステージ（５）との間に設
けられ、複数のレチクルのうち所定のレチクルを一時的
に保管する一時保管手段（８）と、一時保管手段（８）
とレチクルステージ（５）との間に設けられ、レチクル
ステージ（５）に搬送するレチクルを複数保持可能な保
持手段（６）とを備えている。請求項５記載の露光装置
は、保持手段（６）がレチクルステージ（５）との間で
レチクルを搬送する搬送手段（６A,６B,６C）を備えて
いる。請求項６記載の露光装置は、レチクル保管手段
（１）に保管された複数のレチクルを用いて基板にパタ
−ンを露光する露光装置であって、複数のレチクルのう
ち露光すべきパタ−ンを有したレチクルを複数保持する
レチクルステージ（９）と、レチクル保管手段（１）と
レチクルステージ（９）との間に設けられ、複数のレチ
クルのうち所定のレチクルを一時的に保管する一時保管
手段（８）とを備えている。請求項７記載の露光装置
は、複数のレチクルを保持したレチクルステージ（９）
を駆動制御する制御装置（CNT）を備えている。
ために一実施例を表す図面に対応して説明すると、請求
項１記載の露光装置は、複数の基板を保管する基板保管
手段（１）と、基板を所定の位置に保持する基板ステー
ジ（５）と、基板保管手段（１）と基板ステージ（５）
との間で基板を搬送する基板搬送手段（２，４Ａ，４
Ｂ）と、基板搬送手段（２，４Ａ，４Ｂ）による搬送経
路中に設けられ、基板を所定の位置に対して大まかに位
置決めする予備位置決め手段（３）とを備えた露光装置
であって、複数基板を一体に保持するとともに、所定の
位置に対して移動することによって基板ステージ（５）
に対して基板を受け渡す基板交換手段（６，９）と；予
備位置決め手段（３）によって位置決めされた基板を一
時的に保管する一時保管部（８）とを搬送経路中に備え
ている。請求項２記載の露光装置は、基板交換手段
（３）によって保持された複数の基板から成る第１の組
による露光中に、他の複数の基板から成る第２の組を基
板保管手段（１）から搬出し、予備位置決め手段（３）
を介して一時保管部（８）に保管し、第１の組による露
光が終了した際に第１の組と第２の組とを基板搬送手段
（２，４Ａ，４Ｂ）によって入れ換える搬送制御手段
（CNT）を備えている。請求項３記載の露光装置は、基
板交換手段（６，９）が複数の基板のそれぞれを個別に
所定の位置に対して精密に位置決めする精密位置決め手
段を備えている。請求項４記載の露光装置は、レチクル
保管手段（１）に保管された複数のレチクルを順次レチ
クルステージ（５）に搬送して、複数のレチクルを用い
て基板にパタ−ンを露光する露光装置であって、レチク
ル保管手段（１）とレチクルステージ（５）との間に設
けられ、複数のレチクルのうち所定のレチクルを一時的
に保管する一時保管手段（８）と、一時保管手段（８）
とレチクルステージ（５）との間に設けられ、レチクル
ステージ（５）に搬送するレチクルを複数保持可能な保
持手段（６）とを備えている。請求項５記載の露光装置
は、保持手段（６）がレチクルステージ（５）との間で
レチクルを搬送する搬送手段（６A,６B,６C）を備えて
いる。請求項６記載の露光装置は、レチクル保管手段
（１）に保管された複数のレチクルを用いて基板にパタ
−ンを露光する露光装置であって、複数のレチクルのう
ち露光すべきパタ−ンを有したレチクルを複数保持する
レチクルステージ（９）と、レチクル保管手段（１）と
レチクルステージ（９）との間に設けられ、複数のレチ
クルのうち所定のレチクルを一時的に保管する一時保管
手段（８）とを備えている。請求項７記載の露光装置
は、複数のレチクルを保持したレチクルステージ（９）
を駆動制御する制御装置（CNT）を備えている。
【００１０】
【作用】本発明では、レチクルステージに対して露光に
必要な複数のレチクルを交換可能に保持するレチクルチ
ェンジャを備えた露光装置のレチクル搬送系において、
レチクルチェンジャが保持するレチクルによる露光中に
新たなレチクルを準備して一時的に保管する保管庫を備
える構成としたため、レチクルの交換に要する搬送経路
がレチクルチェンジャと保管庫との間のみとなり、また
レチクルの交換準備を効率的に行うことができることと
なるので、総合的なレチクルの交換を迅速に行うことが
可能となる。
必要な複数のレチクルを交換可能に保持するレチクルチ
ェンジャを備えた露光装置のレチクル搬送系において、
レチクルチェンジャが保持するレチクルによる露光中に
新たなレチクルを準備して一時的に保管する保管庫を備
える構成としたため、レチクルの交換に要する搬送経路
がレチクルチェンジャと保管庫との間のみとなり、また
レチクルの交換準備を効率的に行うことができることと
なるので、総合的なレチクルの交換を迅速に行うことが
可能となる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明の第１の実施例による投影露
光装置の概略的な構成を示す図である。不図示の照明光
学系からの光束によってレチクルステージ５上に載置さ
れたレチクル（不図示）を照明し、レチクル上のパター
ンの像が、投影光学系ＰＬを介してプレートステージ７
上のプレートＰに投影される。この露光装置は不図示の
アライメント光学系によってレチクルの位置を検出する
構成となっている。また、投影光学系ＰＬに対してレチ
クルを位置決めするため、アライメント光学系の検出結
果に基づいて、レチクルステージ５を位置決めする。
光装置の概略的な構成を示す図である。不図示の照明光
学系からの光束によってレチクルステージ５上に載置さ
れたレチクル（不図示）を照明し、レチクル上のパター
ンの像が、投影光学系ＰＬを介してプレートステージ７
上のプレートＰに投影される。この露光装置は不図示の
アライメント光学系によってレチクルの位置を検出する
構成となっている。また、投影光学系ＰＬに対してレチ
クルを位置決めするため、アライメント光学系の検出結
果に基づいて、レチクルステージ５を位置決めする。
【００１２】一方、露光に用いられる複数のレチクル
（不図示）Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，…は、それぞれ個別のケ
ースに入れられてレチクルライブラリ１に保管されてい
る。レチクルライブラリ１内に進入可能に配置されたフ
ォーク２は、レチクルライブラリ１のケースから必要な
レチクルを取り出し、または不要なレチクルをレチクル
ライブラリ１内に収納する。レチクルライブラリ１から
レチクルステージ５までの搬送経路中には、レチクルの
大まかな位置合わせを行うプリアライメント機構３と、
複数のレチクルを一時的に保管しておく保管庫８が備え
られている。その他、レチクルステージ５上にレチクル
を搬入するロードアーム４Ａと、図のＹ方向にロードア
ーム４Ａと独立に、また図のＺ方向にはロードアーム４
Ａと一体に移動する構成で、レチクルステージ５上から
レチクルを搬出するアンロードアーム４Ｂとを備えてい
る。
（不図示）Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，…は、それぞれ個別のケ
ースに入れられてレチクルライブラリ１に保管されてい
る。レチクルライブラリ１内に進入可能に配置されたフ
ォーク２は、レチクルライブラリ１のケースから必要な
レチクルを取り出し、または不要なレチクルをレチクル
ライブラリ１内に収納する。レチクルライブラリ１から
レチクルステージ５までの搬送経路中には、レチクルの
大まかな位置合わせを行うプリアライメント機構３と、
複数のレチクルを一時的に保管しておく保管庫８が備え
られている。その他、レチクルステージ５上にレチクル
を搬入するロードアーム４Ａと、図のＹ方向にロードア
ーム４Ａと独立に、また図のＺ方向にはロードアーム４
Ａと一体に移動する構成で、レチクルステージ５上から
レチクルを搬出するアンロードアーム４Ｂとを備えてい
る。
【００１３】尚、フォーク２はレチクルライブラリ１と
プリアライメント機構３との間のレチクルの搬送、及び
保管庫８からレチクルライブラリ１までの搬送を担当
し、プリアライメント機構３からレチクルステージ５、
若しくは保管庫８への搬送、及び保管庫８からレチクル
ステージ５への搬送はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５から保管庫８への搬送はアンロードアーム
４Ｂが、それぞれ受け持つ。また、これらフォーク２、
ロードアーム４Ａ、アンロードアーム４Ｂ、及び上記の
レチクルチェンジャ６の動作はコントローラＣＮＴによ
って制御されている。さらに、コントローラＣＮＴは、
照明光学系のシャッタやステージ７等を制御する不図示
の露光制御装置と接続されており、露光制御装置の出力
する露光指令に応じてレチクルチェンジャ６等を制御す
る構成となっている。
プリアライメント機構３との間のレチクルの搬送、及び
保管庫８からレチクルライブラリ１までの搬送を担当
し、プリアライメント機構３からレチクルステージ５、
若しくは保管庫８への搬送、及び保管庫８からレチクル
ステージ５への搬送はロードアーム４Ａが、またレチク
ルステージ５から保管庫８への搬送はアンロードアーム
４Ｂが、それぞれ受け持つ。また、これらフォーク２、
ロードアーム４Ａ、アンロードアーム４Ｂ、及び上記の
レチクルチェンジャ６の動作はコントローラＣＮＴによ
って制御されている。さらに、コントローラＣＮＴは、
照明光学系のシャッタやステージ７等を制御する不図示
の露光制御装置と接続されており、露光制御装置の出力
する露光指令に応じてレチクルチェンジャ６等を制御す
る構成となっている。
【００１４】レチクルステージ５に載置されたレチクル
は、位置決めされた後に、この位置を維持したままレチ
クルチェンジャ６のレチクル保持部６Ａ〜６Ｃに移替え
られ、必要に応じて再度レチクルステージ５に載置され
る。図１に示す露光装置の例では、レチクルチェンジャ
６上には３枚のレチクルを載置する構成となっており、
レチクル３枚を１組と考える。
は、位置決めされた後に、この位置を維持したままレチ
クルチェンジャ６のレチクル保持部６Ａ〜６Ｃに移替え
られ、必要に応じて再度レチクルステージ５に載置され
る。図１に示す露光装置の例では、レチクルチェンジャ
６上には３枚のレチクルを載置する構成となっており、
レチクル３枚を１組と考える。
【００１５】上記の装置におけるレチクルの搬送動作に
ついて図３を用いて説明する。先ず、レチクルライブラ
リ１内のレチクルＲ１をフォーク２にてレチクルライブ
ラリ１から取り出し、プリアライメント機構３まで搬送
する（ステップ１０１）。プリアライメント機構３は、
フォーク２上のレチクルＲ１を所定の位置に大まかに整
合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ１を受け
取る（ステップ１０２）。
ついて図３を用いて説明する。先ず、レチクルライブラ
リ１内のレチクルＲ１をフォーク２にてレチクルライブ
ラリ１から取り出し、プリアライメント機構３まで搬送
する（ステップ１０１）。プリアライメント機構３は、
フォーク２上のレチクルＲ１を所定の位置に大まかに整
合させるとともに、フォーク２からレチクルＲ１を受け
取る（ステップ１０２）。
【００１６】次に、ロードアーム４Ａがプリアライメン
ト機構３よりレチクルＲ１を受け取り、レチクルＲ１を
レチクルステージ５に受け渡す（ステップ１０３）。レ
チクルステージ５にレチクルＲ１が載置されると、一
旦、レチクルチェンジャの全てのレチクル保持部上にレ
チクルが載置されているか否かを判断した上で、不図示
のアライメント光学系に基づいて所定位置（露光時に投
影光学系ＰＬに対して位置決めされているべき位置）に
ステージ５上のレチクルＲ１をアライメントする（ステ
ップ１０４）。この時、図のＸ方向及びＺ方向にそれぞ
れ所定のストローク内で移動可能なレチクルチェンジャ
のフォーク６がＺ方向のストロークの下端にあり、レチ
クル保持部６Ａがレチクルステージ５とのアクセス位置
（レチクルの受け渡しが可能な位置）にある。
ト機構３よりレチクルＲ１を受け取り、レチクルＲ１を
レチクルステージ５に受け渡す（ステップ１０３）。レ
チクルステージ５にレチクルＲ１が載置されると、一
旦、レチクルチェンジャの全てのレチクル保持部上にレ
チクルが載置されているか否かを判断した上で、不図示
のアライメント光学系に基づいて所定位置（露光時に投
影光学系ＰＬに対して位置決めされているべき位置）に
ステージ５上のレチクルＲ１をアライメントする（ステ
ップ１０４）。この時、図のＸ方向及びＺ方向にそれぞ
れ所定のストローク内で移動可能なレチクルチェンジャ
のフォーク６がＺ方向のストロークの下端にあり、レチ
クル保持部６Ａがレチクルステージ５とのアクセス位置
（レチクルの受け渡しが可能な位置）にある。
【００１７】ここで、現在ステージ５上に載置されてい
るレチクルＲ１がレチクルチェンジャに対する最後のレ
チクルかどうか判断する（ステップ１０５）。この場合
は、まだ１枚目のレチクルなのでステップ１０６に移っ
てレチクルをレチクルチェンジャ上の保持部に載置す
る。つまり、フォーク６がＺ方向に上昇することにより
レチクルステージ５よりレチクル保持部６Ａ上にレチク
ルＲ１を受け取り、ストロークの上端で停止する。次に
フォーク６は、Ｘ方向に移動してレチクル保持部６Ｂが
レチクルステージ５とのアクセス位置に来た位置で停止
する。その後、Ｚ方向のストロークの下端まで下降し、
次に受け取るべきレチクルＲ２の受け取り準備が完了す
る。
るレチクルＲ１がレチクルチェンジャに対する最後のレ
チクルかどうか判断する（ステップ１０５）。この場合
は、まだ１枚目のレチクルなのでステップ１０６に移っ
てレチクルをレチクルチェンジャ上の保持部に載置す
る。つまり、フォーク６がＺ方向に上昇することにより
レチクルステージ５よりレチクル保持部６Ａ上にレチク
ルＲ１を受け取り、ストロークの上端で停止する。次に
フォーク６は、Ｘ方向に移動してレチクル保持部６Ｂが
レチクルステージ５とのアクセス位置に来た位置で停止
する。その後、Ｚ方向のストロークの下端まで下降し、
次に受け取るべきレチクルＲ２の受け取り準備が完了す
る。
【００１８】以上のように、レチクルチェンジャに対す
る最後のレチクルをステージ上に載置するまで上記と同
様にしてレチクルチェンジャ上にレチクルを載置する。
即ち、１枚目のレチクルＲ１と同様の手順で２枚目のレ
チクルＲ２をレチクル保持部６Ｂに収納する。但し、図
のステップ１０１からステップ１０２の動作は、ステッ
プ１０３以降の動作と並行して行うほうが効率的であ
る。そうすれば、ステップ１０５で否定された後、直ち
にステップ１０３の動作を行うことが可能となる。
る最後のレチクルをステージ上に載置するまで上記と同
様にしてレチクルチェンジャ上にレチクルを載置する。
即ち、１枚目のレチクルＲ１と同様の手順で２枚目のレ
チクルＲ２をレチクル保持部６Ｂに収納する。但し、図
のステップ１０１からステップ１０２の動作は、ステッ
プ１０３以降の動作と並行して行うほうが効率的であ
る。そうすれば、ステップ１０５で否定された後、直ち
にステップ１０３の動作を行うことが可能となる。
【００１９】一方、ステップ１０５で最後のレチクルで
あると判断されれば、ステップ１０７に移って露光を行
う。露光の際には、必要なレチクルをレチクル保持部６
Ａ〜６Ｃからレチクルステージ５に移替えることによっ
てプレートＰに対する露光を行うが、上記の場合、ステ
ージ５上にレチクルＲ３が載置されているので、このレ
チクルＲ３から露光を行えば効率的である。
あると判断されれば、ステップ１０７に移って露光を行
う。露光の際には、必要なレチクルをレチクル保持部６
Ａ〜６Ｃからレチクルステージ５に移替えることによっ
てプレートＰに対する露光を行うが、上記の場合、ステ
ージ５上にレチクルＲ３が載置されているので、このレ
チクルＲ３から露光を行えば効率的である。
【００２０】さて、レチクルＲ１〜Ｒ３を用いて露光を
行っている間に、後の露光に使用する予定の（準備すべ
き）レチクルが有るか否かを判断し（ステップ１０
８）、有ればそのレチクル（この場合、レチクルＲ４〜
Ｒ６）を保管庫８内に準備する。つまり、レチクルＲ４
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し
（ステップ１０９）、プリアライメント機構３まで搬送
する。プリアライメント機構３は、フォーク２上のレチ
クルＲ４を所定の位置に整合させるとともに（ステップ
１１０）、フォーク２からレチクルＲ４を受け取る。
行っている間に、後の露光に使用する予定の（準備すべ
き）レチクルが有るか否かを判断し（ステップ１０
８）、有ればそのレチクル（この場合、レチクルＲ４〜
Ｒ６）を保管庫８内に準備する。つまり、レチクルＲ４
をフォーク２にてレチクルライブラリ１から取り出し
（ステップ１０９）、プリアライメント機構３まで搬送
する。プリアライメント機構３は、フォーク２上のレチ
クルＲ４を所定の位置に整合させるとともに（ステップ
１１０）、フォーク２からレチクルＲ４を受け取る。
【００２１】次に、ロードアーム４Ａがプリアライメン
ト機構３よりレチクルＲ４を受け取るとともに、現在ロ
ードアーム４Ａ上に載置されているレチクルＲ４が準備
すべき最後のレチクルかどうか判断する（ステップ１１
１）。この場合は、まだ１枚目のレチクルなのでステッ
プ１１２に移ってレチクルを保管庫８内の１段目の収納
場所８ＡにレチクルＲ４を収納する。同様の動作にてＲ
５を２段目の収納場所８Ｂに収納する。一方、ステップ
１１１で最後のレチクルと判断された場合は、そのレチ
クルをロードアーム４Ａ上に保持したまま待機する（ス
テップ１１３）。即ち、レチクル３枚を１組とした場合
の残りであるレチクルＲ６は、上述のようにプリアライ
メント機構３で整合された後は、ロードアーム４Ａが受
け取ったままでレチクルＲ１〜Ｒ３の露光が終了するま
で待機する。
ト機構３よりレチクルＲ４を受け取るとともに、現在ロ
ードアーム４Ａ上に載置されているレチクルＲ４が準備
すべき最後のレチクルかどうか判断する（ステップ１１
１）。この場合は、まだ１枚目のレチクルなのでステッ
プ１１２に移ってレチクルを保管庫８内の１段目の収納
場所８ＡにレチクルＲ４を収納する。同様の動作にてＲ
５を２段目の収納場所８Ｂに収納する。一方、ステップ
１１１で最後のレチクルと判断された場合は、そのレチ
クルをロードアーム４Ａ上に保持したまま待機する（ス
テップ１１３）。即ち、レチクル３枚を１組とした場合
の残りであるレチクルＲ６は、上述のようにプリアライ
メント機構３で整合された後は、ロードアーム４Ａが受
け取ったままでレチクルＲ１〜Ｒ３の露光が終了するま
で待機する。
【００２２】次のステップ１１４で露光が終了したと判
断すると、その時点でレチクルステージ５上に載置され
ているレチクル（例えばレチクルＲ１）をアンロードア
ーム４Ｂで取り出してＹ方向に移動し、レチクルライブ
ラリ１側の基準位置（図に破線で示す位置）で停止する
（ステップ１１５）。レチクルステージ５からレチクル
Ｒ１が搬出された後は、レチクルＲ６を保持したロード
アーム４ＡがＹ方向にレチクルステージ５まで移動して
レチクルＲ６をレチクルステージ５に受け渡し、上記基
準位置まで戻る（ステップ１１６）。その後、アンロー
ドアーム４Ｂはロードアーム４ＡとともにＺ方向に移動
して保管庫８の３段目の収納場所への受け渡し高さで停
止し、保管庫８内に進入して３段目の収納場所８Ｃにレ
チクルＲ１を収納する。
断すると、その時点でレチクルステージ５上に載置され
ているレチクル（例えばレチクルＲ１）をアンロードア
ーム４Ｂで取り出してＹ方向に移動し、レチクルライブ
ラリ１側の基準位置（図に破線で示す位置）で停止する
（ステップ１１５）。レチクルステージ５からレチクル
Ｒ１が搬出された後は、レチクルＲ６を保持したロード
アーム４ＡがＹ方向にレチクルステージ５まで移動して
レチクルＲ６をレチクルステージ５に受け渡し、上記基
準位置まで戻る（ステップ１１６）。その後、アンロー
ドアーム４Ｂはロードアーム４ＡとともにＺ方向に移動
して保管庫８の３段目の収納場所への受け渡し高さで停
止し、保管庫８内に進入して３段目の収納場所８Ｃにレ
チクルＲ１を収納する。
【００２３】レチクルを保持していないロードアーム４
Ａは２段目の収納場所８Ｂに対するレチクル受け渡し高
さまでＺ方向の移動をし、保管庫８内に進入してレチク
ルＲ５を受け取る。ここでアンロードアーム４Ｂはロー
ドアーム４ＡとともにＺ方向に上昇し、レチクルステー
ジ５に対する受け渡し高さで停止する。この時、既にレ
チクルステージ５上にはレチクル保持部６Ｂ上に保持さ
れていたレチクルＲ２が載置されている。この後は、上
述と同様にしてレチクルＲ２，Ｒ３をそれぞれ収納場所
８Ｂ，収納場所８Ａへ収納するとともに、収納場所８
Ｂ、収納場所８Ａに収納されていたレチクルＲ５，Ｒ４
をレチクル保持部６Ｂ，６Ｃに移す。以上の動作によ
り、露光の終了したレチクルＲ１〜Ｒ３と次回の露光に
使用するレチクルＲ４〜Ｒ６の交換が完了する。
Ａは２段目の収納場所８Ｂに対するレチクル受け渡し高
さまでＺ方向の移動をし、保管庫８内に進入してレチク
ルＲ５を受け取る。ここでアンロードアーム４Ｂはロー
ドアーム４ＡとともにＺ方向に上昇し、レチクルステー
ジ５に対する受け渡し高さで停止する。この時、既にレ
チクルステージ５上にはレチクル保持部６Ｂ上に保持さ
れていたレチクルＲ２が載置されている。この後は、上
述と同様にしてレチクルＲ２，Ｒ３をそれぞれ収納場所
８Ｂ，収納場所８Ａへ収納するとともに、収納場所８
Ｂ、収納場所８Ａに収納されていたレチクルＲ５，Ｒ４
をレチクル保持部６Ｂ，６Ｃに移す。以上の動作によ
り、露光の終了したレチクルＲ１〜Ｒ３と次回の露光に
使用するレチクルＲ４〜Ｒ６の交換が完了する。
【００２４】次のステップ１１７でレチクルの交換が終
了したと判断した後はレチクルＲ４〜Ｒ６で露光を行
い、その間にレチクルＲ１〜Ｒ３をレチクルライブラリ
１に収納する（ステップ１１８）。また、さらに準備す
べきレチクルが有る場合は（ステップ１１９）、レチク
ルＲ４〜Ｒ６の露光中に上記と同様にして準備すればよ
い。尚、レチクルＲ１〜Ｒ３による露光中に保管庫８に
準備するレチクルをＲ４〜Ｒ６としたが、時間的な余裕
があれば、さらに次のレチクルを保管庫内に準備するよ
うにしても構わない。
了したと判断した後はレチクルＲ４〜Ｒ６で露光を行
い、その間にレチクルＲ１〜Ｒ３をレチクルライブラリ
１に収納する（ステップ１１８）。また、さらに準備す
べきレチクルが有る場合は（ステップ１１９）、レチク
ルＲ４〜Ｒ６の露光中に上記と同様にして準備すればよ
い。尚、レチクルＲ１〜Ｒ３による露光中に保管庫８に
準備するレチクルをＲ４〜Ｒ６としたが、時間的な余裕
があれば、さらに次のレチクルを保管庫内に準備するよ
うにしても構わない。
【００２５】図２は、本発明の第２の実施例による露光
装置の概略的な構成を示す図である。これは、レチクル
チェンジャとレチクルステージとが一体に構成されてい
るものであり、レチクルチェンジャ９上のレチクル保持
部１０Ａ〜１０Ｃの夫々にレチクルが載置されたまま図
のＸ方向にレチクルステージ９が移動する。つまり、図
１に示す装置のようにレチクルチェンジャとレチクルス
テージとの間でレチクルの受け渡しを行う必要がない構
成である。レチクルは、レチクル保持部１０Ａ〜１０Ｃ
とロードアーム４Ａ，アンロードアーム４Ｂとの間で受
け渡すようになっており、それ以外は図１に示す装置と
同様の構成である。第２の実施例では、第１の実施例に
あるレチクルチェンジャ６とレチクルステージ５の間で
の受け渡しが省略できた分、レチクル交換に要する時間
がさらに短縮する。
装置の概略的な構成を示す図である。これは、レチクル
チェンジャとレチクルステージとが一体に構成されてい
るものであり、レチクルチェンジャ９上のレチクル保持
部１０Ａ〜１０Ｃの夫々にレチクルが載置されたまま図
のＸ方向にレチクルステージ９が移動する。つまり、図
１に示す装置のようにレチクルチェンジャとレチクルス
テージとの間でレチクルの受け渡しを行う必要がない構
成である。レチクルは、レチクル保持部１０Ａ〜１０Ｃ
とロードアーム４Ａ，アンロードアーム４Ｂとの間で受
け渡すようになっており、それ以外は図１に示す装置と
同様の構成である。第２の実施例では、第１の実施例に
あるレチクルチェンジャ６とレチクルステージ５の間で
の受け渡しが省略できた分、レチクル交換に要する時間
がさらに短縮する。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、請求項１から３記載の露
光装置は、基板交換手段と一時保管部とを備えているの
で、基板交換時の基板搬送経路が短くなり、基板交換時
間を短縮することができる。また、次の露光に必要な基
板を露光中に準備できるため、効率的な基板の搬送をす
ることができる。請求項４及び５記載の露光装置は、一
時保管手段と保持手段とを備えているので、レチクル交
換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間を短縮す
ることができる。請求項６及び７記載の露光装置は、レ
チクルステージと一時保管手段とを備えているので、レ
チクル交換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間
を短縮することができる。
光装置は、基板交換手段と一時保管部とを備えているの
で、基板交換時の基板搬送経路が短くなり、基板交換時
間を短縮することができる。また、次の露光に必要な基
板を露光中に準備できるため、効率的な基板の搬送をす
ることができる。請求項４及び５記載の露光装置は、一
時保管手段と保持手段とを備えているので、レチクル交
換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間を短縮す
ることができる。請求項６及び７記載の露光装置は、レ
チクルステージと一時保管手段とを備えているので、レ
チクル交換時の搬送経路が短くなり、レチクル交換時間
を短縮することができる。
【図１】本発明の第１の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図２】本発明の第２の実施例による露光装置の概略的
な構成を示す図
な構成を示す図
【図３】本発明の第１の実施例による露光装置の動作を
表すフローチャート
表すフローチャート
【図４】従来の技術による露光装置の概略的な構成を示
す図
す図
１ レチクルライブラリ ２ フォーク ３ プリアライメント機構 ４Ａ ロードアーム ４Ｂ アンロードアーム ５ レチクルステージ ６，９ レチクルチェンジャ ８ 保管庫 ＣＮＴ 制御装置
Claims (7)
- 【請求項１】 複数の基板を保管する基板保管手段と、
前記基板を所定の位置に保持する基板ステージと、前記
基板保管手段と前記基板ステージとの間で前記基板を搬
送する基板搬送手段と、該基板搬送手段による搬送経路
中に設けられ、前記基板を前記所定の位置に対して大ま
かに位置決めする予備位置決め手段とを備えた露光装置
において、 前記複数基板を一体に保持するとともに、前記所定の位
置に対して移動することによって前記基板ステージに対
して前記基板を受け渡す基板交換手段と；前記予備位置
決め手段によって位置決めされた前記基板を一時的に保
管する一時保管部とを前記搬送経路中に備えたことを特
徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記露光装置は、前記基板交換手段によ
って保持された前記複数の基板から成る第１の組による
露光中に、他の複数の基板から成る第２の組を前記基板
保管手段から搬出し、前記予備位置決め手段を介して前
記一時保管部に保管し、前記第１の組による露光が終了
した際に該第１の組と前記第２の組とを前記基板搬送手
段によって入れ換える搬送制御手段を更に備えたことを
特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記基板交換手段は、前記複数の基板の
それぞれを個別に前記所定の位置に対して精密に位置決
めする精密位置決め手段を備えていることを特徴とする
請求項１または２記載の露光装置。 - 【請求項４】 レチクル保管手段に保管された複数のレ
チクルを順次レチクルステージに搬送して、前記複数の
レチクルを用いて基板にパタ−ンを露光する露光装置に
おいて、 前記レチクル保管手段と前記レチクルステージとの間に
設けられ、前記複数のレチクルのうち所定のレチクルを
一時的に保管する一時保管手段と、 前記一時保管手段と前記レチクルステージとの間に設け
られ、前記レチクルステージに搬送するレチクルを複数
保持可能な保持手段とを備えたことを特徴とする露光装
置。 - 【請求項５】 前記保持手段は、前記レチクルステージ
との間で前記レチクルを搬送する搬送手段を備えている
ことを特徴とする請求項４記載の露光装置。 - 【請求項６】 レチクル保管手段に保管された複数のレ
チクルを用いて基板にパタ−ンを露光する露光装置にお
いて、 前記複数のレチクルのうち前記露光すべきパタ−ンを有
したレチクルを複数保持するレチクルステージと、 前記レチクル保管手段と前記レチクルステージとの間に
設けられ、前記複数のレチクルのうち所定のレチクルを
一時的に保管する一時保管手段とを備えたことを特徴と
する露光装置。 - 【請求項７】 前記複数のレチクルを保持したレチクル
ステージを駆動制御する制御装置を備えたことを特徴と
する請求項６記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9801893A JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9801893A JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06310398A JPH06310398A (ja) | 1994-11-04 |
| JP3287058B2 true JP3287058B2 (ja) | 2002-05-27 |
Family
ID=14208118
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9801893A Expired - Lifetime JP3287058B2 (ja) | 1993-04-23 | 1993-04-23 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3287058B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH098103A (ja) * | 1995-06-19 | 1997-01-10 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
| US7242458B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
| US7961291B2 (en) * | 2005-12-23 | 2011-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1993
- 1993-04-23 JP JP9801893A patent/JP3287058B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06310398A (ja) | 1994-11-04 |
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|---|---|---|---|
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