JP3284645B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体や液晶の基板等
に所望のパターンを露光する装置および露光方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】この種の露光装置では、露光対象となる
試料の大型化に対処するため、試料の露光領域を複数に
分割して各領域に応じた露光を繰り返し、最終的に所望
のパターンを合成する画面合成手法が用いられている。
この画面合成を行なう際には、パターン投影用のレチク
ルの描画誤差や投影光学系のレンズの収差、試料を位置
決めするステージの位置決め誤差等に起因する各露光領
域の境界位置でのパターンの切れ目の発生を防止するた
め、各露光領域の境界を微小量重ね合わせて露光を行な
う。しかし、露光領域を重ね合わせると、この部分が２
重露光されてパターンの継ぎ目部分の線幅が変化する。
また、画面合成を行なうと、隣接する露光領域の位置の
ずれによってパターンの継ぎ目部分に段差が発生し、デ
バイスの特性が損われることがある。さらに、画面合成
されたパターンを多層に重ね合わせる工程を複数台の露
光装置に分担させた場合、各露光装置のレンズ収差の相
違によって各層の露光領域の重ね合わせ誤差がパターン
の継ぎ目部分で不連続に変化し、特にアクティブマトリ
ックス液晶デバイスではコントラストがパターン継ぎ目
部分で断続的に変化してデバイスの品質が著しく零下す
る。

【０００３】以上のような画面合成上の不都合を除去す
る手段として、特公昭６３−４９２１８号公報には、レ
チクル若しくはレチクルに重ねるフィルタのパターン継
ぎ目部分に相当する位置に透過光量を減少させる減光部
を設け、パターンの重ね合わせ部分の露光量を他の部分
の露光量に略一致させるものが開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した公報
記載の手段では次のような問題がある。まず、レチクル
自身に減光特性を持たせた場合、レチクルの製造工数が
増え、製造中にパターン欠陥が発生するおそれも高まる
などレチクルの製造工程への負担が大きくなる。一方、
レチクルと重ね合わせるフィルタを用いる場合は、フィ
ルタの着脱によってレチクルの損傷や汚染が生じるおそ
れが高くなるなどレチクルの保守管理に問題が生じる。
また、レチクルの前後には、パターンへのごみ等の異物
の付着を防止するために一定厚さのペリクルを設けるこ
とが多いので、最低でもフィルタとレチクルのパターン
とがペリクルの厚さだけ離れてしまい、パターン上にて
理想的な減光特性を得ることが困難となる。さらに、レ
チクル毎に専用のフィルタを用意する必要があり、フィ
ルタの製造や保守管理に要する手間も無視できない。

【０００５】本発明の目的は、レチクル等のようなパタ
ーン転写用の部材に減光特性を持たせる必要やパターン
転写用の部材毎に異なる減光手段を用意する必要がな
く、かつパターン転写用の部材上にて理想的な減光特性
が得られる露光装置および露光方法を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】一実施例を表す図面に対
応付けて説明すると、請求項１記載の露光装置は、光源
（１）からの光束により第１物体（９）のパタ−ンを第
２物体（１１）に露光する露光装置であって、前述の光
束を第１物体（９）に導き、第１物体（９）を照明する
照明光学系（４，５，８）と、第２物体（１１）に露光
されたパタ−ンの一部に第１物体（９）のパタ−ンの一
部が重複するように第１物体（９）の照射領域を設定す
る設定手段（６）と、照明光学系（４，５，８）に配置
され設定手段（６）が設定した第１物体（９）の照明領
域の周辺部の光量を減光する減光手段（６０１Ａ，Ｂ）
とを備えている。請求項２記載の露光装置は、減光手段
（６０１Ａ，Ｂ）が設定手段（６）に設けられている。
請求項３記載の露光装置は、減光手段（６０１Ａ，Ｂ）
が第１物体（９）のパタ−ンのうち重複露光を行う部分
と、重複部分を行わない部分との光量がほぼ等しくなる
ように減光を行なっている。請求項４記載の露光装置
は、減光手段（６０１Ａ，Ｂ）が第１物体（９）のパタ
−ンのうち重複露光を行う部分と、重複部分を行わない
部分との線幅がほぼ等しくなるように減光を行なってい
る。請求項５記載の露光装置は、減光手段（６０１Ａ，
Ｂ）による減光位置を調整する減光位置調整手段（６１
Ａ，Ｂ）を備えている。請求項６記載の露光装置は、減
光手段（６０１Ａ，Ｂ）が周辺部内において減光の割合
を変更している。請求項７記載の露光方法は、光源
（１）からの光束を照明光学系（４，５，８）により第
１物体（９）に導いて、第１物体（９）のパタ−ンを第
２物体（１１）に露光する露光方法であって、照明光学
系（４，５，８）に減光手段（６０１Ａ，Ｂ）を設け、
第２物体（１１）に露光されたパタ−ンの一部に第１物
体（９）のパタ−ンの一部が重複するように第１物体
（９）の照射領域を設定し、第１物体（９）を照明する
際に、減光手段（６０１Ａ，Ｂ）により第１物体（９）
の照射領域の周辺部の光量を減光している。請求項８記
載の露光方法は、第１物体のパタ−ン（９）のうち重複
露光を行う部分と、重複部分を行わない部分との光量が
ほぼ等しくなるように減光を行なっている。請求項９記
載の露光方法は、第１物体（９）のパタ−ンのうち重複
露光を行う部分と、重複部分を行わない部分との線幅が
ほぼ等しくなるように減光を行なっている。請求項１０
記載の露光方法は、周辺部の減光をする減光位置を調整
している。請求項１１記載の露光方法は、周辺部内にお
いて減光の割合を変更している。

【０００７】

【作用】 請求項１記載の露光装置は、減光手段（６０
１Ａ，Ｂ）が設定手段（６）により設定された第１物体
（９）の照明領域の周辺部の光量を減光特性にしたがっ
て正確に減少する。請求項２記載の露光装置は、減光手
段（６０１Ａ，Ｂ）が設定手段（６）に設けられてい
る。請求項３記載の露光装置は、図６に示すように、減
光手段（６０１Ａ，Ｂ）により、重複露光を行う部分
と、重複部分を行わない部分との光量がほぼ等しくなっ
ている。請求項４記載の露光装置は、減光手段（６０１
Ａ，Ｂ）により重複露光を行う部分と、重複部分を行わ
ない部分との線幅をほぼ等しくしている。請求項５記載
の露光装置は、減光位置調整手段（６１Ａ，Ｂ）が第１
物体（９）の大きさや第１物体（９）の照明範囲の変化
に応じて減光範囲を調整している。請求項６記載の露光
装置は、減光手段（６０１Ａ，Ｂ）が周辺部内において
減光の割合を変更している。請求項７記載の露光方法
は、第１物体（９）の照明領域の周辺部の光量を正確に
減少している。請求項８記載の露光方法は、重複露光を
行う部分と、重複部分を行わない部分との光量をほぼ等
しくしている。請求項９記載の露光方法は、重複露光を
行う部分と、重複部分を行わない部分との線幅をほぼ等
しくしている。請求項１０記載の露光方法は、第１物体
（９）の大きさや第１物体（９）の照明範囲の変化に応
じて周辺部の減光を行う減光位置を調整している。請求
項１１記載の露光方法は、周辺部内において減光の割合
を変更している。

【０００８】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。

【０００９】

【実施例】以下、図１〜図９を参照して本発明の一実施
例を説明する。図１は本実施例に係る露光装置の概略構
成を示すもので、１は露光光源としての超高圧水銀ラン
プであり、その照明光は楕円鏡２で集光され、反射ミラ
ー３で反射されて波長フィルタ４に入射する。波長フィ
ルタ４は露光に必要な波長（一般にはｇ線やｉ線の波
長）のみを通過させるもので、波長フィルタ４を通過し
た照明光はフライアイインテグレータ５にて均一な照度
分布の光束にされてブラインド６に到達する。ブライン
ド６は開口Ｓの大きさを増減させて照明光による照射範
囲を調整するもので、その詳細は後述する。

【００１０】ブラインド６の開口Ｓを通過した照明光は
反射ミラー７で反射されてレンズ８に入射し、このレン
ズ８によってブラインド６の開口Ｓの像がレチクル９上
で結像し、レチクル９の所望範囲が照明される。レチク
ル９の照明範囲に存在するパターンの像はレンズ１０に
より試料１１上に結像し、これにより試料１１の特定領
域がレチクル９のパターンに応じて露光される。試料１
１は半導体集積回路の製造過程であればウエハ、液晶製
造過程であればガラスプレートである。

【００１１】試料１１はステージ１２上に固定される。
ステージ１２は互いに直交する方向へ移動可能な一対の
ブロックを重ね合わせた周知のもので、このステージ１
２により試料１１の水平面内での位置が調整される。画
面合成を行なうときは、１回の露光が終了した後、レチ
クル９を交換するとともにステージ１２を駆動して試料
１１の別の位置を次回の露光領域に設定し、以下露光終
了毎に同様手順を繰り返して試料１１の全領域を露光す
る。なお、単一または複数のレチクルに複数回分のパタ
ーンを形成し、試料１１の露光領域の変更に連係してレ
チクル内の照射領域を変更し画面合成を行なうこともあ
る。１３は移動鏡１４によって検出したステージ１２の
現在位置に基づいてステージ１２を位置決めするレーザ
ー干渉計システムである。

【００１２】図１〜図４に示すように、ブラインド６
は、Ｌ字状に屈曲する一対の羽根６０Ａ，６０Ｂを照明
光の光路と直交させた状態で組み合わせて矩形状の開口
Ｓを生じさせるもので、羽根６０Ａ，６０Ｂの位置を移
動機構６１Ａ，６１Ｂで調整して開口Ｓの大きさを変化
させる。図２および図３に示すように、移動機構６１
Ａ，６１Ｂは、羽根６０Ａ，６０Ｂが固着される第１の
ブロック６１０に第２のブロック６１１および第３のブ
ロック６１２を重ね合わせたもので、サーボモータとボ
ールねじとを組み合わせた不図示の送り機構により、第
１のブロック６１０を案内溝ｙ１，ｙ２に沿って移動さ
せるとともに、第２のブロック６１１を案内溝ｘ１，ｘ
２に沿って移動させて羽根６０Ａ，６０Ｂを照明光の光
路と直交する面内で移動させる。図３に示すように、移
動機構６１Ａ，６１Ｂは羽根６０Ａ，６０Ｂに対して互
いに反対側に配置され、それぞれの第３のブロック６１
２は不図示のフレームにより露光装置の本体部分（不図
示）に一体に固定される。なお、図２では一方の羽根６
０Ａ側の移動機構６１Ａのみを示すが、他方の羽根６０
Ｂ側の移動機構６１Ｂも同一構成である。

【００１３】図１、図４および図５に示すように、羽根
６０Ａ，６０Ｂは遮光板６００Ａ，６００Ｂの表面にＮ
Ｄフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂを一体に取り付けたもの
で、ＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂの開口Ｓ側の端部
は遮光板６００Ａ，６００Ｂよりも幾らか突出させて設
けられる。図５に示すように、ＮＤフィルタ６０１Ａ，
６０１Ｂの遮光板６００Ａ，６００Ｂからの突出部分は
遮光板６００Ａ，６００Ｂからの突出量に比例して薄く
なる断面三角形状に形成され、これによりブラインド６
の透過率は開口Ｓ上で１００％、開口Ｓの周縁部では開
口Ｓの中心位置から離れるほど比例的に減少して遮光板
６００Ａ，６００Ｂのエッジ位置にて０％になる。ＮＤ
フィルタ６０１Ａ，６０１Ｂの遮光板６００Ａ，６００
Ｂからの突出量Ｌは開口Ｓの全周において一定とされ、
これにより開口Ｓの周辺部での減光特性は、ＮＤフィル
タ６０１Ａ，６０１Ｂが重なり合う開口Ｓの対角コーナ
部分を除く全周において等しくなっている。突出量Ｌの
適正寸法は後述する。なお、突出量Ｌは、開口Ｓの対向
する辺同士が等しくなっていればよい。

【００１４】図６はブラインド６の開口Ｓの大きさを適
当に定め、レチクル９のない状態で露光を行なったとき
の試料１１上の露光像および露光量分布を示すものであ
る。図６（Ａ）に示すように、露光位置を完全に分離さ
せて複数回の露光を行なうと、試料１１上に結像する矩
形状の露光像Ｐ１，Ｐ２の周辺部の全周にＮＤフィルタ
６０１Ａ，６０１Ｂによる減光領域Ｒ１，Ｒ２が現れて
この部分での露光量が減少する。図６（Ｂ）に示すよう
に、減光領域Ｒ１，Ｒ２の一辺を重ねて露光したとき
は、同図（Ｃ）に示すように、減光領域Ｒ１，Ｒ２の重
複範囲にて一方の減光量が他方の減光量の変動を補うよ
うに変化し、この結果図６（Ｄ）に示すように減光領域
Ｒ１，Ｒ２の重複範囲での合成露光量はＮＤフィルタ６
０１Ａ，６０１Ｂの影響を受けない部分の露光量に一致
する。

【００１５】次に本実施例の装置で画面合成を行なう手
順を説明する。図７は試料１１上を４つの矩形状の露光
領域Ｒａ〜Ｒｄに分割してパターンＰｒを合成する例を
示すもので、かかる合成を行なう際には、図８に示すよ
うに露光領域Ｒａ〜Ｒｄに対応する４枚のレチクル９ａ
〜９ｄを順に使用する。なお、レチクル９ａ〜９ｄは、
画面合成時の重複部のみが同一のパターンを有するよう
に描画されている。レチクル９ａ〜９ｄの周囲には光の
通過を完全に阻止する透過率０％の遮光帯ＩＢが形成さ
れる。図７には示していないが、露光領域Ｒａ〜Ｒｄの
境界部分は所望量重ね合わされ、ブラインド６の羽根６
０Ａ，６０Ｂは、ＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂによ
る減光領域が露光領域Ｒａ〜Ｒｄの重複部分と一致する
ように各回の露光時に位置決めされる。

【００１６】すなわち、図７の左上の露光領域Ｒａを露
光する場合、図８（Ａ）に示すようにレチクル９ａの右
辺および下辺側に位置する羽根６０Ａは、その減光領域
が遮光帯ＩＢから突出するように位置決めされ、レチク
ル９ａの左辺および上辺側に位置する羽根６０Ｂは遮光
帯ＩＢ内へ完全に後退するように位置決めされる。右上
の露光領域Ｒｂを露光するときは、図８（Ｂ）に示すよ
うに、羽根６０Ａ，６０Ｂの減光領域がレチクル９ｂの
左辺および下辺側にて遮光帯ＩＢから突出するように羽
根６０Ａ，６０Ｂが位置決めされる。左下の露光領域Ｒ
ｃを露光するときは、図８（Ｃ）に示すように、羽根６
０Ａ，６０Ｂの減光領域がレチクル９ｃの右辺および上
辺側にて遮光帯ＩＢから突出するように羽根６０Ａ，６
０Ｂが位置決めされる。そして、右下の露光領域Ｒｄを
露光するときは、図８（Ｄ）に示すように、羽根６０
Ａ，６０Ｂの減光領域がレチクル９ｄの左辺および上辺
側にて遮光帯ＩＢから突出するように羽根６０Ａ，６０
Ｂが位置決めされる。

【００１７】以上の操作により、露光領域Ｒａ〜Ｒｄの
重複範囲では先の露光時の減光領域と後の露光時の減光
領域が図６（Ｂ）に示すように重なり合い、これらの重
複部分での合成露光量は図６（Ｄ）に示すように他の部
分と等しくなる。このため、パターンＰｒの露光量が均
一となり、パターンＰｒの継ぎ目部分でも線幅は変化し
ない。

【００１８】また、以上によればパターンの継ぎ目部分
での段差も解消する。この点を図９により説明する。図
９（Ａ）は従来方式による画面合成を示すもので、この
例では隣接する露光領域にδの位置ずれが生じると、同
じ量だけパターンＰｒ１，Ｐｒ２の継ぎ目部分に段差が
発生する。これに対して、本実施例の場合には、図９
（Ｂ）に示すように隣接する露光領域にδの位置ずれが
生じたとしても、左右のパターンＰｒ１，Ｐｒ２は同図
に太線で示すように滑らかに連続する。すなわち、パタ
ーンＰｒ１，Ｐｒ２の継ぎ目部分は露光領域の減光範囲
（幅Ｗの範囲）に一致するので、パターンＰｒ１，Ｐｒ
２の継ぎ目部分の各断面位置ｄ１〜ｄ５での露光量は同
図（Ｃ）に示すようにそれぞれのエッジに向うほど減少
する。なお、断面位置ｄ１〜ｄ５でのパターンＰｒ１，
Ｐｒ２の露光量分布を示す波形は、露光領域のずれ量δ
だけ図９（Ｃ）の左右方向にずれて現れる。

【００１９】パターンＰｒ１，Ｐｒ２が完全に重なり合
う位置での合成露光量は等しいので、図９（Ｂ）の断面
位置ｄ１〜ｄ５での合成露光量は図９（Ｄ）に示すよう
な分布を示し、各断面位置ｄ１〜ｄ５での合成露光量の
最大値はすべて等しくなる。このような露光量分布に対
して、一定の露光量Ｑｃ（図示例では最大露光量の５０
％）を越えた部分が現像後も試料１１に残留するように
レジスト特性を定めると、図９（Ｅ）に示すように断面
位置ｄ１〜ｄ５でのパターン幅は一定となり、パターン
Ｐｒ１，Ｐｒ２が図９（Ｂ）の太線のように一定幅を保
ちつつ滑らかに連続する。このようにパターンＰｒ１，
Ｐｒ２の継ぎ目部分が滑らかに連続すると、画面合成を
何層も繰り返す場合でも、各層の継ぎ目部分での重ね合
せ誤差の不連続な変化が抑制される。このため、液晶デ
バイスの場合にも画面の継ぎ目部分でのコントラストの
不連続な変化が解消して表示品質が改善される。

【００２０】ここで、パターンの継ぎ目部分の変化の程
度は、図９（Ｂ）から明らかなようにパターンの重複範
囲の長さＷを大きく取るほど緩やかとなる。但し、余り
に重複範囲Ｗを大きくすると画面合成数が増えて効率が
低下することから、重複範囲の長さＷは、液晶デバイス
に使用した場合に人間の目で変化を感知できない程度を
基準として設定すればよい。一般的には５〜１０mm程度
に設定すれば十分である。そして、かかる長さＷは図５
に示したＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂの突出量Ｌと
レンズ８，１０の投影倍率によって定まる。

【００２１】以上説明したように、本実施例の露光装置
によれば、減光特性を持ったＮＤフィルタ６０１Ａ，６
０１Ｂと試料１１との間に結像用のレンズ８を介在した
ので、試料１１上にＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂの
像を結像させて試料１１上で理想的な減光特性を得るこ
とができ、パターンの継ぎ目部分における露光量を精度
良く管理して減光による効果を最大限発揮させ得る。Ｎ
Ｄフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂをレチクル９からレンズ
８を介して離間させたので、レチクル９に減光特性を持
たせる必要がなくなるとともに、レチクル９が損傷した
り汚染するおそれがない。さらに、移動機構６１Ａ，６
１Ｂによりレチクル９上での減光位置を調整できるの
で、レチクル９の大きさや露光領域の変化に応じて減光
領域を変更できる。

【００２２】本実施例では、レチクル９の照明範囲を調
整するためのブラインド６の羽根６０Ａ，６０Ｂそのも
のにＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂを取り付けたが、
図１０に示すように、ＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂ
を羽根６０Ａ，６０Ｂから分離し、羽根６０Ａ，６０Ｂ
を移動機構６１Ａ，６１Ｂで駆動する一方、ＮＤフィル
タ６０１Ａ，６０１Ｂを移動機構６１Ｃ，６１Ｄにより
独立に駆動してもよい。この場合、画面合成時に減光を
必要としない辺に関してＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１
Ｂを羽根６０Ａ，６０Ｂで設定した照明領域から退避さ
せる。この例では、レチクル上に形成する遮光帯をＮＤ
フィルタ６０１Ａ，６０１Ｂによる減光領域の幅よりも
狭く設定してレチクルを有効に利用できる。ちなみに、
ＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂを羽根６０Ａ，６０Ｂ
に組込むと、レチクル上の遮光帯はＮＤフィルタ６０１
Ａ，６０１Ｂの遮光幅以上必要となる。なお、羽根６０
Ａ，６０Ｂから分離させたＮＤフィルタ６０１Ａ，６０
１Ｂに、羽根６０Ａ，６０Ｂと同様の遮光板６００Ａ，
６００Ｂを設けてもよい。

【００２３】図１１は他の例を示すもので、ブラインド
６Ａの遮光板６００Ａ，６００ＢからＮＤフィルタを除
去する一方、ＮＤフィルタのみで構成した羽根７００
Ａ，７００Ｂと、これらの羽根７００Ａ，７００Ｂを駆
動する不図示の移動機構を備えるＮＤブラインド７０を
新たに設け、ＮＤブラインド７０とブラインド６Ａとの
間にＮＤブラインド７０の像をブラインド６Ａ上に結像
させるレンズ８０を設けている。羽根７００Ａ，７００
Ｂの詳細は図１の例のＮＤフィルタ６０１Ａ，６０１Ｂ
と同様であるため省略する。この例ではＮＤブラインド
７がブラインド６Ａに対して共役な位置にあるので、ブ
ラインド６Ａから減光手段を離してもレチクル９上にて
理想的な減光特性が得られる。

【００２４】以上の実施例と請求項との対応において、
レチクル９，９ａ〜９ｄが第１物体を、試料１１が第２
物体を構成する。また、図１〜図５の実施例では、超高
圧水銀ランプ１が光源を、フィルタ４，フライアイイン
テグレータ５，レンズ８が照明光学系を、ＮＤフィルタ
６０１Ａ，６０１Ｂが減光手段を、ブラインド６が設定
手段を、ブラインド６の移動機構６１Ａ，６１Ｂが減光
位置調整手段を構成し、図１１の例では、超高圧水銀ラ
ンプ１が光源を、フィルタ４，フライアイインテグレー
タ５，レンズ８０，レンズ８が照明光学系を、ＮＤブラ
インド７０が減光手段を、ブラインド６Ａが設定手段
を、ＮＤブラインド７０の移動機構が減光位置調整手段
を構成する。

【００２５】図１２および図１３は、図２に示す移動機
構６１Ａの変形例を示すものである。この移動機構は、
羽根６０Ａの角部から互いに直交させて設けたブロック
６１３ｘ，６１３ｙと、ブロック６１３ｘ，６１３ｙの
溝６１４ｘ，６１４ｙに嵌装されるローラ６１５ｘ，６
１５ｙとを有する。図１３に示すように、ローラ６１５
ｘ，６１５ｙはボールネジ６１６と螺合するナット６１
７に回転自在に取り付けられている。ボールネジ６１６
は図１２のｘ方向およびｙ方向に１本ずつ設けられ、ｘ
方向に伸びるボールネジ６１６はローラ６１５ｙと、ｙ
方向に伸びるボールネジ６１６はローラ６１５ｘと連結
される。６１８はボールネジ６１６を露光装置の本体Ｆ
に取り付けられる軸受け、６１９はサーボモータであ
り、サーボモータ６１９によりボールネジ６１６を回転
させてナット６１７を軸方向に移動させると、ローラ６
１５ｘ，６１５ｙが溝６１４ｘ，６１４ｙと直交する方
向に移動して羽根６０Ａが光路と直交する面内を移動す
る。

【００２６】本発明で使用する減光手段としては、光学
的なフィルタに限らず、液晶やＥＣ等、光量を減少させ
得るあらゆるものを用いて良い。ＮＤフィルタによる減
光特性は開口Ｓの中心からの距離に比例して直線的に透
過光量を減少させる例に限らず、露光領域の重複範囲で
の合成露光量が他の部分の露光量に略一致するならば曲
線的に変化させても良い。また、レンズの焦点をずらし
てブラインドの開口のエッジ像をぼかすことでも減光が
可能である。従来のブラインドに加えて第２のブライン
ドを光軸方向にずらして設け、第２のブラインドの開口
の像をレチクル上でぼかすことで減光させてもよい。

【００２７】

【発明の効果】 以上のように、請求項１記載の露光装
置は、減光手段により第１物体上にて理想的な減光特性
を得ることができる。また、減光手段を第１物体から離
間させたので第１物体自身に減光特性を必要がなく、第
１物体の損傷や汚染のおそれをなくすことができる。請
求項２記載の露光装置は、減光手段を設定手段に設けて
いるので、減光手段と設定手段とを共通の駆動手段で駆
動することができる。請求項３記載の露光装置は、減光
手段により、重複露光を行う部分と、重複部分を行わな
い部分との光量がほぼ等しくなっているので、重複露光
部での段差や重ね合わせ誤差の不連続な変化を解消する
ことができる。請求項４記載の露光装置は、減光手段に
より重複露光を行う部分と、重複部分を行わない部分と
の線幅をほぼ等しくしているので、重複露光部での段差
や重ね合わせ誤差の不連続な変化を解消することができ
る。請求項５記載の露光装置は、減光位置調整手段が減
光位置を調整しているので、第１物体の大きさや露光領
域の重複露光位置の変化に拘わらず同一の減光手段を用
いることができ、多種類の減光手段を用意する必要がな
くなって減光手段の製造や保守管理に要する手間を軽減
することができる。請求項６記載の露光装置は、減光手
段が周辺部内において減光の割合を変更することができ
る請求項７記載の露光方法は、第１物体の周辺部の光量
を正確に減少することができる。また、減光手段を第１
物体から離間させたので第１物体自身に減光特性を必要
がなく、第１物体の損傷や汚染のおそれもなくなって第
１物体の製造や保守管理の負担を軽減することができ
る。請求項８記載の露光方法は、重複露光を行う部分
と、重複部分を行わない部分との光量をほぼ等しくして
いるので、重複露光部での段差や重ね合わせ誤差の不連
続な変化を解消することができる。請求項９記載の露光
方法は、重複露光を行う部分と、重複部分を行わない部
分との線幅をほぼ等しくしているので、重複露光部での
段差や重ね合わせ誤差の不連続な変化を解消することが
できる。請求項１０記載の露光方法は、第１物体の大き
さや露光領域の重複露光位置の変化に拘わらず同一の減
光手段を用いることができ、多種類の減光手段を用意す
る必要がなくなって減光手段の製造や保守管理に要する
手間を軽減することができる。請求項１１記載の露光方
法は、周辺部内において減光の割合を変更することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る露光装置の概略構成を
示す図。

【図２】実施例のブラインドの一方の羽根側の構成を示
す斜視図。

【図３】実施例のブラインドの側面図。

【図４】実施例のブラインドの羽根部分の正面図。

【図５】図４のＶ−Ｖ線における断面と、該断面におけ
る透過率を示す図。

【図６】試料１１上での露光像と露光量との関係を示す
図。

【図７】画面合成の一例を示す図。

【図８】図７の画面合成を行なうときのレチクルと羽根
との位置関係を示す図。

【図９】パターンの継ぎ目部分での段差の解消理由を説
明するための図。

【図１０】ＮＤフィルタを照明範囲設定用の羽根から分
離した例を示す図。

【図１１】本発明の他の例に係る露光装置の概略構成を
示す図。

【図１２】ブラインドの移動機構の変形例を示す図。

【図１３】図１２の例におけるボールネジ周辺の構成を
示す図。

【符号の説明】

１ 超高圧水銀ランプ ６ ブラインド ８ レンズ ９，９ａ，９ｂ，９ｃ，９ｄ レチクル １０ レンズ １１ 試料 ６０Ａ，６０Ｂ 羽根 ７０ ＮＤブラインド ６００Ａ，６００Ｂ 羽根の遮光板 ６０１Ａ，６０１Ｂ ＮＤフィルタ Ｓ 開口

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源からの光束により第１物体のパタ−
   ンを第２物体に露光する露光装置において、 前記光束を前記第１物体に導き、前記第１物体を照明す
   る照明光学系と、前記第２物体に露光されたパタ−ンの一部に前記第１物
   体のパタ−ンの一部が重複するように前記第１物体の照
   射領域を設定する設定手段と、 前記照明光学系に配置され、前記設定手段が設定した前
   記第１物体の照明領域の周辺部の光量を減光する減光手
   段とを備えたことを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 前記減光手段は、前記設定手段に設けら
   れていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 【請求項３】 前記減光手段は、前記第１物体のパタ−
   ンのうち前記重複露光を行う部分と、前記重複部分を行
   わない部分との光量がほぼ等しくなるように前記減光を
   行うことを特徴とする請求項１または２記載の露光装
   置。
4. 【請求項４】 前記減光手段は、前記第１物体のパタ−
   ンのうち前記重複露光を行う部分と、前記重複部分を行
   わない部分との線幅がほぼ等しくなるように前記減光を
   行うことを特徴とする請求項１または２記載の露光装
   置。
5. 【請求項５】 前記減光手段による減光位置を調整する
   減光位置調整手段を備えたことを特徴とする請求項１〜
   ４のいずれか一項記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記減光手段は、前記周辺部内において
   前記減光の割合を変更することを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれか一項記載の露光装置。
7. 【請求項７】光源からの光束を照明光学系により第１物
   体に導いて、前記第１物体のパタ−ンを第２物体に露光
   する露光方法において、 前記照明光学系に減光手段を設け、前記第２物体に露光されたパタ−ンの一部に前記第１物
   体のパタ−ンの一部が重複するように前記第１物体の照
   射領域を設定し、 前記第１物体を照明する際に、前記減光手段により前記
   第１物体の照射領域の周辺部の光量を減光することを特
   徴とする露光方法。
8. 【請求項８】 前記第１物体のパタ−ンのうち前記重複
   露光を行う部分と、前記重複部分を行わない部分との光
   量がほぼ等しくなるように前記減光を行うことを特徴と
   する請求項７記載の露光方法。
9. 【請求項９】 前記第１物体のパタ−ンのうち前記重複
   露光を行う部分と、前記重複部分を行わない部分との線
   幅がほぼ等しくなるように前記減光を行うことを特徴と
   する請求項７記載の露光方法。
10. 【請求項１０】 前記周辺部の前記減光をする減光位置
    を調整することを特徴とする請求項７〜９のいずれか一
    項記載の露光方法。
11. 【請求項１１】 前記減光は、前記周辺部内において前
    記減光の割合を変更することを特徴とする請求項７〜１
    ０のいずれか一項記載の露光方法。