JP3281184B2 - ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 - Google Patents
ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/521—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
- C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
- C08L71/12—Polyphenylene oxides
- C08L71/123—Polyphenylene oxides not modified by chemical after-treatment
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリフェニレンエーテ
ル（以下、ＰＰＥということがある）系樹脂組成物に関
し、さらに詳しくは、紫外線吸収剤から誘導される残基
を含有するリン酸エステル系化合物を含むＰＰＥ系樹脂
組成物に関する。
ル（以下、ＰＰＥということがある）系樹脂組成物に関
し、さらに詳しくは、紫外線吸収剤から誘導される残基
を含有するリン酸エステル系化合物を含むＰＰＥ系樹脂
組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】ＰＰＥ系樹脂は、機械特
性、電気特性、耐熱性等に優れ、各種用途に使用されて
いる。特に、ポリスチレン（以下、ＰＳということがあ
る）系樹脂とのブレンド物は、成形加工性とのバランス
にも優れ、射出成形用の樹脂として広範に用いられてい
る。
性、電気特性、耐熱性等に優れ、各種用途に使用されて
いる。特に、ポリスチレン（以下、ＰＳということがあ
る）系樹脂とのブレンド物は、成形加工性とのバランス
にも優れ、射出成形用の樹脂として広範に用いられてい
る。
【０００３】ところがＰＰＥ系樹脂は、耐光性が劣り、
長期間光に曝されている間に表面が変色し、色調が損な
われるという欠点を有する。この点を改良するために、
従来、各種の安定剤を添加することが行われている。例
えば、特開昭59-8752 号公報、特開昭59-8751 号公報等
に記載の添加剤を用いる方法が挙げられる。しかし、こ
れら安定剤は、組成物を製造するための溶融混練過程で
分解飛散し、耐光性が効果的に改善されない。また、多
量の安定剤を用いた場合には、耐熱性、機械的特性の低
下を招く。
長期間光に曝されている間に表面が変色し、色調が損な
われるという欠点を有する。この点を改良するために、
従来、各種の安定剤を添加することが行われている。例
えば、特開昭59-8752 号公報、特開昭59-8751 号公報等
に記載の添加剤を用いる方法が挙げられる。しかし、こ
れら安定剤は、組成物を製造するための溶融混練過程で
分解飛散し、耐光性が効果的に改善されない。また、多
量の安定剤を用いた場合には、耐熱性、機械的特性の低
下を招く。
【０００４】一方、ＰＰＥ系樹脂またはＰＰＥ／ＰＳ系
樹脂組成物に、難燃性の付与または成形加工性改善を目
的として、トリフェニルホスフェート（特公昭53-418号
公報）、ポリリン酸エステル類（特開昭55-118957 号公
報等）等の芳香族リン酸エステル類を添加することは知
られている。さらにまた、難燃性をより向上させるため
に、ヒドロキシル基含有芳香族リン酸エステル類を含む
リン化合物を用いる試みもなされている（特開平5-1174
86号公報、特開平5-148403号公報および特開平5-247355
号公報）。
樹脂組成物に、難燃性の付与または成形加工性改善を目
的として、トリフェニルホスフェート（特公昭53-418号
公報）、ポリリン酸エステル類（特開昭55-118957 号公
報等）等の芳香族リン酸エステル類を添加することは知
られている。さらにまた、難燃性をより向上させるため
に、ヒドロキシル基含有芳香族リン酸エステル類を含む
リン化合物を用いる試みもなされている（特開平5-1174
86号公報、特開平5-148403号公報および特開平5-247355
号公報）。
【０００５】しかしながら、難燃剤であるこれらの芳香
族リン酸エステル類やヒドロキシル基含有芳香族リン酸
エステル類の添加により、樹脂組成物の難燃性、成形加
工性は改善されるものの、成形加工時にヤニ状物となっ
て成形品あるいは金型に付着するという現象が生じる。
これらヤニ状物（ジュース）は成形品の外観を損なうだ
けでなく、塗装、接着などの二次加工に悪影響を及ぼ
し、さらに、金型に付着した場合には金型の損傷の原因
ともなり得る。また、芳香族リン酸エステル類やヒドロ
キシル基含有芳香族リン酸エステル類の添加量を少なく
すれば、ヤニ状物の付着は減るものの、逆に難燃性が低
下してしまう。
族リン酸エステル類やヒドロキシル基含有芳香族リン酸
エステル類の添加により、樹脂組成物の難燃性、成形加
工性は改善されるものの、成形加工時にヤニ状物となっ
て成形品あるいは金型に付着するという現象が生じる。
これらヤニ状物（ジュース）は成形品の外観を損なうだ
けでなく、塗装、接着などの二次加工に悪影響を及ぼ
し、さらに、金型に付着した場合には金型の損傷の原因
ともなり得る。また、芳香族リン酸エステル類やヒドロ
キシル基含有芳香族リン酸エステル類の添加量を少なく
すれば、ヤニ状物の付着は減るものの、逆に難燃性が低
下してしまう。
【０００６】そこで本発明は、ＰＰＥ系樹脂の優れた物
性を保持しつつ耐光性の改善された、しかも難燃性にも
優れたＰＰＥ系樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
性を保持しつつ耐光性の改善された、しかも難燃性にも
優れたＰＰＥ系樹脂組成物を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＰＰＥ系
樹脂の特性の改善に関して鋭意検討を重ねた結果、紫外
線吸収剤から誘導される残基をその構造中に有する有機
リン酸エステル化合物をＰＰＥに添加すると、耐光性お
よび難燃性に優れた組成物が得られることを見出し、本
発明に到達した。
樹脂の特性の改善に関して鋭意検討を重ねた結果、紫外
線吸収剤から誘導される残基をその構造中に有する有機
リン酸エステル化合物をＰＰＥに添加すると、耐光性お
よび難燃性に優れた組成物が得られることを見出し、本
発明に到達した。
【０００８】すなわち本発明は、（Ａ）ポリフェニレン
エーテル系樹脂またはこれとポリスチレン系樹脂１００
重量部、および（Ｂ）一般式（１）：
エーテル系樹脂またはこれとポリスチレン系樹脂１００
重量部、および（Ｂ）一般式（１）：
【０００９】
【化２】 （上記式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、それぞれ
独立して、水素原子、ハロゲン原子または有機基を表
し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つ
が紫外線吸収剤から誘導される残基であり、Ｘは２価の
有機基を表し、ｐは０〜１０の整数である）で示される
リン酸エステル化合物０．１〜１５重量部を含むことを
特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を提供
するものである。
独立して、水素原子、ハロゲン原子または有機基を表
し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つ
が紫外線吸収剤から誘導される残基であり、Ｘは２価の
有機基を表し、ｐは０〜１０の整数である）で示される
リン酸エステル化合物０．１〜１５重量部を含むことを
特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂組成物を提供
するものである。
【００１０】本発明においては、ＰＰＥ系樹脂は公知の
ものが使用できる。ＰＰＥ系樹脂とは、例えば一般式
（化３）：
ものが使用できる。ＰＰＥ系樹脂とは、例えば一般式
（化３）：
【００１１】
【化３】 （式中Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基およびハロゲン原子とフェニル環との間に少くとも２
個の炭素原子を有するハロアルキル基またはハロアルコ
キシ基で第３級α‐炭素を含まないものから選ばれた一
価置換基を表し、ｎは重合度を表わす整数である）で示
される重合体の総称であって、上記一般式で示される重
合体の一種単独であっても、二種以上が組合わされた共
重合体であってもよい。好ましい具体例ではＲ1 および
Ｒ2 が炭素原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3 およ
びＲ4 が水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル
基である。例えばポリ(2,6‐ジメチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジエチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐エチル‐1,4 ‐
フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐プロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジプロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐エチル‐
６‐プロピル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、などが挙
げられる。またＰＰＥ共重合体としては上記ポリフェニ
レンエ―テル繰返し単位中にアルキル三置換フェノ―ル
例えば 2,3,6‐トリメチルフェノ―ルを一部含有する共
重合体を挙げることができる。またこれらのＰＰＥに、
スチレン系化合物がグラフトした共重合体であってもよ
い。スチレン系化合物グラフト化ポリフェニレンエ―テ
ルとしては上記ＰＰＥにスチレン系化合物として、例え
ばスチレン、α‐メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレンなどをグラフト重合して得られる共重合体
である。
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基およびハロゲン原子とフェニル環との間に少くとも２
個の炭素原子を有するハロアルキル基またはハロアルコ
キシ基で第３級α‐炭素を含まないものから選ばれた一
価置換基を表し、ｎは重合度を表わす整数である）で示
される重合体の総称であって、上記一般式で示される重
合体の一種単独であっても、二種以上が組合わされた共
重合体であってもよい。好ましい具体例ではＲ1 および
Ｒ2 が炭素原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3 およ
びＲ4 が水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル
基である。例えばポリ(2,6‐ジメチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジエチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐エチル‐1,4 ‐
フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐プロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジプロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐エチル‐
６‐プロピル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、などが挙
げられる。またＰＰＥ共重合体としては上記ポリフェニ
レンエ―テル繰返し単位中にアルキル三置換フェノ―ル
例えば 2,3,6‐トリメチルフェノ―ルを一部含有する共
重合体を挙げることができる。またこれらのＰＰＥに、
スチレン系化合物がグラフトした共重合体であってもよ
い。スチレン系化合物グラフト化ポリフェニレンエ―テ
ルとしては上記ＰＰＥにスチレン系化合物として、例え
ばスチレン、α‐メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレンなどをグラフト重合して得られる共重合体
である。
【００１２】本発明においては、成分（Ａ）は上記した
ポリフェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレ
ン系樹脂である。ポリスチレン系樹脂はそれ自体公知で
あり、一般式（化４）：
ポリフェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレ
ン系樹脂である。ポリスチレン系樹脂はそれ自体公知で
あり、一般式（化４）：
【００１３】
【化４】 （式中Ｒは水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル
基であり、Ｚはハロゲン原子または炭素原子数１〜４の
アルキル基である置換基を表し、ｘは０〜５の整数であ
る）で示される芳香族ビニル化合物から誘導された繰返
し構造単位を、その重合体中に少くとも25重量％以上有
するものでなければならない。かかるスチレン系重合体
としては、スチレンもしくはその誘導体例えばｐ‐メチ
ルスチレン、α‐メチルスチレン、α‐メチル‐ｐ‐メ
チルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の単
独重合体および共重合体が挙げられる。また、上記した
芳香族ビニル化合物を70〜99重量％と、ジエンゴム１〜
30重量％とからなるゴム変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）
を使用することができる。ＨＩＰＳを構成するジエンゴ
ムとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等
の共役ジエン系化合物の単独重合体、共役ジエン系化合
物と不飽和ニトリル化合物または芳香族ビニル化合物と
の共重合体さらには天然ゴムなどが挙げられ、１種また
は２種以上用いることができる。特にポリブタジエン、
ブタジエン‐スチレン共重合体が好ましい。
基であり、Ｚはハロゲン原子または炭素原子数１〜４の
アルキル基である置換基を表し、ｘは０〜５の整数であ
る）で示される芳香族ビニル化合物から誘導された繰返
し構造単位を、その重合体中に少くとも25重量％以上有
するものでなければならない。かかるスチレン系重合体
としては、スチレンもしくはその誘導体例えばｐ‐メチ
ルスチレン、α‐メチルスチレン、α‐メチル‐ｐ‐メ
チルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の単
独重合体および共重合体が挙げられる。また、上記した
芳香族ビニル化合物を70〜99重量％と、ジエンゴム１〜
30重量％とからなるゴム変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）
を使用することができる。ＨＩＰＳを構成するジエンゴ
ムとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等
の共役ジエン系化合物の単独重合体、共役ジエン系化合
物と不飽和ニトリル化合物または芳香族ビニル化合物と
の共重合体さらには天然ゴムなどが挙げられ、１種また
は２種以上用いることができる。特にポリブタジエン、
ブタジエン‐スチレン共重合体が好ましい。
【００１４】ＨＩＰＳは、乳化重合、懸濁重合、塊状重
合、溶液重合またはそれらの組合せの方法により得られ
る。
合、溶液重合またはそれらの組合せの方法により得られ
る。
【００１５】ＰＰＥ系樹脂とＰＳ系樹脂とは任意の割合
で配合できるが、通常その配合比率はＰＰＥ系樹脂10〜
100 重量部に対してＰＳ系樹脂90〜０重量部である。好
ましくは、ＰＰＥ系樹脂10〜90重量部に対してＰＳ系樹
脂90〜10重量部である。
で配合できるが、通常その配合比率はＰＰＥ系樹脂10〜
100 重量部に対してＰＳ系樹脂90〜０重量部である。好
ましくは、ＰＰＥ系樹脂10〜90重量部に対してＰＳ系樹
脂90〜10重量部である。
【００１６】本発明で使用する成分（Ｂ）リン酸エステ
ル化合物は、紫外線吸収剤から誘導される残基を含有す
るリン酸エステル系化合物であり、これは前記式（１）
で示される。本発明では、前記式（１）において、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 の少なくとも１つが、紫外
線吸収剤から誘導される残基であることが必要である。
ここで、紫外線吸収剤から誘導される残基が、ベンゾト
リアゾール系、ベンゾフェノン系およびサリチル酸系の
水酸基含有化合物から選択される紫外線吸収剤から誘導
されたものであるのが好ましい。ベンゾトリアゾール系
化合物としては、例えば2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t
- ブチルフェニル）-5- クロロベンゾトリアゾール、2-
(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル）-5-
クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ア
ミル-5'-イソブチルフェニル）-5- クロロベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-イソブチル-5'-メチルフ
ェニル）-5- クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロ
キシ-3'-イソブチル-5'-プロピルフェニル）-5- クロロ
ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t-
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-5'-メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒ
ドロキシ-5'-(1,1,3,3- テトラメチルブチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール（すなわち2-(2'-ヒドロキシ-
5'-t-オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール）等が挙
げられる。
ル化合物は、紫外線吸収剤から誘導される残基を含有す
るリン酸エステル系化合物であり、これは前記式（１）
で示される。本発明では、前記式（１）において、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 の少なくとも１つが、紫外
線吸収剤から誘導される残基であることが必要である。
ここで、紫外線吸収剤から誘導される残基が、ベンゾト
リアゾール系、ベンゾフェノン系およびサリチル酸系の
水酸基含有化合物から選択される紫外線吸収剤から誘導
されたものであるのが好ましい。ベンゾトリアゾール系
化合物としては、例えば2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t
- ブチルフェニル）-5- クロロベンゾトリアゾール、2-
(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチルフェニル）-5-
クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ア
ミル-5'-イソブチルフェニル）-5- クロロベンゾトリア
ゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-イソブチル-5'-メチルフ
ェニル）-5- クロロベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロ
キシ-3'-イソブチル-5'-プロピルフェニル）-5- クロロ
ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3',5'- ジ-t-
ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキ
シ-5'-メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2-[2'-ヒ
ドロキシ-5'-(1,1,3,3- テトラメチルブチル）フェニ
ル］ベンゾトリアゾール（すなわち2-(2'-ヒドロキシ-
5'-t-オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール）等が挙
げられる。
【００１７】また、ベンゾフェノン系の化合物として
は、例えば2,2'- ジヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェ
ノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェ
ノン、2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-
ヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロ
キシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
ベンゾフェノン等が挙げられる。
は、例えば2,2'- ジヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェ
ノン、2,2'- ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェ
ノン、2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、2-
ヒドロキシ-4- メトキシベンゾフェノン、2,4-ジヒドロ
キシベンゾフェノン、2-ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００１８】また、サリチル酸系の化合物としては、例
えばフェニルサリチレート、パラオクチルフェニルサリ
チレート等が挙げられる。
えばフェニルサリチレート、パラオクチルフェニルサリ
チレート等が挙げられる。
【００１９】これらの紫外線吸収剤は単独で、または２
種以上組合せて用いることができる。特に好ましい紫外
線吸収剤はベンゾトリアゾール系およびベンゾフェノン
系の化合物である。
種以上組合せて用いることができる。特に好ましい紫外
線吸収剤はベンゾトリアゾール系およびベンゾフェノン
系の化合物である。
【００２０】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 が上記した紫
外線吸収剤から誘導される残基以外の有機基であると
き、そのような有機基は、アルキル基、アリールアルキ
ル基、アルキルアリール基またはアリール基である。ア
ルキル基としては、炭素原子数４〜１５個のアルキル基
が好ましく、例えばブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、トリデシル基等が挙げられ、
これらは直鎖状もしくは分枝状であることができる。ア
リールアルキル基としては、例えばベンジル基、フェニ
ルエチル基等が挙げられ、アルキルアリール基としては
クレジル基、キシリル基、エチルフェニル基、t-ブチル
フェニル基等が挙げられる。また、アリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。こ
れらの基の中でも特に好適なものとしては、例えばフェ
ニル基；ベンジル基、フェニルエチル基などのフェニル
‐低級アルキル基；クレジル基、キシリル基、エチルフ
ェニル基、t-ブチルフェニル基などの低級アルキル‐フ
ェニル基が挙げられる。
外線吸収剤から誘導される残基以外の有機基であると
き、そのような有機基は、アルキル基、アリールアルキ
ル基、アルキルアリール基またはアリール基である。ア
ルキル基としては、炭素原子数４〜１５個のアルキル基
が好ましく、例えばブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、トリデシル基等が挙げられ、
これらは直鎖状もしくは分枝状であることができる。ア
リールアルキル基としては、例えばベンジル基、フェニ
ルエチル基等が挙げられ、アルキルアリール基としては
クレジル基、キシリル基、エチルフェニル基、t-ブチル
フェニル基等が挙げられる。また、アリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。こ
れらの基の中でも特に好適なものとしては、例えばフェ
ニル基；ベンジル基、フェニルエチル基などのフェニル
‐低級アルキル基；クレジル基、キシリル基、エチルフ
ェニル基、t-ブチルフェニル基などの低級アルキル‐フ
ェニル基が挙げられる。
【００２１】上記式（１）において、Ｘは２価の有機基
であるが、そのような有機基としては、上記した有機基
から、炭素原子に結合している水素原子の２個を除いて
できる２価の基を意味する。例えばアルキレン基、シク
ロアルキレン基、アリーレン基等が挙げられる。好まし
くは（ヒドロキシ基、アルキル基等で置換されていても
よい）フェニレン基および多核フェニレン基（例えばビ
フェニレン基、ビスフェノール類から誘導される基）で
あり、２つの遊離原子価の相対的位置は任意である。−
Ｏ−Ｘ−Ｏ−構造の好ましい具体例としては、ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ビス（ヒドロキシフェニル）メ
タン、2,2-ビス（ヒドロキシフェニル）プロパン（すな
わちビスフェノールＡ）、ジヒドロキシジフェニル、
p,p′- ジヒドロキシジフェニルスルホン、ジヒドロキ
シナフタレン等から誘導されるものが挙げられる。特に
好ましくは、置換されていてもよいフェニレン基および
ビスフェノール類から誘導される基である。
であるが、そのような有機基としては、上記した有機基
から、炭素原子に結合している水素原子の２個を除いて
できる２価の基を意味する。例えばアルキレン基、シク
ロアルキレン基、アリーレン基等が挙げられる。好まし
くは（ヒドロキシ基、アルキル基等で置換されていても
よい）フェニレン基および多核フェニレン基（例えばビ
フェニレン基、ビスフェノール類から誘導される基）で
あり、２つの遊離原子価の相対的位置は任意である。−
Ｏ−Ｘ−Ｏ−構造の好ましい具体例としては、ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ビス（ヒドロキシフェニル）メ
タン、2,2-ビス（ヒドロキシフェニル）プロパン（すな
わちビスフェノールＡ）、ジヒドロキシジフェニル、
p,p′- ジヒドロキシジフェニルスルホン、ジヒドロキ
シナフタレン等から誘導されるものが挙げられる。特に
好ましくは、置換されていてもよいフェニレン基および
ビスフェノール類から誘導される基である。
【００２２】前記式（１）において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3
およびＲ4 のうち１つが紫外線吸収剤から誘導される残
基であり、他がフェニル基であり、かつＸが、置換され
ていてもよいフェニレン基およびビスフェノール類から
誘導される基から選ばれるリン酸エステル系化合物が特
に好ましい。上記式（１）において、ｐは０〜１０の整
数であり、好ましくは０〜２の整数である。
およびＲ4 のうち１つが紫外線吸収剤から誘導される残
基であり、他がフェニル基であり、かつＸが、置換され
ていてもよいフェニレン基およびビスフェノール類から
誘導される基から選ばれるリン酸エステル系化合物が特
に好ましい。上記式（１）において、ｐは０〜１０の整
数であり、好ましくは０〜２の整数である。
【００２３】上記した成分（Ｂ）リン酸エステル化合物
は、いかなる方法で製造されたものであってもよく、例
えば相当するヒドロキシ化合物とリン化合物のハロゲン
化物とを縮合反応させることによって製造できる。例え
ばＨＯ−Ｘ−ＯＨで表されるジフェノール化合物（例え
ばビスフェノールＡ）と、Ｒ1 〜Ｒ4 に相当する基を有
する有機ホスホクロリデートを所定量ずつベンゼン、ト
ルエン等の芳香族系溶剤に溶かし、トリエチルアミンな
どの脱塩酸剤の存在下に約40〜80℃で反応させる。この
場合、紫外線吸収剤から誘導される残基の導入は、水酸
基を有する紫外線吸収剤化合物を、これ以外のＲ1 〜Ｒ
4 に相当する基を有するヒドロキシ化合物と共に、オキ
シ塩化リンと反応させて有機ホスホクロリデートとして
しておくことによって行う。
は、いかなる方法で製造されたものであってもよく、例
えば相当するヒドロキシ化合物とリン化合物のハロゲン
化物とを縮合反応させることによって製造できる。例え
ばＨＯ−Ｘ−ＯＨで表されるジフェノール化合物（例え
ばビスフェノールＡ）と、Ｒ1 〜Ｒ4 に相当する基を有
する有機ホスホクロリデートを所定量ずつベンゼン、ト
ルエン等の芳香族系溶剤に溶かし、トリエチルアミンな
どの脱塩酸剤の存在下に約40〜80℃で反応させる。この
場合、紫外線吸収剤から誘導される残基の導入は、水酸
基を有する紫外線吸収剤化合物を、これ以外のＲ1 〜Ｒ
4 に相当する基を有するヒドロキシ化合物と共に、オキ
シ塩化リンと反応させて有機ホスホクロリデートとして
しておくことによって行う。
【００２４】あるいはＲ1 〜Ｒ4 に相当する基を有する
ヒドロキシ化合物とジフェノール化合物とを混合した
後、オキシ塩化リンを加えて反応させる方法、またはエ
ステル交換反応により製造することもできる。
ヒドロキシ化合物とジフェノール化合物とを混合した
後、オキシ塩化リンを加えて反応させる方法、またはエ
ステル交換反応により製造することもできる。
【００２５】成分（Ｂ）リン酸エステル化合物は、上記
した成分（Ａ）１００重量部に対して０．１〜１５重量
部配合される。好ましい下限値は０．５である。成分
（Ｂ）の配合量が上記の範囲より下の場合には、耐光性
および難燃性の改善がみられず、また上記の範囲より上
の場合には耐熱性、機械的特性が損なわれる。
した成分（Ａ）１００重量部に対して０．１〜１５重量
部配合される。好ましい下限値は０．５である。成分
（Ｂ）の配合量が上記の範囲より下の場合には、耐光性
および難燃性の改善がみられず、また上記の範囲より上
の場合には耐熱性、機械的特性が損なわれる。
【００２６】本発明の組成物にはさらに、トリフェニル
ホスフェート（ＴＰＰ）、レゾルシノールテトラフェニ
ルジホスフェート、ビスフェノールＡテトラフェニルジ
ホスフェートなどの従来慣用のリン酸エステル化合物、
紫外線吸収剤を併用することも可能である。
ホスフェート（ＴＰＰ）、レゾルシノールテトラフェニ
ルジホスフェート、ビスフェノールＡテトラフェニルジ
ホスフェートなどの従来慣用のリン酸エステル化合物、
紫外線吸収剤を併用することも可能である。
【００２７】また、本発明の樹脂組成物には、その物性
を損なわない限りにおいて、その目的に応じて樹脂の混
合時、成形時に、慣用の他の添加剤、例えば顔料、染
料、補強剤（ガラス繊維（ＧＦ）、炭素繊維、タルク、
マイカ、チタン酸カリウム繊維など）、充填剤（カ―ボ
ンブラック、シリカ、酸化チタンなど）、耐熱剤、酸化
劣化防止剤、耐候剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、可塑
剤、流動性改良剤、帯電防止剤等を添加することができ
る。
を損なわない限りにおいて、その目的に応じて樹脂の混
合時、成形時に、慣用の他の添加剤、例えば顔料、染
料、補強剤（ガラス繊維（ＧＦ）、炭素繊維、タルク、
マイカ、チタン酸カリウム繊維など）、充填剤（カ―ボ
ンブラック、シリカ、酸化チタンなど）、耐熱剤、酸化
劣化防止剤、耐候剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、可塑
剤、流動性改良剤、帯電防止剤等を添加することができ
る。
【００２８】本発明の樹脂組成物を製造するための方法
に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。し
かしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の
使用も可能であるが、一般に必要ない。装置としては特
に押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等
を例として挙げることができ、これらを回分的または連
続的に運転する。成分の混合順は特に限定されない。
に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。し
かしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の
使用も可能であるが、一般に必要ない。装置としては特
に押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等
を例として挙げることができ、これらを回分的または連
続的に運転する。成分の混合順は特に限定されない。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】なお、実施例においては次の化合物を使用
した。 成分（Ａ） ＰＰＥ：固有粘度（クロロホルム、30℃）0.47ｄｌ／ｇ
のポリ(2,6- ジメチル-1,4- フェニレン）エ−テル、日
本ジーイープラスチックス社製（以下、これをＰＰＥと
称する） ＰＳ：トーポレックス 870-ST（商標、三井東圧化学株
式会社製、ハイインパクトポリスチレン）（以下、これ
をＨＩＰＳと称する） 成分（Ｂ） Ｐ−１：次式（Ｉ）：
した。 成分（Ａ） ＰＰＥ：固有粘度（クロロホルム、30℃）0.47ｄｌ／ｇ
のポリ(2,6- ジメチル-1,4- フェニレン）エ−テル、日
本ジーイープラスチックス社製（以下、これをＰＰＥと
称する） ＰＳ：トーポレックス 870-ST（商標、三井東圧化学株
式会社製、ハイインパクトポリスチレン）（以下、これ
をＨＩＰＳと称する） 成分（Ｂ） Ｐ−１：次式（Ｉ）：
【００３１】
【化５】 で示されるリン酸エステル化合物。次のように製造し
た：撹拌機、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた３
つ口フラスコに、フェノール94.1ｇ、下記式（Ｖ）に示
した化合物161.5 ｇ、ピリジン130 ｇおよびベンゼンを
仕込み、オキシ塩化リン76.7ｇを滴下した後、４時間反
応させた。反応液を水洗し、塩酸塩を除去した後、真空
乾燥して、上記式（Ｉ）で示される化合物を得た。
た：撹拌機、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた３
つ口フラスコに、フェノール94.1ｇ、下記式（Ｖ）に示
した化合物161.5 ｇ、ピリジン130 ｇおよびベンゼンを
仕込み、オキシ塩化リン76.7ｇを滴下した後、４時間反
応させた。反応液を水洗し、塩酸塩を除去した後、真空
乾燥して、上記式（Ｉ）で示される化合物を得た。
【００３２】Ｐ−２：次式（II）：
【００３３】
【化６】 で示されるリン酸エステル化合物。次のように製造し
た：フェノール70.6ｇ、レゾルシノール27.5ｇ、下記式
（Ｖ）に示した化合物139ｇ、ピリジン130 ｇおよびオ
キシ塩化リン161.5 ｇを用いたこと以外は上記Ｐ−１と
同様の操作を行い、上記式（II）で示される化合物を得
た。
た：フェノール70.6ｇ、レゾルシノール27.5ｇ、下記式
（Ｖ）に示した化合物139ｇ、ピリジン130 ｇおよびオ
キシ塩化リン161.5 ｇを用いたこと以外は上記Ｐ−１と
同様の操作を行い、上記式（II）で示される化合物を得
た。
【００３４】Ｐ−３：次式（III ）：
【００３５】
【化７】 で示されるリン酸エステル化合物。次のように製造し
た：フェノール70.6ｇ、ビスフェノールＡ 57ｇ、下記
式（Ｖ）に示した化合物139 ｇ、ピリジン130 ｇおよび
オキシ塩化リン161.5 ｇを用いたこと以外は上記Ｐ−１
と同様の操作を行い、上記式（III ）で示される化合物
を得た。
た：フェノール70.6ｇ、ビスフェノールＡ 57ｇ、下記
式（Ｖ）に示した化合物139 ｇ、ピリジン130 ｇおよび
オキシ塩化リン161.5 ｇを用いたこと以外は上記Ｐ−１
と同様の操作を行い、上記式（III ）で示される化合物
を得た。
【００３６】Ｐ−４：次式（IV）：
【００３７】
【化８】 で示されるリン酸エステル化合物。次のように製造し
た：フェノール70.6ｇ、2-ヒドロキシ-4- オクチルオキ
シベンゾフェノン163 ｇ、ピリジン130 ｇおよびオキシ
塩化リン161.5 ｇを使用したこと以外は上記Ｐ−１と同
様の操作を行い、上記式（IV）で示される化合物を得
た。紫外線吸収剤（比較のために使用）：次式（Ｖ）：
た：フェノール70.6ｇ、2-ヒドロキシ-4- オクチルオキ
シベンゾフェノン163 ｇ、ピリジン130 ｇおよびオキシ
塩化リン161.5 ｇを使用したこと以外は上記Ｐ−１と同
様の操作を行い、上記式（IV）で示される化合物を得
た。紫外線吸収剤（比較のために使用）：次式（Ｖ）：
【００３８】
【化９】 で示されるベンゾトリアゾール系化合物。アメリカンサ
イアナミッド社製、商標；CYASORB UV-5411 （以下で
は、ＢＴと称する） 任意成分 トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ） 酸化チタン（ＴｉＯ2 ）実施例１〜５および比較例１〜２ 表１に示す割合（重量比）の成分を、二軸押出機を用い
て 280℃で溶融混練し、ペレットを作成した。得られた
ペレットから射出成形により各種試験片を成形し、以下
の特性について評価した。結果を表１に示す。 (1) アイゾット衝撃強度 ＡＳＴＭ Ｄ２５６にしたがって、厚み1/8 インチ、ノ
ッチ付で、２３℃において測定した。 (2) 熱変形温度（ＨＤＴ） ＡＳＴＭ Ｄ６４８にしたがって、荷重18.6 kg/cm2 に
て測定した。 (3) 耐光性 アトラス社製フェードオメータを用いて、ブラックパネ
ル温度６３℃、照射光度0.39 W/m2 の条件で、厚さ３mm
のガラス板を透過させて促進試験を行い、色差（ΔＥ）
を測定した。数値が小さいほど耐光性に優れる。なお測
定は、照射100時間後、200 時間後および300 時間後の
３回行った。
イアナミッド社製、商標；CYASORB UV-5411 （以下で
は、ＢＴと称する） 任意成分 トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ） 酸化チタン（ＴｉＯ2 ）実施例１〜５および比較例１〜２ 表１に示す割合（重量比）の成分を、二軸押出機を用い
て 280℃で溶融混練し、ペレットを作成した。得られた
ペレットから射出成形により各種試験片を成形し、以下
の特性について評価した。結果を表１に示す。 (1) アイゾット衝撃強度 ＡＳＴＭ Ｄ２５６にしたがって、厚み1/8 インチ、ノ
ッチ付で、２３℃において測定した。 (2) 熱変形温度（ＨＤＴ） ＡＳＴＭ Ｄ６４８にしたがって、荷重18.6 kg/cm2 に
て測定した。 (3) 耐光性 アトラス社製フェードオメータを用いて、ブラックパネ
ル温度６３℃、照射光度0.39 W/m2 の条件で、厚さ３mm
のガラス板を透過させて促進試験を行い、色差（ΔＥ）
を測定した。数値が小さいほど耐光性に優れる。なお測
定は、照射100時間後、200 時間後および300 時間後の
３回行った。
【００３９】
【表１】
【００４０】なお、実施例１〜５の組成物はさらに、優
れた難燃性を示した。
れた難燃性を示した。
【００４１】
【発明の効果】本発明のＰＰＥ系樹脂組成物は、耐光性
が改善され、しかも難燃性にも優れているので、工業的
に非常に有用である。
が改善され、しかも難燃性にも優れているので、工業的
に非常に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 71/12 C08K 5/521 - 5/523 C08L 25/00 - 25/18 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (5)
- 【請求項１】 （Ａ）ポリフェニレンエーテル系樹脂ま
たはこれとポリスチレン系樹脂１００重量部、および
（Ｂ）一般式（１）： 【化１】 （上記式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、それぞれ
独立して、水素原子、ハロゲン原子または有機基を表
し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 のうち少なくとも１つ
が紫外線吸収剤から誘導される残基であり、Ｘは２価の
有機基を表し、ｐは０〜１０の整数である）で示される
リン酸エステル系化合物０．１〜１５重量部を含むこと
を特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 【請求項２】 前記式（１）において、紫外線吸収剤か
ら誘導される残基が、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフ
ェノン系およびサリチル酸系の水酸基含有化合物から選
択される紫外線吸収剤から誘導されたものである請求項
１記載のポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 【請求項３】 前記式（１）において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 およびＲ4 のいずれかが紫外線吸収剤から誘導される
残基ではないときに、フェニル基、フェニル‐低級アル
キル基および低級アルキル‐フェニル基から選択される
基である請求項１または２記載のポリフェニレンエーテ
ル系樹脂組成物。 - 【請求項４】 前記式（１）において、Ｘが、置換され
ていてもよいフェニレン基およびビスフェノール類から
誘導される基から選ばれる請求項１〜３のいずれか１項
記載のポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 【請求項５】 前記式（１）において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ
3 およびＲ4 のうち１つが紫外線吸収剤から誘導される
残基であり、他がフェニル基であり、かつＸが、置換さ
れていてもよいフェニレン基およびビスフェノール類か
ら誘導される基から選ばれる請求項１〜４のいずれか１
項記載のポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17041794A JP3281184B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
| EP95304062A EP0690097A3 (en) | 1994-06-30 | 1995-06-13 | Polyphenylene ether resin composition |
| CN95107746A CN1071776C (zh) | 1994-06-30 | 1995-06-30 | 聚苯醚树脂组合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17041794A JP3281184B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0812878A JPH0812878A (ja) | 1996-01-16 |
| JP3281184B2 true JP3281184B2 (ja) | 2002-05-13 |
Family
ID=15904544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17041794A Expired - Fee Related JP3281184B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0690097A3 (ja) |
| JP (1) | JP3281184B2 (ja) |
| CN (1) | CN1071776C (ja) |
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| CN105486558B (zh) * | 2015-12-24 | 2018-05-29 | 上海微谱化工技术服务有限公司 | 聚苯醚工程塑料中苯并***类光稳定剂的分离及检测方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53418A (en) | 1976-06-25 | 1978-01-06 | Kahee Shimomura | Doubleewalled ocean tanks of caisson type with shaft |
| JPS55118957A (en) | 1979-03-02 | 1980-09-12 | Gen Electric | Flameeproof composition |
| GB2043083A (en) * | 1979-03-06 | 1980-10-01 | Gen Electric | Flame retardant polyphenylene ether compositions |
| JPS598751A (ja) | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 安定化されたポリフエニレンエ−テル系樹脂組成物 |
| JPS598752A (ja) | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 安定化ポリフエニレンエ−テル系樹脂組成物 |
| JPH02187459A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-07-23 | Nippon G Ii Plast Kk | ポリフェニレンエーテル系樹脂およびポリアミドを含む組成物 |
| DE4129765A1 (de) * | 1991-09-06 | 1993-03-11 | Basf Ag | Halogenfrei flammfest ausgeruestete thermoplastische formmassen auf basis von polyphenylenethern und polystyrol |
| JPH08881B2 (ja) | 1991-10-30 | 1996-01-10 | 旭化成工業株式会社 | 難燃耐熱耐衝撃性樹脂組成物 |
| JP2607325B2 (ja) | 1991-11-29 | 1997-05-07 | 旭化成工業株式会社 | 耐衝撃性の優れた難燃耐熱性樹脂組成物 |
| JPH05247355A (ja) | 1992-03-09 | 1993-09-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 良流動耐熱性樹脂組成物 |
| JPH0711121A (ja) * | 1993-06-25 | 1995-01-13 | Nippon G Ii Plast Kk | 難燃性樹脂組成物 |
-
1994
- 1994-06-30 JP JP17041794A patent/JP3281184B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-06-13 EP EP95304062A patent/EP0690097A3/en not_active Ceased
- 1995-06-30 CN CN95107746A patent/CN1071776C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0812878A (ja) | 1996-01-16 |
| CN1122347A (zh) | 1996-05-15 |
| EP0690097A3 (en) | 1996-12-27 |
| EP0690097A2 (en) | 1996-01-03 |
| CN1071776C (zh) | 2001-09-26 |
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