JP3267950B2 - ウエハ検査装置 - Google Patents
ウエハ検査装置Info
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Description
成されたウエハの被検査面の欠陥を例えばＣＡＤ(Compu
ter Aided Design) 装置等を用いて表示するウエハ検査
装置に関するものである。
示す概略の構成図である。このウエハ検査装置は、パタ
ーン付きウエハ欠陥検査部１を有している。パターン付
きウエハ欠陥検査部１は、回路の配線情報に基づいて回
路パターンが各チップ毎に形成されたウエハの被検査面
の画像を該各チップ毎に取り込み、該被検査面上に存在
する欠陥の位置及び大きさを表す座標値データS1を該各
チップ毎に生成して出力する機能を有している。パター
ン付きウエハ欠陥検査部１の出力側には、ウエハマップ
表示部２が接続されている。ウエハマップ表示部２は、
座標値データS1を入力し、前記各チップの被検査面上に
存在する欠陥の位置及び大きさ等をウエハマップを用い
て表示するものである。
るウエハがウエハ欠陥検査部１で検査され、該ウエハ欠
陥検査部１から座標値データS1が出力される。座標値デ
ータS1はウエハマップ表示部２に入力され、該ウエハマ
ップ表示部２で該座標値データS1に対応したウエハマッ
プが表示される。図３は、図２中のウエハマップ表示部
２における表示画面の一例を示す模式図である。
所に数字で表示され、欠陥の形状が例えば“○”印等で
表示されている。そして、このウエハ検査装置では、担
当者の目視によって図３のウエハマップにおける欠陥分
布、欠陥数及び欠陥の大きさの欠陥管理が行われ、サン
プリング手法を用いて欠陥解析が行われる。
図２のウエハ検査装置では、次の（ｉ），（ii）のよう
な課題があった。 （ｉ） 図２のウエハ検査装置では、表示画面に欠陥が
表示されるのみであり、欠陥と回路パターンとの相関を
考慮した欠陥解析が不可能である。
パターンと欠陥位置及び欠陥の大きさとの相関関係を表
現することができない。そのため、例えば２本のパター
ンが短絡している場合、致命的な欠陥になるか否かの判
別が不可能であった。
に、本発明のうちの請求項１に係る発明は、ウエハ検査
装置において、回路の配線情報に基づいて回路パターン
が各チップ毎に形成されたウエハの被検査面の画像を該
各チップ毎に取り込み、該被検査面上に存在する欠陥の
位置及び大きさを表す座標値データを該各チップ毎に生
成して出力するウエハ検査手段と、前記各座標値データ
に基づいて前記各欠陥を表す図形を前記各チップ毎に作
成して該図形に対応した画像データを生成する画像デー
タ生成手段と、前記画像データを入力し、該画像データ
に対応した第１の画像と前記配線情報に基づいた回路パ
ターンを表す第２の画像のうちの前記座標値データに対
応する部分とを共通画面に重ねて表示する表示手段と
を、備えている。また、請求項２に係る発明は、請求項
１の発明において、前記配線情報に基づいた次工程の回
路パターンを表す第３の画像のうち前記座標値データに
対応する部分も共通画面に重ねて表示するようにしたも
のである。
エハがウエハ検査手段にかけられて該ウエハの被検査面
の画像が各チップ毎に取り込まれ、該ウエハ検査手段か
ら欠陥の位置及び大きさを表す座標値データが出力され
る。座標値データは画像データ生成手段に入力され、該
画像データ生成手段から画像データが出力される。画像
データは表示手段に入力され、該画像データに対応した
第１の画像と回路パターンを表す第２の画像のうちの前
記座標値データに対応する部分とが重ねて表示される。
ウエハ検査装置の概略の構成図である。このウエハ検査
装置は、ウエハ検査手段（例えば、パターン付きウエハ
欠陥検査部）11を有している。パターン付きウエハ欠陥
検査部11は、例えば、走査型電子顕微鏡（Scanning Ele
ctronic Microscope、以下、「ＳＥＭ」という）等を備
え、回路の配線情報に基づいて回路パターンが各チップ
毎に形成されたウエハの被検査面の画像を該各チップ毎
に取り込み、該被検査面上に存在する欠陥の位置及び大
きさを表す座標値データS11 を該各チップ毎に生成して
出力する機能を有している。パターン付きウエハ欠陥検
査部11の出力側には、画像データ生成手段（例えば、画
像データ生成部）12が接続されている。画像データ生成
部12は、例えばＣＡＤ装置等で構成され、各座標値デー
タS11 に基づいて前記各欠陥を表す図形を前記各チップ
毎に作成して画像データS12 を生成するものである。画
像データ生成部12の出力側には、表示手段（例えば、表
示部）13が接続されている。表示部13は、例えばＣＡＤ
装置等で構成され、画像データS12 を入力して該画像デ
ータS12 に対応した第１の画像と前記配線情報に基づい
た回路パターンを表す第２の画像のうちの座標値データ
S11 に対応する部分とを共通画面に重ねて表示する機能
を有している。
検査装置では、検査の対象となるウエハがウエハ欠陥検
査部11で検査され、該ウエハ欠陥検査部11から座標値デ
ータS11 が出力される。座標値データS11 は画像データ
生成部12に入力され、該画像データ生成部12でウエハの
欠陥を表す図形（例えば、ＣＡＤ図形）が各チップ毎に
作成されて画像データS12 が生成される。画像データS1
2 は表示部13に入力され、該表示部13で該画像データS1
2 に対応した第１の画像が回路パターンを表す第２の画
像のうちの座標値データS11 に対応する部分に重ねられ
て表示される。
面の一例を示す模式図である。この表示画面では、回路
パターンP1と回路パターンP2とが異物Ｑによって短絡さ
れていることが表示され、この短絡された部分が○印で
囲まれている。そのため、微細な回路パターンと欠陥と
の相関関係が半導体製造装置の精度のレベルで表示され
る。又、この表示画面に、回路パターンP1，P2が形成さ
れた後の工程で形成される図示しない回路パターンを重
ねて表示すれば、異物Ｑによる影響が予測される。例え
ば、異物Ｑがあることにより、上に形成されるパターン
が切れることが予想される。そのため、ウエハの製造工
程の途中でこのウエハ検査装置を用いてウエハを検査す
れば、次工程の製造作業の可否が判定される。
ターンP1，P2と異物Ｑの位置及び大きさとの相関関係を
表示画面で表示するようにしたので、例えば回路パター
ンP1，P2が異物Ｑを介して短絡している場合、致命的な
欠陥になるか否かの判別が可能になる。そして、致命的
な欠陥が判別された場合は、次工程の製造作業が行われ
ないので、ウエハの歩留まりが向上し、効率的な製造作
業が行われる。
種々の変形が可能である。その変形例としては、例えば
次のようなものがある。 （ａ） パターン付きウエハ欠陥検査部11は、ＳＥＭの
他、ウエハの被検査面の画像を取り込んで欠陥の座標値
データS11 を出力するものであれば、任意の装置でよ
い。
置に限らず、画像データS12 を生成するものであれば、
任意の装置でよい。 （ｃ） 表示部13は、ＣＡＤ装置に限らず、第１の画像
と第２の画像のうちの座標値データS11 に対応する部分
とを共通画面に重ねて表示するものであれば、任意の装
置でよい。
係る発明によれば、複数の回路パターンと欠陥の位置及
び大きさとの相関関係を表示手段で表示するようにした
ので、例えば２本の回路パターンが異物を介して短絡し
ている場合、致命的な欠陥になるか否かを判別できる。
そして、致命的な欠陥になる場合は、次工程の製造作業
が行われないので、ウエハの歩留まりを向上でき、効率
的な製造作業を行うことができる。
ある。
検査手段） 12 画像データ生成部（画像データ生成手
段） 13 表示部（表示手段）
Claims (2)
- 【請求項１】 回路の配線情報に基づいて回路パターン
が各チップ毎に形成されたウエハの被検査面の画像を該
各チップ毎に取り込み、該被検査面上に存在する欠陥の
位置及び大きさを表す座標値データを該各チップ毎に生
成して出力するウエハ検査手段と、 前記各座標値デー
タに基づいて前記各欠陥を表す図形を前記各チップ毎に
作成して該図形に対応した画像データを生成する画像デ
ータ生成手段と、 前記画像データを入力し、該画像デ
ータに対応した第１の画像と前記配線情報に基づいた回
路パターンを表す第２の画像のうちの前記座標値データ
に対応する部分とを共通画面に重ねて表示する表示手段
とを、備えたことを特徴とするウエハ検査装置。 - 【請求項２】 前記配線情報に基づいた次工程の回路パ
ターンを表す第３の画像のうち前記座標値データに対応
する部分も共通画面に重ねて表示するようにした請求項
１記載のウエハ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09685299A JP3267950B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | ウエハ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09685299A JP3267950B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | ウエハ検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000292362A JP2000292362A (ja) | 2000-10-20 |
| JP3267950B2 true JP3267950B2 (ja) | 2002-03-25 |
Family
ID=14176029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09685299A Expired - Lifetime JP3267950B2 (ja) | 1999-04-02 | 1999-04-02 | ウエハ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3267950B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006234588A (ja) | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン測定方法、及びパターン測定装置 |
-
1999
- 1999-04-02 JP JP09685299A patent/JP3267950B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000292362A (ja) | 2000-10-20 |
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