JP3262938B2

JP3262938B2 - 位相差フィルム

Info

Publication number: JP3262938B2
Application number: JP08169294A
Authority: JP
Inventors: 尚志城; 薫岩田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1994-04-20
Filing date: 1994-04-20
Publication date: 2002-03-04
Anticipated expiration: 2017-03-04
Also published as: JPH07287118A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶などの表示素子、
波長板などの光学素子等、光学用途に有用な位相差フィ
ルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、実用化が進められている液晶など
の表示装置は消費電力が少なく、かつ画像品質に優れて
いる点から注目を浴びている。この液晶表示装置におい
ては、その目的に応じた各種高分子フィルムが偏光板、
保護層、位相差板あるいは電極基板などに使用されてい
る。

【０００３】位相差板を構成する位相差フィルムは、液
晶表示素子において画像の視認性を向上させるために用
いられるものであり、液晶層を透過した楕円偏光を直線
偏光に変換する、すなわち位相差を補償する役割を担っ
ている。

【０００４】例えばＳＴＮ型液晶表示素子においては、
フィルム面内で４００〜６５０ｎｍの位相差を有する位
相差フィルムが使われている。この位相差フィルムの高
分子素材として、主に一軸延伸したポリカーボネートや
ポリビニルアルコール等の各フィルムが用いられてい
る。特にビスフェノールＡとホスゲンから得られるポリ
カーボネート（以下ＰＣ−Ａと略す）に代表されるポリ
カーボネートは、耐熱性、各種機械的特性も良好なバラ
ンスのとれた無色のポリマーであり、そのフィルムは伸
度、機械物性に優れ、かつ成形性や、透明性、光学的特
性が極めて良好である。また、溶液流延法により筋や欠
陥のない表面均質性の高いフィルムを製造することがで
き、延伸により所望の位相差のフィルムを得ることも比
較的容易である。

【０００５】また、ＴＮ型液晶表示素子においては、面
内の位相差は３０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下で
あり、フィルム面内の屈折率と膜厚方向の屈折率が異な
る位相差フィルムが使われている。かかる位相差フィル
ムの高分子素材としても、上述の理由からＰＣ−Ａが用
いられている。

【０００６】ところで、液晶表示素子の応答速度をより
高速化する検討が最近盛んに行われており、従来に比べ
てより複屈折率の大きな液晶材料を液晶表示素子に用い
るようになってきた。ところがかかる液晶層の位相差の
波長分散は従来のそれと比べて大きいため、従来用いら
れていたポリカーボネートフィルムでは可視光領域全域
で位相差補償が不可能になり、その結果、表示装置の画
像が着色するようになってきた。そこで白黒表示の実現
のため、液晶層と一致した大きな位相差の波長分散を有
する位相差フィルムが求められている。

【０００７】たとえば、芳香族ポリエーテルスルホンフ
ィルムは位相差の波長分散が大きいことが知られてお
り、位相差フィルムへの適応が積極的に検討されてい
る。しかしながら、一般に芳香族ポリエーテルスルホン
は溶融押し出し法、特にＴダイ法により製膜されてお
り、Ｔダイ法固有の問題であるダイラインあるいはフィ
ッシュアイの発生により充分な表面均質性が得られてお
らず実用化には到っていない。また、単一材料で大きな
位相差の波長分散を示すフィルムが得られない場合は、
複数のフィルムを光軸を同一にして積層することにより
実現できることも知られている。しかしながら、２枚以
上のフィルムを使用することはコストアップにつなが
り、また光軸を制御しながら積層することは技術的に非
常に困難である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示装置の画像が着色しない、大きな位相差の波長分散
を有するポリカーボネートの位相差フィルムを提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、（１）主鎖骨格中に
ジフェニルスルフィド誘導体を有するポリカーボネート
からなるフィルムの位相差波長分散が大きいこと、
（２）該ポリカーボネートが溶媒に高濃度に溶解し、か
つその溶液組成物（ドープ）の安定性が優れており、そ
のドープから白濁を起こさずに透明でかつ光学的に均質
である平滑なフィルムを製造できることを見い出し本発
明に到達した。

【００１０】すなわち本発明は、下記一般式（Ｉ）で表
される繰り返し単位を１〜１００モル％含有し、下記一
般式（II）で表わされる繰り返し単位を９９〜０モル％
含有してなるポリカーボネートからなり、波長４５０ｎ
ｍにおける位相差Ｒｅ（４５０）の５５０ｎｍにおける
位相差Ｒｅ（５５０）に対する比、Ｒｅ（４５０）／Ｒ
ｅ（５５０）が１．０８０以上であることを特徴とする
位相差フィルムである。

【化３】（式（Ｉ）中、Ｒ ₁ 、Ｒ ₂ が水素原子であり、Ｒ ₃ 、Ｒ ₄ が
メチル基である）

【化４】（式（ＩＩ）中、Ｘはメチレン基、１，１−エチレン
基、２，２−プロピレン基及び４−メチル−２，２−ペ
ンチレン基から選ばれる脂肪族炭化水素基、炭素数１〜
１５の２価の脂環族炭化水素基、または炭素数１〜１５
の２価のアルアルキレン基であり、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈
はおのおの独立に、水素原子、臭素原子または炭素数１
〜４の炭化水素基である。）

【００１１】以下に本発明を詳述する。本発明の位相差
フィルムは、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位
の全量に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し
単位を１〜１００モル％、下記一般式（ＩＩ）で表され
る繰り返し単位を０〜９９モル％含有するポリカーボネ
ートから形成される。

【００１２】

【化５】

【００１３】

【化６】

【００１４】（式（Ｉ）中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素
原子または炭素数１〜５のアルキル基である。式（Ｉ
Ｉ）中、Ｘはメチレン基、１，１−エチレン基、２，２
−プロピレン基及び４−メチル−２，２−ペンチレン基
から選ばれる脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１５の２価
の脂環族炭化水素基、または炭素数１〜１５の２価のア
ラアルキレン基であり、Ｒ ₅ 、Ｒ ₆ 、Ｒ ₇ 、Ｒ ₈ はおのおの
独立に、水素原子、臭素原子または炭素数１〜４の炭化
水素基である。）

【００１５】ここで式（Ｉ）において、Ｒ ₁、Ｒ₃が水素
原子、Ｒ₂、Ｒ₄がメチル基である。式（ＩＩ）において
Ｘはメチレン基、１，１−エチレン基、２，２−プロピ
レン基及び４−メチル−２，２−ペンチレン基から選ば
れる脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１５の２価の脂環族
炭化水素基並びに炭素数１〜１５の２価のアルアルキレ
ン基から選ばれる。具体的にはメチレン基、１，１−エ
チレン基、２，２−プロピレン基及び４−メチル−２，
２−ペンチレン基から選ばれる脂肪族炭化水素基、１，
１−シクロヘキシレン基、３，３，５−トリメチル−
１，１−シクロヘキシレン基などの脂環族炭化水素基、
１−フェニル−１，１−エチレン基、ジフェニルメチレ
ン基、１，１−フルオレニレン基などのアルアルキレン
基があげられる。特に好ましくは２，２−プロピレン
基、１，１−シクロヘキシレン基である。

【００１６】また、Ｒ₅，Ｒ₆，Ｒ₇，Ｒ₈はおのおの独立
に、水素原子、臭素原子または炭素数１〜４の炭化水素
基であり、好ましくは全てが水素原子であるか、または
全てがメチル基である。

【００１７】上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位
は全量に対して１〜１００モル％含有する。１モル％よ
り少ないと、波長４５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（４５
０）の５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）に対す
る比、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０８０よ
り小さくなり、従来のポリカーボネート（ＰＣ−Ａ）の
それに近づいてしまい、位相差を十分補償することがで
きず好ましくない。かかる繰り返し単位の含有量は所望
する位相差の波長分散の大きさに合わせて適宜調節する
ことができる。例えば一般的なポリカーボネートである
ＰＣ−Ａの位相差の波長分散の大きさに比べて少しだけ
大きくしたいときは１〜５０モル％にすれば良く、かな
り大きくしたいときは５０〜１００モル％にすれば良
い。また１００℃程度の耐熱性を要求される場合には８
０モル％以下、１２０℃程度の場合には６５モル％以
下、１３０℃程度の場合には５０モル％以下、１５０℃
程度の場合には３５モル％以下が好ましい。フィルムの
色調などの光学特性に対する要求が極めて厳しい場合に
は、１〜５０モル％、好ましくは１〜２０モル％であ
る。なお、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の上限は、
所望の位相差の波長分散の大きさにもよるが、実際上は
１．１３０以下、好ましくは１．１２０以下である。

【００１８】本発明の位相差フィルムのポリカーボネー
トは、ホスゲンを用いた界面縮重合法、あるいは溶融縮
重合法などの公知の方法により合成されるが、得られる
ポリマーの着色が少ない点で界面縮重合法が好ましい。

【００１９】上記ポリカーボネートの分子量は、ＧＰＣ
によるポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）で１０，
０００以上４００，０００以下であれば好適に用いられ
る。Ｍｎが１０，０００以下であれば得られるフィルム
の機械的強度が不足する場合があり、また４００，００
０以上であると溶液流延法で製膜する際に用いる溶液組
成物（ドープ）の粘度が高くなりすぎ取り扱い上困難で
あるだけでなく溶解が困難になる場合がある。特に好ま
しくは２０，０００〜１２０，０００である。

【００２０】本発明に用いられるポリカーボネートは各
種溶媒に可溶であり、またその溶液組成物（ドープ）の
安定性が高いことから、特定の条件下で溶液流延法によ
り表面平滑性、光学的均一性の良好なフィルムを製膜す
ることができる。

【００２１】溶液流延法で５０〜２００μｍの膜厚のフ
ィルムを得るには高濃度のドープが必要である。本発明
に用いられる上記のポリカーボネートを高濃度に溶解す
る溶媒としては例えばジメチルアセトアミド、ジメチル
ホルムアミド、ピリジンやＮ−メチルピロリドン等の極
性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，１，２，
２−テトラクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタ
ン等のハロゲン系溶媒、１，３−ジオキソラン、１，４
−ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エーテル系
溶媒があげられる。これらの内、好適に用いられるのは
ハロゲン系および環状エーテル系溶媒であり、さらに好
ましくは環状エーテル系溶媒である。極性溶媒は高沸点
であるために製膜フィルム内の残留溶媒を容易に下げる
ことはできず、製膜用溶媒としては実用的でない。ジク
ロロメタン等のハロゲン系溶媒は製膜用溶媒として適す
るが、環境汚染への影響が問題視されており、溶媒回収
等の配慮が必要である。環状エーテル系溶媒の内、１，
３−ジオキソランは、高濃度溶解性、ドープ安定性、沸
点（７６℃）、製膜性の上から特に優れている。テトラ
ヒドロフランは、沸点が低く（６５℃）乾燥には有利に
働くが溶解性、溶液安定性の観点から１，３−ジオキソ
ランの方が優れている。また、１，４−ジオキサンは、
１，３−ジオキソラン同様に溶解性が高いが、高沸点
（１００℃）であるために残留溶媒の点から１，３−ジ
オキソランの方が優れている。また、ハロゲン系や環状
エーテル系溶媒を６０重量％以上含有する混合溶媒を用
いても良い。使用する他の溶媒としては特に限定はな
く、効果を勘案して用いればよい。ここで言う効果と
は、溶解性や安定性を犠牲にしない範囲で溶媒を混合す
ることによる、たとえば溶液流延法により製膜したフィ
ルムの表面性の改善（レベリング効果）、蒸発速度や系
の粘度調節、結晶抑制効果などである。これらの効果の
度合いにより混合する溶媒の種類や添加量を決定すれば
よく、また混合する溶媒として１種または２種以上用い
てもかまわない。好適に用いられる溶媒としてはトルエ
ン、キシレンなどの炭化水素溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢
酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、エチレン
グリコールジメチルエーテル、メトキシエチルアセテー
トなどのエーテル系溶媒があげられる。

【００２２】かかるドープの濃度は、該ポリカーボネー
ト１０重量部に対して溶媒量が１５〜１００重量部、好
ましくは２０〜９０重量部である。溶媒量がこれ以上で
は溶液の安定性は問題ないが、実行濃度が低いために好
ましくないばかりか、この溶液組成物を用いて溶液流延
法で製膜した場合溶液粘度が低いために外部擾乱が起き
やすく表面平滑性が得られにくく好ましくない。逆に溶
媒量がこれ以下では安定な溶液が得にくい。これらの濃
度は主として溶液の安定性、溶液粘度を勘案して決定さ
れる。

【００２３】得られたドープ中に不純物や未溶解物等の
不溶物、浮遊物がある場合、あるいはドープにヘイズが
認められる場合には、ろ過等の処理によりそれらを取り
除かなければならない。かかる処理を実施しないと製膜
したフィルムの光学特性を悪化させるだけでなく、調整
したドープの保存安定性を低下させるからである。

【００２４】本発明の位相差フィルムは、上記ドープを
支持基板上に流延した後、加熱して溶媒を蒸発させるこ
とにより得ることが好ましい。工業的連続製膜工程は一
般に流延工程、乾燥工程、熱処理工程の３行程からな
る。流延行程はドープを平滑に流延する工程であり、乾
燥工程は流延したドープから大部分の溶媒を蒸発除去す
る工程であり、熱処理行程は残りの溶媒を除去する工程
である。

【００２５】流延工程では、ドクターブレードによる方
法、リバースロールコーターによる方法、ダイから押し
出す方法などが用いられる。工業的にはダイからドープ
をベルト状もしくはドラム状の支持基板に連続的に押し
出す方法が最も一般的である。用いる支持基板としては
特に限定はないが、ガラス基板、ステンレスやフェロタ
イプなどの金属基板、ポリエチレンテレフタレートなど
のプラスチックフィルムなどが用いられる。しかし、本
発明の主眼となる高度に光学等方性に優れた均質フィル
ムを工業的に得るには表面を鏡面仕上げした金属基板が
最も一般的に用いられる。

【００２６】本発明の位相差フィルムを製造するにあた
り、かかるドープの粘度は極めて重要な因子である。か
かる粘度はポリカーボネートの濃度、分子量および溶媒
の種類に依存するが、好ましい粘度は、３００〜５０，
０００ｃｐｓである。これを越えると溶液の流動性が下
がるために平滑なフィルムが得られないことがある。ま
た、それ未満では流動性が高すぎ外部擾乱のために表面
の乱れが生じ均質・平滑なフィルムが得られない場合が
ある。より好ましい粘度は４００〜３０，０００ｃｐｓ
である。

【００２７】乾燥工程においては、できるだけ短時間に
支持基板上に流延されたドープから大部分の溶媒を蒸発
除去する必要がある。しかしながら、急激な蒸発が起こ
ると発泡による変形を受けるために、乾燥条件は慎重に
選択するべきである。本発明においては、使用する最低
沸点、好適にはその沸点−１０℃を上限とする範囲で行
われる。通常、初期段階では使用する溶媒の沸点より低
い温度、たとえば３０℃から逐次的あるいは連続的に昇
温する方法が取られる。また、必要に応じて風を送って
もよい。一般的には風速は１〜２０ｍ／秒の範囲が用い
られる。それ未満では効果が十分でなく、逆にそれを越
えると風の擾乱のために平滑面が得られないために好ま
しくない。好ましい風速は２〜１５ｍ／秒である。風速
は逐次的ないしは連続的に変化させてもよい。一方、こ
の段階ではフィルムは基板上にあり、この工程の最後に
基板から剥離される。その際に残留溶媒量が多いとフィ
ルムが柔らかいためにフィルム内でポリマーの流動変形
がおき、また、残留溶媒量が少ないと基板との密着性が
高いために応力歪みが生じる。従って残留溶媒量は重要
な因子であり、好適には残留溶媒量５〜３０重量％、さ
らに好適には１０〜２０重量％の範囲が選択される。

【００２８】熱処理工程においては、基板より剥離した
フィルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を３重量％以下、
好ましくは１重量％以下、さらに好ましくは０．５重量
％以下にする必要がある。残留溶媒が多いと経時的に変
形が起こったり、後加工工程で熱が加わると寸法変化が
おこる。特に液晶表示装置においては光学的に均質なフ
ィルムが要求されるために重要である。工業的にはピン
テンダー方式あるいはロール懸垂方式でフィルムを搬送
しながら乾燥する方法が取られる。乾燥温度はフィルム
の変形が生じない範囲から選択しなければならない。す
なわち、（Ｔｇ−１００℃）〜Ｔｇの範囲、好ましくは
（Ｔｇ−８０℃）〜（Ｔｇ−１０℃）の範囲が選ばれ
る。熱変形は、残留溶媒が少なくなるにつれておきにく
くなる。従って、初期に低温で、その後逐次的ないしは
連続的に昇温する方法をとることが好ましい。また、乾
燥工程と同様に送風してもよい。

【００２９】本発明の位相差フィルムの膜厚は、１０〜
３００μｍの範囲が好ましい。３００μｍより厚いと残
留溶媒を除去することが困難であり、また１０μｍより
薄いと厚み斑を抑制することが困難である。より好まし
い膜厚は５０〜２００μｍである。

【００３０】本発明の位相差フィルムは、目的用途に応
じて所望の位相差にするために延伸を行ってもかまわな
い。延伸する方法は特に制約はないが周速の異なる２対
のロールを用いた縦延伸法、あるいはテンターを用いた
横延伸法がある。延伸温度や延伸倍率は所望の位相差を
得るために適宜設定されるが、延伸温度は位相差フィル
ムのガラス転移点より高い温度、延伸倍率は１．０１〜
３．００倍の範囲で行えばよい。

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば、ＰＣ−Ａより大きな位
相差波長分散を示し、かつ表面均質性の良好な位相差フ
ィルムを得ることができる。該フィルムはＳＴＮ型液
晶、ＴＮ型液晶などの表示素子、１／４λ板、１／２λ
板などの光学素子など、光学用途に有用な位相差フィル
ムに好適である。

【００３２】

【実施例】以下に、実施例により本発明を詳述する。但
し、本発明はこれに限定されるものでない。実施例で行
った測定項目は以下の方法で測定した。

【００３３】溶液粘度：東京計器（株）製Ｂ型粘度計ＢＨ型を使用。
３０℃で測定。可視光領域における全光透過率、ヘイズ値：日本電色工
業（株）製自動デジタルヘイズメーターＵＤＨ−２０Ｄ
を使用。位相差波長分散：日本分光（株）製Ｍ−１５０エリプソ
メーターを使用。膜厚：アンリツ（株）製触針式膜厚計により測定した。

【００３４】［参考例１〜４］通常のホスゲンを用いた界面重合法により、下記式（Ｉ
ＩＩ）で表される繰り返し単位からなる、組成の異なる
３種類のポリカーボネート（以下ＰＣ−ＭｅＳ／Ｚと略
す）、および下記式（ＩＶ）で表される繰り返し単位か
らなるポリカーボネート（以下ＰＣ−ＳＳＡと略す）を
合成した。得られた各ポリマーの数平均分子量（Ｍ
ｎ）、ガラス転移点を表１に示す。

【００３５】

【化７】

【００３６】

【化８】

【００３７】

【表１】

【００３８】［実施例１〜４］上記参考例１〜４で得たポリカーボネート（ＰＣ−Ｍｅ
Ｓ／Ｚ（８／２），（５／５），（２／８）、ＰＣ−Ｓ
ＳＡ）をジクロロメタンに溶解しそれぞれ１１．１％、
１３．５％、１３．５％、１０．０％の粘ちょうなドー
プを調製した。これらのドープは、室温下密閉状態で１
週間放置しても変化せず白濁化やゲル化現象は認められ
なかった。

【００３９】かかるドープをドクターブレードを用いて
ガラス基板上に流延した後、風速１．５ｍの乾燥機を用
い３０℃で２０分、５０℃で２０分、８０℃で２０分乾
燥した後それぞれのフィルムを剥離した。この時点での
各フィルム中のの残留溶媒量はいずれもほぼ１５重量％
であった。各フィルムをさらに１００℃で６０分、１３
０℃で１２０分乾燥した。尚、ＰＣ−ＭｅＳ／Ｚ（８／
２）およびＰＣ−ＳＳＡについては１３０℃での乾燥は
実施しなかった。こうして各フィルム中の残留溶媒量が
全て１重量％以下である位相差フィルムを得た。

【００４０】この各位相差フィルムについて、膜厚、全
光透過率、ヘイズ、および波長４５０ｎｍにおける位相
差Ｒｅ（４５０）の５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５
５０）に対する比、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を
測定した結果を表２に示す。

【００４１】この表２からわかるように、得られた位相
差フィルムの各物性はいずれも良好であった。またフィ
ルム表面は発泡、柚肌、波打ち現象がなく均一であっ
た。

【００４２】さらにこの位相差フィルムを、それぞれガ
ラス転移点付近の温度にて、フィルムの面内方向に延伸
倍率１．０２で延伸した。得られた各フィルムにおい
て、波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）を測
定した結果を表２に併記した。また波長４５０ｎｍにお
ける位相差Ｒｅ（４５０）の５５０ｎｍにおける位相差
Ｒｅ（５５０）に対する比、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５
５０）を求めたところ、延伸前のそれと変わらなかっ
た。

【００４３】［比較例１］帝人化成（株）製ポリカーボネート「Ｃ−１４００」を
用いて実施例１と同様にフィルムを作製した。得られた
結果を表２に示した。

【００４４】

【表２】

【００４５】［実施例５］参考例で得たポリカーボネート（ＰＣ−ＭｅＳ／Ｚ（５
／５））を１，３−ジオキソランに溶解し１３．５％の
ドープを調製した。これをドクターブレードを用いてガ
ラス基板上に流延した後、風速１．２ｍの乾燥機を用い
３０℃で２０分、５０℃で３０分、８０℃で６０分乾燥
した後フィルムを剥離した。この時点での残留溶媒量は
ほぼ１５重量％であった。さらに１００℃で１２０分、
１３０℃で２４０分乾燥し、残留溶媒量が０．８重量％
である位相差フィルムを得た。この位相差フィルムは透
明性が良好であり、表面は発泡、柚肌、波打ち現象がな
く均一であった。

【００４６】かかる位相差フィルムをさらに１４０℃
で、フィルムの面内方向に１．１０倍延伸した。得られ
たフィルムは、波長５５０ｎｍにおける位相差が５１０
ｎｍ、波長分散値Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が
１．０９０であった。

【００４７】このフィルムをＳＴＮ型液晶ディスプレイ
に組み込んだところ、着色のない白黒表示が可能であっ
た。

【００４８】［参考例５〜７］参考例で得た組成の異なる３つのポリカーボネート（Ｐ
Ｃ−ＭｅＳ／Ｚ（８／２），（５／５），（２／８））
を１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、テトラ
ヒドロフランに溶解しそれぞれ１３．５％のドープを調
製した。これらのドープの粘度を表３に示した。これら
はいずれも透明で、室温下密閉状態で１週間放置しても
変化せず白濁化やゲル化現象は認められなかった。

【００４９】

【表３】

【００５０】［実施例６〜１４］参考例５〜７で得られた９種類の各ドープを、ドクター
ブレードを用いてガラス基板上に流延した後、風速１．
２ｍの乾燥機を用い３０℃で２０分、５０℃で３０分、
８０℃で６０分乾燥した後フィルムを剥離した。この時
点での残留溶媒量はいずれもほぼ１５重量％であった。
さらに１００℃で１２０分、１３０℃で２４０分乾燥し
た。尚、ＰＣ−ＭｅＳ／Ｚ（８／２）については１３０
℃での乾燥は実施しなかった。

【００５１】このようにして得られた位相差フィルムは
残留溶媒量は全て１重量％以下であった。またこのフィ
ルムの表面は発泡、柚肌、波打ち現象がなく均一であ
り、透明性も良好であった。さらに実施例１〜４と同様
に、波長５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５５０）、お
よびＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）を評価した。それ
らの結果を表４に示した。表４からわかるように、Ｒｅ
（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は１．０８０〜１．１
００の間に入っている。

【００５２】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/30

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位を１〜１００モル％含有し、下記一般式（ＩＩ）で表
わされる繰り返し単位を９９〜０モル％含有してなるポ
リカーボネートからなり、波長４５０ｎｍにおける位相
差Ｒｅ（４５０）の５５０ｎｍにおける位相差Ｒｅ（５
５０）に対する比、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が
１．０８０以上であることを特徴とする位相差フィル
ム。【化１】（式（Ｉ）中、Ｒ ₁ 、Ｒ ₃ が水素原子であり、Ｒ ₂ 、Ｒ ₄ が
炭素数１〜５のメチル基である）【化２】（式（ＩＩ）中、Ｘはメチレン基、１，１−エチレン
基、２，２−プロピレン基及び４−メチル−２，２−ペ
ンチレン基から選ばれる脂肪族炭化水素基、炭素数１〜
１５の２価の脂環族炭化水素基、または炭素数１〜１５
の２価のアルアルキレン基であり、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₈
はおのおの独立に、水素原子、臭素原子または炭素数１
〜４の炭化水素基である。）
【請求項２】上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位を
１〜８０モル％含有する請求項１に記載の位相差フィル
ム。