JP3241887B2 - Heat treatment equipment - Google Patents
Heat treatment equipmentInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、熱処理装置に関し、特
に、縦型プロセスチューブを備えた装置の熱源支持構造
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus, and more particularly to a heat source support structure for an apparatus having a vertical process tube.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば半導体ウェハ、ＬＣＤ基板などの
製造においては、酸化、拡散、アニール、ＣＶＤなどの
処理を行なうために、各種の熱処理装置が使用される。
これらの熱処理装置においては、例えばプロセスの高精
度化を達成すること、被処理体の面内の温度分布の均一
性を向上させること、また熱処理の効率を高めることな
どが大きな技術課題となっている。2. Description of the Related Art For example, in the manufacture of semiconductor wafers, LCD substrates, etc., various heat treatment apparatuses are used for performing processes such as oxidation, diffusion, annealing, and CVD.
In these heat treatment apparatuses, for example, achieving high precision of the process, improving the uniformity of the temperature distribution in the plane of the object to be processed, and improving the efficiency of the heat treatment are major technical issues. I have.
【０００３】ところで、近年、半導体プロセスはより微
細化が進み、これとともに、ウェハの口径も８インチ〜
１２インチへと、より大口径化が進んでおり、またＬＣ
Ｄ基板などの大型の基板を均一に効率良く処理する熱処
理装置も必要となってきている。このような状況に応じ
てプロセスの微細化が進み、被処理体が大口径化するの
に応じて処理のさらなる高精度化、被処理体の面内での
温度分布のさらなる均一化、熱処理効率のさらなる向上
が必要とされる。しかもこのような大口径化にある被処
理体を製造する場合のスループットの向上も要望され
る。In recent years, the semiconductor process has been further miniaturized, and the diameter of the wafer has been reduced to 8 inches or more.
The diameter has been increased to 12 inches, and LC
There is also a need for a heat treatment apparatus for uniformly and efficiently treating a large substrate such as a D substrate. In accordance with such circumstances, the process becomes finer, and as the workpiece becomes larger in diameter, the processing becomes more precise, the temperature distribution in the surface of the workpiece becomes more uniform, and the heat treatment efficiency increases. Further improvement is required. In addition, there is also a demand for an improvement in throughput when manufacturing an object to be processed having such a large diameter.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】このような被処理体の
大口径化に伴い、被処理体に生じるスリップ、歪みを効
果的に防止し、また、被処理体の面内での温度分布の均
一性の向上を図る必要がある。したがって、このような
要求に対しては、被処理体をいかにして均一な温度に維
持できるか、特に、中央部より周辺部のほうが放熱量が
大きいために生じる中央部と周辺部との温度差をいかに
して少なくするか等が、大きな技術課題となる。With the increase in the diameter of the object to be processed, slip and distortion occurring in the object to be processed can be effectively prevented, and the temperature distribution in the surface of the object to be processed can be reduced. It is necessary to improve the uniformity. Therefore, in response to such demands, how the object to be processed can be maintained at a uniform temperature, in particular, the temperature between the central portion and the peripheral portion caused by the larger amount of heat radiation in the peripheral portion than in the central portion. A major technical issue is how to reduce the difference.
【０００５】また、この種、熱処理装置では、縦方向で
複数のゾーンが設定され、各ゾーンに渡って発熱抵抗体
を延長配置し、各ゾーン毎での温度管理が行なわれるこ
とが多い。そこで、各ゾーン毎に発熱抵抗体を設置する
構造としては、例えば、コイル状に形成された発熱抵抗
体をステープルによって断熱材の表面に固定するように
したり、あるいは、断熱材の表面に発熱抵抗体の外径を
もたせて形成した凹部を設け、この凹部内に発熱抵抗体
を挿填する構造がある。[0005] In this type of heat treatment apparatus, a plurality of zones are set in a vertical direction, and a heating resistor is extended and arranged over each zone, and temperature control is often performed for each zone. Therefore, as a structure in which a heating resistor is provided for each zone, for example, a heating resistor formed in a coil shape is fixed to the surface of the heat insulating material by staples, or the heating resistor is formed on the surface of the heat insulating material. There is a structure in which a concave portion having an outer diameter of a body is provided, and a heating resistor is inserted into the concave portion.
【０００６】しかしながら、断熱材は縦方向で一体に形
成されており、しかも、上記発熱体を取付けるための配
列ピッチも予め規定されていることが多い。このため、
各ゾーン内での温度分布を変更する場合や各ゾーン間で
の温度勾配を切り換えることが不可能であり、この温度
分布や温度勾配を変更する場合には、装置の構造を変更
する必要が生じ、このためには装置自体を交換する等に
よって対処しているのが現状である。However, the heat insulating material is formed integrally in the vertical direction, and the arrangement pitch for mounting the heating element is often defined in advance. For this reason,
It is impossible to change the temperature distribution in each zone or to switch the temperature gradient between the zones, and to change this temperature distribution or temperature gradient, it is necessary to change the structure of the device. At present, however, this is dealt with by replacing the device itself.
【０００７】このような対策では、装置のコスト高を招
くことになり、しかも、熱処理装置の熱的特性を自由に
変更することができないという問題があった。[0007] Such a measure results in an increase in the cost of the apparatus, and also has a problem that the thermal characteristics of the heat treatment apparatus cannot be freely changed.
【０００８】そこで、本発明の目的とするところは、上
記従来の熱処理装置における問題に鑑み、コストの上昇
を招くことなく熱的特性を自由に変更することができる
構造を備えた熱処理装置を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus having a structure capable of freely changing thermal characteristics without incurring an increase in cost in view of the above-mentioned problems in the conventional heat treatment apparatus. Is to do.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項１記載の発明は、縦型プロセスチューブの周
囲に、リング状または螺旋状の発熱抵抗体を筒状断熱材
により支持して配置した熱処理装置であって、上記筒状
断熱材は、縦方向に積載される複数のリング状断熱ピー
ス材から構成され、上下に隣接する２つの上記リング状
断熱ピース材間には、上記発熱抵抗体を収容する収容部
が周方向にそって形成され、この収容部は上記縦型プロ
セスチューブと対向する領域に開口を有することを特徴
としている。In order to achieve this object, according to the first aspect of the present invention, a ring-shaped or spiral-shaped heating resistor is supported around a vertical process tube by a cylindrical heat insulating material. In the heat treatment apparatus, the cylindrical heat insulating material is composed of a plurality of ring heat insulating piece materials stacked vertically, and between the two vertically adjacent ring heat insulating piece materials, An accommodating portion for accommodating the heating resistor is formed along the circumferential direction, and the accommodating portion has an opening in a region facing the vertical process tube.
【００１０】請求項２記載の発明は、請求項１におい
て、上記発熱抵抗体は、上記リング状断熱ピース材の厚
さを異ならせることで、その積載方向で配列ピッチを異
ならせたことを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the heating resistor has a thickness of the ring-shaped heat insulating piece material.
Different pitches in the stacking direction.
Is characterized in that was not.
【００１１】請求項３記載の発明は、縦型プロセスチュ
ーブの周囲に、リング状または螺旋状の発熱抵抗体を筒
状断熱材により支持して配置した熱処理装置であって、
上記筒状断熱材は、縦方向に積載される複数のリング状
断熱ピース材から構成され、上下にて隣接する２つの上
記リング状断熱ピース材間には、上記発熱抵抗体を収容
する収容部が周方向にそって形成され、上記発熱抵抗体
は、上記リング状断熱ピース材の厚さを異ならせること
で、その積載方向で配列ピッチを異ならせたことを特徴
としている。[0011] The invention according to claim 3 is a vertical process tube.
A ring or spiral heating resistor is placed around the tube.
A heat treatment apparatus arranged and supported by a heat insulating material,
The above-mentioned cylindrical heat insulating material has a plurality of ring-shaped
Composed of heat-insulating piece material, two upper and lower adjacent
The above-mentioned heating resistor is housed between the ring-shaped heat-insulating pieces.
The heat receiving resistor is formed along the circumferential direction.
Is to make the thickness of the ring-shaped heat-insulating piece material different
Thus, the arrangement pitch is made different in the loading direction .
【００１２】請求項４記載の発明は、請求項３におい
て、縦方向に複数分割されたゾーンが設定され、このゾ
ーン間で上記配列ピッチを異ならせたことを特徴として
いる。このとき、請求項５に示すように、下方でのゾー
ンの上記配列ピッチを他のゾーンよりも小さくして、上
記下方のゾーンでの発熱量を多くすることができる。 [0012] The invention according to claim 4 is the invention according to claim 3.
To set multiple vertically divided zones.
This arrangement is characterized in that the arrangement pitch is made different between the runners . At this time, as shown in claim 5, the lower
Make the above arrangement pitch of the
The calorific value in the lower zone can be increased.
【００１３】請求項６記載の発明は、請求項３におい
て、縦方向に複数分割されたゾーンが設定され、このゾ
ーン内で上記配列ピッチを異ならせたことを特徴とする
熱処理装置。また、請求項７記載の発明は、請求項４乃
至６のいずれかにおいて、前記縦型プロセスチューブの
下端が開放していることを特徴としている。 さらに、請
求項８記載の発明は、縦型プロセスチューブの周囲に、
リング状または螺旋状の発熱抵抗体を筒状断熱材により
支持して配置した熱処理装置であって、上記筒状断熱材
は、縦方向に積載される複数のリング状断熱ピース材か
ら構成され、上下にて隣接する２つの上記リング状断熱
ピース材間には、上記発熱抵抗体を収容する収容部が周
方向にそって形成され、上記リング状断熱ピース材は、
積載方向に沿って上記発熱抵抗体収容部が異径に設定さ
れていることを特徴としている。このとき、請求項９に
示すように、ゾーン間で発熱抵抗体収容部を異径に設定
することができる。 The invention according to claim 6 is the invention according to claim 3.
To set multiple vertically divided zones.
A heat treatment apparatus characterized in that the arrangement pitches are made different within the heat treatment zone. The invention according to claim 7 is the same as the claim 4.
In any one of Nos. 6 to 6, the vertical process tube
It is characterized in that the lower end is open. In addition,
The invention according to claim 8 is characterized in that around the vertical process tube,
Ring-shaped or spiral-shaped heating resistor is made of cylindrical heat insulating material
A heat treatment apparatus supported and arranged, wherein the tubular heat insulating material is provided.
Is a plurality of ring-shaped insulation pieces loaded in the vertical direction?
Two above-mentioned ring-shaped heat insulators
An accommodating portion for accommodating the heating resistor is provided between the piece materials.
Formed along the direction, the ring-shaped heat insulating piece material,
The heating resistor housing sections are set to different diameters along the loading direction.
It is characterized by having been. At this time,
As shown, the heating resistor housing section is set to different diameter between zones
can do.
【００１４】[0014]
【作用】本発明では、装置自体の交換等を要することな
く熱的特性、特に、発熱抵抗体の配置状態を変更するこ
とができる。つまり、リング状断熱材は、縦方向に積載
される複数のリング状ピース材で構成され、上下に隣接
する２つのピース材間に発熱抵抗体を収容する収容部が
周方向にそって形成されている。このため、リング状断
熱ピース材の積層個数や大きさを変更するだけで発熱抵
抗体の支持部領域を変更することができる。従って、縦
方向、つまり、リング状断熱ピース材の積層方向での熱
的な特性を自由に変更することができる。According to the present invention, the thermal characteristics, in particular, the arrangement of the heating resistors can be changed without requiring replacement of the device itself. That is, the ring-shaped heat insulating material is composed of a plurality of ring-shaped pieces stacked vertically, and a housing portion for housing the heating resistor is formed between two vertically adjacent pieces along the circumferential direction. ing. Therefore, it is possible to change the support region of the heating resistor only by changing the number and size of the ring-shaped heat-insulating piece materials. Therefore, the thermal characteristics in the vertical direction, that is, the laminating direction of the ring-shaped heat-insulating piece materials can be freely changed.
【００１５】[0015]
【００１６】[0016]
【００１７】そして本発明によれば、ゾーン毎で適正な
温度特性を得ることができる。つまり、上記リング状断
熱ピース材は積層方向であるいは径方向でピッチあるい
は径を異ならせることで被処理体に対するゾーン同士で
の加熱条件を異ならせることができる。According to the present invention, an appropriate temperature characteristic can be obtained for each zone. That is, by changing the pitch or the diameter of the ring-shaped heat-insulating piece material in the laminating direction or in the radial direction, it is possible to change the heating conditions in the zones for the object to be processed.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、図１乃至図８に示す実施例によって本
発明の詳細を説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in FIGS.
【００１９】図１は、半導体ウェハの酸化拡散処理に用
いられる熱処理装置を示している。FIG. 1 shows a heat treatment apparatus used for oxidative diffusion of a semiconductor wafer.
【００２０】この熱処理装置は、石英製のプロセスチュ
ーブ１０が例えばステンレススチールからなるベースプ
レート１２上で縦方向に立設支持されており、このプロ
セスチューブ１０の内側に炉室１４が形成されるように
なっている。また、上記プロセスチューブ１０はケーシ
ング１６内に納められるようになっている。In this heat treatment apparatus, a process tube 10 made of quartz is vertically supported on a base plate 12 made of, for example, stainless steel so that a furnace chamber 14 is formed inside the process tube 10. Has become. The process tube 10 is housed in a casing 16.
【００２１】このプロセスチューブ１０によって形成さ
れる炉室１４内には、保温筒１８に載置されたボート２
０が挿脱可能となっていて、このボート２０に多数枚の
被処理体である半導体ウェハ２２が水平に等間隔に配列
支持されている。そしてこれら半導体ウェハ２２は、加
熱されると共に図示しない処理ガス供給源よりガスを供
給されることで処理されるようになっている。なお、保
温筒１８は、フランジキャップ２４上に搭載され、この
フランジキャップ２４は図示せぬエレベータア−ムに取
り付けられて上下移動し、上記保温筒１８及びボート２
０を上下移動させるとともに、上記プロセスチューブ１
０のボート挿入孔２６を密封しうるようになっている。In the furnace chamber 14 formed by the process tube 10, the boat 2
The boat 20 has a large number of semiconductor wafers 22 to be processed, which are horizontally arranged at equal intervals and supported by the boat 20. These semiconductor wafers 22 are heated and supplied with a gas from a processing gas supply source (not shown) to be processed. The heat retaining cylinder 18 is mounted on a flange cap 24. The flange cap 24 is attached to an elevator arm (not shown) and moves up and down.
0 up and down, and the process tube 1
0 boat insertion hole 26 can be sealed.
【００２２】上記プロセスチューブ１０の外周には発熱
抵抗体３０が設けられており、この発熱抵抗体３０の外
側には発熱抵抗体３０を支持、包囲するリング状の断熱
材３４が設けられている。A heating resistor 30 is provided on the outer periphery of the process tube 10, and a ring-shaped heat insulating material 34 for supporting and surrounding the heating resistor 30 is provided outside the heating resistor 30. .
【００２３】断熱材３４は、図２に示すように、炉室１
４側と反対側の表面にアウタシャル３６および水冷カバ
ー３８とで構成された冷却通路４０を備えている。そし
て、この断熱材３４は、複数のリング状ピース材３４Ａ
によって構成されている。すなわち、ピース材３４Ａ
は、一例として、ムライトあるいはコランダムアルミナ
等の材料を用いた焼結部材あるいは繊維部材を固めて形
成されているものであって、最上位に位置する上ピース
３４Ａ１および最下位に位置する下ピース３４Ａ３とこ
れらの間に位置する中間ピース３４Ａ２で構成されてい
る。そして、ピース材３４Ａは、プロセスチューブ１０
側に対向する開口３００を備え、上面側で周方向に設け
られた凹状部からなる発熱抵抗体３０の載置面３４Ｂ
と、下面側で周方向に設けられていて上面側の載置面と
対向する隙間を設定された収容空間３４Ｃとの一方また
は両方を備えている。両方を備えているピース材３４Ａ
は中間ピース３４Ａ２であり、上ピース３４Ａ１には収
容空間３４Ｃが、そして、下ピース３４Ａ３には載置面
３４Ｂがそれぞれ設けられている。As shown in FIG. 2, the heat insulating material 34 is provided in the furnace chamber 1.
On the surface opposite to the fourth side, there is provided a cooling passage 40 constituted by an outer 36 and a water cooling cover 38. The heat insulating material 34 includes a plurality of ring-shaped pieces 34A.
It is constituted by. That is, the piece material 34A
Is formed by solidifying a sintered member or a fiber member using a material such as mullite or corundum alumina, as an example, and includes an upper piece 34A1 positioned at the uppermost position and a lower piece 34A3 positioned at the lowermost position. And an intermediate piece 34A2 located therebetween. The piece material 34A is connected to the process tube 10.
The mounting surface 34B of the heating resistor 30 having an opening 300 opposed to the side and having a concave portion provided in the circumferential direction on the upper surface side.
And one or both of a storage space 34C provided in the circumferential direction on the lower surface side and having a gap facing the mounting surface on the upper surface side. Piece material 34A having both
Is an intermediate piece 34A2, an accommodation space 34C is provided in the upper piece 34A1, and a mounting surface 34B is provided in the lower piece 34A3.
【００２４】載置面３４Ｂと収容空間３４Ｃとは連続面
を有し、この空間３４Ｃ内の載置面３４Ｂに発熱抵抗体
３０が挿填されるようになっている。このため、収容空
間３４Ｂの幅（Ｌ）は、発熱抵抗体３０の外径（Ｄ）に
比較して小さく設定されることで発熱抵抗体３０が抜出
ないようにすると共に、発熱抵抗体３０の熱膨張を吸収
するようになっている。発熱抵抗体３０の抜け止めは、
載置面３４Ｂの形状によっても行なえる。The mounting surface 34B and the accommodation space 34C have a continuous surface, and the heating resistor 30 is inserted into the mounting surface 34B in the space 34C. For this reason, the width (L) of the accommodation space 34B is set smaller than the outer diameter (D) of the heating resistor 30 so that the heating resistor 30 does not come out, and the heating resistor 30 To absorb the thermal expansion of The retaining of the heating resistor 30
This can also be performed depending on the shape of the mounting surface 34B.
【００２５】そして、載置面３４Ｂを有するピース材３
４Ａに相当している中間ピース３４Ａ２および下ピース
３４Ｃの上面側には段差部３４Ｄが形成され、また、収
容空間３４Ｃを有するピース材３４Ａに相当している中
間ピース３４Ａ２および上ピース３４Ｂの下面側には上
記段差部３４Ｄに係合可能な突起部３４Ｅがそれぞれ形
成されている。これら段差部３４Ｄおよび係合部３４Ｅ
は相対的な傾斜面に形成されている。このため、段差部
３４Ｄと突起部３４Ｅとを係合することで各ピース材３
４Ａを径方向にずれることなく積み重ねることができ、
積み重ねた場合には、傾斜面によって、炉室１４の内方
からの熱輻射を遮断することができる。なお、このよう
なピース材３４Ａは、例えば、アウタシェル３６にネジ
止めされるかあるいは紐部材を巻装することで径方向で
の変位を防止される。The piece member 3 having the mounting surface 34B
A step portion 34D is formed on the upper surface side of the intermediate piece 34A2 and the lower piece 34C corresponding to 4A, and the lower surface side of the intermediate piece 34A2 and the upper piece 34B corresponding to the piece material 34A having the accommodation space 34C. Are formed with protrusions 34E which can be engaged with the step portions 34D. These step portions 34D and engagement portions 34E
Are formed on relative inclined surfaces. For this reason, by engaging the step portion 34D and the protrusion portion 34E, each piece material 3
4A can be stacked without shifting in the radial direction,
In the case of stacking, heat radiation from inside the furnace chamber 14 can be blocked by the inclined surface. Note that such a piece material 34A is prevented from being displaced in the radial direction by, for example, being screwed to the outer shell 36 or wound around a string member.
【００２６】ところで、図２に示したピース材３４Ａ
は、収容空間をなす壁面が水平面とされている。このた
め、発熱抵抗体３０からの輻射熱の一部は直接出射しに
くくなる。従って、縦方向で輻射熱が出射する範囲が部
分的になり、被処理体への一様な熱輻射が行なえなくな
る。そこで、このような不具合を防止するための構造が
図３に示されている。The piece material 34A shown in FIG.
, The wall surface forming the accommodation space is a horizontal plane. For this reason, it becomes difficult for a part of the radiant heat from the heating resistor 30 to be directly emitted. Therefore, the range in which the radiant heat is emitted in the vertical direction becomes partial, and uniform heat radiation to the object to be processed cannot be performed. Therefore, a structure for preventing such a problem is shown in FIG.
【００２７】すなわち、図３に示す構造は、載置面３４
Ｂおよび収容空間３４Ｃにおける内側に、炉心に向け拡
開する傾斜面が載置面３４Ｃおよび収容空間３４Ｄをな
す壁面に連続して形成されている。そして、各傾斜面の
角度は、断熱材３４の近傍に位置する均熱管４２の外壁
面または断熱材３４と均熱管４２との間の領域で発熱抵
抗体３０からの輻射熱線が交差できる角度に設定されて
いる。このため、均熱管４２の外表面あるいはこの均熱
管４２に至る間の領域では、発熱抵抗体３０からの輻射
熱が到達しない部分が存在しないので、一様な加熱が行
なえることになる。That is, the structure shown in FIG.
On the inner side of B and the accommodation space 34C, an inclined surface expanding toward the reactor core is formed continuously with the mounting surface 34C and the wall surface forming the accommodation space 34D. The angle of each inclined surface is set to an angle at which radiant heat rays from the heating resistor 30 can intersect in the outer wall surface of the heat equalizing tube 42 located near the heat insulating material 34 or in a region between the heat insulating material 34 and the heat equalizing tube 42. Is set. For this reason, since there is no portion where the radiant heat from the heating resistor 30 does not reach the outer surface of the heat equalizing tube 42 or a region reaching the heat equalizing tube 42, uniform heating can be performed.
【００２８】本実施例は、以上のような構成であるか
ら、断熱材３４は、ピース材３４Ａのうちの下ピース３
４Ａ３に中間ピース３４Ａ２が積み重ねられる。そし
て、所定高さに達した場合には、中間ピース３４Ａ２に
上ピース３４Ａ１が積み重ねられる。一方、発熱抵抗体
３０は、上段のピース材３４Ａが積み重ねられる前、換
言すれば、ピース材３４Ａの上面が開放されている時に
載置面３４Ｂに落とし込まれて配置される。Since the present embodiment has the above-described configuration, the heat insulating material 34 is a lower piece 3 of the piece material 34A.
The intermediate piece 34A2 is stacked on 4A3. When the predetermined height is reached, the upper piece 34A1 is stacked on the intermediate piece 34A2. On the other hand, the heating resistor 30 is dropped and placed on the mounting surface 34B before the upper piece members 34A are stacked, in other words, when the upper surface of the piece materials 34A is open.
【００２９】なお、上記断熱材３４を構成するピース材
３４Ａは、載置面３４Ｂ、収容空間３４Ｃ、段差部３４
Ｄおよび突起部３４Ｅを備えていれば、発熱抵抗体３０
の配置および積み上げの際の位置ずれを防止することが
できるので、各部の形状は種々変更することができる。The piece material 34A constituting the heat insulating material 34 includes a mounting surface 34B, a housing space 34C, and a step portion 34.
D and the projection 34E, the heating resistor 30
Can be prevented from being displaced at the time of arrangement and stacking, so that the shape of each part can be variously changed.
【００３０】図４には、上記した各部の形状を変化させ
た場合が示されている。つまり、図４（Ａ）では、収容
空間３４Ｃを構成する壁面を収容空間３４Ｃの一部であ
る円弧部の接線方向に延長した場合が、また、図４
（Ｂ）および（Ｃ）では、載置面３４Ｂの一部あるいは
収容空間３４Ｃをなす円弧状壁面の一部から接線方向に
延長した場合がそれぞれ示されている。FIG. 4 shows a case where the shape of each of the above-mentioned parts is changed. That is, in FIG. 4A, the case where the wall surface forming the storage space 34C is extended in the tangential direction of the circular arc portion which is a part of the storage space 34C,
(B) and (C) each show a case where a part of the mounting surface 34B or a part of the arc-shaped wall surface forming the accommodation space 34C extends in a tangential direction.
【００３１】一方、上記した実施例では、リング状断熱
材３４に形成される載置面３４Ｂおよび収容空間３４Ｃ
が周方向に形成されているので、この部分に配置される
発熱抵抗体３０も周方向に沿ったリング状に形成される
ことになる。しかし、各載置面に配置された発熱抵抗体
３０毎に配線する手間を考慮すると、発熱抵抗体３０を
例えば縦方向に分割されたゾーンを基準にそのゾーン内
で連続させることが好ましい。そこで、図５には、この
場合を説明するための実施例が示されている。なお、図
５には、線によって発熱抵抗体３０が示されているが、
実際の発熱抵抗体３０は、コイル状に形成されているこ
とを前置しておく。On the other hand, in the embodiment described above, the mounting surface 34B and the accommodation space 34C
Are formed in the circumferential direction, so that the heating resistor 30 arranged in this portion is also formed in a ring shape along the circumferential direction. However, considering the trouble of wiring for each heating resistor 30 arranged on each mounting surface, it is preferable that the heating resistor 30 be continuous within a zone divided, for example, in the vertical direction. Therefore, FIG. 5 shows an embodiment for explaining this case. In FIG. 5, the heating resistor 30 is indicated by a line.
It is to be noted that the actual heating resistor 30 is formed in a coil shape.
【００３２】すなわち、断熱材３４を構成するピース材
３４Ａの載置面は、周方向の一部に傾斜溝３４Ｆ（図５
中、二点鎖線で示す部分）が形成されている。一方、発
熱抵抗体３０の周方向一部は、下方に向け上記傾斜溝３
４Ｆに平行した状態で折り曲げられており、この折曲げ
部が上記傾斜溝３４Ｆ内に挿入され、下段に位置する載
置面３４Ｂで周回させられる。そして、再度、下段での
周方向一部が傾斜した状態で折り曲げられて傾斜溝３４
Ｆに挿入される。このような形態が繰返されて、連続し
た状態で発熱抵抗体３０が配置される。このような発熱
抵抗体３０およびピース材３４Ａ側の構造により、発熱
抵抗体３０をゾーン内で１本の素線を用いることができ
る。That is, the mounting surface of the piece material 34A constituting the heat insulating material 34 is partially inclined in the circumferential direction with the inclined groove 34F (FIG. 5).
In the figure, a portion indicated by a two-dot chain line) is formed. On the other hand, a part of the heating resistor 30 in the circumferential direction is directed downward to the inclined groove 3.
It is bent in a state parallel to 4F, and this bent portion is inserted into the inclined groove 34F, and is circulated around the mounting surface 34B located at the lower stage. Then, the lower part is again bent in a state where a part of the circumferential direction is inclined, and the inclined groove 34 is
Inserted into F. Such a form is repeated, and the heating resistors 30 are arranged in a continuous state. With such a structure on the side of the heating resistor 30 and the piece material 34A, one wire can be used for the heating resistor 30 in the zone.
【００３３】また、発熱抵抗体３０は、電源部への接続
のために線端を引き出すことが必要である。本実施例で
は、図６に示すように、線端３０ａがコイル状の巻線部
の一部から接線方向に引き出されている。このような線
端構造とすることで、折曲げ等の加工を要しないように
して破損を防止することができる。Further, it is necessary to draw out a wire end of the heating resistor 30 for connection to a power supply unit. In the present embodiment, as shown in FIG. 6, the wire end 30a is drawn in a tangential direction from a part of the coil-shaped winding portion. With such a line end structure, breakage can be prevented without requiring processing such as bending.
【００３４】さらに、本実施例では、図７に示すよう
に、ピース材３４Ａの大きさを縦方向で異ならせること
によってゾーン間あるいはゾーン内で発熱抵抗体３０の
配列ピッチを異ならせることができる。このような配列
ピッチを異ならせる場合としては、下端開放形式のプロ
セスチューブが用いられた時が該当しており、この場合
には、下端での被処理体の搬入出時に発生する放熱を補
うために下方でのゾーンの配列ピッチを他のゾーンより
も小さくして（Ｐ＞Ｌ）発熱量を多くすることができ
る。Further, in this embodiment, as shown in FIG. 7, the arrangement pitch of the heating resistors 30 can be varied between zones or within zones by varying the size of the piece material 34A in the vertical direction. . Such a case where the arrangement pitch is different corresponds to a case where a process tube of an open bottom type is used.In this case, in order to compensate for heat radiation generated when loading and unloading the object to be processed at the lower end. In addition, the arrangement pitch of the lower zones can be made smaller than that of the other zones (P> L) to increase the amount of generated heat.
【００３５】さらに、本実施例では、断熱材３４が、積
載方向に沿って異径に設定することも可能である。つま
り、図８に示すように、プロセスチャンバーの縦方向で
異径とすることで、被処理体に対する近接距離を異なら
せることができる。このような構造とすることにより、
例えば、プロセスチャンバーの下方側を少径とした場合
には、上記配列ピッチを異ならせた時と同じように被処
理体の下方側での温度を高めることができる。Further, in this embodiment, the heat insulating material 34 can be set to have different diameters along the loading direction. That is, as shown in FIG. 8, by making the diameter different in the longitudinal direction of the process chamber, the proximity distance to the object to be processed can be made different. By adopting such a structure,
For example, when the diameter of the lower side of the process chamber is small, the temperature on the lower side of the object to be processed can be increased in the same manner as when the arrangement pitch is changed.
【００３６】以上のような実施例によれば、発熱抵抗体
３０の載置面が凹状部で構成されているので、発熱抵抗
体３０の転動を防止して発熱抵抗体３０がむやみに載置
面から外れたりするのを防ぐことができる。According to the above embodiment, since the mounting surface of the heating resistor 30 is formed by the concave portion, the rolling of the heating resistor 30 is prevented, and the heating resistor 30 is unnecessarily mounted. It can be prevented from coming off the placement surface.
【００３７】なお、本発明は、上記実施例に限られるも
のではなく、本発明の要旨の範囲内で種々変形実施する
ことが可能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention.
【００３８】例えば、本発明が対象とする被処理体は、
少なくとも面状形状の被処理体であれば良く、半導体ウ
ェハ以外にも例えば、ＬＣＤ等であっても良い。さら
に、本発明が適用される熱処理装置としては、ＣＶＤ装
置以外にも、例えば、酸化、拡散、アニールに適用され
る装置を対象とすることも可能である。For example, the object to be processed according to the present invention is:
The object to be processed may be at least a planar object, and may be an LCD or the like other than the semiconductor wafer. Further, as a heat treatment apparatus to which the present invention is applied, an apparatus applied to, for example, oxidation, diffusion, and annealing can be used in addition to a CVD apparatus.
【００３９】[0039]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、発熱抵抗
体を支持するための断熱材をリング状断熱ピース材によ
って構成し、このピース材を積み重ねることが可能であ
る。このため、熱処理装置の縦方向での温度分布を変更
する必要がある場合でも、その部分のピース材を取替え
るだけでよく、装置自体の交換等の手間をなくすことが
できる。As described above, according to the present invention, it is possible to form a heat insulating material for supporting the heating resistor by a ring-shaped heat insulating piece material, and to stack the piece materials. For this reason, even when it is necessary to change the temperature distribution in the longitudinal direction of the heat treatment apparatus, it is only necessary to replace the piece material at that portion, and it is possible to eliminate the trouble of replacing the apparatus itself.
【００４０】また、一体構造となっている装置の構造を
変更するのではなく、装置の一部を構成しているピース
材の大きさを異ならせたり異径とすることで、装置全体
での被処理体に対する加熱状態を調整することができ
る。このため、被処理体の温度分布を変化させることが
ない。Also, instead of changing the structure of the integrated device, the size of the piece material constituting a part of the device or the diameter of the piece material is changed so that the entire device can be manufactured. The heating state of the object to be processed can be adjusted. Therefore, the temperature distribution of the object is not changed.
【図１】本発明の実施例を示す熱処理装置の全体構成を
説明するための断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an overall configuration of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示した熱処理装置に用いられる断熱材の
構造を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a heat insulating material used in the heat treatment apparatus shown in FIG.
【図３】図１に示した熱処理装置に用いられる断熱材の
一部変形例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a partially modified example of a heat insulating material used in the heat treatment apparatus shown in FIG.
【図４】図１に示した熱処理装置に用いられる断熱材の
一部の他の例を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing another example of a part of the heat insulating material used in the heat treatment apparatus shown in FIG. 1;
【図５】図１に示した熱処理装置に用いられる発熱抵抗
体の支持構造の変形例を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a modification of the supporting structure of the heating resistor used in the heat treatment apparatus shown in FIG.
【図６】図５に示した発熱抵抗体の線端部の構造を示す
模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing a structure of a wire end portion of the heating resistor shown in FIG.
【図７】図１に示した断熱材の変形例を示す断面図であ
る。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a modification of the heat insulating material shown in FIG.
【図８】図１に示した断熱材の一部のさらに他の変形例
を示す部分的な断面図である。FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing still another modification of a part of the heat insulating material shown in FIG. 1;
１０ 熱処理位置 １２ プロセスチューブ ３０ 発熱抵抗体 ３４ 断熱材 ３４Ａ ピース材 ３４Ａ１ 上ピース ３４Ａ２ 中間ピース ３４Ａ３ 下ピース ３４Ｂ 載置面 ３４Ｃ 収容空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heat treatment position 12 Process tube 30 Heating resistor 34 Heat insulating material 34A Piece material 34A1 Upper piece 34A2 Intermediate piece 34A3 Lower piece 34B Mounting surface 34C Housing space
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/22 511 H01L 21/205 H01L 21/324 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/22 511 H01L 21/205 H01L 21/324
Claims (9)
状または螺旋状の発熱抵抗体を筒状断熱材により支持し
て配置した熱処理装置であって、 上記筒状断熱材は、縦方向に積載される複数のリング状
断熱ピース材から構成され、 上下にて隣接する２つの上記リング状断熱ピース材間に
は、上記発熱抵抗体を収容する収容部が周方向にそって
形成され、この収容部は上記縦型プロセスチューブと対
向する領域に開口を有することを特徴とする熱処理装
置。1. A heat treatment apparatus having a ring-shaped or spiral heating resistor supported by a cylindrical heat insulating material around a vertical process tube, wherein the cylindrical heat insulating material is vertically stacked. A housing portion for accommodating the heating resistor is formed along the circumferential direction between the two ring-shaped heat-insulating piece materials which are vertically adjacent to each other. The heat treatment apparatus, wherein the portion has an opening in a region facing the vertical process tube.
異ならせることで、その積載方向で配列ピッチを異なら
せた ことを特徴とする熱処理装置。2. The heat-generating resistor according to claim 1, wherein the thickness of the ring-shaped heat-insulating piece is reduced.
By making them different, if the arrangement pitch differs in the loading direction
Thermal processing apparatus characterized by allowed.
状または螺旋状の発熱抵抗体を筒状断熱材により支持し
て配置した熱処理装置であって、 上記筒状断熱材は、縦方向に積載される複数のリング状
断熱ピース材から構成され、 上下にて隣接する２つの上記リング状断熱ピース材間に
は、上記発熱抵抗体を収容する収容部が周方向にそって
形成され、 上記発熱抵抗体は、上記リング状断熱ピース材の厚さを
異ならせることで、その積載方向で配列ピッチを異なら
せた ことを特徴とする熱処理装置。3. A ring around a vertical process tube.
Or spiral heating resistor is supported by a tubular heat insulator.
A heat treatment apparatus arranged Te, the tubular thermal insulation, a plurality of ring-shaped to be mounted in the vertical direction
It is composed of a heat-insulating piece material, and is located between two adjacent ring-shaped heat-insulating piece materials above and below.
The accommodating portion accommodating the heating resistor is arranged along the circumferential direction.
The heat-generating resistor is formed, and the thickness of the ring-shaped heat-insulating piece material is adjusted.
By making them different, if the arrangement pitch differs in the loading direction
Thermal processing apparatus characterized by allowed.
間で上記配列ピッチを異ならせた ことを特徴とする熱処
理装置。4. A method according to claim 3, wherein a plurality of zones divided in the vertical direction are set.
A heat treatment apparatus, wherein the arrangement pitch is different between the heat treatment apparatuses.
さくして、上記下方のゾーンでの発熱量を多くした こと
を特徴とする熱処理装置。5. An arrangement according to claim 4, wherein the arrangement pitch in the lower zone is smaller than that in the other zones.
A heat treatment apparatus characterized in that the amount of heat generated in the lower zone is increased .
内で上記配列ピッチを異ならせたことを特徴とする熱処
理装置。 6. The apparatus according to claim 3, wherein a plurality of zones divided in the vertical direction are set.
Heat treatment characterized in that the arrangement pitch is varied within
Equipment.
特徴とする熱処理装置。 7. The method according to claim 4, wherein a lower end of the vertical process tube is open.
Characteristic heat treatment equipment.
状または螺旋状の発熱抵抗体を筒状断熱材により支持し
て配置した熱処理装置であって、 上記筒状断熱材は、縦方向に積載される複数のリング状
断熱ピース材から構成され、 上下にて隣接する２つの上記リング状断熱ピース材間に
は、上記発熱抵抗体を収容する収容部が周方向にそって
形成され、 上記リング状断熱ピース材は、積載方向に沿って上記発
熱抵抗体収容部が異径に設定されていることを特徴とす
る熱処理装置。 8. A ring around a vertical process tube.
Or spiral heating resistor is supported by a tubular heat insulator.
A heat treatment apparatus arranged Te, the tubular thermal insulation, a plurality of ring-shaped to be mounted in the vertical direction
It is composed of a heat-insulating piece material, and is located between two adjacent ring-shaped heat-insulating piece materials above and below.
The accommodating portion accommodating the heating resistor is arranged along the circumferential direction.
The ring-shaped heat-insulating piece material is formed along the loading direction.
The thermal resistor housing portion is set to have a different diameter.
Heat treatment equipment.
間で上記発熱抵抗体収容部が異径に設定されていること
を特徴とする熱処理装置。 9. The method according to claim 8, wherein a plurality of zones divided in the vertical direction are set.
The heating resistor housing sections are set to different diameters between
A heat treatment apparatus characterized by the above-mentioned.
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