JP3232456B2 - エアプロセッサ - Google Patents

エアプロセッサ

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JP3232456B2
JP3232456B2 JP24704498A JP24704498A JP3232456B2 JP 3232456 B2 JP3232456 B2 JP 3232456B2 JP 24704498 A JP24704498 A JP 24704498A JP 24704498 A JP24704498 A JP 24704498A JP 3232456 B2 JP3232456 B2 JP 3232456B2
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    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/14Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification
    • F24F3/153Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification with subsequent heating, i.e. with the air, given the required humidity in the central station, passing a heating element to achieve the required temperature

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体の製造工程等
における被空調空間に温湿度を調整した空気を供給する
エアプロセッサに関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、シリコンウェーハにレジストを
コーティングする半導体の製造工程では、シリコンウェ
ーハをセットする被空調空間における温湿度の変動が、
コーティング被膜の厚さに直接影響し、被膜の均一性及
び品質を損なう原因になるため、通常、このような製造
工程には湿温度を高度に調整した空気を被空調空間に供
給するエアプロセッサを備えている。
【0003】従来、この種のエアプロセッサとしては、
実公平4−29311号公報で開示される恒温恒湿空気
供給装置(エアプロセッサ)が知られている。このエア
プロセッサは、空気通路の上流側から、加湿器,冷却
器,加熱器が順番に配され、外気吸込口から送風機によ
り強制的に取入れられた空気は、加湿器,冷却器,加熱
器を通して温湿度が調整された後、加熱器の下流側に設
けた空気吹出口から必要な被空調空間に供給される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のエアプ
ロセッサは、加湿器,冷却器及び加熱器の単体をそれぞ
れ内蔵することにより単一の処理系を構成していたた
め、エアプロセッサは使用する被空調空間毎に設置する
必要があり、全体の設備を構築するに際しての経済性及
び省スペース性、さらには融通性及び使い勝手に劣る難
点があった。
【0005】本発明はこのような従来の技術に存在する
課題を解決したものであり、経済性及び省スペース性に
優れるとともに、融通性及び使い勝手に優れるエアプロ
セッサの提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段及び実施の形態】本発明
は、被空調空間Sp…に温湿度を調整した空気Adp,
Adqを供給するエアプロセッサ1を構成するに際し
て、空気通路2の前段に冷却器3を配設するとともに、
この冷却器3の下流側となる空気通路2の後段を複数の
分岐通路2p,2qに分割し、各分岐通路2p,2qに
それぞれ加湿器5p,5qと加熱器6p,6qを配設す
ることにより複数の処理系Dp,Dqを設けてなること
を特徴とする。
【0007】この場合、好適な実施の形態により、冷却
器3は前後に分割した複数の冷却ユニット3a,3bに
より構成する。また、複数の冷却ユニット3a,3bに
おける前冷却ユニット3aと後冷却ユニット3b間の空
気通路2には、各加湿器5p,5qの空気取入口5i
p,5iqを臨ませるとともに、後冷却ユニット3bよ
り下流の分岐通路2p,2qには、加湿器5p,5qの
空気排出口5op,5oqを臨ませて構成する。
【0008】これにより、空気通路2に吸込まれた空気
は、当該空気通路2の前段に配設された冷却器3により
冷却及び除湿された後、空気通路2の後段における各分
岐通路2p,2qに分流し、各加湿器5p,5qにより
湿度の調整が行われるとともに、各加熱器6p,6qに
より温度の調整が行われる。即ち、空気通路2の前段で
は、いわば前処理として、吸込まれた空気に対する冷却
と除湿が行われるとともに、冷却及び除湿された空気
は、空気通路2の後段に設けた各処理系Dp,Dqにそ
れぞれ供給され、各処理系Dp,Dq毎に独立して加熱
及び加湿が行われることにより、目標の温度及び湿度に
調整される。したがって、単一系の冷却器3は複数の処
理系Dp,Dqに共用されるとともに、複数の処理系D
p,Dqにおいて温湿度が独立して調整された空気Ad
p,Adqは、それぞれ異なる被空調空間Sp…に相互
に干渉されることなく供給される。
【0009】
【実施例】次に、本発明に係る好適な実施例を挙げ、図
面に基づき詳細に説明する。
【0010】まず、本実施例に係るエアプロセッサ1の
構成について、図1〜図4を参照して説明する。
【0011】図4はエアプロセッサ1の外観構成を示
す。エアプロセッサ1は直方体状のケーシング50を備
える。ケーシング50の正面上部には操作パネル51を
有し、この操作パネル51には非常停止スイッチ,温湿
度コントローラ,操作ユニット等を配する。また、ケー
シング50の左右の側面上部には、それぞれ外気吸込口
52a,52bを有するとともに、背面上部には湾曲パ
イプにより形成した左右一対の空気吹出管53p,53
qを備える。なお、54p,54qは空気吹出管53
p,53qに付設した風量調整用シャッタであり、この
風量調整用シャッタ54p,54qの位置を変位させる
ことにより、空気吹出管53p,53qから外部に吹出
される空気量(風量)を調整できる。また、仮想線で示
す符号55はY形の合流管であり、必要により、空気吹
出管53p,53qに接続すれば、各空気吹出管53
p,53qから吹出される空気を合流させることができ
るため、被空調空間の大きさに応じて利用できる。
【0012】図1〜図3はエアプロセッサ1の内部構成
を示す。11は断熱材で構成したハウジングであり、内
部は空気通路2となる。ハウジング11の内部中間位置
には冷却器3を配設する。冷却器3は分割した一対の冷
却ユニット、即ち、前冷却ユニット3aと後冷却ユニッ
ト3bからなり、前後に離間して配設する。各冷却ユニ
ット3a,3bは同一の冷却ユニットを利用でき、基本
的には本来必要な能力の冷却器に対して1/2の能力の
冷却器を二台用意すればよい。冷却ユニット3aと3b
は並列に接続し、さらに、共有となるコンプレッサ1
5,キャピラリチューブ16及びコンデンサ17等と接
続して冷凍サイクルを構成する。
【0013】また、前冷却ユニット3aの上流側におけ
るハウジング11には、外気をハウジング11の内部に
強制的に吸入する送風機18を取付ける。この送風機1
8の吸入側は不図示の通気管及びケミカルエアフィルタ
19を介して前記外気吸込口52a,52bに連通接続
する。
【0014】以上が、エアプロセッサ1の前段部分、即
ち、空気通路2の前段における構造となり、単一系とし
て構成する。一方、後冷却ユニット3bの下流側はエア
プロセッサ1の後段部分、即ち、空気通路2の後段にお
ける構造となり、独立した二つの処理系Dp,Dqを構
成する。
【0015】次に、エアプロセッサ1の後段部分の構成
について説明する。まず、後冷却ユニット3bの下流側
に位置するハウジング11の上面には断熱材により構成
したミキシングボックス21を一体的に設け、このミキ
シングボックス21の底面部とハウジング11の上面部
は通気孔部22を介して連通する。そして、後冷却ユニ
ット3bから下流側の空気通路2は、図2及び図3に示
すように、真ん中に仕切板23を配設することにより左
右に二分割して一対の分岐通路2p,2qを形成する。
これにより、後冷却ユニット3bを通過した空気Aは、
仕切板23に仕切られた二つの処理系Dp,Dqにおい
て相互に干渉されることなく、それぞれ独立して温湿度
が調整される。
【0016】一方の処理系となる左半部に設けた処理系
Dpは次のように構成する。まず、ハウジング11の下
方左側には加湿器5pを配設する。加湿器5pは加湿槽
24pを有し、この加湿槽24pは仕切板25pにより
下段槽26pと上段槽27pに分かれる。下段槽26p
と上段槽27pは仕切板25pに設けた通孔28pによ
り連通し、下段槽26pと上段槽27pの内部には、そ
れぞれ加湿ヒータ29p,30pを配設する。また、加
湿槽24pの上面部における所定位置には取入管31p
及び排出管32pの一端をそれぞれ連通接続する。取入
管31pの他端は空気取入口5ipとなり、前冷却ユニ
ット3aと後冷却ユニット3b間におけるハウジング1
1の底面部11dに連通接続することにより、当該空気
取入口5ipを前冷却ユニット3aと後冷却ユニット3
b間の空気通路2に臨ませる。一方、排出管32pの他
端は空気排出口5opとなり、後冷却ユニット3bより
下流におけるハウジング11の底面部11dに連通接続
することにより、後冷却ユニット3bより下流の分岐通
路2pに臨ませる。そして、加湿槽24pには水Wpを
収容する。
【0017】また、空気排出口5opの上方に位置する
ハウジング11の内部における分岐通路2pには加熱ヒ
ータ6pを配設する。さらに、ミキシングボックス21
における分岐通路2p側の上端付近には吹出管53pの
一端を接続し、他端側はケーシング50の背面上部から
外部に突出させる。そして、外部に突出した吹出管53
pは、略90゜の角度で湾曲させ、空気吹出口33pを
上方を向ける。なお、この空気吹出口33pには、図1
に仮想線で示す送気ダクト34pを接続するとともに、
この送気ダクト34pの先端はエアフィルタ35pを介
して被空調空間Spに接続する。図中、36pは被空調
空間Spに配した温度と湿度を検出する温湿度センサで
ある。
【0018】他方の処理系となる右半部に設けた処理系
Dqも上述した左半部の処理系Dpと全く同一に構成す
る。なお、右半部の処理系Dqにおいて、5qは加湿
器,5iqは空気取入口,5oqは空気排出口,6qは
加熱ヒータ,31qは取入管,Adqは調整された空気
をそれぞれ示す。
【0019】また、37はコンピュータ機能を備える制
御部であり、この制御部37の入力部には、温湿度セン
サ36p…を接続するとともに、制御部37の出力部に
は、加熱ヒータ6p,6q、加湿ヒータ29p…,30
p…、コンプレッサ15を接続する。
【0020】次に、本実施例に係るエアプロセッサ1の
動作及び機能について、各図を参照して説明する。
【0021】まず、送風機18を作動させれば、外部の
空気Aはケミカルエアフィルタ19及び送風機18を通
ってハウジング11の内部(空気通路2)に吸い込まれ
る。一方、ハウジング11の内部の空気Aは、各冷却ユ
ニット3a及び3bにより冷却及び除湿され、後冷却ユ
ニット3bの下流側に備える二つの処理系Dp,Dqに
供給される。即ち、冷却及び除湿された空気Aは、空気
通路2の後段における各分岐通路2p,2qに分流し、
各加湿器5p,5qにより湿度の調整が行われるととも
に、各加熱器6p,6qにより温度の調整が行われる。
【0022】具体的には、左半部の処理系Dpに供給さ
れた空気Aは、加湿器5pにより加湿されるとともに、
加熱ヒータ6pにより加熱され、温湿度が精密に調整さ
れる。そして、温湿度の調整された空気Adpは、通気
孔部22及びミキシングボックス21における分岐通路
2p,吹出管53p,送気ダクト34p及びエアフィル
タ35pを通して被空調空間Spに供給される。また、
右半部の処理系Dqに供給された空気Aは、加湿器5q
により加湿されるとともに、加熱ヒータ6qにより加熱
され、温湿度が精密に調整される。そして、温湿度の調
整された空気Adqは、通気孔部22及びミキシングボ
ックス21における分岐通路2q,吹出管53qを通し
て他の被空調空間に供給される。
【0023】この際、各加湿器5p,5qに供給される
空気Aは、前冷却ユニット3aと後冷却ユニット3bの
間における空気通路2に臨ませた空気取入口5ip,5
iqから取入れられる。したがって、各加湿器5p,5
qには、後冷却ユニット3bの存在により生ずる圧力差
によって十分な量の空気が取入れられるとともに、前冷
却ユニット3aにより除湿された空気が取入れられる。
また、後冷却ユニット3bの下流におけるハウジング1
1の底面部11dに、空気排出口5op,5oqを連通
接続し、さらに、空気排出口5op,5oqの上方に位
置するハウジング11の内部に、加熱ヒータ6p,6q
を配設するため、加湿器5p,5qから発生した湿気
(蒸気)は、空気排出口5op,5oqから各加熱ヒー
タ6p,6qを配設した分岐通路2p,2q内に円滑に
進入する。
【0024】各被空調空間Sp…の温湿度は、温湿度セ
ンサ36p…によりそれぞれ検出され、その検出結果は
制御部37に付与される。そして、制御部37は、各被
空調空間Sp…の温度及び湿度が、予め設定されている
設定温度及び設定湿度となるように、加熱ヒータ6p,
6q及び加湿ヒータ29p…,30p…をそれぞれフィ
ードバック制御する。この場合、各処理系Dp,Pq毎
に独立して温湿度が制御(調整)される。
【0025】このように、本実施例に係るエアプロセッ
サ1によれば、単一系となる冷却器3(冷却ユニット3
a,3b)は複数の処理系Dp,Dqに共用されるとと
もに、複数の処理系Dp,Dqにおいて温湿度が独立し
て調整された空気Adp,Adqは、それぞれ異なる被
空調空間Sp…に相互に干渉されることなく供給され
る。したがって、一台のエアプロセッサ1内に二系統の
独立した処理系Dp,Dqを備えるため、全体の設備を
構築する際におけるエアプロセッサ1…の使用数量を半
減させることができ、経済性及び省スペース性を高める
ことができるとともに、必要により合流管55(アタッ
チメント)を使用すれば、被空調空間Sp…の大きさ等
に応じて能力を異ならせて利用できるなど、融通性及び
使い勝手を高めることができる。特に、冷却器3は各処
理系Dp,Dqに共用されるため、比較的大型の構成部
品となるコンプレッサ15を含む冷凍サイクルは一系統
で足りるため、エアプロセッサ一台当たりにおける全体
の小型コンパクト化及びコストダウンに寄与できる。
【0026】また、従来のように加湿器を冷却器の上流
側に配設することにより、取入れられた空気が加湿器で
加湿された後に冷却器で除湿される方式に比べて、無用
なエネルギロスを排除でき、精度の高い湿度調整を行う
ことができるとともに、加えて、前冷却ユニット3aに
より除湿された空気が加湿器に取入れられるため、低湿
度領域の調整を安定かつ正確に行うことができる。
【0027】以上、実施例について詳細に説明したが、
本発明はこのような実施例に限定されるものではなく、
細部の構成,形状,素材,数量等において、本発明の要
旨を逸脱しない範囲で任意に変更,追加,削除すること
ができる。
【0028】例えば、実施例は冷却器3を前冷却ユニッ
ト3aと後冷却ユニット3bにより構成した場合を示し
たが、単体の冷却器であってもよい。また、実施例は二
つの処理系Dp,Dqにより構成した場合を示したが、
図5に示すように、三つの処理系Dx,Dy,Dzを設
けてもよい。図5は空気通路2の後段を二つの仕切板2
3a,23bにより仕切ることにより三つの分岐通路2
x,2y,2zを形成するとともに、空気通路2の前段
に三つの冷却ユニット3c,3a,3bを前後に配設し
た場合を示す。なお、図5における各部の基本的な構成
及び動作は図1〜図4の実施例と同じである。図5中、
5ix,5iy,5izは空気取入口、5ox,5o
y,5ozは空気排出口、53x,53y,53zは空
気吹出管をそれぞれ示す。このように、処理系の数は任
意に選択できる。さらに、加熱ヒータ6p,6qはミキ
シングボックス21の内部に配設してもよい。
【0029】
【発明の効果】このように、本発明に係るエアプロセッ
サは、空気通路の前段に冷却器を配設するとともに、こ
の冷却器の下流側となる空気通路の後段を複数の分岐通
路に分割し、各分岐通路にそれぞれ加湿器と加熱器を配
設することにより複数の処理系を設けたため、次のよう
な顕著な効果を奏する。
【0030】 全体の設備を構築する際におけるエア
プロセッサの使用数量を大幅に削減でき、経済性及び省
スペース性を飛躍的に高めることができる。
【0031】 調整された空気をアタッチメント等に
より合流させ、被空調空間の大きさ等に応じて能力を異
ならせることができるなど、融通性及び使い勝手を高め
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適な実施例に係るエアプロセッサの
原理的断面側面図、
【図2】図1中X−X線断面図、
【図3】図2中Y−Y線断面図、
【図4】同エアプロセッサの外観斜視図、
【図5】本発明の変更実施例に係るエアプロセッサの原
理的断面平面図、
【符号の説明】
1 エアプロセッサ 2 空気通路 Sp… 被空調空間 Adp… 温湿度を調整した空気 Adq… 温湿度を調整した空気 3 冷却器 3a 前冷却ユニット 3b 後冷却ユニット 2p 分岐通路 2q 分岐通路 5p 加湿器 5q 加湿器 6p 加熱器 6q 加熱器 Dp 処理系 Dq 処理系 5ip 空気取入口 5iq 空気取入口 5op 空気排出口 5oq 空気排出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−185239(JP,A) 特開 昭61−122433(JP,A) 特開 平6−313581(JP,A) 特開 平6−74488(JP,A) 実公 平4−29311(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F24F 3/14 F24F 3/153

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被空調空間に温湿度を調整した空気を供
    給するエアプロセッサにおいて、空気通路の前段に冷却
    器を配設するとともに、この冷却器の下流側となる空気
    通路の後段を複数の分岐通路に分割し、各分岐通路にそ
    れぞれ加湿器と加熱器を配設することにより複数の処理
    系を設けてなることを特徴とするエアプロセッサ。
  2. 【請求項2】 前記冷却器は前後に分割した複数の冷却
    ユニットを備えることを特徴とする請求項1記載のエア
    プロセッサ。
  3. 【請求項3】 前記複数の冷却ユニットにおける前冷却
    ユニットと後冷却ユニット間の空気通路に、各加湿器の
    空気取入口を臨ませるとともに、前記後冷却ユニットよ
    り下流の分岐通路に、前記加湿器の空気排出口を臨ませ
    てなることを特徴とする請求項2記載のエアプロセッ
    サ。
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