JP3230963B2 - 表面形状測定装置 - Google Patents
表面形状測定装置Info
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- JP3230963B2 JP3230963B2 JP27486495A JP27486495A JP3230963B2 JP 3230963 B2 JP3230963 B2 JP 3230963B2 JP 27486495 A JP27486495 A JP 27486495A JP 27486495 A JP27486495 A JP 27486495A JP 3230963 B2 JP3230963 B2 JP 3230963B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、細長形状の被検面
を有する被検体の被検面凹凸形状を測定する表面形状測
定装置に関するものである。
を有する被検体の被検面凹凸形状を測定する表面形状測
定装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、磁気ヘッドの製造方法とし
て、磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成しておき、
これをスライスして磁気ヘッドを切り出す方法が知られ
ている。磁気ヘッドにおいてはそのヘッド表面の面形状
が品質上重要になるが、上記細長ブロックの段階におい
てそのヘッド表面となるべき面が長手方向に波打った凹
凸形状となっているような場合には、この細長ブロック
からの切出しを行っても表面形状に優れた磁気ヘッドを
得ることができない。したがって、上記細長ブロックの
段階においてその表面の凹凸形状を予め測定し、良品に
対してのみ切出しを行うようにすれば、品質の保証され
た磁気ヘッドを製造することが可能となる。
て、磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成しておき、
これをスライスして磁気ヘッドを切り出す方法が知られ
ている。磁気ヘッドにおいてはそのヘッド表面の面形状
が品質上重要になるが、上記細長ブロックの段階におい
てそのヘッド表面となるべき面が長手方向に波打った凹
凸形状となっているような場合には、この細長ブロック
からの切出しを行っても表面形状に優れた磁気ヘッドを
得ることができない。したがって、上記細長ブロックの
段階においてその表面の凹凸形状を予め測定し、良品に
対してのみ切出しを行うようにすれば、品質の保証され
た磁気ヘッドを製造することが可能となる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記細長ブロックの表
面の凹凸形状を測定する方法として、干渉計を用いて干
渉縞を形成させてその縞模様を観察する方法が考えられ
るが、長手方向の波打ち形状を縞模様から読み取ること
は容易ではなく、特に、磁気ヘッドの製造ラインにおい
て短時間で表面凹凸の有無判定を行うことは困難であ
る。本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので
あって、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸
形状を容易に測定することができる表面形状測定装置を
提供することを目的とするものである。
面の凹凸形状を測定する方法として、干渉計を用いて干
渉縞を形成させてその縞模様を観察する方法が考えられ
るが、長手方向の波打ち形状を縞模様から読み取ること
は容易ではなく、特に、磁気ヘッドの製造ラインにおい
て短時間で表面凹凸の有無判定を行うことは困難であ
る。本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので
あって、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸
形状を容易に測定することができる表面形状測定装置を
提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る表面形状測
定装置は、細長形状の被検面を有する被検体の前記被検
面の凹凸形状を測定する表面形状測定装置であって、前
記被検体を支持する被検体支持手段と、前記被検面に平
行光を照射する平行光照射手段と、前記被検面を結像す
る結像レンズとを備え、前記被検体支持手段による前記
被検体の支持が、前記被検面の長手方向と直交する平面
内において該被検面の法線方向と所定角度をなす方向か
ら該被検面に前記平行光を入射させるように行われてお
り、前記結像レンズが、前記平行光入射方向に配置され
るとともに、該結像レンズにより形成される略平行光束
に球面収差が生じるように構成されていることを特徴と
するものである。
定装置は、細長形状の被検面を有する被検体の前記被検
面の凹凸形状を測定する表面形状測定装置であって、前
記被検体を支持する被検体支持手段と、前記被検面に平
行光を照射する平行光照射手段と、前記被検面を結像す
る結像レンズとを備え、前記被検体支持手段による前記
被検体の支持が、前記被検面の長手方向と直交する平面
内において該被検面の法線方向と所定角度をなす方向か
ら該被検面に前記平行光を入射させるように行われてお
り、前記結像レンズが、前記平行光入射方向に配置され
るとともに、該結像レンズにより形成される略平行光束
に球面収差が生じるように構成されていることを特徴と
するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明の実
施例について説明する。図１は、本発明に係る表面形状
測定装置の一実施例を示す側面図である。図示のよう
に、この表面形状測定装置１０は、細長形状の被検面２
ａを有する被検体２（磁気ヘッド材料を細長ブロック状
に形成したもの）の被検面凹凸形状を測定する装置であ
る。すなわち、この表面形状測定装置１０は、レーザ装
置１２と、発散レンズ１４と、ハーフミラー１６と、コ
リメータレンズ１８と、チルトステージ２０と、結像レ
ンズ２２と、撮像部２４と、モニタ２６とを備えてなっ
ている。
施例について説明する。図１は、本発明に係る表面形状
測定装置の一実施例を示す側面図である。図示のよう
に、この表面形状測定装置１０は、細長形状の被検面２
ａを有する被検体２（磁気ヘッド材料を細長ブロック状
に形成したもの）の被検面凹凸形状を測定する装置であ
る。すなわち、この表面形状測定装置１０は、レーザ装
置１２と、発散レンズ１４と、ハーフミラー１６と、コ
リメータレンズ１８と、チルトステージ２０と、結像レ
ンズ２２と、撮像部２４と、モニタ２６とを備えてなっ
ている。
【０００６】そして、レーザ装置１２から射出されたレ
ーザ光を発散レンズ１４で発散させた後、この発散光を
ハーフミラー１６で反射させ、これをコリメータレンズ
１８で平行光にしてチルトステージ２０上の被検体に入
射させ、このチルトステージ２０上の被検体からの反射
光を再びコリメータレンズ１８で集束させ、この集束光
をさらに結像レンズ２２の集光作用で撮像部２４の撮像
面２４ａ上に略平行照射し、これにより得られた被検体
の画像をモニタ２６の画面上に表示するようになってい
る。上記表面形状測定装置１０は、さらに、コリメータ
レンズ１８とチルトステージ２０との間の光路上（図中
２点鎖線で示す位置）に、基準板２８を配置し得る構成
とされており、この位置に基準板２８を配置した状態
で、被検面２ａを基準板２８に対して水平に配置するこ
とによりフィゾー型干渉計として使用することができる
ようになっている。
ーザ光を発散レンズ１４で発散させた後、この発散光を
ハーフミラー１６で反射させ、これをコリメータレンズ
１８で平行光にしてチルトステージ２０上の被検体に入
射させ、このチルトステージ２０上の被検体からの反射
光を再びコリメータレンズ１８で集束させ、この集束光
をさらに結像レンズ２２の集光作用で撮像部２４の撮像
面２４ａ上に略平行照射し、これにより得られた被検体
の画像をモニタ２６の画面上に表示するようになってい
る。上記表面形状測定装置１０は、さらに、コリメータ
レンズ１８とチルトステージ２０との間の光路上（図中
２点鎖線で示す位置）に、基準板２８を配置し得る構成
とされており、この位置に基準板２８を配置した状態
で、被検面２ａを基準板２８に対して水平に配置するこ
とによりフィゾー型干渉計として使用することができる
ようになっている。
【０００７】図示のように、被検体２はチルトステージ
２０上に支持されるようになっているが、被検体２の被
検面２ａの凹凸形状を測定する際には、チルトステージ
２０を被検面２ａの長手方向の軸線（図示のように座標
系を設定した場合におけるＹ軸）回りに所定角度回転さ
せて、被検面２ａを水平面に対して所定角度傾斜させる
ようになっている。そして、これにより、コリメータレ
ンズ１８からの平行光を、ＺＸ平面（上記長手方向の軸
線と直交する平面）内において被検面２ａの法線方向と
上記所定角度をなす方向から被検面２ａに入射させるよ
うになっている。図２は、チルトステージ２０の詳細構
造を示す斜視図である。図示のように、チルトステージ
２０は、ベースプレート３０の上に、Ｙステージ３２
と、Ｘステージ３４と、チルトステージ本体３６とが積
層されてなっている。
２０上に支持されるようになっているが、被検体２の被
検面２ａの凹凸形状を測定する際には、チルトステージ
２０を被検面２ａの長手方向の軸線（図示のように座標
系を設定した場合におけるＹ軸）回りに所定角度回転さ
せて、被検面２ａを水平面に対して所定角度傾斜させる
ようになっている。そして、これにより、コリメータレ
ンズ１８からの平行光を、ＺＸ平面（上記長手方向の軸
線と直交する平面）内において被検面２ａの法線方向と
上記所定角度をなす方向から被検面２ａに入射させるよ
うになっている。図２は、チルトステージ２０の詳細構
造を示す斜視図である。図示のように、チルトステージ
２０は、ベースプレート３０の上に、Ｙステージ３２
と、Ｘステージ３４と、チルトステージ本体３６とが積
層されてなっている。
【０００８】上記Ｙステージ３２は調整ネジ３８により
ベースプレート３０に対してＹ軸方向に移動可能であ
り、上記Ｘステージ３４は調整ネジ４０によりＹステー
ジ３２に対してＸ軸方向に移動可能であり、上記チルト
ステージ本体３６は調整ネジ４２、４４によりＸステー
ジ３４に対して各々Ｙ軸回り、Ｘ軸回りに傾動可能であ
る。上記チルトステージ本体３６には上記傾動の際の支
点作用を果たすバネ４６が設けられている。
ベースプレート３０に対してＹ軸方向に移動可能であ
り、上記Ｘステージ３４は調整ネジ４０によりＹステー
ジ３２に対してＸ軸方向に移動可能であり、上記チルト
ステージ本体３６は調整ネジ４２、４４によりＸステー
ジ３４に対して各々Ｙ軸回り、Ｘ軸回りに傾動可能であ
る。上記チルトステージ本体３６には上記傾動の際の支
点作用を果たすバネ４６が設けられている。
【０００９】上記チルトステージ２０には、さらに、そ
のベースプレート３０に支持された４本の調整ネジ４８
に遮蔽板５０が高さ調整可能に取り付けられている。こ
の遮蔽板５０には、Ｙ軸方向に延びる細長形状のスリッ
ト５０ａが形成されており、このスリット５０ａにより
被検体２の被検面２ａの形状を規定するようになってい
る。上記遮蔽板５０は、上記チルトステージ２０のＹス
テージ３２、Ｘステージ３４およびチルトステージ本体
３６により位置および傾斜角度が設定された被検体２に
対して、上記４本の調整ネジ４８の調整によりその被検
面２ａとなるべき表面近傍に配置されるようになってい
る。
のベースプレート３０に支持された４本の調整ネジ４８
に遮蔽板５０が高さ調整可能に取り付けられている。こ
の遮蔽板５０には、Ｙ軸方向に延びる細長形状のスリッ
ト５０ａが形成されており、このスリット５０ａにより
被検体２の被検面２ａの形状を規定するようになってい
る。上記遮蔽板５０は、上記チルトステージ２０のＹス
テージ３２、Ｘステージ３４およびチルトステージ本体
３６により位置および傾斜角度が設定された被検体２に
対して、上記４本の調整ネジ４８の調整によりその被検
面２ａとなるべき表面近傍に配置されるようになってい
る。
【００１０】図３（ａ）に示すように、上記結像レンズ
２２は、該結像レンズ２２により形成される被検体の像
に球面収差が生じるように構成されている。この球面収
差は、図３（ｂ）に示すように、チルトステージ本体３
６からの反射光がＺ軸（光軸）となす角度を横軸にと
り、撮像部２４の撮像面上における像高ズレ量を縦軸に
とったとき、高次関数的に角度が大きくなるほど収差の
増加量が大きくなるように設定されている。
２２は、該結像レンズ２２により形成される被検体の像
に球面収差が生じるように構成されている。この球面収
差は、図３（ｂ）に示すように、チルトステージ本体３
６からの反射光がＺ軸（光軸）となす角度を横軸にと
り、撮像部２４の撮像面上における像高ズレ量を縦軸に
とったとき、高次関数的に角度が大きくなるほど収差の
増加量が大きくなるように設定されている。
【００１１】次に、本実施例の作用について説明する。
被検体２が、図４（ａ）に示すようなＹ軸方向に波打っ
た凹凸形状の被検面２ａを有するものとする。本実施例
においては、この被検体２を上記チルトステージ２０に
よりＹ軸回りに所定角度傾斜させるようになっている
が、そのときのチルトステージ本体３６の傾斜角度をθ
とすると、被検面２ａは図４（ｂ）に示すようになる。
被検面２ａにこのような傾斜角度を持たせることによ
り、コリメータレンズ１８からの平行光はチルトステー
ジ本体３６に対して入射角θで入射することとなる。
被検体２が、図４（ａ）に示すようなＹ軸方向に波打っ
た凹凸形状の被検面２ａを有するものとする。本実施例
においては、この被検体２を上記チルトステージ２０に
よりＹ軸回りに所定角度傾斜させるようになっている
が、そのときのチルトステージ本体３６の傾斜角度をθ
とすると、被検面２ａは図４（ｂ）に示すようになる。
被検面２ａにこのような傾斜角度を持たせることによ
り、コリメータレンズ１８からの平行光はチルトステー
ジ本体３６に対して入射角θで入射することとなる。
【００１２】仮に、チルトステージ本体３６が水平面に
対して傾斜していないとすれば、チルトステージ本体３
６からの反射光は、Ｚ軸（光軸）方向に平行なビームと
なるため、コリメータレンズ１８を経て結像レンズ２２
で集束される際には、図３（ａ）にＡで示すように近軸
光線となる。したがって、チルトステージ本体３６に載
置された被検体２の被検面２ａの各部位からの反射光
が、該被検面２ａの波打ち凹凸形状によりＺ軸（光軸）
方向に対して異なる角度を有していても、図３（ｂ）の
Ａから明らかなように、その角度変化に対する像高の変
化がほとんどないため、モニタ２６上に被検面２ａの波
打ち凹凸形状を映し出すことはできない。
対して傾斜していないとすれば、チルトステージ本体３
６からの反射光は、Ｚ軸（光軸）方向に平行なビームと
なるため、コリメータレンズ１８を経て結像レンズ２２
で集束される際には、図３（ａ）にＡで示すように近軸
光線となる。したがって、チルトステージ本体３６に載
置された被検体２の被検面２ａの各部位からの反射光
が、該被検面２ａの波打ち凹凸形状によりＺ軸（光軸）
方向に対して異なる角度を有していても、図３（ｂ）の
Ａから明らかなように、その角度変化に対する像高の変
化がほとんどないため、モニタ２６上に被検面２ａの波
打ち凹凸形状を映し出すことはできない。
【００１３】これに対し、本実施例においては、チルト
ステージ本体３６が水平面に対して角度θ傾斜している
ので、チルトステージ本体３６からの反射光は、Ｚ軸
（光軸）に対して２θの角度をなす方向へのビームとな
る。このため、コリメータレンズ１８を経て結像レンズ
２２で集束される際には、図３（ａ）にＢで示すように
周縁光線となり、したがって、チルトステージ本体３６
に載置された被検体２の被検面２ａの各部位からの反射
光が、該被検面２ａの波打ち凹凸形状によりＺ軸（光
軸）方向に対して異なる角度を有していれば、図３
（ｂ）のＢから明らかなように、その角度変化に対して
像高が大きく変化するため、撮像部２４で撮像される、
被検面２ａの波打ち凹凸形状をモニタ２６上に鮮明に映
し出すことができる。
ステージ本体３６が水平面に対して角度θ傾斜している
ので、チルトステージ本体３６からの反射光は、Ｚ軸
（光軸）に対して２θの角度をなす方向へのビームとな
る。このため、コリメータレンズ１８を経て結像レンズ
２２で集束される際には、図３（ａ）にＢで示すように
周縁光線となり、したがって、チルトステージ本体３６
に載置された被検体２の被検面２ａの各部位からの反射
光が、該被検面２ａの波打ち凹凸形状によりＺ軸（光
軸）方向に対して異なる角度を有していれば、図３
（ｂ）のＢから明らかなように、その角度変化に対して
像高が大きく変化するため、撮像部２４で撮像される、
被検面２ａの波打ち凹凸形状をモニタ２６上に鮮明に映
し出すことができる。
【００１４】図５は、本実施例に係る表面形状測定装置
１０により得られたモニタ２６上の被検面２ａの像であ
って、同図（ａ）は、被検面２ａに大きな波打ち凹凸形
状がない良品を示し、同図（ｂ）は、被検面２ａに大き
な波打ち凹凸形状がある不良品を示す図である。なお、
モニタ２６上の各像からこのような良否判定がなされる
のは、以下の理由による。すなわち、本実施例における
被検体２は磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成した
ものであり、これを長手直交方向にスライスすることに
より磁気ヘッドが切り出されることから、たとえ被検面
２ａに波打ち凹凸形状があったとしても、これが図５
（ａ）に示すような長周期の波であれば、切り出された
磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影響が残存せ
ず、磁気ヘッドとしての性能上特に問題は生じない。一
方、図５（ｂ）に示すような短周期の波の場合には、切
り出された磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影
響が残存するため、磁気ヘッドとしての性能上問題が生
じることになる。
１０により得られたモニタ２６上の被検面２ａの像であ
って、同図（ａ）は、被検面２ａに大きな波打ち凹凸形
状がない良品を示し、同図（ｂ）は、被検面２ａに大き
な波打ち凹凸形状がある不良品を示す図である。なお、
モニタ２６上の各像からこのような良否判定がなされる
のは、以下の理由による。すなわち、本実施例における
被検体２は磁気ヘッド材料を細長ブロック状に形成した
ものであり、これを長手直交方向にスライスすることに
より磁気ヘッドが切り出されることから、たとえ被検面
２ａに波打ち凹凸形状があったとしても、これが図５
（ａ）に示すような長周期の波であれば、切り出された
磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影響が残存せ
ず、磁気ヘッドとしての性能上特に問題は生じない。一
方、図５（ｂ）に示すような短周期の波の場合には、切
り出された磁気ヘッドの表面に上記波打ち凹凸形状の影
響が残存するため、磁気ヘッドとしての性能上問題が生
じることになる。
【００１５】以上詳述したように、本実施例において
は、チルトステージ本体３６を水平面に対して角度θ傾
斜させることにより、チルトステージ本体３６からの反
射光を結像レンズ２２に対して周縁光線として入射させ
るようになっており、かつ、結像レンズ２２として球面
収差を有するレンズが用いられているので、チルトステ
ージ本体３６に載置された被検体２の被検面２ａに波打
ち凹凸形状があり、このため該被検面２ａの各部位から
の反射光がＺ軸方向に対して異なる角度を有していれ
ば、その角度変化に対して像高が大きく変化し、これに
よりモニタ２６上に被検面２ａの波打ち凹凸形状を鮮明
に映し出すことができる。したがって、本実施例によれ
ば、磁気ヘッドの製造ラインにおいて、該磁気ヘッドと
なるべき細長ブロックの表面凹凸の有無判定を短時間で
容易に行うことが可能となる。
は、チルトステージ本体３６を水平面に対して角度θ傾
斜させることにより、チルトステージ本体３６からの反
射光を結像レンズ２２に対して周縁光線として入射させ
るようになっており、かつ、結像レンズ２２として球面
収差を有するレンズが用いられているので、チルトステ
ージ本体３６に載置された被検体２の被検面２ａに波打
ち凹凸形状があり、このため該被検面２ａの各部位から
の反射光がＺ軸方向に対して異なる角度を有していれ
ば、その角度変化に対して像高が大きく変化し、これに
よりモニタ２６上に被検面２ａの波打ち凹凸形状を鮮明
に映し出すことができる。したがって、本実施例によれ
ば、磁気ヘッドの製造ラインにおいて、該磁気ヘッドと
なるべき細長ブロックの表面凹凸の有無判定を短時間で
容易に行うことが可能となる。
【００１６】なお、本実施例においては、光源としてレ
ーザ装置を用いているので、チルトステージ本体３６か
らの反射光も指向性が強いビームとなる。このため、図
３（ａ）にＢで示す周縁光線のみが撮像面に入射するこ
ととなり、これにより撮像面２４ａ上に被検面２ａの波
打ち凹凸形状をより一層鮮明に映し出すことができる。
ーザ装置を用いているので、チルトステージ本体３６か
らの反射光も指向性が強いビームとなる。このため、図
３（ａ）にＢで示す周縁光線のみが撮像面に入射するこ
ととなり、これにより撮像面２４ａ上に被検面２ａの波
打ち凹凸形状をより一層鮮明に映し出すことができる。
【００１７】また、本実施例においては、チルトステー
ジ２０に取り付けられた遮蔽板５０のスリット５０ａに
より被検体２の被検面２ａの形状を規定するようになっ
ているので、常に同一の基準で被検面２ａの波打ち凹凸
形状を映し出すことができ、その観察評価が容易とな
る。さらに、調整ネジ４０によりＸステージ３４をＸ軸
方向に移動させるようにすれば、被検体２が幅広い表面
を有するような場合であっても、これを細長形状の被検
面２ａに区切ってその波打ち凹凸形状を順次観察するこ
とが可能となる。なお、被検体２の被検面２ａとなるべ
き表面の輪郭自体が細長い形状である場合には、上記の
ような遮蔽板５０を用いることなく被検体２の表面全体
を被検面２ａとして表面形状測定を行うようにしてもよ
いことはもちろんである。
ジ２０に取り付けられた遮蔽板５０のスリット５０ａに
より被検体２の被検面２ａの形状を規定するようになっ
ているので、常に同一の基準で被検面２ａの波打ち凹凸
形状を映し出すことができ、その観察評価が容易とな
る。さらに、調整ネジ４０によりＸステージ３４をＸ軸
方向に移動させるようにすれば、被検体２が幅広い表面
を有するような場合であっても、これを細長形状の被検
面２ａに区切ってその波打ち凹凸形状を順次観察するこ
とが可能となる。なお、被検体２の被検面２ａとなるべ
き表面の輪郭自体が細長い形状である場合には、上記の
ような遮蔽板５０を用いることなく被検体２の表面全体
を被検面２ａとして表面形状測定を行うようにしてもよ
いことはもちろんである。
【００１８】また、上記実施例では、モニタ２６上に映
出された波打ち形状から定性的に被検面２ａ上の凹凸状
態を判断しているが、この波打ち形状の振幅量を測定す
ることにより、上記結像レンズの球面収差量に基づき被
検面２ａの凹凸量を定量的に検出することが可能であ
る。なお、本発明の表面形状測定装置としては上記実施
例のものに限られるものではなく、その他種々の態様の
変更が可能である。
出された波打ち形状から定性的に被検面２ａ上の凹凸状
態を判断しているが、この波打ち形状の振幅量を測定す
ることにより、上記結像レンズの球面収差量に基づき被
検面２ａの凹凸量を定量的に検出することが可能であ
る。なお、本発明の表面形状測定装置としては上記実施
例のものに限られるものではなく、その他種々の態様の
変更が可能である。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、被検体支持手段によっ
て被検体を傾斜配置することにより、その被検面長手方
向と直交する平面内において該被検面の法線方向と所定
角度をなす方向から該被検面に平行光を入射させるよう
に構成されており、また、この平行光を照射された被検
面からの反射光を集束させる結像レンズが、平行光入射
方向に配置されるとともに該結像レンズにより形成され
る集束ビームに球面収差が生じるように構成されている
ので、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸形
状を容易に測定することができる。
て被検体を傾斜配置することにより、その被検面長手方
向と直交する平面内において該被検面の法線方向と所定
角度をなす方向から該被検面に平行光を入射させるよう
に構成されており、また、この平行光を照射された被検
面からの反射光を集束させる結像レンズが、平行光入射
方向に配置されるとともに該結像レンズにより形成され
る集束ビームに球面収差が生じるように構成されている
ので、細長形状の被検面を有する被検体の被検面凹凸形
状を容易に測定することができる。
【図１】本発明に係る表面形状測定装置の一実施例を示
す側面図
す側面図
【図２】上記実施例のチルトステージを示す斜視図
【図３】上記実施例の作用を示す説明図
【図４】上記実施例の測定対象となる被検面を示す斜視
図
図
【図５】上記実施例の測定結果を示す図
２ 被検体 ２ａ 被検面 １０ 表面形状測定装置 １２ レーザ装置 １４ 発散レンズ １６ ハーフミラー １８ コリメータレンズ ２０ チルトステージ ２２ 結像レンズ ２４ 撮像部 ２４ａ 撮像面 ２６ モニタ ２８ 基準板 ３０ ベースプレート ３２ Ｙステージ ３４ Ｘステージ ３６ チルトステージ本体 ５０ 遮蔽板 ５０ａ スリット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 昭62−199616（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 11/00 - 11/30
Claims (4)
- 【請求項１】 細長形状の被検面を有する被検体の前記
被検面の凹凸形状を測定する表面形状測定装置であっ
て、 前記被検体を支持する被検体支持手段と、前記被検面に
平行光を照射する平行光照射手段と、前記被検面を結像
する結像レンズとを備え、 前記被検体支持手段による前記被検体の支持が、前記被
検面の長手方向と直交する平面内において該被検面の法
線方向と所定角度をなす方向から該被検面に前記平行光
を入射させるように行われており、 前記結像レンズが、前記平行光入射方向に配置されると
ともに、該結像レンズにより形成される略平行光束に球
面収差が生じるように構成されていることを特徴とする
表面形状測定装置。 - 【請求項２】 前記被検面となるべき前記被検体の表面
近傍に、前記被検面の細長形状と同一形状のスリットが
形成された遮蔽板が配置されていることを特徴とする請
求項１記載の表面形状測定装置。 - 【請求項３】 前記被検体支持手段による前記被検体の
支持が、該被検体を前記遮蔽板に対して前記スリットの
長手方向と直交する前記被検面に沿った方向に相対移動
させ得るように行われていることを特徴とする請求項２
記載の表面形状測定装置。 - 【請求項４】 前記平行光の光束内の所定位置に、干渉
縞形成用の基準板を配置し得るように構成されているこ
とを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の表面形状測
定装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27486495A JP3230963B2 (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 表面形状測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27486495A JP3230963B2 (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 表面形状測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0996514A JPH0996514A (ja) | 1997-04-08 |
| JP3230963B2 true JP3230963B2 (ja) | 2001-11-19 |
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ID=17547638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27486495A Expired - Fee Related JP3230963B2 (ja) | 1995-09-28 | 1995-09-28 | 表面形状測定装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3230963B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG98388A1 (en) * | 2000-05-13 | 2003-09-19 | Univ Nanyang | Testing of aspheric surfaces with a magneto-optic active compensator |
-
1995
- 1995-09-28 JP JP27486495A patent/JP3230963B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0996514A (ja) | 1997-04-08 |
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