JP3221350U - Touch glass structure - Google Patents

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Abstract

【課題】視認性を高め、光学特性を向上できるタッチガラス構造を提供する。【解決手段】ガラス基板１０の表面に第１感知層２０、第１絶縁層３０、第２感知層４０、信号配線層５０及び第２絶縁層６０を順次形成する。第１および第２の感知層に複数の感知シリーズが配置され、各感知シリーズは中空領域によって互いに分離絶縁されている。第１および第２絶縁層は、第１および第２感知層と整合する屈折率を有し、それぞれ、第１および第２感知層の中空領域に充填される。タッチガラス構造はさらに、中空領域の感知層材料をダミーパターンとして設置し、タッチガラス構造全体の光屈折率の均一性を改善する。また、ガラス基板の表面には、タッチガラス構造の光学特性を向上させるための調光層が設けられる。【選択図】図１To provide a touch glass structure capable of enhancing visibility and improving optical characteristics. A first sensing layer 20, a first insulating layer 30, a second sensing layer 40, a signal wiring layer 50, and a second insulating layer 60 are sequentially formed on the surface of a glass substrate 10. A plurality of sensing series are disposed in the first and second sensing layers, each sensing series being isolated and isolated from one another by the hollow region. The first and second insulating layers have refractive indices that match the first and second sensing layers and are filled in the hollow regions of the first and second sensing layers, respectively. The touch glass structure further places the sensing layer material in the hollow area as a dummy pattern to improve the uniformity of the photorefractive index across the touch glass structure. Moreover, the light control layer for improving the optical characteristic of a touch glass structure is provided in the surface of a glass substrate. [Selected figure] Figure 1

Description

本考案は、透明タッチガラス構造に関し、より詳細には、光学特性を向上させることができる透明静電容量方式タッチガラス構造に関する。   The present invention relates to a transparent touch glass structure, and more particularly, to a transparent capacitance touch glass structure capable of improving optical characteristics.

透明タッチパネルは、通常、電気機器の表示画面（Ｄｉｓｐｌａｙ）上で使用されるように構成されているので、ユーザは対話式入力操作を実行して、人と機械との間の通信インターフェースの親和性を改善し、入力操作の効率を改善することができる。
現在広く使用されているタッチパネルは動作原理と構造の違いにより、おおまかに抵抗式、電気容量式、赤外線式および超音波式等に分けられている。現今、主流の民生用電子製品のほとんどは、タッチ操作機能を強化し、シングルポイントセンサーの引っかき傷や破損により使用できないことを回避するために、マルチポイント信号感知機能を備えた容量センサーを使用している。周知のように、静電容量式タッチパネルは、主にＸ軸感知トレース（Ｘ-Ｔｒａｃｅ）とＹ軸感知トレース（Ｙ-Ｔｒａｃｅ）とを含む。その設置の形態に応じて、２つの構造に大別することができる。第１容量性タッチパネル構造は、２つの異なる平面上のＸ軸感知トレースとＹ軸感知トレースをそれぞれ絶縁することであり、第２容量性タッチパネル構造は、Ｘ軸感知トレースとＹ軸感知トレースを同じ平面上に配置され、軸検出トレースの1つはブリッジ構造によって接続されている。さらに、第１静電容量式タッチパネル構造は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）材料のような２層の絶縁体を有する透明導電膜を有する。また、導電膜の各層に必要な静電容量感知ユニットを設ける。すなわち、複数の静電容量式感知ユニットによって形成されるＸ軸感知トレースおよびＹ軸感知トレースは、通常、エッチングプロセスによって形成され、導電膜の不要な部分を除去して所望のＸ軸感知トレースおよびＹ軸感知トレースを形成する。また、絶縁を設置するために、感知トレース間に適切な幅の隙間を確保する。しかし、感知トレースが配置されている電極領域とエッチング除去材料の中空領域とは、導電膜上で異なる透過率を有するので、導電膜を通過する光は不均一に屈折する。この結果は、人間の目が観察するとき、明らかな模様またはテクスチャを引き起こし、特にそれがディスプレイスクリーンの前で使用されるとき、スクリーン画像の歪みおよびぼけ歪みを引き起こすのである。第２タイプの静電容量式タッチパネル構造は、透明導電膜上にマトリックス状に交叉配置された複数のＸ軸トレースおよびＹ軸トレースをパターニングするための静電容量感知ユニットである。そして、１つの軸方向トレース（例えばＸ軸トレース）上の各容量性感知ユニットを互いに接続し、他方の軸方向トレース（例えばＹ軸トレース）上のそれぞれの容量性感知ユニットを互いに間隔を維持して設置する。そして、間隔の上部にブロック状の絶縁膜を覆い、設置し、隣り合う２つの静電容量感知ユニットを導電線で接続する。同一の軸方向トレース上のそれぞれの容量性感知ユニットを互いに電気的に接続することにより、複数のＸ軸トレースおよびＹ軸トレースを導電膜の同一層に配置する。しかしながら、導電膜上の絶縁膜が設けられている部分の光透過率が低いため、導電膜を透過した光が不均一に屈折し、人間の目で観察するときには明らかな模様やテクスチャが発生され、画面表示の品質に支障をきたす。要約すると、従来の静電容量式タッチパネル構造は、不均一な光屈折のために模様またはテクスチャが発生することが知られており、これは克服すべきである。 Since the transparent touch panel is usually configured to be used on the display of the electrical device, the user can perform interactive input operations to achieve an affinity for the communication interface between man and machine To improve the efficiency of input operations.
Touch panels widely used at present are roughly divided into resistance type, capacitance type, infrared type, ultrasonic type and the like according to the operation principle and the difference in structure. Nowadays, most mainstream consumer electronics products use capacitive sensors with multi-point signal sensing to enhance touch operation and avoid being unusable due to scratching or breakage of single point sensors. ing. As well known, the capacitive touch panel mainly includes an X-axis sensing trace (X-Trace) and a Y-axis sensing trace (Y-Trace). It can be divided roughly into two structures according to the form of the installation. The first capacitive touch panel structure is to insulate the X-axis sensing trace and the Y-axis sensing trace on two different planes respectively, and the second capacitive touch panel structure is identical to the X-axis sensing trace and the Y-axis sensing trace Located on a plane, one of the axis detection traces is connected by a bridge structure. In addition, the first capacitive touch panel structure has a transparent conductive film with two layers of insulator such as indium tin oxide (ITO) material. Further, necessary capacitance sensing units are provided in each layer of the conductive film. That is, the X-axis sensing traces and the Y-axis sensing traces formed by the plurality of capacitive sensing units are typically formed by an etching process to remove unwanted portions of the conductive film to obtain the desired X-axis sensing traces and Form a Y-axis sensing trace. Also, ensure proper width gaps between the sensing traces to place the isolation. However, since the electrode area in which the sensing trace is disposed and the hollow area of the etching removal material have different transmittances on the conductive film, the light passing through the conductive film is refracted unevenly. The result is that when the human eye observes it causes a clear pattern or texture, especially when it is used in front of the display screen, it causes distortion and blurring of the screen image. The second type of capacitive touch panel structure is a capacitive sensing unit for patterning a plurality of X-axis traces and Y-axis traces which are cross-arranged in a matrix on a transparent conductive film. And connect each capacitive sensing unit on one axial trace (e.g. X-axis trace) to one another while keeping the respective capacitive sensing units on the other axial trace (e.g. Y-axis trace) spaced apart from each other Install. Then, a block-shaped insulating film is covered on the upper part of the interval, installed, and two adjacent capacitance sensing units are connected by conductive wires. A plurality of X-axis traces and Y-axis traces are placed in the same layer of conductive film by electrically connecting the respective capacitive sensing units on the same axial trace. However, since the light transmittance of the portion provided with the insulating film on the conductive film is low, the light transmitted through the conductive film is unevenly refracted, and a clear pattern or texture is generated when observed with a human eye. , It interferes with the quality of the screen display. In summary, conventional capacitive touch panel structures are known to generate patterns or textures due to non-uniform light refraction, which should be overcome.

本考案の目的は、視認性を高めるタッチガラス構造を提供することである。絶縁層上の絶縁材料は、屈折率（ＲＩ、屈折率）が感知層材料と合っている絶縁材料を絶縁層として用いて、感知層上の材料除去部分の空間内に充填される。そして、感知層の非容量感知ユニット領域をダミーパターン(Dｕｍｍｙ Pａｔｔｅｒｎ)に設置して、タッチガラス構造全体の屈折率の均一性を改善し、スクリーンに表示される画像を妨害する問題を改善する。   An object of the present invention is to provide a touch glass structure that enhances visibility. The insulating material on the insulating layer is filled in the space of the material removal portion on the sensing layer using the insulating material whose refractive index (RI, refractive index) matches the sensing layer material as the insulating layer. Then, the non-capacitive sensing unit area of the sensing layer is disposed on a dummy pattern to improve the uniformity of the refractive index of the entire touch glass structure and to solve the problem of disturbing the image displayed on the screen.

本考案の他の目的は、ぎらつきを低減し、光学特性を向上させることができるタッチガラス構造を提供することである。タッチガラス構造は調光層を有し、外部からの強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、高コントラスト比および画像表示性能の良好な視認性を達成することができる。   Another object of the present invention is to provide a touch glass structure that can reduce glare and improve optical characteristics. The touch glass structure has a light control layer, can suppress reflected light from strong light from the outside, can prevent glare, and can achieve high contrast ratio and good visibility of image display performance.

上記の目的を達成するために、本考案によって提供されるタッチガラス構造は、主にガラス基板の表面上に第１感知層、第１絶縁層、第２感知層、信号伝導層および第２絶縁層を順次形成する。ガラス基板は、ナトリウムケイ酸カルシウムガラス、ホウケイ酸ナトリウムガラス、鉛クリスタルガラス、アルミノシリケートガラス、低鉄ガラスなどの光透過率の高いガラス材料で形成することができるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。ガラス基板の表面の周縁領域には不透明なカラーフレームが配置され、カラーフレームにより、ガラス基板上において、周辺部に枠形状の遮蔽領域および中央部に可視領域を画定する。第１および第２感知層はすべて、高光透過率の導電性材料である、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛アルミニウム酸化物（ＡＺＯ）またはポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）などの材質の薄膜を使用するのである。第１感知層は、第１軸方向に沿って配置された複数の第１感知シリーズを有する。各々の第１感知シリーズは、中空領域によって互いに分離されることによって絶縁されており、第１オーバーラップ接点がその一端に設けられている。第２感知層は、第２軸方向に沿って配置された複数の第２感知シリーズを有し、各第２感知シリーズは中空領域によって互いに絶縁され、その一端に第２オーバーラップ接点が配置されている。第１および第２絶縁層は、第１および第２感知層と実質的に同じまたは類似の屈折率（ＲＩ）を有する透明絶縁材料からなる。例えば、例えば、シロキサン（Ｓｉｌｏｘａｎｅ）、エポキシ(Eｐｏｘｙ)、アクリル(Acrylic)などの高分子材料であるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。第１絶縁層には複数の貫通孔が形成され、貫通孔はそれぞれ複数の第１オーバーラップ接点に対応し、第１絶縁層は第１感知層の表面に配置され、絶縁材料は第１感知層の中空領域に充填される。第２絶縁層は、第２感知層の表面に配置され、絶縁材料を第２感知層の中空領域に充填される。信号配線層は、遮蔽領域の範囲内に配置され、複数の第１信号伝送線と複数の第２信号伝送線とを含む。それぞれの第１信号伝送線は貫通孔を介して第１オーバーラップ接点に電気的に接続され、第１信号伝送線の端部は第１信号出力接点に電気的に接続されている。それぞれの第２信号伝送線は第２オーバーラップ接点に電気的に接続され、第２信号伝送線は第２信号出力接点に電気的に接続されている。信号配線層は、金、銀、銅、アルミニウム、モリブデン、ニッケルなどの低抵抗電線材料、あるいはこれらの合金または銀ペースト印刷ラインなどであるが、使用される材料の種類は上述の実施範囲に限定されない。   In order to achieve the above object, the touch glass structure provided by the present invention mainly comprises a first sensing layer, a first insulating layer, a second sensing layer, a signal conducting layer and a second insulating layer on the surface of the glass substrate. The layers are formed sequentially. The glass substrate can be formed of a glass material with high light transmittance such as sodium calcium silicate glass, sodium borosilicate glass, lead crystal glass, aluminosilicate glass, low iron glass, but the range of implementation is the above-mentioned material It is not limited to. An opaque color frame is disposed in the peripheral region of the surface of the glass substrate, and the color frame defines a frame-shaped shielding area in the peripheral portion and a visible region in the central portion on the glass substrate. The first and second sensing layers are all conductive materials of high light transmittance, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc aluminum oxide (AZO) or polyethylenedioxythiophene (PEDOT) The thin film of materials such as) is used. The first sensing layer has a plurality of first sensing series disposed along the first axial direction. Each first sensing series is isolated by being separated from one another by a hollow area, and a first overlapping contact is provided at one end thereof. The second sensing layer has a plurality of second sensing series disposed along a second axial direction, each second sensing series being insulated from one another by the hollow region, and having a second overlapping contact at one end thereof ing. The first and second insulating layers are made of a transparent insulating material having substantially the same or similar refractive index (RI) as the first and second sensing layers. For example, although it is polymeric materials, such as a siloxane (Siloxane), an epoxy (Epoxy), an acryl (Acrylic), the implementation range is not limited to said material. A plurality of through holes are formed in the first insulating layer, the through holes respectively correspond to a plurality of first overlapping contacts, the first insulating layer is disposed on the surface of the first sensing layer, and the insulating material is the first sensing Fill in the hollow area of the layer. The second insulating layer is disposed on the surface of the second sensing layer, and the insulating material is filled in the hollow region of the second sensing layer. The signal wiring layer is disposed within the shielding area and includes a plurality of first signal transmission lines and a plurality of second signal transmission lines. Each first signal transmission line is electrically connected to the first overlap contact through the through hole, and an end of the first signal transmission line is electrically connected to the first signal output contact. Each second signal transmission line is electrically connected to a second overlap contact, and the second signal transmission line is electrically connected to a second signal output contact. The signal wiring layer is a low resistance wire material such as gold, silver, copper, aluminum, molybdenum, nickel, etc., or an alloy or silver paste printing line of these, etc., but the type of material used is limited to the above range. I will not.

第１感知シリーズの領域に含まれない第１感知層の導電性材料は、ダミーパターンとして設置される。第１感知層に含まれる、第１感知シリーズに含まれない範囲の導電性材料は、ダミーパターン(Dｕｍｍｙ Pａｔｔｅｒｎ)として設置される。ダミーパターンは、互いに接続されていない複数の小領域から構成されており、各小領域は互いに間隔を空けて絶縁され、配置されている。間隔の幅は２００μｍ以下が好ましく、間隔の幅は１００μｍ以下がより好ましい。小領域は、六角形、三角形、長方形、台形、ロングストリップ形、多角形、円形などの様々な幾何学的形状とすることができ、ダミーパターンは、１つまたは複数の幾何学的領域から構成することができる。   The conductive material of the first sensing layer not included in the area of the first sensing series is disposed as a dummy pattern. The conductive material in the range not included in the first sensing series, which is included in the first sensing layer, is disposed as a dummy pattern. The dummy pattern is composed of a plurality of small areas which are not connected to each other, and the small areas are spaced apart from each other, and are arranged. The width of the interval is preferably 200 μm or less, and the width of the interval is more preferably 100 μm or less. The subregions can be of various geometric shapes, such as hexagons, triangles, rectangles, trapezoids, long strips, polygons, circles, etc., and the dummy pattern consists of one or more geometric regions. can do.

ガラス基板の表面に配置された調光層をさらに含み、調光層は１つまたは複数の光学フィルムからなる。反射防止フィルム、霧化フィルム、偏光フィルムまたは位相差フィルムなどからなる１つまたは２つ以上のフィルム積層体の組み合わせから選択して使用されるが、実施の範囲は上記フィルムの種類に限定されない。   The light control layer may further comprise a light control layer disposed on the surface of the glass substrate, the light control layer comprising one or more optical films. Although it selects and uses from the combination of one or more film laminated bodies which consist of an anti-reflective film, an atomization film, a polarizing film, retardation film, etc., the implementation scope is not limited to the kind of said film.

本考案はタッチガラス構造全体の屈折率の均一性を向上し、画面に表示される画像との干渉を改善できる。また、本考案は、調光層の配置を利用して光束損失および光散乱干渉を減少させ、外部の強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、高コントラスト比および画像表示性能の良好な視認性を達成することができる。   The present invention can improve the uniformity of the refractive index of the entire touch glass structure and improve the interference with the image displayed on the screen. In addition, the present invention utilizes the arrangement of the light control layer to reduce the light flux loss and the light scattering interference, to suppress the reflected light by the strong external light, to prevent glare, and to achieve high contrast ratio and image display performance. Good visibility can be achieved.

本考案の積層構造体の構成要素分離図である。It is a component isolation view of the laminated structure of this invention. 本考案の構成要素組み合わせの平面図である。It is a top view of the component combination of this invention. 本考案図２のＡ−Ａ部分の側面断面図である。FIG. 3 is a side cross-sectional view of part A-A of FIG. 本考案図２のＢ−Ｂ部分の側面断面図である。FIG. 3 is a side cross-sectional view of a portion B-B of FIG. 本考案第１感知層の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a first sensing layer of the present invention. ダミーパターンの設置を説明する図５のＣ部拡大図である。It is the C section enlarged view of FIG. 5 explaining installation of a dummy pattern.

図１から図６までに示すように、本考案の好ましい実施形態によるタッチガラス構造は、順次にガラス基板１０と、第１感知層２０と、第１絶縁層３０と、第２感知層４０と、信号配線層５０と、第２絶縁層６０とを含む。ガラス基板１０は、機械的強度に優れた高透過率ガラス薄板であり、例えば屈折率（ＲＩ）が１．５程度のナトリウムケイ酸カルシウムガラスが選択される。ガラス基板１０の表面の周縁領域には、不透明なカラーフレーム１１が設けられており、カラーフレーム１１は絶縁材料からなる薄膜層である。絶縁材料は、インクまたはフォトレジストなどの材料から形成することができ、印刷またはコーティングなどの技術的手段を実行することによってガラス基板１０の表面に絶縁材料を配置することができるが、実施形態はこれに限定されない。カラーフレーム１１を用いてガラス基板１０上の周縁部にフレーム状の遮蔽領域１１ａと中央部に可視領域１１ｂとを画定する。また、ガラス基板１０の表面には調光層１２がさらに設けられており、調光層１２は１層以上の光学薄膜からなる。調光層１２の構成は任意であり、タッチパネルの使用状況に応じて調整、変更することができ、タッチパネルによる画像表示効果を向上させることができる。例えば、調光層１２は、反射防止膜(Ａｎｔｉ-Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｃｏａｔｉｎｇ)を用いた場合に、光の反射を低減し、可視光の透過率を高める表面光学の塗膜である。散乱光を減らして光束損失と光散乱干渉を減らすことでコントラストを改善することができる。調光層１２は偏光フィルムを使用することもでき、それによって屋外のユ−ザーはまぶしく感じることなくタッチパネルを通して表示される画像をはっきり見ることができる。調光層１２が霧化膜であると、光の反射を少なくして画像表示を妨げることがある。   As shown in FIGS. 1 to 6, the touch glass structure according to a preferred embodiment of the present invention comprises a glass substrate 10, a first sensing layer 20, a first insulating layer 30, and a second sensing layer 40 in sequence. , A signal wiring layer 50, and a second insulating layer 60. The glass substrate 10 is a high transmittance glass thin plate excellent in mechanical strength, and, for example, sodium calcium silicate glass having a refractive index (RI) of about 1.5 is selected. In the peripheral region of the surface of the glass substrate 10, an opaque color frame 11 is provided, and the color frame 11 is a thin film layer made of an insulating material. The insulating material can be formed from a material such as ink or photoresist, and the insulating material can be disposed on the surface of the glass substrate 10 by performing technical means such as printing or coating, but the embodiment is It is not limited to this. A frame-like shielded area 11a is defined at the periphery of the glass substrate 10 using a color frame 11, and a visible area 11b is defined at the center. Moreover, the light control layer 12 is further provided in the surface of the glass substrate 10, and the light control layer 12 consists of an optical thin film of one or more layers. The configuration of the light control layer 12 is arbitrary, and can be adjusted and changed in accordance with the use situation of the touch panel, and the image display effect by the touch panel can be improved. For example, the light control layer 12 is a coating film of surface optics that reduces the reflection of light and enhances the transmittance of visible light when using an anti-reflection coating. Contrast can be improved by reducing scattered light and reducing flux loss and light scattering interference. The light control layer 12 can also use a polarizing film, which allows the outdoor user to clearly see the image displayed through the touch panel without feeling dazzling. When the light control layer 12 is an atomized film, the reflection of light may be reduced to hinder image display.

図５に示すように、第１感知層２０は、屈折率がＲＩ≒１．５４のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）のような高透過率の導電性材料でできている。第１感知層２０は、ガラス基板の可視領域１１ｂに配置されたＸ軸方向感知層であり、複数列の第１感知シリーズ２１（すなわちＸ軸方向感知シリーズ）を含む。各第１感知シリーズ２１は、第１方向（Ｘ軸方向）に沿って一列に配列された複数の菱形の第１容量感知ユニット２１ａからなる。第１感知シリーズ２１の各列の一端には、第１オーバーラップ接点２１ｂが設けられている。また、第１感知層２０の非第１感知シリーズ２１に含まれる領域の導電材料をダミーパターンとし（図６参照）、ダミーパターンは、互いに接続されていない複数の多角形の小領域２２ａからなる。各多角形小領域は、幅が約５０μｍで深さが第１感知層２０を完全に遮断するように設定された隙間２２ｂによって互いに絶縁されている。ダミーパターンの設定は、第１感知層の平坦性および光透過率の均一性を向上させるために使用され、領域を細かく分割する方法により、その領域のノイズ容量値を減少させて優れた電気特性を得ることができる。   As shown in FIG. 5, the first sensing layer 20 is made of a highly transmissive conductive material such as indium tin oxide (ITO), which has a refractive index RIRI1.54. The first sensing layer 20 is an X-axis direction sensing layer disposed in the visible region 11b of the glass substrate, and includes a plurality of rows of first sensing series 21 (ie, X-axis orientation sensing series). Each first sensing series 21 comprises a plurality of diamond shaped first capacitive sensing units 21a arranged in a line along a first direction (X-axis direction). At one end of each row of the first sensing series 21, a first overlap contact 21b is provided. In addition, the conductive material of the region included in the non-first sensing series 21 of the first sensing layer 20 is a dummy pattern (see FIG. 6), and the dummy pattern is composed of a plurality of polygonal small regions 22a not connected to each other. . Each small polygon area is mutually isolated by a gap 22b of about 50 μm wide and a depth set to completely block the first sensing layer 20. The setting of the dummy pattern is used to improve the flatness of the first sensing layer and the uniformity of the light transmittance, and the method of finely dividing the area reduces the noise capacitance value of the area to obtain excellent electric characteristics. You can get

第１絶縁層３０は、優れた絶縁特性を有し、第１の感知層２０と実質的に同一または類似の屈折率を有する絶縁材料、例えば屈折率ＲＩ≒１．５３を使用するシロキサンポジ型透明コーティング材料である。第１絶縁層３０は、第１感知層２０の表面に配置され、第１感知層２０の隙間２２ｂで絶縁材料を満たして感知層の屈折率の均一性を高める。また、第１絶縁層には複数の貫通孔３１が設けられており、貫通孔３１は第１オーバーラップ接点２１ｂにそれぞれ対応している。   The first insulating layer 30 has an excellent insulating property, and is an insulating material having a refractive index substantially the same as or similar to that of the first sensing layer 20, for example, a siloxane positive type using a refractive index RI ≒ 1.53. It is a transparent coating material. The first insulating layer 30 is disposed on the surface of the first sensing layer 20, and the insulating material is filled with the gaps 22b of the first sensing layer 20 to increase the uniformity of the refractive index of the sensing layer. Further, a plurality of through holes 31 are provided in the first insulating layer, and the through holes 31 correspond to the first overlap contacts 21 b respectively.

第２感知層４０は、第１感知層２０と同じであり、屈折率ＲＩ≒１．５４を有するインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）のような高透過率導電材料から選択される。第２感知層４０は、ガラス基板の可視領域１１ｂに配置されたＹ軸感知層であり、複数列の第２感知シリーズ４１（すなわち、Ｙ軸方向感知シリーズ）を含む。各第１感知シリーズ４１は、中空領域４２によって互いに分離されて絶縁されている。各第２感知シリーズ４１は、第２方向（Ｙ軸方向）に沿って並ぶ複数の菱形の第２容量感知ユニット４１ａから構成されている。第２感知シリーズ４１の各列の一端には、第２オーバーラップ接点が設けられている。   The second sensing layer 40 is the same as the first sensing layer 20 and is selected from a high transmittance conductive material such as indium tin oxide (ITO) having a refractive index RI ≒ 1.54. The second sensing layer 40 is a Y-axis sensing layer disposed in the visible region 11b of the glass substrate, and includes a plurality of rows of second sensing series 41 (ie, Y-axis direction sensing series). Each first sensing series 41 is separated and isolated from one another by a hollow area 42. Each second sensing series 41 is composed of a plurality of rhombic second capacitance sensing units 41 a arranged along the second direction (Y-axis direction). At one end of each row of the second sensing series 41, a second overlap contact is provided.

信号配線層５０は、アルミニウムまたはモリブデンからなる線材などの低抵抗導電線材である。信号配線層５０は、ガラス基板１０の遮蔽領域１１ａ内に配置され、複数の第１信号伝送線５１（Ｘ軸方向感知信号伝送線）と複数の第２信号伝送線５２（Ｙ軸方向感知信号伝送線）とを含む。第１信号伝送線５１は、第１絶縁膜上の貫通孔３１を介して第１感知シリーズの第１オーバーラップ接点２１ｂに電気的に接続することができる。そして、第１信号伝送線５１の端部は、第１信号出力接点５１ａに電気的に接続されている。各第２信号伝送線５２はそれぞれ第２感知シリーズの第２オーバーラップ接点４１ｂに電気的に接続され、第２信号伝送線５２は第２信号出力接点５２ａに電気的に接続される。第１および第２信号出力接点５１ａ、５２ａは、演算のためにタッチ信号を信号処理回路（図示せず）に伝送するために信号配線（図示せず）に電気的に接続することができる。   The signal wiring layer 50 is a low resistance conductive wire such as a wire made of aluminum or molybdenum. The signal wiring layer 50 is disposed in the shielded area 11a of the glass substrate 10, and includes a plurality of first signal transmission lines 51 (X-axis direction sensing signal transmission lines) and a plurality of second signal transmission lines 52 (Y-axis direction sensing signals). Transmission line). The first signal transmission line 51 can be electrically connected to the first overlap contact 21b of the first sensing series via the through hole 31 on the first insulating film. The end of the first signal transmission line 51 is electrically connected to the first signal output contact 51a. Each second signal transmission line 52 is electrically connected to the second overlap contact 41b of the second sensing series, and the second signal transmission line 52 is electrically connected to the second signal output contact 52a. The first and second signal output contacts 51a, 52a can be electrically connected to signal lines (not shown) for transmitting touch signals to a signal processing circuit (not shown) for operation.

第２絶縁層６０は、上述した第１絶縁層３０と同じであり、絶縁性に優れ、第１及び第２感知層２０、４０と実質同一又は類似の屈折率を有する絶縁材料からなる。例えば、ＲＩ≒１．５３の屈折率を使用するオキサンポジ型透明コーティング材料である。第２絶縁層６０は第２感知層４０の表面に配置され、絶縁材料は第２感知層４０の非第２感知シリーズ４１に含まれる中空領域４２に充填されて感知層の光屈折率の均一性を高める。さらに、強靭性の強い透明薄膜を第２絶縁層６０に選択的に配置することができ、強靭な透明薄膜のカバーにより、タッチ感知回路を保護し、ガラス防爆構造を形成する目的を達する。強靭な透明フィルムの材料は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフルオレン（ＰＳＦ）、ポリエーテルオキシム（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ /ＣＯＰ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、ビニル系樹脂、トリビニルセルロース（ＴＡＣ）などから選択することができるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。   The second insulating layer 60 is the same as the first insulating layer 30 described above, is excellent in insulation, and is made of an insulating material having substantially the same or similar refractive index as the first and second sensing layers 20 and 40. For example, a positive electrode positive type transparent coating material using a refractive index of RI ≒ 1.53. The second insulating layer 60 is disposed on the surface of the second sensing layer 40, and the insulating material is filled in the hollow regions 42 included in the non-second sensing series 41 of the second sensing layer 40 to make the photorefractive index of the sensing layer uniform. Enhance sex. Furthermore, a tough transparent thin film can be selectively disposed on the second insulating layer 60, and a tough transparent thin film cover protects the touch sensing circuit and achieves the purpose of forming a glass explosion-proof structure. Materials for tough transparent films are polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyetheretherketone (PEEK), polyfluorene (PSF), polyetheroxime (PES) ), Polycarbonate (PC), cycloolefin copolymer (COC / COP), polyamide, polyimide, acrylic resin, vinyl resin, trivinyl cellulose (TAC), etc. It is not limited.

本考案によれば、一致する屈折率を有する第１感知層２０、第１絶縁層３０、第２感知層４０、および第２絶縁層６０を使用することによって、第１感知層２０の隙間２２ｂに第１絶縁層３０の絶縁材料を充填し、第２感知層４０の中空領域４２に第２絶縁層６０の絶縁材料を充填する。これにより、第１および第２感知層２０、４０の屈折率の均一性が改善されて、タッチガラス構造全体の光学特性が向上する。また、前述の絶縁材料を隙間２２ｂに充填して第１絶縁層３０を平坦面に形成する。第２感知層４０は、導電性薄膜層の破損を回避するために平坦な表面上に重ねられ、その結果、信号伝送中断（ＯＰＥＮ）現象が生じる。さらに、本考案は、調光層１２の配置を利用して光束損失および光散乱干渉を減少させ、外部の強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、タッチガラス構造の視認性を改善することができる。   According to the present invention, by using the first sensing layer 20, the first insulating layer 30, the second sensing layer 40, and the second insulating layer 60 having the matching refractive index, the gap 22b of the first sensing layer 20 is obtained. The first insulating layer 30 is filled with the insulating material, and the hollow region 42 of the second sensing layer 40 is filled with the insulating material of the second insulating layer 60. This improves the uniformity of the refractive index of the first and second sensing layers 20, 40 and improves the optical properties of the entire touch glass structure. Further, the insulating material described above is filled in the gap 22 b to form the first insulating layer 30 on a flat surface. The second sensing layer 40 is superimposed on a flat surface to avoid breakage of the conductive thin film layer, resulting in signal transmission interruption (OPEN) phenomenon. Furthermore, the present invention utilizes the arrangement of the light control layer 12 to reduce light flux loss and light scattering interference, suppress reflected light by strong external light, prevent glare, and improve the visibility of the touch glass structure. It can be improved.

本考案は、添付の図面および実施形態を参照して十分に記載されているが、前述の実施形態はさらなる説明の目的のためだけのものであり、そして本考案の実施形態は記載によって限定されない。 添付の実用新案請求の範囲によって定義されるように、様々な変更および修正が本考案の範囲内含まれることは理解されるべきである。   While the present invention is fully described with reference to the accompanying drawings and embodiments, the foregoing embodiments are for the purpose of further illustration only, and the embodiments of the present invention are not limited by the description. . It should be understood that various changes and modifications are included within the scope of the present invention, as defined by the appended claims.

１０ガラス基板
１１カラーフレーム
１１a遮蔽領域
１１b可視領域
１２調光層
２０第１感知層
２１第１感知シリーズ
２１a第１容量感知ユニット
２１b第１オーバーラップ接点
２２a多角形の小領域
２２b隙間
２４第１信号伝送線
３０第１絶縁層
３１貫通孔
４０第２感知層
４１第２感知シリーズ
４１a第２容量感知ユニット
４１b第２オーバーラップ接点
４２中空領域
５０信号配線層
５１第１信号伝送線
５１a第１信号出力接点
５２第２信号伝送線
６０第２絶縁層 10 glass substrate 11 color frame 11a shielding area 11b visible area 12 light control layer 20 first sensing layer 21 first sensing series 21a first capacitance sensing unit 21b first overlap contact 22a polygonal small area 22b gap 24 first signal Transmission line 30 first insulating layer 31 through hole 40 second sensing layer 41 second sensing series 41 a second capacitance sensing unit 41 b second overlap contact 42 hollow area 50 signal wiring layer 51 first signal transmission line 51 a first signal output Contact 52 second signal transmission line 60 second insulating layer

本考案は、透明タッチガラス構造に関し、より詳細には、光学特性を向上させることができる透明静電容量方式タッチガラス構造に関する。   The present invention relates to a transparent touch glass structure, and more particularly, to a transparent capacitance touch glass structure capable of improving optical characteristics.

透明タッチパネルは、通常、電気機器の表示画面（Ｄｉｓｐｌａｙ）上で使用されるように構成されているので、ユーザは対話式入力操作を実行して、人と機械との間の通信インターフェースの親和性を改善し、入力操作の効率を改善することができる。
現在広く使用されているタッチパネルは動作原理と構造の違いにより、おおまかに抵抗式、電気容量式、赤外線式および超音波式等に分けられている。現今、主流の民生用電子製品のほとんどは、タッチ操作機能を強化し、シングルポイントセンサーの引っかき傷や破損により使用できないことを回避するために、マルチポイント信号感知機能を備えた容量センサーを使用している。周知のように、静電容量式タッチパネルは、主にＸ軸感知トレース（Ｘ-Ｔｒａｃｅ）とＹ軸感知トレース（Ｙ-Ｔｒａｃｅ）とを含む。その設置の形態に応じて、２つの構造に大別することができる。第１容量性タッチパネル構造は、２つの異なる平面上のＸ軸感知トレースとＹ軸感知トレースをそれぞれ絶縁することであり、第２容量性タッチパネル構造は、Ｘ軸感知トレースとＹ軸感知トレースを同じ平面上に配置され、軸検出トレースの1つはブリッジ構造によって接続されている。さらに、第１静電容量式タッチパネル構造は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）材料のような２層の絶縁体を有する透明導電膜を有する。また、導電膜の各層に必要な静電容量感知ユニットを設ける。すなわち、複数の静電容量式感知ユニットによって形成されるＸ軸感知トレースおよびＹ軸感知トレースは、通常、エッチングプロセスによって形成され、導電膜の不要な部分を除去して所望のＸ軸感知トレースおよびＹ軸感知トレースを形成する。また、絶縁を設置するために、感知トレース間に適切な幅の隙間を確保する。しかし、感知トレースが配置されている電極領域とエッチング除去材料の中空領域とは、導電膜上で異なる透過率を有するので、導電膜を通過する光は不均一に屈折する。この結果は、人間の目が観察するとき、明らかな模様またはテクスチャを引き起こし、特にそれがディスプレイスクリーンの前で使用されるとき、スクリーン画像の歪みおよびぼけ歪みを引き起こすのである。第２タイプの静電容量式タッチパネル構造は、透明導電膜上にマトリックス状に交叉配置された複数のＸ軸トレースおよびＹ軸トレースをパターニングするための静電容量感知ユニットである。そして、１つの軸方向トレース（例えばＸ軸トレース）上の各容量性感知ユニットを互いに接続し、他方の軸方向トレース（例えばＹ軸トレース）上のそれぞれの容量性感知ユニットを互いに間隔を維持して設置する。そして、間隔の上部にブロック状の絶縁膜を覆い、設置し、隣り合う２つの静電容量感知ユニットを導電線で接続する。同一の軸方向トレース上のそれぞれの容量性感知ユニットを互いに電気的に接続することにより、複数のＸ軸トレースおよびＹ軸トレースを導電膜の同一層に配置する。しかしながら、導電膜上の絶縁膜が設けられている部分の光透過率が低いため、導電膜を透過した光が不均一に屈折し、人間の目で観察するときには明らかな模様やテクスチャが発生され、画面表示の品質に支障をきたす。要約すると、従来の静電容量式タッチパネル構造は、不均一な光屈折のために模様またはテクスチャが発生することが知られており、これは克服すべきである。 Since the transparent touch panel is usually configured to be used on the display of the electrical device, the user can perform interactive input operations to achieve an affinity for the communication interface between man and machine To improve the efficiency of input operations.
Touch panels widely used at present are roughly divided into resistance type, capacitance type, infrared type, ultrasonic type and the like according to the operation principle and the difference in structure. Nowadays, most mainstream consumer electronics products use capacitive sensors with multi-point signal sensing to enhance touch operation and avoid being unusable due to scratching or breakage of single point sensors. ing. As well known, the capacitive touch panel mainly includes an X-axis sensing trace (X-Trace) and a Y-axis sensing trace (Y-Trace). It can be divided roughly into two structures according to the form of the installation. The first capacitive touch panel structure is to insulate the X-axis sensing trace and the Y-axis sensing trace on two different planes respectively, and the second capacitive touch panel structure is identical to the X-axis sensing trace and the Y-axis sensing trace Located on a plane, one of the axis detection traces is connected by a bridge structure. In addition, the first capacitive touch panel structure has a transparent conductive film with two layers of insulator such as indium tin oxide (ITO) material. Further, necessary capacitance sensing units are provided in each layer of the conductive film. That is, the X-axis sensing traces and the Y-axis sensing traces formed by the plurality of capacitive sensing units are typically formed by an etching process to remove unwanted portions of the conductive film to obtain the desired X-axis sensing traces and Form a Y-axis sensing trace. Also, ensure proper width gaps between the sensing traces to place the isolation. However, since the electrode area in which the sensing trace is disposed and the hollow area of the etching removal material have different transmittances on the conductive film, the light passing through the conductive film is refracted unevenly. The result is that when the human eye observes it causes a clear pattern or texture, especially when it is used in front of the display screen, it causes distortion and blurring of the screen image. The second type of capacitive touch panel structure is a capacitive sensing unit for patterning a plurality of X-axis traces and Y-axis traces which are cross-arranged in a matrix on a transparent conductive film. And connect each capacitive sensing unit on one axial trace (e.g. X-axis trace) to one another while keeping the respective capacitive sensing units on the other axial trace (e.g. Y-axis trace) spaced apart from each other Install. Then, a block-shaped insulating film is covered on the upper part of the interval, installed, and two adjacent capacitance sensing units are connected by conductive wires. A plurality of X-axis traces and Y-axis traces are placed in the same layer of conductive film by electrically connecting the respective capacitive sensing units on the same axial trace. However, since the light transmittance of the portion provided with the insulating film on the conductive film is low, the light transmitted through the conductive film is unevenly refracted, and a clear pattern or texture is generated when observed with a human eye. , It interferes with the quality of the screen display. In summary, conventional capacitive touch panel structures are known to generate patterns or textures due to non-uniform light refraction, which should be overcome.

本考案の目的は、視認性を高めるタッチガラス構造を提供することである。絶縁層上の絶縁材料は、屈折率（ＲＩ、屈折率）が感知層材料と合っている絶縁材料を絶縁層として用いて、感知層上の材料除去部分の空間内に充填される。そして、感知層の非容量感知ユニット領域をダミーパターン(Dｕｍｍｙ Pａｔｔｅｒｎ)に設置して、タッチガラス構造全体の屈折率の均一性を改善し、スクリーンに表示される画像を妨害する問題を改善する。   An object of the present invention is to provide a touch glass structure that enhances visibility. The insulating material on the insulating layer is filled in the space of the material removal portion on the sensing layer using the insulating material whose refractive index (RI, refractive index) matches the sensing layer material as the insulating layer. Then, the non-capacitive sensing unit area of the sensing layer is disposed on a dummy pattern to improve the uniformity of the refractive index of the entire touch glass structure and to solve the problem of disturbing the image displayed on the screen.

本考案の他の目的は、ぎらつきを低減し、光学特性を向上させることができるタッチガラス構造を提供することである。タッチガラス構造は調光層を有し、外部からの強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、高コントラスト比および画像表示性能の良好な視認性を達成することができる。   Another object of the present invention is to provide a touch glass structure that can reduce glare and improve optical characteristics. The touch glass structure has a light control layer, can suppress reflected light from strong light from the outside, can prevent glare, and can achieve high contrast ratio and good visibility of image display performance.

上記の目的を達成するために、本考案によって提供されるタッチガラス構造は、主にガラス基板の表面上に第１感知層、第１絶縁層、第２感知層、信号伝導層および第２絶縁層を順次形成する。ガラス基板は、ナトリウムケイ酸カルシウムガラス、ホウケイ酸ナトリウムガラス、鉛クリスタルガラス、アルミノシリケートガラス、低鉄ガラスなどの光透過率の高いガラス材料で形成することができるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。ガラス基板の表面の周縁領域には不透明なカラーフレームが配置され、カラーフレームにより、ガラス基板上において、周辺部に枠形状の遮蔽領域および中央部に可視領域を画定する。第１および第２感知層はすべて、高光透過率の導電性材料である、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛アルミニウム酸化物（ＡＺＯ）またはポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）などの材質の薄膜を使用するのである。第１感知層は、第１軸方向に沿って配置された複数の第１感知トレースを有する。各々の第１感知トレースは、中空領域によって互いに分離されることによって絶縁されており、第１オーバーラップ接点がその一端に設けられている。第２感知層は、第２軸方向に沿って配置された複数の第２感知トレースを有し、各第２感知トレースは中空領域によって互いに絶縁され、その一端に第２オーバーラップ接点が配置されている。第１および第２絶縁層は、第１および第２感知層と実質的に同じまたは類似の屈折率（ＲＩ）を有する透明絶縁材料からなる。例えば、シロキサン（Ｓｉｌｏｘａｎｅ）、エポキシ(Eｐｏｘｙ)、アクリル(Acrylic)などの高分子材料であるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。第１絶縁層には複数の貫通孔が形成され、貫通孔はそれぞれ複数の第１オーバーラップ接点に対応し、第１絶縁層は第１感知層の表面に配置され、絶縁材料は第１感知層の中空領域に充填される。第２絶縁層は、第２感知層の表面に配置され、絶縁材料を第２感知層の中空領域に充填される。信号配線層は、遮蔽領域の範囲内に配置され、複数の第１信号伝送線と複数の第２信号伝送線とを含む。それぞれの第１信号伝送線は貫通孔を介して第１オーバーラップ接点に電気的に接続され、第１信号伝送線の端部は第１信号出力接点に電気的に接続されている。それぞれの第２信号伝送線は第２オーバーラップ接点に電気的に接続され、第２信号伝送線は第２信号出力接点に電気的に接続されている。信号配線層は、金、銀、銅、アルミニウム、モリブデン、ニッケルなどの低抵抗電線材料、あるいはこれらの合金または銀ペースト印刷ラインなどであるが、使用される材料の種類は上述の実施範囲に限定されない。 In order to achieve the above object, the touch glass structure provided by the present invention mainly comprises a first sensing layer, a first insulating layer, a second sensing layer, a signal conducting layer and a second insulating layer on the surface of the glass substrate. The layers are formed sequentially. The glass substrate can be formed of a glass material with high light transmittance such as sodium calcium silicate glass, sodium borosilicate glass, lead crystal glass, aluminosilicate glass, low iron glass, but the range of implementation is the above-mentioned material It is not limited to. An opaque color frame is disposed in the peripheral region of the surface of the glass substrate, and the color frame defines a frame-shaped shielding area in the peripheral portion and a visible region in the central portion on the glass substrate. The first and second sensing layers are all conductive materials of high light transmittance, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc aluminum oxide (AZO) or polyethylenedioxythiophene (PEDOT) The thin film of materials such as) is used. The first sensing layer has a plurality of first sensing traces disposed along the first axial direction. Each first sensing trace is isolated by being separated from one another by a hollow area, and a first overlapping contact is provided at one end thereof. The second sensing layer has a plurality of second sensing traces disposed along a second axial direction, each second sensing trace being isolated from one another by the hollow region, and having a second overlapping contact disposed at one end thereof ing. The first and second insulating layers are made of a transparent insulating material having substantially the same or similar refractive index (RI) as the first and second sensing layers. For example, Shi Rokisan (Siloxane), epoxy (Epoxy), is a polymer material such as acrylic (Acrylic), the scope of implementation is not limited to the above materials. A plurality of through holes are formed in the first insulating layer, the through holes respectively correspond to a plurality of first overlapping contacts, the first insulating layer is disposed on the surface of the first sensing layer, and the insulating material is the first sensing Fill in the hollow area of the layer. The second insulating layer is disposed on the surface of the second sensing layer, and the insulating material is filled in the hollow region of the second sensing layer. The signal wiring layer is disposed within the shielding area and includes a plurality of first signal transmission lines and a plurality of second signal transmission lines. Each first signal transmission line is electrically connected to the first overlap contact through the through hole, and an end of the first signal transmission line is electrically connected to the first signal output contact. Each second signal transmission line is electrically connected to a second overlap contact, and the second signal transmission line is electrically connected to a second signal output contact. The signal wiring layer is a low resistance wire material such as gold, silver, copper, aluminum, molybdenum, nickel, etc., or an alloy or silver paste printing line of these, etc., but the type of material used is limited to the above range. I will not.

第１感知トレースの領域に含まれない第１感知層の導電性材料は、ダミーパターンとして設置される。第１感知層に含まれる、第１感知トレースに含まれない範囲の導電性材料は、ダミーパターン(Dｕｍｍｙ Pａｔｔｅｒｎ)として設置される。ダミーパターンは、互いに接続されていない複数の小領域から構成されており、各小領域は互いに間隔を空けて絶縁され、配置されている。間隔の幅は２００μｍ以下が好ましく、間隔の幅は１００μｍ以下がより好ましい。小領域は、六角形、三角形、長方形、台形、ロングストリップ形、多角形、円形などの様々な幾何学的形状とすることができ、ダミーパターンは、１つまたは複数の幾何学的領域から構成することができる。 The conductive material of the first sensing layer not included in the area of the first sensing trace is disposed as a dummy pattern. The conductive material in the range not included in the first sensing trace included in the first sensing layer is disposed as a dummy pattern. The dummy pattern is composed of a plurality of small areas which are not connected to each other, and the small areas are spaced apart from each other, and are arranged. The width of the interval is preferably 200 μm or less, and the width of the interval is more preferably 100 μm or less. The subregions can be of various geometric shapes, such as hexagons, triangles, rectangles, trapezoids, long strips, polygons, circles, etc., and the dummy pattern consists of one or more geometric regions. can do.

ガラス基板の表面に配置された調光層をさらに含み、調光層は１つまたは複数の光学フィルムからなる。反射防止フィルム、霧化フィルム、偏光フィルムまたは位相差フィルムなどからなる１つまたは２つ以上のフィルム積層体の組み合わせから選択して使用されるが、実施の範囲は上記フィルムの種類に限定されない。   The light control layer may further comprise a light control layer disposed on the surface of the glass substrate, the light control layer comprising one or more optical films. Although it selects and uses from the combination of one or more film laminated bodies which consist of an anti-reflective film, an atomization film, a polarizing film, retardation film, etc., the implementation scope is not limited to the kind of said film.

本考案はタッチガラス構造全体の屈折率の均一性を向上し、画面に表示される画像との干渉を改善できる。また、本考案は、調光層の配置を利用して光束損失および光散乱干渉を減少させ、外部の強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、高コントラスト比および画像表示性能の良好な視認性を達成することができる。   The present invention can improve the uniformity of the refractive index of the entire touch glass structure and improve the interference with the image displayed on the screen. In addition, the present invention utilizes the arrangement of the light control layer to reduce the light flux loss and the light scattering interference, to suppress the reflected light by the strong external light, to prevent glare, and to achieve high contrast ratio and image display performance. Good visibility can be achieved.

本考案の積層構造体の構成要素分離図である。It is a component isolation view of the laminated structure of this invention. 本考案の構成要素組み合わせの平面図である。It is a top view of the component combination of this invention. 本考案図２のＡ―Ａ部分の側面断面図である。FIG. 3 is a side cross-sectional view of part AA of FIG. 本考案図２のＢ―Ｂ部分の側面断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of a portion B-B of FIG. 本考案第１感知層の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a first sensing layer of the present invention. ダミーパターンの設置を説明する図５のＣ部拡大図である。It is the C section enlarged view of FIG. 5 explaining installation of a dummy pattern.

図１から図６までに示すように、本考案の好ましい実施形態によるタッチガラス構造は、順次にガラス基板１０と、第１感知層２０と、第１絶縁層３０と、第２感知層４０と、信号配線層５０と、第２絶縁層６０とを含む。ガラス基板１０は、機械的強度に優れた高透過率ガラス薄板であり、例えば屈折率（ＲＩ）が１．５程度のナトリウムケイ酸カルシウムガラスが選択される。ガラス基板１０の表面の周縁領域には、不透明なカラーフレーム１１が設けられており、カラーフレーム１１は絶縁材料からなる薄膜層である。絶縁材料は、インクまたはフォトレジストなどの材料から形成することができ、印刷またはコーティングなどの技術的手段を実行することによってガラス基板１０の表面に絶縁材料を配置することができるが、実施形態はこれに限定されない。カラーフレーム１１を用いてガラス基板１０上の周縁部にフレーム状の遮光領域１１ａと中央部に可視領域１１ｂとを画定する。また、ガラス基板１０の表面には調光層１２がさらに設けられており、調光層１２は１層以上の光学薄膜からなる。調光層１２の構成は任意であり、タッチパネルの使用状況に応じて調整、変更することができ、タッチパネルによる画像表示効果を向上させることができる。例えば、調光層１２は、反射防止膜(Ａｎｔｉ-Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｃｏａｔｉｎｇ)を用いた場合に、光の反射を低減し、可視光の透過率を高める表面光学の塗膜である。散乱光を減らして光束損失と光散乱干渉を減らすことでコントラストを改善することができる。調光層１２は偏光フィルムを使用することもでき、それによって屋外のユ−ザーはまぶしく感じることなくタッチパネルを通して表示される画像をはっきり見ることができる。調光層１２が霧化膜であると、光の反射を少なくして画像表示を妨げることがある。   As shown in FIGS. 1 to 6, the touch glass structure according to a preferred embodiment of the present invention comprises a glass substrate 10, a first sensing layer 20, a first insulating layer 30, and a second sensing layer 40 in sequence. , A signal wiring layer 50, and a second insulating layer 60. The glass substrate 10 is a high transmittance glass thin plate excellent in mechanical strength, and, for example, sodium calcium silicate glass having a refractive index (RI) of about 1.5 is selected. In the peripheral region of the surface of the glass substrate 10, an opaque color frame 11 is provided, and the color frame 11 is a thin film layer made of an insulating material. The insulating material can be formed from a material such as ink or photoresist, and the insulating material can be disposed on the surface of the glass substrate 10 by performing technical means such as printing or coating, but the embodiment is It is not limited to this. A frame-like light shielding area 11a is defined at the periphery of the glass substrate 10 using a color frame 11, and a visible area 11b is defined at the center. Moreover, the light control layer 12 is further provided in the surface of the glass substrate 10, and the light control layer 12 consists of an optical thin film of one or more layers. The configuration of the light control layer 12 is arbitrary, and can be adjusted and changed in accordance with the use situation of the touch panel, and the image display effect by the touch panel can be improved. For example, the light control layer 12 is a coating film of surface optics that reduces the reflection of light and enhances the transmittance of visible light when using an anti-reflection coating. Contrast can be improved by reducing scattered light and reducing flux loss and light scattering interference. The light control layer 12 can also use a polarizing film, which allows the outdoor user to clearly see the image displayed through the touch panel without feeling dazzling. When the light control layer 12 is an atomized film, the reflection of light may be reduced to hinder image display.

図５に示すように、第１感知層２０は、屈折率がＲＩ≒１．５４のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）のような高透過率の導電性材料でできている。第１感知層２０は、ガラス基板の可視領域１１ｂに配置されたＸ軸方向感知層であり、複数列の第１感知トレース２１（すなわちＸ軸方向感知トレース）を含む。各第１感知トレース２１は、第１方向（Ｘ軸方向）に沿って一列に配列された複数の菱形の第１容量感知ユニット２１ａからなる。第１感知トレース２１の各列の一端には、第１オーバーラップ接点２１ｂが設けられている。また、第１感知層２０の非第１感知トレース２１に含まれる領域の導電材料をダミーパターンとし（図６参照）、ダミーパターンは、互いに接続されていない複数の多角形の小領域２２ａからなる。各多角形小領域は、幅が約５０μｍで深さが第１感知層２０を完全に遮断するように設定された隙間２２ｂによって互いに絶縁されている。ダミーパターンの設定は、第１感知層の平坦性および光透過率の均一性を向上させるために使用され、領域を細かく分割する方法により、その領域のノイズ容量値を減少させて優れた電気特性を得ることができる。 As shown in FIG. 5, the first sensing layer 20 is made of a highly transmissive conductive material such as indium tin oxide (ITO), which has a refractive index RIRI1.54. The first sensing layer 20 is an X-axis direction sensing layer disposed in the visible region 11b of the glass substrate, and includes a plurality of rows of first sensing traces 21 (ie, X-axis direction sensing traces ). Each first sensing trace 21 comprises a plurality of diamond shaped first capacitive sensing units 21a arranged in a line along a first direction (X-axis direction). A first overlap contact 21 b is provided at one end of each column of the first sensing traces 21. In addition, the conductive material of the region included in the non-first sensing trace 21 of the first sensing layer 20 is a dummy pattern (see FIG. 6), and the dummy pattern is composed of a plurality of polygonal small regions 22a not connected to each other. . Each small polygon area is mutually isolated by a gap 22b of about 50 μm wide and a depth set to completely block the first sensing layer 20. The setting of the dummy pattern is used to improve the flatness of the first sensing layer and the uniformity of the light transmittance, and the method of finely dividing the area reduces the noise capacitance value of the area to obtain excellent electric characteristics. You can get

第１絶縁層３０は、優れた絶縁特性を有し、第１の感知層２０と実質的に同一または類似の屈折率を有する絶縁材料、例えば屈折率ＲＩ≒１．５３を使用するシロキサンポジ型透明コーティング材料である。第１絶縁層３０は、第１感知層２０の表面に配置され、第１感知層２０の隙間２２ｂで絶縁材料を満たして感知層の屈折率の均一性を高める。また、第１絶縁層には複数の貫通孔３１が設けられており、貫通孔３１は第１オーバーラップ接点２１ｂにそれぞれ対応している。   The first insulating layer 30 has an excellent insulating property, and is an insulating material having substantially the same or similar refractive index as the first sensing layer 20, for example, a siloxane positive type using a refractive index RI 屈折 1.53 It is a transparent coating material. The first insulating layer 30 is disposed on the surface of the first sensing layer 20, and the insulating material is filled with the gaps 22b of the first sensing layer 20 to increase the uniformity of the refractive index of the sensing layer. Further, a plurality of through holes 31 are provided in the first insulating layer, and the through holes 31 correspond to the first overlap contacts 21 b respectively.

第２感知層４０は、第１感知層２０と同じであり、屈折率ＲＩ≒１．５４を有するインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）のような高透過率導電材料から選択される。第２感知層４０は、ガラス基板の可視領域１１ｂに配置されたＹ軸感知層であり、複数列の第２感知トレース４１（すなわち、Ｙ軸方向感知トレース）を含む。各第１感知トレース４１は、中空領域４２によって互いに分離されて絶縁されている。各第２感知トレース４１は、第２方向（Ｙ軸方向）に沿って並ぶ複数の菱形の第２容量感知ユニット４１ａから構成されている。第２感知トレース４１の各列の一端には、第２オーバーラップ接点が設けられている。 The second sensing layer 40 is the same as the first sensing layer 20 and is selected from a high transmittance conductive material such as indium tin oxide (ITO) having a refractive index RI ≒ 1.54. The second sensing layer 40 is a Y-axis sensing layer disposed in the visible region 11b of the glass substrate, and includes a plurality of rows of second sensing traces 41 (i.e., Y-axis direction sensing traces ). Each first sensing trace 41 is separated and isolated from one another by a hollow region 42. Each second sensing trace 41 is composed of a plurality of rhombus-shaped second capacitance sensing units 41 a aligned along the second direction (Y-axis direction). At one end of each row of second sensing traces 41, a second overlapping contact is provided.

信号配線層５０は、アルミニウムまたはモリブデンからなる線材などの低抵抗導電線材である。信号配線層５０は、ガラス基板１０の遮蔽領域１１ａ内に配置され、複数の第１信号伝送線５１（Ｘ軸方向感知信号伝送線）と複数の第２信号伝送線５２（Ｙ軸方向感知信号伝送線）とを含む。第１信号伝送線５１は、第１絶縁膜上の貫通孔３１を介して第１感知トレースの第１オーバーラップ接点２１ｂに電気的に接続することができる。そして、第１信号伝送線５１の端部は、第１信号出力接点５１ａに電気的に接続されている。各第２信号伝送線５２はそれぞれ第２感知トレースの第２オーバーラップ接点４１ｂに電気的に接続され、第２信号伝送線５２は第２信号出力接点５２ａに電気的に接続される。第１および第２信号出力接点５１ａ、５２ａは、演算のためにタッチ信号を信号処理回路（図示せず）に伝送するために信号配線（図示せず）に電気的に接続することができる。 The signal wiring layer 50 is a low resistance conductive wire such as a wire made of aluminum or molybdenum. The signal wiring layer 50 is disposed in the shielded area 11a of the glass substrate 10, and includes a plurality of first signal transmission lines 51 (X-axis direction sensing signal transmission lines) and a plurality of second signal transmission lines 52 (Y-axis direction sensing signals). Transmission line). The first signal transmission line 51 can be electrically connected to the first overlap contact 21b of the first sensing trace through the through hole 31 on the first insulating film. The end of the first signal transmission line 51 is electrically connected to the first signal output contact 51a. Each second signal transmission line 52 is electrically connected to the second overlap contact 41b of the second sensing trace , and the second signal transmission line 52 is electrically connected to the second signal output contact 52a. The first and second signal output contacts 51a, 52a can be electrically connected to signal lines (not shown) for transmitting touch signals to a signal processing circuit (not shown) for operation.

第２絶縁層６０は、上述した第１絶縁層３０と同じであり、絶縁性に優れ、第１及び第２感知層２０、４０と実質同一又は類似の屈折率を有する絶縁材料からなる。例えば、ＲＩ≒１．５３の屈折率を使用するオキサンポジ型透明コーティング材料である。第２絶縁層６０は第２感知層４０の表面に配置され、絶縁材料は第２感知層４０の非第２感知トレース４１に含まれる中空領域４２に充填されて感知層の光屈折率の均一性を高める。さらに、強靭性の強い透明薄膜を第２絶縁層６０に選択的に配置することができ、強靭な透明薄膜のカバーにより、タッチ感知回路を保護し、ガラス防爆構造を形成する目的を達する。強靭な透明フィルムの材料は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリフルオレン（ＰＳＦ）、ポリエーテルオキシム（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ /ＣＯＰ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、ビニル系樹脂、トリビニルセルロース（ＴＡＣ）などから選択することができるが、実施の範囲は上記の材料に限定されない。 The second insulating layer 60 is the same as the first insulating layer 30 described above, is excellent in insulation, and is made of an insulating material having substantially the same or similar refractive index as the first and second sensing layers 20 and 40. For example, a positive electrode positive type transparent coating material using a refractive index of RI ≒ 1.53. The second insulating layer 60 is disposed on the surface of the second sensing layer 40, and the insulating material is filled in the hollow area 42 included in the non-second sensing trace 41 of the second sensing layer 40 to make the photorefractive index of the sensing layer uniform. Enhance sex. Furthermore, a tough transparent thin film can be selectively disposed on the second insulating layer 60, and a tough transparent thin film cover protects the touch sensing circuit and achieves the purpose of forming a glass explosion-proof structure. Materials for tough transparent films are polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyetheretherketone (PEEK), polyfluorene (PSF), polyetheroxime (PES) ), Polycarbonate (PC), cycloolefin copolymer (COC / COP), polyamide, polyimide, acrylic resin, vinyl resin, trivinyl cellulose (TAC), etc. It is not limited.

本考案によれば、一致する屈折率を有する第１感知層２０、第１絶縁層３０、第２感知層４０、および第２絶縁層６０を使用することによって、第１感知層２０の隙間２２ｂに第１絶縁層３０の絶縁材料を充填し、第２感知層４０の中空領域４２に第２絶縁層６０の絶縁材料を充填する。これにより、第１および第２感知層２０、４０の屈折率の均一性が改善されて、タッチガラス構造全体の光学特性が向上する。また、前述の絶縁材料を隙間２２ｂに充填して第１絶縁層３０を平坦面に形成する。第２感知層４０は、導電性薄膜層の破損を回避するために平坦な表面上に重ねられ、その結果、信号伝送中断（ＯＰＥＮ）現象が生じる。さらに、本考案は、調光層１２の配置を利用して光束損失および光散乱干渉を減少させ、外部の強い光による反射光を抑制し、ぎらつきを防止し、タッチガラス構造の視認性を改善することができる。   According to the present invention, by using the first sensing layer 20, the first insulating layer 30, the second sensing layer 40, and the second insulating layer 60 having the matching refractive index, the gap 22b of the first sensing layer 20 is obtained. The first insulating layer 30 is filled with the insulating material, and the hollow region 42 of the second sensing layer 40 is filled with the insulating material of the second insulating layer 60. This improves the uniformity of the refractive index of the first and second sensing layers 20, 40 and improves the optical properties of the entire touch glass structure. Further, the insulating material described above is filled in the gap 22 b to form the first insulating layer 30 on a flat surface. The second sensing layer 40 is superimposed on a flat surface to avoid breakage of the conductive thin film layer, resulting in signal transmission interruption (OPEN) phenomenon. Furthermore, the present invention utilizes the arrangement of the light control layer 12 to reduce light flux loss and light scattering interference, suppress reflected light by strong external light, prevent glare, and improve the visibility of the touch glass structure. It can be improved.

本考案は、添付の図面および実施形態を参照して十分に記載されているが、前述の実施形態はさらなる説明の目的のためだけのものであり、そして本考案の実施形態は記載によって限定されない。 添付の実用新案請求の範囲によって定義されるように、様々な変更および修正が本考案の範囲内含まれることは理解されるべきである。   While the present invention is fully described with reference to the accompanying drawings and embodiments, the foregoing embodiments are for the purpose of further illustration only, and the embodiments of the present invention are not limited by the description. . It should be understood that various changes and modifications are included within the scope of the present invention, as defined by the appended claims.

１０ガラス基板
１１カラーフレーム
１１a遮蔽領域
１１b可視領域
１２調光層
２０第１感知層
２１第１感知トレース
２１a第１容量感知ユニット
２１b第１オーバーラップ接点
２２a多角形の小領域
２２b隙間
２４第１信号伝送線
３０第１絶縁層
３１貫通孔
４０第２感知層
４１第２感知トレース
４１a第２容量感知ユニット
４１b第２オーバーラップ接点
４２中空領域
５０信号配線層
５１第１信号伝送線
５１a第１信号出力接点
５２第２信号伝送線
６０第２絶縁層 10 glass substrate 11 color frame 11a shielded area 11b visible area 12 light control layer 20 first sensing layer 21 first sensing trace 21a first capacitive sensing unit 21b first overlap contact 22a polygonal small area 22b gap 24 first signal Transmission line 30 first insulating layer 31 through hole 40 second sensing layer 41 second sensing trace 41a second capacitance sensing unit 41b second overlap contact 42 hollow area 50 signal wiring layer 51 first signal transmission line 51a first signal output Contact 52 second signal transmission line 60 second insulating layer

Claims (10)

一種のタッチガラス構造であり、ガラス基板と、第１感知層と、第１絶縁層と、第２感知層と、信号配線層と、第２絶縁層とを含み、
前記ガラス基板は、高透過率のガラス板であり、前記ガラス基板の表面の周縁部に不透明なカラーフレームを有し、前記カラーフレームは、前記ガラス基板上に画定されて周縁部上に枠形状の遮蔽領域および中央部に可視領域とを形成し、
前記第１感知層は、高透過率導電膜であり、前記第１感知層に第１軸方向に沿って配置された複数の第１感知シリーズを有し、前記各第１感知シリーズは中空領域によって互いに分離されて絶縁されており、その一端に第１オーバーラップ接点が設けられ、
前記第１絶縁層には、前記第１感知層と実質的に同じ屈折率を有し、複数の前記第１オーバーラップ接点にそれぞれ対応する複数の貫通孔が設けられ、前記第１絶縁層が前記第１感知層の表面上に配置され、絶縁材料が前記第１感知層の中空領域内に充填され、
前記第２感知層は、高透過率導電膜であり、前記第２感検知層に第２軸方向に沿って配置された複数の第２感知シリーズを有し、前記各第２感知シリーズの間は中空領域によって互いに分離されて絶縁されており、その一端に第２オーバーラップ接点が設けられ、
前記信号配線層は、前記遮蔽領域の範囲内に配置され、前記信号配線層は複数の第１信号伝送線と複数の第２信号伝送線とを含み、前記第１信号伝送線はそれぞれ前記貫通孔と前記第１オーバーラップ接点を通過し、電気的に接続され、前記第１信号伝送線の端部は第１信号出力接点に電気的に接続され、前記各第２信号伝送線は前記第２オーバーラップ接点にそれぞれ電気的に接続され、前記第２信号伝送線の端部は第２信号出力接点に電気的に接続され、
前記第２絶縁層は、前記第２感知層の屈折率と実質的に等しい屈折率を有し、前記第２感知層の表面上に配置され、絶縁材料は前記第２感知層の中空領域に充填されることを特徴とする、タッチガラス構造。 A kind of touch glass structure, which includes a glass substrate, a first sensing layer, a first insulating layer, a second sensing layer, a signal wiring layer, and a second insulating layer,
The glass substrate is a glass plate with high transmittance, and has an opaque color frame at the periphery of the surface of the glass substrate, and the color frame is defined on the glass substrate and has a frame shape on the periphery Form a occluded area and a visible area in the center
The first sensing layer is a high transmittance conductive film, and comprises a plurality of first sensing series disposed along the first axial direction in the first sensing layer, each first sensing series being a hollow region Separated and isolated from each other by a first overlapping contact at one end,
The first insulating layer is provided with a plurality of through holes each having a refractive index substantially the same as that of the first sensing layer and corresponding to each of the plurality of first overlap contacts, and the first insulating layer Disposed on the surface of the first sensing layer, an insulating material is filled into the hollow region of the first sensing layer;
The second sensing layer is a high transmittance conductive film, and has a plurality of second sensing series disposed along the second axial direction in the second sensing layer, and between each second sensing series Are separated and isolated from one another by a hollow region, provided at one end with a second overlapping contact,
The signal wiring layer is disposed in the range of the shielding area, and the signal wiring layer includes a plurality of first signal transmission lines and a plurality of second signal transmission lines, and the first signal transmission lines are respectively penetrated through And an electrical connection through the hole and the first overlap contact, wherein an end of the first signal transmission line is electrically connected to a first signal output contact, and each of the second signal transmission lines is And an end of the second signal transmission line is electrically connected to a second signal output contact.
The second insulating layer has a refractive index substantially equal to the refractive index of the second sensing layer and is disposed on the surface of the second sensing layer, the insulating material being in the hollow region of the second sensing layer A touch glass structure, characterized in that it is filled. 前記第１感知層および第２感知層の材料は、酸化インジウム錫、酸化インジウム亜鉛、酸化亜鉛アルミニウム、酸化アンチモン錫またはポリエチレンジオキシチオフェンから選択されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The material of the first sensing layer and the second sensing layer may be selected from indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc aluminum oxide, antimony tin oxide or polyethylenedioxythiophene. Touch glass structure. 前記第１絶縁層および第２絶縁層の材料は、シロキサン、エポキシ樹脂、およびアクリル樹脂のポリマー材料から選択されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The touch glass structure according to claim 1, wherein materials of the first insulating layer and the second insulating layer are selected from polymer materials of siloxane, epoxy resin, and acrylic resin. 前記信号配線層の材料は、金、銀、銅、アルミニウム、モリブデン、ニッケル、またはこれらの材料の合金、または銀ペースト印刷ラインから選択されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The touch glass according to claim 1, wherein the material of the signal wiring layer is selected from gold, silver, copper, aluminum, molybdenum, nickel, or an alloy of these materials, or a silver paste printing line. Construction. 前記カラーフレームは、インクまたはフォトレジストから選択された絶縁材料から形成された薄膜層であることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The touch glass structure according to claim 1, wherein the color frame is a thin film layer formed of an insulating material selected from ink or photoresist. 前記第１感知シリーズの領域に含まれていない前記第１感知層の導電材料はダミーパターンとして設置され、前記ダミーパターンは互いに接続されていない複数の小領域からなり、前記複数の小領域は、互いに間隔を空けて絶縁され、配置されていることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The conductive material of the first sensing layer not included in the region of the first sensing series is disposed as a dummy pattern, and the dummy pattern includes a plurality of small regions not connected to each other, the plurality of small regions being The touch glass structure according to claim 1, characterized in that they are spaced apart from each other and arranged. 前記間隔の幅は２００μｍ以下であることを特徴とする、請求項６に記載のタッチガラス構造。   The touch glass structure as claimed in claim 6, wherein the width of the gap is 200m or less. 前記小領域は、六角形、三角形、長方形、台形、ロングストリップ形、多角形、円形のうちの１つまたは１つ以上の前述の幾何学的領域からなることを特徴とする、請求項６に記載のタッチガラス構造。   The small area is characterized in that it comprises one or more of the aforementioned geometrical areas of hexagon, triangle, rectangle, trapezoid, long strip, polygon, circle. Touch glass structure as described. 前記ガラス基板の表面に調光層を設けることを特徴とする、請求項１に記載のタッチガラス構造。   The touch glass structure according to claim 1, wherein a light control layer is provided on the surface of the glass substrate. 前記調光層は、反射防止フィルム、霧化フィルム、偏光フィルム、位相差フィルムなどの光学フィルムから１つまたは複数の光学フィルム積層体の組み合わせから選択されることを特徴とする、請求項９に記載のタッチガラス構造。   The light control layer is selected from a combination of one or more optical film laminates from an optical film such as an antireflective film, an atomized film, a polarizing film, or a retardation film. Touch glass structure as described.
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