JP3205487U - Gas processing equipment - Google Patents

Gas processing equipment Download PDF

Info

Publication number
JP3205487U
JP3205487U JP2016002225U JP2016002225U JP3205487U JP 3205487 U JP3205487 U JP 3205487U JP 2016002225 U JP2016002225 U JP 2016002225U JP 2016002225 U JP2016002225 U JP 2016002225U JP 3205487 U JP3205487 U JP 3205487U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
exhaust gas
processing apparatus
gas processing
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2016002225U
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
芳信 林
芳信 林
裕之 片山
裕之 片山
徹 古谷
徹 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP2016002225U priority Critical patent/JP3205487U/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3205487U publication Critical patent/JP3205487U/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

【課題】排出ガスの固形物の影響を受けずに、排出ガスを処理する気体処理装置を提供する。【解決手段】気体処理装置1は、略円筒状の本体部10及び複数の板状部材20a〜20eを有する。板状部材20a〜20eは、放射線照射手段であり、放射性物質が固定されている。本体部10及び板状部材20a〜20eの保持基板は、例えば、アルミニウム合金で形成されている。気体処理装置1は、外部から空気を取り入れて、放射線の照射により空気中の分子を活性化し、活性化した分子を排出ガスの通路へ流入させるようになっている。【選択図】図1A gas processing apparatus for processing exhaust gas without being affected by solid matter of the exhaust gas is provided. A gas processing apparatus 1 includes a substantially cylindrical main body 10 and a plurality of plate-like members 20a to 20e. The plate-like members 20a to 20e are radiation irradiation means, and a radioactive substance is fixed thereto. The holding substrate for the main body 10 and the plate-like members 20a to 20e is made of, for example, an aluminum alloy. The gas processing apparatus 1 takes in air from the outside, activates molecules in the air by irradiation with radiation, and allows the activated molecules to flow into the exhaust gas passage. [Selection] Figure 1

Description

本考案は、内燃機関などの燃焼装置における排出ガスを処理する排出ガス処理装置に関する。   The present invention relates to an exhaust gas processing apparatus for processing exhaust gas in a combustion apparatus such as an internal combustion engine.

従来、触媒を用いて排出ガスを浄化する技術が提案されている(例えば、特許文献1)。
特許第5193922号公報
Conventionally, a technology for purifying exhaust gas using a catalyst has been proposed (for example, Patent Document 1).
Japanese Patent No. 5193922

上述の技術は、排出ガス中の固形物が通電発熱用ハニカム体に付着すると、効率が悪くなるという問題がある。   The above-described technique has a problem that the efficiency deteriorates when the solid matter in the exhaust gas adheres to the honeycomb body for heat generation.

本考案はかかる問題の解決を試みたものであり、排出ガスの固形物の影響を受けずに、排出ガスを処理する排出ガス処理装置の提供を目的とする。   The present invention is an attempt to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an exhaust gas processing apparatus that processes exhaust gas without being affected by solid matter of the exhaust gas.

第一の考案は、 気体が通過可能に構成されている気体処理装置であって、
前記気体に放射線を照射して、活性化するための放射線照射手段と、
排出ガスの通路への連絡通路と、
を有し、
前記放射線照射手段によって活性化した前記気体が前記連絡通路を経由して前記排出ガスの通路へ流入することによって、前記排出ガスを処理するようになっている気体処理装置である。
The first device is a gas processing device configured to allow gas to pass through.
Radiation irradiating means for irradiating and activating the gas; and
A passageway to the exhaust gas passageway;
Have
The gas processing apparatus is configured to process the exhaust gas when the gas activated by the radiation irradiation means flows into the exhaust gas passage through the communication passage.

第一の考案の構成によれば、気体処理装置は、活性化した気体を排出ガスの通路へ流入させることによって、排出ガスを処理する。すなわち、気体処理装置は、活性化した気体を介して排出ガスを処理するようになっている。このため、排出ガスの固形物の影響を受けずに、排出ガスを処理することができる。   According to the configuration of the first device, the gas processing device processes the exhaust gas by causing the activated gas to flow into the exhaust gas passage. That is, the gas processing apparatus processes exhaust gas through the activated gas. For this reason, the exhaust gas can be treated without being affected by the solid matter of the exhaust gas.

第二の考案は、第一の考案の構成において、前記放射線照射手段は、α線を放射するα線放射体で構成される気体処理装置である。   A second device is a gas processing apparatus according to the first device, wherein the radiation irradiating means is formed of an α-ray radiator that emits α-rays.

第三の考案は、第二の考案の構成において、放射線照射手段は、α線放射体が表面に付された板状部材であり、前記板状部材の主面は、前記処理用気体の流れ方向と平行に配置される気体処理装置である。   According to a third aspect of the present invention, in the configuration of the second aspect, the radiation irradiating means is a plate-like member having an α-ray emitter attached to the surface, and the main surface of the plate-like member is a flow of the processing gas. It is the gas processing apparatus arrange | positioned in parallel with a direction.

第四の考案は、第二の考案の構成において、前記放射線照射手段は、α線放射体が表面に付された網状部材であり、前記網状部材の網目の寸法は前記α線の飛翔距離によって規定される気体処理装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, in the configuration of the second aspect, the radiation irradiating means is a net-like member having an α-ray emitter attached to the surface, and the mesh size of the net-like member depends on the flight distance of the α-ray. It is a prescribed gas treatment device.

以上のように、本考案によれば、排出ガスの固形物の影響を受けずに、排出ガスを処理する。   As described above, according to the present invention, the exhaust gas is processed without being affected by the solid matter of the exhaust gas.

第一の実施形態の気体処理装置1の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the gas treatment apparatus 1 of 1st embodiment. 気体処理装置1の概略側面図、平面図及び底面図である。It is a schematic side view, a plan view, and a bottom view of the gas processing apparatus 1. 板状部材の一部を拡大して示す概略図である。It is the schematic which expands and shows a part of plate-shaped member. 板状部材の一部を拡大して示す概略図である。It is the schematic which expands and shows a part of plate-shaped member. 気体処理装置1の内部を示す概略図である。1 is a schematic view showing the inside of a gas processing apparatus 1. FIG. 気体処理装置1の使用例を示す概略図である。1 is a schematic view showing an example of use of a gas processing device 1. FIG. 気体処理装置1の使用例を示す概略図である。1 is a schematic view showing an example of use of a gas processing device 1. FIG. 第三の実施形態の放射線照射手段の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the radiation irradiation means of 3rd embodiment. 放射線照射手段の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of a radiation irradiation means. 第四の実施形態の気体処理装置1の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the gas treatment apparatus 1 of 4th embodiment.

本考案の実施形態を、図面を参照して説明する。なお、当業者が適宜実施できる構成については説明を省略し、本考案の基本的な構成についてのみ説明する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, description is abbreviate | omitted about the structure which those skilled in the art can implement suitably, and only the basic structure of this invention is demonstrated.

<第一の実施形態>
図1及び図2に示すように、気体処理装置1は、略円筒状の本体部10及び複数の板状部材20(20a,20b,20c,20d,20e)を有する。
板状部材20は、放射線照射手段の一例であり、放射性物質が固定されている。本体部10及び板状部材20の保持基板は、例えば、アルミニウム合金で形成されている。気体処理装置1は、外部から空気を取り入れて、放射線の照射により空気中の分子を活性化し、活性化した分子を排出ガスの通路へ流入させるようになっている。
<First embodiment>
As shown in FIG.1 and FIG.2, the gas processing apparatus 1 has the substantially cylindrical main-body part 10 and the some plate-shaped member 20 (20a, 20b, 20c, 20d, 20e).
The plate-like member 20 is an example of a radiation irradiating unit, and a radioactive substance is fixed thereto. The holding substrate for the main body 10 and the plate-like member 20 is made of, for example, an aluminum alloy. The gas processing apparatus 1 takes in air from the outside, activates molecules in the air by irradiation with radiation, and allows the activated molecules to flow into the exhaust gas passage.

図2(a)は気体処理装置1の側面図、図2(b)は気体処理装置1を図1の矢印Z1方向から見た平面図、図2(c)は気体処理装置1を図1の矢印Z1方向とは逆方向から見た底面図である。図2(c)に示すように、板状部材20は、本体部10の長さの略50%の長さを有し、板状部材20が存在しない部分は、排出ガスの通路への連絡通路10aとなっている。複数の板状部材20の間の空間は、気体が通過可能になっている。   2A is a side view of the gas processing apparatus 1, FIG. 2B is a plan view of the gas processing apparatus 1 viewed from the direction of the arrow Z1 in FIG. 1, and FIG. It is the bottom view seen from the direction opposite to the arrow Z1 direction. As shown in FIG. 2 (c), the plate-like member 20 has a length of about 50% of the length of the main body portion 10, and the portion where the plate-like member 20 does not exist communicates with the exhaust gas passage. It is a passage 10a. Gas can pass through the space between the plurality of plate-like members 20.

気体処理装置1における気体の通路は、複数の板状部材20によって、気体の流れ方向に分割されている。本実施形態では、板状部材20a,20b,20c,20d及び20eによって、空間が分割されている。分割された各空間が、気体の通路となる。   The gas passage in the gas processing apparatus 1 is divided by the plurality of plate-like members 20 in the gas flow direction. In the present embodiment, the space is divided by the plate-like members 20a, 20b, 20c, 20d, and 20e. Each divided space becomes a gas passage.

図3は、板状部材20aの一部を拡大して示す図である。板状部材20aの中心部材である保持基板20acは、アルミニウム合金等で形成されており、両側に無機質耐熱性接着剤の固定層20ad及び20aeが形成されている。接着剤は、例えば、スリーボンドファインケミカル株式会社の無機系耐熱接着剤TB3732である。なお、図3に示す構成は、他の板状部材20b等についても同様である。   FIG. 3 is an enlarged view showing a part of the plate-like member 20a. The holding substrate 20ac, which is a central member of the plate-like member 20a, is formed of an aluminum alloy or the like, and fixed layers 20ad and 20ae of an inorganic heat resistant adhesive are formed on both sides. The adhesive is, for example, an inorganic heat-resistant adhesive TB3732 from Three Bond Fine Chemical Co., Ltd. The configuration shown in FIG. 3 is the same for the other plate-like members 20b and the like.

板状部材20aの主面22aa及び22bbには、α線を放射する放射体である酸化トリウムを主体とする多数の微細な粉体(粒状体、非粒状体を含む)が固定層20ad及び20aeに固定されている。本実施形態の酸化トリウムの構成は、個々の粉体の直径が、9μm(マイクロメートル)以上10μmが約80重量%(パーセント)であり、1μm以上9μm以下が約15%であり、10μm以上12μm以下が約5%である。酸化トリウムの純度は、99.9999%である。燃焼用空気は、板状部材20aを通過する間、継続的にα線の照射を受けることができる。   On the main surfaces 22aa and 22bb of the plate-like member 20a, a large number of fine powders (including granular and non-granular) mainly composed of thorium oxide, which is an emitter that emits α rays, are fixed layers 20ad and 20ae. It is fixed to. The configuration of thorium oxide of this embodiment is that the diameter of each powder is about 80% by weight (percent) of 9 μm (micrometer) or more and 10 μm, about 15% of 1 μm or more and 9 μm or less, and 10 μm or more and 12 μm. The following is about 5%. The purity of thorium oxide is 99.9999%. The combustion air can be continuously irradiated with α rays while passing through the plate-like member 20a.

粉体50及び52は、粉体の形状を模擬的に示したものである。矢印Z1として示す主面22aと垂直な方向における高さを、粉体50及び52の高さh1とする。   The powders 50 and 52 simulate the shape of the powder. The height in the direction perpendicular to the main surface 22a indicated by the arrow Z1 is the height h1 of the powders 50 and 52.

図4に示すように、粉体50は、全体の高さh1の一部である高さh2だけ、固定層20adに接しつつ埋没し、固定されている。本実施形態において、粉体全体の50重量%(パーセント)以上について、個々の粒体または粉体の固定層20adに埋没している部分の高さh2の粉体の高さh1に対する比率H1(h2/h1)は、0.08以上0.70以下である。本考案の考案者は、比率H1が上記の数値範囲にあるとき、各粉体を固定層に固定でき、しかも、固定層から露出する部分が大きいから、効果的にα線を照射できることを見出した。粉体の固定を確実にしつつ、α線を効果的に照射する観点では、比率H1は、0.10以上0.60以下、さらに、0.10以上0.30以下であることが望ましい。   As shown in FIG. 4, the powder 50 is buried and fixed in contact with the fixed layer 20ad by a height h2, which is a part of the overall height h1. In the present embodiment, the ratio H1 of the height h2 of the portion embedded in the fixed layer 20ad of each granule or powder with respect to 50% by weight (percent) or more of the entire powder with respect to the height h1 of the powder H1 ( h2 / h1) is not less than 0.08 and not more than 0.70. The inventor of the present invention has found that when the ratio H1 is in the above numerical range, each powder can be fixed to the fixed layer, and since the portion exposed from the fixed layer is large, α-rays can be effectively irradiated. It was. From the viewpoint of effectively irradiating the α-ray while ensuring the fixation of the powder, the ratio H1 is preferably 0.10 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.10 or more and 0.30 or less.

比率H1を上述の数値範囲にするために、本考案の考案者は、施行錯誤を繰り返した結果、接着剤の硬化が完了する前、約30秒乃至60秒の間に、接着剤上に粉体を配置することで、高さh2を調整でき、比率H1の数値範囲を調整できることを見出した。高さh2の調整は、例えば、ローラーで加圧するなどで実施することができる。接着剤の硬化があまり進行していない段階で粉体を接着剤上に配置すると、粒体や粉体の全部または大部分が接着剤中に埋没してしまい、放射線を外部に照射できない。一方、接着剤の硬化が進行し過ぎた後に、粒体や粉体を接着剤上に配置すると、粉体を接着剤上に十分に固定できない。   In order to make the ratio H1 within the above-mentioned numerical range, the inventor of the present invention, as a result of repeated implementation and error, powdered on the adhesive for about 30 to 60 seconds before the curing of the adhesive is completed. It has been found that by arranging the body, the height h2 can be adjusted and the numerical range of the ratio H1 can be adjusted. The height h2 can be adjusted, for example, by applying pressure with a roller. If the powder is placed on the adhesive at a stage where the curing of the adhesive has not progressed much, all or most of the particles and powder are buried in the adhesive, and radiation cannot be irradiated to the outside. On the other hand, if the particles and powder are placed on the adhesive after the curing of the adhesive has progressed too much, the powder cannot be sufficiently fixed on the adhesive.

図5の矢印X1及びX2に示す方向が、空気が気体処理装置1を流れる方向である。板状部材20の主面(面積の最も大きい面)は、空気が通路を流れる流れ方向と平行に配置されている。空気は、矢印X1に示す方向から気体処理装置1に流入し、気体処理装置1の内部で活性化され、矢印X2に示す方向に流出する。   The direction indicated by arrows X1 and X2 in FIG. 5 is the direction in which air flows through the gas processing apparatus 1. The main surface (surface with the largest area) of the plate-like member 20 is arranged in parallel with the flow direction in which air flows through the passage. Air flows into the gas processing device 1 from the direction indicated by the arrow X1, is activated inside the gas processing device 1, and flows out in the direction indicated by the arrow X2.

図6は、気体処理装置1の使用例を示す図である。図6では、自動車のエンジンから排出される排気ガスの通路100に気体処理装置1が2つ配置されている。排気ガスの通路100の一方の端部100aから排出ガスが流入し、他方の端部100bから気体処理装置1の作用を受けた排出ガスが流出するようになっている。   FIG. 6 is a diagram illustrating a usage example of the gas processing apparatus 1. In FIG. 6, two gas processing apparatuses 1 are arranged in an exhaust gas passage 100 exhausted from an automobile engine. Exhaust gas flows from one end portion 100a of the exhaust gas passage 100, and exhaust gas subjected to the action of the gas processing device 1 flows out from the other end portion 100b.

排気ガスの通路100には、切欠き部100cが設けられ、気体処理装置1の連絡通路10aと対応するようになっている。排気ガスは、通路100を矢印Y1に示す方向で流入する。一方、空気は矢印X1に示す方向で気体処理装置1に流入し、かつ、α線の照射を受けて、活性化される。活性化された空気が矢印X2に示すように、連絡通路10a及び切り欠き部100cを通って通路100に流入し、排気ガスと交わる。このとき、排気ガス中には、窒素酸化物NOxが含まれている。活性化された空気の分子の影響を受けて、排気ガス中のNOxから酸素や窒素を生成する反応が促進される。   The exhaust gas passage 100 is provided with a notch 100 c so as to correspond to the communication passage 10 a of the gas processing apparatus 1. Exhaust gas flows through the passage 100 in the direction indicated by the arrow Y1. On the other hand, air flows into the gas processing apparatus 1 in the direction indicated by the arrow X1, and is activated by being irradiated with α rays. As shown by the arrow X2, the activated air flows into the passage 100 through the communication passage 10a and the cutout portion 100c, and intersects with the exhaust gas. At this time, nitrogen oxides NOx are contained in the exhaust gas. Under the influence of the activated air molecules, the reaction to generate oxygen and nitrogen from NOx in the exhaust gas is promoted.

以上のように、窒素酸化物から酸素や窒素を生成する反応を促進することによって、窒素酸化物は低減する。排気ガスは、エンジンから遠ざかるにしたがって、温度が低下する。本考案の考案者は、温度が低下した環境において、上記の反応を促進するために、活性化の利用が有効であることを見出した。ここで、本考案の考案者は、排気ガスを直接的に活性化すると、排気ガスによってα線放射体の表面に固形物が堆積するという問題があるから、排気ガスの通路とは別の通路から空気を取り入れて、その空気を活性化して、排気ガスの通路へ流入させることによって、上記の反応を促進することを見出した。   As described above, nitrogen oxides are reduced by promoting the reaction of generating oxygen and nitrogen from nitrogen oxides. As the exhaust gas moves away from the engine, the temperature decreases. The inventor of the present invention has found that the use of activation is effective to promote the above reaction in an environment where the temperature is lowered. Here, when the inventor of the present invention directly activates the exhaust gas, there is a problem that solids are deposited on the surface of the α-ray radiator by the exhaust gas. It was found that the above reaction is promoted by taking in air from the air, activating the air and flowing it into the exhaust gas passage.

図7は、気体処理装置1の別の使用例を示す図であり、煙突200に気体処理装置1を適用した例である。煙突200には、矢印Y1に示す方向に、ボイラーなどからの排出ガスが流入する。一方、気体処理装置1によって、矢印X1に示す方向から外部の空気を取り入れ、活性化して、矢印X2に示すように煙突200内に流入させる。煙突200に流入した排出ガス中の窒素酸化物について、矢印X2に示すように流入した活性化された空気中の分子によって、無害な酸素や窒素を生成する反応が促進される。   FIG. 7 is a diagram showing another example of use of the gas processing apparatus 1, and is an example in which the gas processing apparatus 1 is applied to a chimney 200. Exhaust gas from a boiler or the like flows into the chimney 200 in the direction indicated by the arrow Y1. On the other hand, external air is taken in from the direction shown by the arrow X1 by the gas processing device 1 and activated to flow into the chimney 200 as shown by the arrow X2. About the nitrogen oxide in the exhaust gas which flowed into the chimney 200, the reaction which produces harmless oxygen and nitrogen is accelerated | stimulated by the molecule | numerator in the activated air which flowed in, as shown by arrow X2.

<第二の実施形態>
第二の実施形態が第一の実施形態と異なる点は、酸化トリウムの粉末が、板状部材20aの中心部材である保持基板20acに焼き付けられて固定されている点である。具体的には、保持基板20acをステンレス鋼製などの金属で形成し、その表面に、酸化トリウムの粉末にシリカ、酸化カルシウムなどを含む無機媒溶材粉末を加えたもの混合して被覆し、400 ℃以上、1000℃以下に加熱保持して、酸化トリウムと無機溶剤の混合物を焼結させ、ステンレス網製の網の表面に固定する。
<Second Embodiment>
The second embodiment is different from the first embodiment in that thorium oxide powder is baked and fixed on a holding substrate 20ac which is a central member of the plate-like member 20a. Specifically, the holding substrate 20ac is formed of a metal such as stainless steel, and the surface thereof is coated with a mixture of a thorium oxide powder and an inorganic solvent powder containing silica, calcium oxide, etc., and 400 The mixture of thorium oxide and an inorganic solvent is sintered by being heated and held at a temperature not lower than 1000 ° C. and not higher than 1000 ° C., and fixed to the surface of a stainless steel net.

<第三の実施形態>
第三の実施形態が第一の実施形態と異なる点は、板状部材20は網状部材であり、例えば、図8に示すように、略菱形の空間を有する網で構成される点である。この網は、放射線照射を照射する材料が表面に付されている。網の格子の大きさは、α線の飛程距離(25mm程度)よりも小さくなるように規定される。具体的には、当該距離は、4〜25mm程度が望ましく、本実施形態においては、図9に示すように、各編目は、編目の幅w1が10mm(ミリメートル)、高さh1が7mmである。これにより、外周が輪部材10a等を通過する補助気体である、例えば、空気を構成する分子である窒素、酸素及び水に、α線が確実に照射されるようになっている。なお、編目を構成する線の幅w2は、1mmである。
<Third embodiment>
The third embodiment is different from the first embodiment in that the plate-like member 20 is a mesh member, and is configured by a mesh having a substantially rhombus space, for example, as shown in FIG. The net is provided with a material to be irradiated with radiation. The size of the mesh lattice is defined to be smaller than the range of the α ray (about 25 mm). Specifically, the distance is desirably about 4 to 25 mm. In the present embodiment, as shown in FIG. 9, each stitch has a width w1 of 10 mm (millimeters) and a height h1 of 7 mm. . Thereby, alpha rays are reliably irradiated to nitrogen, oxygen, and water that are auxiliary gas whose outer periphery passes through the ring member 10a and the like, for example, molecules that constitute air. The width w2 of the line constituting the stitch is 1 mm.

この場合、板状部材は、例えば、アルミニウム合金等の金属を心材とし、その上に、炭素を主成分とするポリマー等で構成される固着剤を塗布し、その固着剤にα線を放射する放射体(酸化トリウム)を固着して加熱焼成して形成する。このような構造の一例については、例えば、特許第4938508号に記載されている。   In this case, for example, the plate-like member is made of a metal such as an aluminum alloy as a core, and a sticking agent composed of a polymer containing carbon as a main component is applied thereon, and α rays are emitted to the sticking agent. A radiator (thorium oxide) is fixed and heated and fired. An example of such a structure is described in, for example, Japanese Patent No. 4938508.

<第四の実施形態>
第四の実施形態が第一の実施形態と異なる点は、第三の実施形態の網状部材が気体の通路方向と直交する方向に配置されている点である。すなわち、図10に示すように、網状部材30が、本体部10の入り口近傍と、連絡通路10aの近傍に配置されている。
<Fourth embodiment>
The fourth embodiment is different from the first embodiment in that the mesh member of the third embodiment is arranged in a direction orthogonal to the gas passage direction. That is, as shown in FIG. 10, the mesh member 30 is disposed in the vicinity of the entrance of the main body 10 and in the vicinity of the communication passage 10a.

以上のように、本実施形態の構成は、α線の照射による活性化を効果的に実施するとともに、排出ガスを間接的に処理するようになっている。また、気体処理装置は、気体を通過させるだけであるから、装置の構成は簡潔である。このため、自動車などの移動体に搭載することができる。   As described above, the configuration of the present embodiment effectively performs the activation by the irradiation of the α ray and indirectly processes the exhaust gas. Moreover, since the gas processing apparatus only allows gas to pass, the configuration of the apparatus is simple. For this reason, it can mount in moving bodies, such as a motor vehicle.

なお、本考案の気体処理装置1は、上記実施形態に限らず、本考案の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えることができる。   In addition, the gas processing apparatus 1 of this invention is not restricted to the said embodiment, A various change can be added in the range which does not deviate from the summary of this invention.

1 気体処理装置
10 本体部
20 板状部材


DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gas processing apparatus 10 Main-body part 20 Plate-shaped member


Claims (4)

気体が通過可能に構成されている気体処理装置であって、
前記気体に放射線を照射して、活性化するための放射線照射手段と、
排出ガスの通路への連絡通路と、
を有し、
前記放射線照射手段によって活性化した前記気体が前記連絡通路を経由して前記排出ガスの通路へ流入することによって、前記排出ガスを処理するようになっている気体処理装置。
A gas processing device configured to allow gas to pass therethrough,
Radiation irradiating means for irradiating and activating the gas; and
A passageway to the exhaust gas passageway;
Have
A gas processing apparatus configured to process the exhaust gas when the gas activated by the radiation irradiation means flows into the exhaust gas passage via the communication passage.
前記放射線照射手段は、α線を放射するα線放射体で構成される請求項1に記載の気体処理装置。   The gas processing apparatus according to claim 1, wherein the radiation irradiating means is formed of an α-ray emitter that emits α-rays. 放射線照射手段は、α線放射体が表面に付された板状部材であり、
前記板状部材の主面は、前記処理用気体の流れ方向と平行に配置される請求項2に記載の気体処理装置。
The radiation irradiating means is a plate-like member having an α-ray radiator attached to the surface,
The gas processing apparatus according to claim 2, wherein a main surface of the plate-like member is disposed in parallel with a flow direction of the processing gas.
前記放射線照射手段は、α線放射体が表面に付された網状部材であり、前記網状部材の網目の寸法は前記α線の飛翔距離によって規定される請求項2に記載の気体処理装置。

The gas processing apparatus according to claim 2, wherein the radiation irradiating means is a mesh member having an α-ray radiator attached to a surface thereof, and a mesh size of the mesh member is defined by a flight distance of the α-ray.

JP2016002225U 2016-05-16 2016-05-16 Gas processing equipment Expired - Fee Related JP3205487U (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016002225U JP3205487U (en) 2016-05-16 2016-05-16 Gas processing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016002225U JP3205487U (en) 2016-05-16 2016-05-16 Gas processing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3205487U true JP3205487U (en) 2016-07-28

Family

ID=56513173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016002225U Expired - Fee Related JP3205487U (en) 2016-05-16 2016-05-16 Gas processing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3205487U (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019009304A1 (en) * 2017-07-06 2019-01-10 芳信 林 Gas treatment device, gas manufacturing system, and energy generating system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019009304A1 (en) * 2017-07-06 2019-01-10 芳信 林 Gas treatment device, gas manufacturing system, and energy generating system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4959499B2 (en) Mat material, exhaust gas treatment device and silencer
JP3205487U (en) Gas processing equipment
JP2022009470A (en) Catalyst-supported structure and its manufacturing method
US7901637B2 (en) Device for exhaust emission purification for vehicles and production method thereof
JP3205488U (en) Combustion improvement device
JP2017205688A (en) Gas treatment apparatus
CN110538571A (en) application method of catalyst in microwave field
JP2017206974A (en) Combustion improvement device
JP3205489U (en) Α-ray emitter and apparatus for fluid treatment
JP3205485U (en) Combustion improvement device
JP2017159252A (en) Exhaust gas purification catalyst
WO2005087352A1 (en) Environmental purification microreactor system
JP2010121608A (en) Flammability improving composition material and composition
WO2017098740A1 (en) Combustion improvement device
JP2017206975A (en) α-RAY RADIATOR FOR FLUID TREATMENT AND DEVICE
JP3205486U (en) Combustion improvement device
JP4938508B2 (en) Α-ray emitter and apparatus for fluid treatment
CN207989117U (en) A kind of ternary catalyzing unit that ultraviolet light is strengthened
JP2008284529A (en) Microwave treatment apparatus for treating volatile organic compound
JPH0949465A (en) Method and device for reducing harmful substance in engine exhaust gas
JP2017206973A (en) Combustion improvement device
CN214261280U (en) Chemistry experiment room exhaust treatment device
JP2018167151A (en) Porous filter, gas purifying device and gas purifying method
JP2006061842A (en) Photocatalytic reactor
KR101216179B1 (en) join muffler to gas disposal Catalysts device

Legal Events

Date Code Title Description
R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3205487

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees