JP3203950B2 - Wafer cleaning equipment - Google Patents
Wafer cleaning equipmentInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ウェーハ洗浄装置、特
にウェーハ、主として半導体ウェーハをウェーハ保持具
（ウェーハキャリア）により保持した状態でウェーハ保
持具搬送手段により洗浄槽内に搬送して洗浄液により洗
浄するウェーハ洗浄装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer cleaning apparatus, and more particularly, to a wafer, mainly a semiconductor wafer, which is held by a wafer holder (wafer carrier) and transferred into a cleaning tank by a wafer holder transfer means and cleaned by a cleaning liquid. To a wafer cleaning apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体装置の製造において半導体ウェー
ハの洗浄工程は不可欠である。そして、ウェーハ洗浄装
置として半導体ウェーハをウェーハ保持具により保持し
た状態でウェーハ保持具搬送手段により洗浄槽内に搬送
して洗浄液により洗浄するようにしたものがある。ま
た、ウェーハ保持具（キャリア）を用いないタイプのウ
ェーハ洗浄装置もある。2. Description of the Related Art A semiconductor wafer cleaning step is indispensable in the manufacture of semiconductor devices. As a wafer cleaning apparatus, there is a wafer cleaning apparatus in which a semiconductor wafer is held by a wafer holder and is transferred into a cleaning tank by a wafer holder transferring means and is washed with a cleaning liquid. There is also a type of wafer cleaning apparatus that does not use a wafer holder (carrier).
【０００３】そして、ウェーハ洗浄装置には、それを構
成する各洗浄槽が内槽と外槽の二重構造を有し、内槽に
てウェーハの洗浄を行い、内槽にて洗浄を行った洗浄液
が外槽にオーバーフローし、外槽からドレインを通して
洗浄槽外部に排出するようにしたタイプのものが多い。
尚、排出された洗浄液はフィルタを通して内槽に還流さ
れるようになっているのが普通である。In the wafer cleaning apparatus, each cleaning tank constituting the wafer cleaning apparatus has a double structure of an inner tank and an outer tank. The wafer is cleaned in the inner tank and the inner tank is cleaned. There are many types in which the cleaning liquid overflows to the outer tank and is discharged from the outer tank through the drain to the outside of the cleaning tank.
The discharged cleaning liquid is generally returned to the inner tank through a filter.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、そのような
従来のウェーハ洗浄装置は、洗浄槽の内槽の内部に搬送
チャックでウェーハ保持具を掴んで装着するので、洗浄
槽の内槽には半導体ウェーハが入る空間のほかにウェー
ハ保持具が入る空間と搬送チャックが入る空間が必要で
ある。そのため、内槽を大きくせざるを得ず、使用薬液
の量が多くなるという問題があり、この問題は半導体装
置の製造コストの低減を阻むので看過できない。Incidentally, in such a conventional wafer cleaning apparatus, the wafer holder is gripped and mounted by the transfer chuck inside the inner tank of the cleaning tank. In addition to the space for the wafer, a space for the wafer holder and a space for the transfer chuck are required. For this reason, there is a problem that the inner tank must be enlarged and the amount of the used chemical solution increases, and this problem cannot be overlooked because it hinders a reduction in the manufacturing cost of the semiconductor device.
【０００５】また、内槽が大きいので洗浄槽自体も大き
くなり、装置価格が高くなるだけでなく、ウェーハ洗浄
装置のクリーンルームに占める割合が大きくなるという
問題もある。特に、ウェーハ洗浄装置のクリーンルーム
に占める割合が大きいという問題は、クリーンルームが
内部を超高度のクリーン度に保つために高いコストを要
し利用効率を高める必要性が強いだけに看過できない。
尚、ウェーハ保持具を用いないタイプは内槽にウェーハ
保持具が入る空間を設けなくて済み、内槽の大きさはウ
ェーハ保持具を用いるタイプと比較して若干小さくて済
むといえる。しかしながら、搬送チャックが入る空間は
必要であり、内槽を飛躍的に小さくすることは不可能で
あるし、更に半導体ウェーハが搬送途中で他と接触して
傷がついたり、発塵したりする可能性があるという大き
な問題がある。Further, since the inner tank is large, the size of the cleaning tank itself is also large, which not only increases the cost of the apparatus but also increases the ratio of the wafer cleaning apparatus to the clean room. In particular, the problem that the wafer cleaning apparatus occupies a large part of the clean room cannot be overlooked because the clean room requires a high cost to maintain the inside of the clean room at a very high degree of cleanliness, and there is a strong need to increase the utilization efficiency.
It should be noted that the type that does not use a wafer holder does not need to provide a space for the wafer holder in the inner tank, and the size of the inner tank can be said to be slightly smaller than the type that uses the wafer holder. However, a space for the transfer chuck is required, and it is impossible to make the inner tank drastically smaller, and furthermore, the semiconductor wafer comes into contact with others during transfer and is damaged or dusted. There is a big problem that could be.
【０００６】本発明はこのような問題点を解決すべく為
されたものであり、半導体ウェーハをウェーハ保持具に
より保持した状態でウェーハ保持具搬送手段により洗浄
槽内に搬送して洗浄液により洗浄するウェーハ洗浄装置
において、各洗浄槽を小さくて済むようにすることによ
り各洗浄槽、そして、ウェーハ洗浄装置の小型化、狭占
有面積化を図ると共に、洗浄液の使用量の低減を図るこ
とを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem. A semiconductor wafer held by a wafer holder is transported into a cleaning tank by a wafer holder transport means and cleaned by a cleaning liquid. The objective of the wafer cleaning apparatus is to reduce the size of each cleaning tank and the size of the wafer cleaning apparatus and the area occupied by reducing the size of each cleaning tank by reducing the amount of cleaning liquid used. I do.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項１のウェーハ洗浄
装置は、内槽を有しない洗浄槽と、洗浄槽内部に装着さ
れたとき洗浄槽の内槽を成すウェーハ保持具と、該ウェ
ーハ保持具を搬送する搬送チャックを有することを特徴
とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a wafer cleaning apparatus comprising: a cleaning tank having no inner tank; a wafer holder which forms an inner tank of the cleaning tank when installed in the cleaning tank; It has a conveyance chuck which conveys an ingredient.
【０００８】[0008]
【作用】請求項１のウェーハ洗浄装置によれば、ウェー
ハ保持具が洗浄槽内部に装着されたときこのウェーハ保
持具自身が洗浄槽の内槽を成すので、洗浄槽には内槽を
設ける必要がない。従って、洗浄槽自体を小さくするこ
とができると共に、洗浄液の使用量を少なくすることが
できる。また、洗浄槽にとっての謂わば内槽は、洗浄槽
から独立したウェーハ保持具からなるので内槽（即ち、
ウェーハ保持具）はいつでも、即ち稼働中でも容易に洗
浄できる。According to the first aspect of the present invention, when the wafer holder is mounted in the cleaning tank, the wafer holder itself forms the inner tank of the cleaning tank. There is no. Therefore, the size of the cleaning tank itself can be reduced, and the amount of the cleaning liquid used can be reduced. In addition, the so-called inner tank for the cleaning tank is composed of a wafer holder independent of the cleaning tank, so that the inner tank (that is, the inner tank)
The wafer holder can be easily cleaned at any time, ie, during operation.
【０００９】[0009]
【実施例】以下、本発明ウェーハ洗浄装置を図示実施例
に従って詳細に説明する。図１は本発明ウェーハ洗浄装
置の一つの実施例を示す断面図である。図において、１
ａ、１ｂ、１ｃは内槽を有しない構造の洗浄槽で、それ
ぞれ底部中心部分から薬液２を受け入れ、その薬液２を
外槽３に設けたドレインから洗浄槽１外部へ排出するよ
うになっている。この洗浄槽１外へ排出された薬液２は
図示しないフィルタによりフィルタリングされた後洗浄
槽１の底部中央に戻される。即ち、薬液２は洗浄槽１と
図示しないフィルタを少なくとも通る循環系を循環して
いる。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a wafer cleaning apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the wafer cleaning apparatus of the present invention. In the figure, 1
Reference numerals a, 1b, and 1c denote cleaning tanks having no inner tank, each of which receives a chemical solution 2 from a central portion at the bottom and discharges the chemical solution 2 from a drain provided in the outer tank 3 to the outside of the cleaning tank 1. I have. The chemical solution 2 discharged out of the cleaning tank 1 is filtered by a filter (not shown) and then returned to the center of the bottom of the cleaning tank 1. That is, the chemical solution 2 circulates in a circulation system that passes at least through the cleaning tank 1 and a filter (not shown).
【００１０】４は各洗浄槽１の底面中央部の上方に設け
られたキャリア受けで、ウェーハキャリア（ウェーハ保
持具）５の下端部を受ける。ウェーハキャリア５は内部
に多数枚の半導体ウェーハ６を保持すると共に、下端部
が上記キャリア受け４に嵌合したとき洗浄槽１の内槽を
成すようになっている。７はウェーハ保持具５を搬送す
るウェーハ保持具搬送手段を成す搬送チャックで、ウェ
ーハ保持具５の上部を掴んで搬送する。Reference numeral 4 denotes a carrier receiver provided above the center of the bottom of each cleaning tank 1 for receiving the lower end of a wafer carrier (wafer holder) 5. The wafer carrier 5 holds a large number of semiconductor wafers 6 therein, and forms an inner tank of the cleaning tank 1 when its lower end is fitted to the carrier receiver 4. Reference numeral 7 denotes a transfer chuck which serves as a wafer holder transfer means for transferring the wafer holder 5, and transfers the wafer holder 5 by grasping the upper portion of the wafer holder 5.
【００１１】ウェーハローダ部において多数枚の半導体
ウェーハ６がセットされたウェーハキャリア５は、搬送
チャック７により上端部を掴まれた状態で洗浄槽１ａ上
方まで搬送される（図１中の洗浄槽１ａの上方参照）。
一方、各洗浄槽１ａ、１ｂ、１ｃは、ウェーハキャリア
５が内部に入るまでは、図１中の洗浄槽１ａに示すよう
に、底部中央から薬液が上方に噴出してチャック受け４
から外側に溢れて外槽３に落ち込んでドレインへ排出さ
れる状態になっている。The wafer carrier 5 on which a large number of semiconductor wafers 6 are set in the wafer loader section is transported to the upper portion of the cleaning tank 1a while the upper end is gripped by the transport chuck 7 (the cleaning tank 1a in FIG. 1). Above).
On the other hand, as shown in the cleaning tank 1a in FIG. 1, the cleaning solution 1a, 1b, and 1c eject the chemical solution upward from the bottom center until the wafer carrier 5 enters the inside of the chuck receiver 4a.
From the outside to fall into the outer tank 3 and be discharged to the drain.
【００１２】洗浄槽１上方に搬送されたウェーハキャリ
ア５は洗浄槽１内に下降せしめられ、下端部がキャリア
受け４に嵌合せしめられる。すると、ウェーハキャリア
５が洗浄槽１の内槽を成すようにされているので、薬液
２がウェーハキャリア５内にたまりはじめ、その液面が
徐々に高くなってウェーハキャリア５から外側に溢れは
じめる（図１中の洗浄槽１ｂのような状態になる）。こ
の状態で洗浄が進められる。尚、ウェーハキャリア５か
ら外側に溢れた薬液２はドレインを通り更にフィルタリ
ングされて洗浄槽１内に還流することは前述のとおりで
ある。The wafer carrier 5 transported above the cleaning tank 1 is lowered into the cleaning tank 1, and the lower end is fitted into the carrier receiver 4. Then, since the wafer carrier 5 forms the inner tank of the cleaning tank 1, the chemical solution 2 starts to accumulate in the wafer carrier 5, and its liquid level gradually rises and starts to overflow from the wafer carrier 5 to the outside ( (It becomes a state like the cleaning tank 1b in FIG. 1). The cleaning proceeds in this state. It is to be noted that the chemical solution 2 overflowing from the wafer carrier 5 is further filtered through the drain and returned to the cleaning tank 1 as described above.
【００１３】予め設定された洗浄時間が経過したとき搬
送チャック７により引き上げられる（図１中の洗浄槽１
ｃのような状態になり、そのとき薬液２はチャック受け
４・ウェーハキャリア５間を通って外槽３へ流出してい
る。）。そして、搬送チャック７により完全に引き上げ
られたウェーハキャリア５は次の洗浄槽１ｂに運ばれ、
そこで、洗浄が行われる。そして、一番最後の洗浄槽１
ｃにおける洗浄を終えたウェーハキャリア５は乾燥工程
に送られる。When a preset cleaning time has elapsed, the cleaning chuck 7 is lifted up by the transport chuck 7 (the cleaning tank 1 in FIG. 1).
At this time, the liquid chemical 2 flows into the outer tank 3 through the space between the chuck receiver 4 and the wafer carrier 5. ). Then, the wafer carrier 5 completely lifted by the transfer chuck 7 is carried to the next cleaning tank 1b,
Then, cleaning is performed. And the last cleaning tank 1
The wafer carrier 5 after the cleaning in step c is sent to the drying step.
【００１４】このようなウェーハ洗浄装置によれば、ウ
ェーハキャリア５が洗浄槽１内部に装着されたときこの
ウェーハキャリア５自身が洗浄槽１の内槽を成すので、
洗浄槽１には内槽を設ける必要がない。従って、各洗浄
槽１自体を小さくすることができると共に、洗浄液２の
使用量を少なくすることができる。また、洗浄槽１にと
っての内槽は、洗浄槽１から独立しているのでその内槽
（即ち、ウェーハキャリア）５はいつでも、即ち稼働中
でも容易に洗浄できる。According to such a wafer cleaning apparatus, when the wafer carrier 5 is mounted inside the cleaning tank 1, the wafer carrier 5 itself forms an inner tank of the cleaning tank 1.
There is no need to provide an inner tank in the washing tank 1. Accordingly, the size of each cleaning tank 1 itself can be reduced, and the amount of the cleaning liquid 2 used can be reduced. Further, since the inner tank for the cleaning tank 1 is independent of the cleaning tank 1, the inner tank (that is, the wafer carrier) 5 can be easily cleaned at any time, that is, even during operation.
【００１５】尚、上記実施例においては、ウェーハキャ
リア５の下端部がキャリア受け４に嵌合（噛み合う）す
るようにされ、それによってウェーハキャリア５・キャ
リア受け４間で薬液２の流出が生じないようにされてい
た。しかし、嵌合ではなく、パッキングを用いることに
よりウェーハキャリア５・キャリア受け４間で薬液２の
流出が生じないようにしても良い。また、ウェーハキャ
リア５・キャリア受け４間にわざと薬液流量に比較して
ごく少量の薬液が漏れ流れる流路を設けて発塵物を積極
的にウェーハキャリア５外部に流すようにすることも考
えられる。In the above embodiment, the lower end of the wafer carrier 5 is fitted (engaged) with the carrier receiver 4, so that the chemical solution 2 does not flow between the wafer carrier 5 and the carrier receiver 4. It was like that. However, it is also possible to prevent the chemical solution 2 from flowing out between the wafer carrier 5 and the carrier receiver 4 by using packing instead of fitting. It is also conceivable to provide a flow path between the wafer carrier 5 and the carrier receiver 4 where a very small amount of the chemical solution leaks as compared with the flow rate of the chemical solution so as to positively flow dust particles to the outside of the wafer carrier 5. .
【００１６】[0016]
【発明の効果】本発明ウェーハ洗浄装置は、内槽を有し
ない洗浄槽と、洗浄槽内部に装着されたとき洗浄槽の内
槽を成すウェーハ保持具と、該ウェーハ保持具を搬送す
る搬送チャックを有することを特徴とするものである。
従って、本発明ウェーハ洗浄装置によれば、ウェーハ保
持具が洗浄槽内部に装着されたときこのウェーハ保持具
自身が洗浄槽の内槽を成すので、洗浄槽には内槽を設け
る必要がない。従って、洗浄槽自体を小さくすることが
できると共に、洗浄液の使用量を少なくすることができ
る。また、洗浄槽にとっての内槽は、洗浄槽から独立し
ているので内槽（即ち、ウェーハ保持具）はいつでも、
即ち稼働中でも容易に洗浄できる。According to the present invention, there is provided a wafer cleaning apparatus having a cleaning tank having no inner tank, a wafer holder which forms an inner tank of the cleaning tank when mounted inside the cleaning tank, and a transfer chuck for transferring the wafer holder. It is characterized by having.
Therefore, according to the wafer cleaning apparatus of the present invention, when the wafer holder is mounted inside the cleaning tank, the wafer holder itself forms the inner tank of the cleaning tank, so that there is no need to provide an inner tank in the cleaning tank. Therefore, the size of the cleaning tank itself can be reduced, and the amount of the cleaning liquid used can be reduced. Also, since the inner tank for the cleaning tank is independent of the cleaning tank, the inner tank (that is, the wafer holder) is always
That is, it can be easily washed even during operation.
【図１】図１は本発明ウェーハ洗浄装置の一つの実施例
を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a wafer cleaning apparatus of the present invention.
１ａ〜１ｃ 洗浄槽 ２ 洗浄液 ３ 外槽 ５ ウェーハ保持具（ウェーハチャック） ６ ウェーハ ７ ウェーハ保持具搬送手段 1a to 1c Cleaning tank 2 Cleaning liquid 3 Outer tank 5 Wafer holder (wafer chuck) 6 Wafer 7 Wafer holder transport means
Claims (1)
槽と、 一又は複数のウェーハを保持し上記洗浄槽内部に着脱自
在であって洗浄槽内部に装着されたとき洗浄槽の内槽を
成すウェーハ保持具と、 上記ウェーハ保持具を搬送して洗浄槽内部に装着した状
態にしたり洗浄槽から離脱させたりするウェーハ保持具
搬送手段と、 を少なくとも有することを特徴とするウェーハ洗浄装置1. A cleaning tank having one or more cleaning tanks having no inner tank, and one or more wafers holding one or more wafers, being detachable inside the cleaning tank and being installed in the cleaning tank. 1. A wafer cleaning apparatus, comprising: a wafer holder forming a tank; and a wafer holder transfer unit configured to transfer the wafer holder into a state of being mounted inside the cleaning tank or to remove the wafer holder from the cleaning tank.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP09579094A JP3203950B2 (en) | 1994-04-08 | 1994-04-08 | Wafer cleaning equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
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| JPH07283187A JPH07283187A (en) | 1995-10-27 |
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Family
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Families Citing this family (2)
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-
1994
- 1994-04-08 JP JP09579094A patent/JP3203950B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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