JP3201048B2 - プラズマ洗浄装置 - Google Patents

プラズマ洗浄装置

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JP3201048B2
JP3201048B2 JP03439393A JP3439393A JP3201048B2 JP 3201048 B2 JP3201048 B2 JP 3201048B2 JP 03439393 A JP03439393 A JP 03439393A JP 3439393 A JP3439393 A JP 3439393A JP 3201048 B2 JP3201048 B2 JP 3201048B2
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雅知 中村
末代史 大倉
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  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属あるいはプラスチッ
クやガラス等の非金属で出来た多数の小物製品の表面を
プラズマ洗浄する為に用いられるプラズマ洗浄装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】真空チャンバー内に被処理物を存置さ
せ、一方真空チャンバー外のプラズマ発生装置ではプラ
ズマを発生させ、そのプラズマ発生装置からプラズマガ
スを導入管を通して真空チャンバー内に導き、そのプラ
ズマガスを真空チャンバー内の一方の側に設けた噴出口
から噴出させると共に真空チャンバー内の他方の側から
は排気を行なって真空チャンバー内にプラズマガスを流
通させ、その流通するプラズマガスを被処理物の表面に
触れさせて被処理物のプラズマ洗浄を行なうようにした
装置がある(例えば特開昭62−15233号公報参
照)。このような装置によれば、多数の小物の被処理物
を1層に並べて上記真空チャンバー内に存置させること
により、それらの被処理物の表面に対するプラズマ洗浄
を適正に行い得る特長がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしこの従来の技術
では、装置の効率向上の為に上記多数の被処理物を多層
状にして入れると、中間の層の所にはプラズマガスが流
通し難くなり、そこにある多数の被処理物のプラズマ洗
浄が不能となってしまう問題点があった。
【0004】本願発明は上記従来技術の問題点(技術的
課題)を解決する為になされたもので、多くの被処理物
を真空チャンバー内の複数の空間に相互に積層或いは並
設する状態に入れても、それらを均一にプラズマ洗浄す
ることが出来て、効率を極めて向上させることができる
ようにしたプラズマ洗浄装置を提供することを目的とし
ている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本願発明におけるプラズマ洗浄装置は、真空チャン
バー内における被処理物存置用の複数の空間相互間に、
それらの存置用空間をプラズマ雰囲気にする為の電極を
設けたものである。
【0006】
【作用】真空チャンバー内の複数の空間の夫々に被処理
物を存置させ、それらの空間の間にある電極によってプ
ラズマを発生させると、各空間は何れもプラズマ雰囲気
となり、各々の空間にある被処理物のどれにもプラズマ
雰囲気を触れさせてプラズマ洗浄することができる。
【0007】
【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。図1乃至図4において、1は真空チャンバーを示
し、例えばステンレス材で形成される。2は該チャンバ
ーにおける被処理物の出入口で、密閉可能な扉3が備わ
っている。4はチャンバー内における被処理物存置用の
複数の空間を示す。5はチャンバー1の一部に設けた排
気口で、排気用のダクト(例えば金属フレキシブル管)
6を用いて図示外の真空排気装置に接続してある。次に
8は存置空間をプラズマ雰囲気にする為の電極を示し、
何れも板状に形成され、上記存置用空間4相互の間及び
最上部の存置用空間4の上側と最下部の存置用空間4の
下側に配置してある。これらの電極8は図1に示される
支持体9により支持されている。又その支持状態では真
空チャンバー1とは電気的に絶縁された状態となってい
る。上記電極8としてはプロセスガスの流通が可能なよ
う多孔状の材料例えばステンレスのパンチングメタルが
用いられる。10は各プラズマ発生用電極8に備えさせた
冷却手段で、例えば冷却水を通水する為のパイプであ
る。11は各電極の冷却手段10に対して冷却水の渡りを取
る為の部材で、例えばナイロンチューブが用いられる。
図2に示される12は上記複数の電極8に接続する通電用
電極、13は電極12と真空チャンバー1との間の絶縁及び
シールの為の部材、14はプラズマ発生用電源で、プラズ
マ放電用の電流例えば高周波(ラジオ波とも呼ばれその
周波数は例えば13.56MHz)の交流を供給できる
ものである。15は整合器である。尚図示はしないが上記
真空チャンバー1にはその内部にプラズマ雰囲気用のプ
ロセスガスを送り込む為の供給管が接続されている。
【0008】次に17は存置用空間4への被処理物の搬入
及び搬出を行う為の手段で、台車が例示してある。18は
該台車における台座部で、下面に車輪19を備えている。
20は台座部18に固定した支柱、21は支柱20に取付けた受
棚で、平面的に見て電極8と重合する部分を除いた箇所
において上記支柱20により相互に連結されて一体状とな
っている。22は被処理物を保持する為の部材で、受棚21
に固定的又は着脱自在に装着したバスケットが例示して
ある。上記符号18〜22で示される部材は、真空チャンバ
ー1とバスケット22とが電気的に繋がるよう何れも導電
性の材料例えばステンレスその他の金属材料で形成され
ている。
【0009】次に上記構成のプラズマ洗浄装置による多
数の小物の被処理物のプラズマ洗浄の処理を説明する。
尚上記被処理物としては合成樹脂製の小物部品例えばリ
レー用のポリエステルキャップや種々の金属製品例えば
リレー接点がある。上記のような被処理物は図1に符号
23で示されるように各バスケット22に例えばばら積みの
状態で入れる。この状態において真空チャンバー1の扉
3を開け、上記被処理物23を乗せた台車17を出入口2か
らチャンバー1内に装入する。この場合、各バスケット
22に乗せられた夫々多数の被処理物23は各存置用空間4
に進入する。次に扉3を閉め、真空排気装置によりチャ
ンバー1内を真空排気する。更にその排気を継続したま
ま、プロセスガス例えば酸素を、チャンバー1内の圧力
がプラズマ発生用の適切な圧力例えば0.3〜3mba
r程度となるように送り込む。そしてプラズマ発生用電
源14から整合器15を通して各電極8に通電し各電極8に
おいてプラズマ放電を行わす。この放電により上記プロ
セスガスがプラズマ化されて存置用空間4は低温プラズ
マのプラズマ雰囲気となる。多数の被処理物23はそのプ
ラズマ雰囲気によりプラズマ洗浄例えば脱脂、表面の活
性化及び酸化物の還元(例えば錆の除去)等の通称プラ
ズマ処理といわれるプラズマ洗浄が行われる。この状態
で所定時間が経過したならばプロセスガスの導入及び電
極8への通電を停止し、その後真空チャンバー1内を例
えば空気によって大気圧まで復圧する。然る後扉3を開
けて処理を終えた被処理物23を台車17によって搬出す
る。
【0010】上記プラズマ洗浄装置においては、複数の
電極8や複数の受棚21を支持体9や支柱20に対して夫々
着脱自在に構成し、それらの一部を着脱することによっ
て、処理しようとする被処理物の大きさに応じた大きさ
の存置用空間を確保できるようにしても良い。
【0011】次に図5は本願の異なる実施例を示す縦断
面図で、この例では被処理物存置用の複数の空間4eを横
方向に並ぶ状態に設け、上方から垂下する状態に設けた
プラズマ発生用電極8eをそれらの空間の間に位置させて
ある。なお、機能上前図のものと同一又は均等構成と考
えられる部分には、前図と同一の符号にアルファベット
のeを付して重複する説明を省略した。
【0012】次に被処理物存置用の複数の空間とそれら
の空間相互間に設けるプラズマ発生用電極との位置関係
の更に異なる例を示せば、夫々半径の異なる筒状の空間
を多重筒状に配置し、それらの空間相互の間に筒状の電
極を配置しても良い。
【0013】
【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、多数
の小物の被処理物23の表面をプラズマ洗浄する場合、被
処理物23の表面にプラズマ雰囲気を触れさせてそこのプ
ラズマ洗浄を適正に行うことが出来るは勿論のこと、上
記の場合、真空チャンバー1内の被処理物存置用の複数
の空間4,4・・・の夫々に上記多数の小物の被処理物
23を入れても、何れの空間4も夫々適正なプラズマ雰囲
気にすることが出来て、各空間の夫々多数の小物の被処
理物23のプラズマ洗浄を均一に行うことが出来、その結
果、プラズマ洗浄装置の効率を極めて向上させ得る効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】分解斜視図。
【図2】縦断面略示図。
【図3】図2におけるIII −III 線断面図。
【図4】図2におけるIV−IV線断面図。
【図5】異なる実施例を示す縦断面略示図。
【符号の説明】
1 真空チャンバー 4 存置用空間 8 プラズマ発生用電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23G 5/00 B29C 71/00 C08J 7/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空チャンバー内における被処理物存置
    用の複数の空間相互間には、それらの存置用空間をプラ
    ズマ雰囲気にする為の電極を設けたことを特徴とするプ
    ラズマ洗浄装置。
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