JP3195757U - Leather material - Google Patents
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Abstract
【課題】型を用いることなく品質を保持しながら模様が形成される革素材を提供する。【解決手段】この革素材100は、皮革1の銀面2はそのままとし、裏面3から直線的に漉きを交差状に行う。漉きを施した部分5の厚さを漉きを施していない部分6の厚さの1/3以下とすることで、当該漉き部分5の皮革1の厚さが薄くなり、柔かくなり曲がりやすくなる。厚さが薄くなることで銀面2が多少窪んで僅かな凹部を形成する。これにより、皮革1の銀面2に格子状ないし菱形格子状の模様4が形成される。皮革1の銀面2に対して何らの加工を施すものではないので、銀面2の品質をそのまま保持しこの質感を生かした形で模様4のデザインを行える。また、水分や加圧を行う必要がないため、皮革1の変形や不必要な圧縮が不要である。【選択図】図1The present invention provides a leather material in which a pattern is formed while maintaining quality without using a mold. The leather material 100 has a silver surface 2 of the leather 1 as it is, and is linearly rolled from the back surface 3 in a crossing manner. By setting the thickness of the portion 5 that has been breached to be 1/3 or less of the thickness of the portion 6 that has not been breached, the thickness of the leather 1 of the flared portion 5 becomes thin, and it becomes soft and easy to bend. As the thickness is reduced, the silver surface 2 is somewhat recessed to form a slight recess. As a result, a lattice-like or rhombic lattice-like pattern 4 is formed on the silver surface 2 of the leather 1. Since the silver surface 2 of the leather 1 is not subjected to any processing, the pattern 4 can be designed in such a way that the quality of the silver surface 2 is maintained and this texture is utilized. Further, since there is no need to perform moisture or pressurization, the deformation or unnecessary compression of the leather 1 is not required. [Selection] Figure 1
Description
本考案は、型を用いることなく品質を保持しながら模様が形成された革素材に関するものである。 The present invention relates to a leather material in which a pattern is formed while maintaining quality without using a mold.
従来から、革の表面に模様を形成する方法として、特許文献1に記載されているような技術が知られている。この技術は、皮革の表面に模様を型押しにより形成するものであり、型押しで形成された凸部の表面を削り取り、型押しで圧縮された凹部を水分を含ませて元に戻し、当該型に基づく模様を皮革面に形成するものである。
Conventionally, as a method of forming a pattern on a leather surface, a technique as described in
しかしながら、上記従来の模様の形成方法では、模様を形成するために型を準備しなければならないため、少量生産には不向きである。また、水を含ませることにより皮革の品質が低下するおそれがある。 However, the conventional pattern forming method is not suitable for small-scale production because a mold must be prepared to form the pattern. Moreover, there exists a possibility that the quality of leather may fall by including water.
そこで、本考案に係る革素材は、皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さが1.2mm以下であることを特徴とする。 Therefore, the leather material according to the present invention is characterized in that the back surface of the leather is spread almost linearly at a plurality of locations, and the thickness of the added portion is 1.2 mm or less.
また、別の観点では、本考案に係る革素材は、皮革の裏面を略直線的に複数箇所に漉き、当該漉きを加えた部分の厚さがそれ以外の部分の厚さの1/2以下であることを特徴とする。 In another aspect, the leather material according to the present invention is obtained by spreading the back surface of the leather substantially linearly at a plurality of locations, and the thickness of the added portion is less than ½ of the thickness of the other portions. It is characterized by being.
上記考案において、前記漉きは互いに交差する、又は複数の菱形を作るように設けるようにするのが好ましい。 In the above-mentioned device, it is preferable that the awnings are provided so as to cross each other or to form a plurality of rhombuses.
図1は、本考案の実施の形態1に係る革素材を示す断面図である。図2は、図1に示した革素材の一部平面図であり、(a)は表面を示し(b)は裏面を示す。この革素材100は、皮革1の銀面2はそのままとし、裏面3から略直線的に漉きを交差状に行う。漉きを施した部分5の厚さD2は、それ以外の漉きを施していない部分6の厚さD1の、1/2以下とするのが好ましい。皮革1の種類は、銀付革、アニリン仕上げ革、ボックスカーフ、エナメル革、タンニン革等の一般的なものを用いることができる。
1 is a cross-sectional view showing a leather material according to
漉きを施した部分5の厚さD2を漉きを施していない部分6の厚さD1の1/2以下とすることで、当該漉き部分5の皮革1の厚さが相当薄くなる。これにより、漉きを加えた部分5が柔かくなり曲がりやすくなる。また、厚さによっては光の透過性が高まると共に、厚さが薄くなることで銀面2が多少窪んで僅かな凹部を形成する(図示省略)。これにより、皮革1の銀面2に格子状ないし菱形格子状の模様4が形成される。また、皮革1の銀面2に対して何らの加工を施すものではないので、銀面2の品質をそのまま保持しこの質感を生かした形で模様4のデザインを行える。また、水分や加圧を行う必要がないため、皮革1の変形や不必要な圧縮が不要である。
By setting the thickness D2 of the
更に、曲がる動きを繰り返すことで、漉き部分5の銀面2に細かい皴が生じて、これが模様4の強さとなる。即ち、使用により皴が増えて模様4が強く現れてくるので、模様4の経時変化を楽しむことができる。また、導光板やELパネル等のような面光源等の表面にこの革素材100を載せることで漉き部分5が浮き出てくる。漉き部分5は、曲げ等を加えなければ平坦なままであり、光を背後から照射することで初めて模様4を認識できるようにできる。例えば、自動車の内装等に用いることで夜間に銀面2に模様4を浮き出すようにできる。
Further, by repeating the bending motion, fine wrinkles are generated on the
別の観点では、この漉き部分5の厚さは、皮革1の厚さにかかわらず一定することで、模様4の状態、柔かさや光の透過性を確保できる。具体的には、1.2mm以下となるように漉くのが好ましい。皮革1の種類によるが、同種及び同処理の皮革1であれば厚さにより柔かさや模様4の強さ等の特性がほぼ決まる。このため、厚さを所定の厚さ以下に漉くことで、曲げ易さや模様4の表現具合を調整できる。
From another viewpoint, the thickness of the
上記漉き部分5は、図2に示すように、直線的に行い且つ互いが交差して全体として複数の菱形からなるパターン模様4になるようにする。漉き部分5は略直線的に設けられ、その幅は漉きの工具の先端刃の形状により決定される。また、工具の角度や押付力により漉きの幅が決定される。これらは適宜、公知の工具を用いて均一の幅で行うものとする。
As shown in FIG. 2, the
図1に示したように、漉き部分5の直線方向に直交方向の断面が山形になるように漉く。更に、銀面2に対して漉き部分5に合わせて直線的に加圧を加えても良い。この加圧は、所定幅を有するローラにより行うのが好ましい。これにより、強制的に漉きによる模様4(凹部)を銀面2に表すと共に曲げ易くする。また、銀面2を平面のまま曲げるとシャープな直線が形成されないので、予め曲げが生じる部分を強制的に作り、当該部分で自然と曲がるようにすれば、使用前の状態でも模様4が楽しめ且つ使用経時変化でも漉き部分で鮮明な模様4が得られるようになる。
As shown in FIG. 1, the cross section in the direction orthogonal to the linear direction of the rolled
図3は、この革素材を湾曲させた状態を示す説明図である。菱形のパターンを形成した革素材100は、菱形の部分が上下左右方向及び斜め方向のいずれにも曲がりやすいので、全体として自由に変形させやすい。このため、この革素材100は様々な製品に適用可能となる。例えばハンドバック、筆入れ等である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which this leather material is curved. The
図4に筆入れに本革素材を適用した例を示す。筆入れ50は、曲率が大きな曲げを行うことになるところ、菱形形状の模様4を漉きで形成した革素材100であれば、上下左右方向及び斜め方向に自由に変形できるので、全体として上手く変形して形の良い筆入れを製作できる。
FIG. 4 shows an example in which a genuine leather material is applied to the brush case. The
100 革素材
1 皮革
2 銀面
3 裏面
5 漉き部分
100
Claims (4)
The leather material according to claim 1 or 2, wherein the glazing is provided so as to form a plurality of rhombuses.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014006183U JP3195757U (en) | 2014-11-20 | 2014-11-20 | Leather material |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2014006183U JP3195757U (en) | 2014-11-20 | 2014-11-20 | Leather material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3195757U true JP3195757U (en) | 2015-01-29 |
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ID=52685425
Family Applications (1)
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JP2014006183U Active JP3195757U (en) | 2014-11-20 | 2014-11-20 | Leather material |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3195757U (en) |
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2014
- 2014-11-20 JP JP2014006183U patent/JP3195757U/en active Active
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