JP3194626B2 - Electrolytic in-process dressing method and apparatus - Google Patents
Electrolytic in-process dressing method and apparatusInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電解インプロセスドレ
ッシングを行う研削加工装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a grinding machine for performing electrolytic in-process dressing.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、電解作用により工具をドレッシン
グしつつ研削加工を行う装置としては、例えば特開平２
−６５９７２号公報に記載された平面研削盤が知られて
いる。この装置は、図６に示す如く、カップ型の導電性
砥石１によりロータリーテーブル４上のワーク３を加工
するもので、導電性砥石１は給電ブラシ５を介して電源
１０の陽極に接続されている。一方、電源１０の陰極は
前記導電性砥石１に対向して配置されたカバー電極２３
に接続されている。なお、この電極２３の両端には導電
性砥石１の表面に非接触の仕切板（図示せず）が固定さ
れており、同電極２３内面に電解液を放出するためのホ
ース２１が接続されている。そして、導電性砥石１と電
極２３及びその両端の仕切板とで囲まれた空間に電解液
を供給しつつ、導電性砥石１と電極２３との間に電流を
流してインプロセスドレッシング効果を得るものであ
る。2. Description of the Related Art Conventionally, as an apparatus for performing grinding while dressing a tool by an electrolytic action, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
BACKGROUND ART A surface grinder described in Japanese Patent No. 65972 is known. As shown in FIG. 6, this apparatus processes a work 3 on a rotary table 4 with a cup-shaped conductive grindstone 1. The conductive grindstone 1 is connected to an anode of a power supply 10 via a power supply brush 5. I have. On the other hand, the cathode of the power supply 10 is provided with a cover electrode 23 disposed opposite to the conductive grindstone 1.
It is connected to the. A non-contact partition plate (not shown) is fixed to both ends of the electrode 23 on the surface of the conductive grindstone 1, and a hose 21 for discharging an electrolyte is connected to the inner surface of the electrode 23. I have. Then, while supplying the electrolytic solution to the space surrounded by the conductive grindstone 1 and the electrode 23 and the partition plates at both ends thereof, a current flows between the conductive grindstone 1 and the electrode 23 to obtain an in-process dressing effect. Things.
【０００３】ところで、このようなカップ型砥石にて研
削加工を行う場合には、インフィード方式という研削方
法が用いられる。これはカップ型砥石の回転軸方向に一
定速度の切込み送りを与えつつ、ロータリーテーブルの
回転にてワークの切込み送りを行うものである。これを
図７及び図８にて説明すれば、図７は加工機を上面から
見た模式図であり、図８は図７のＡ方向から見た図であ
る。図のように、カップ型砥石１の切込みにおいて、Ｙ
方向（図面上の上下方向）の切込みは砥石軸またはワー
ク軸を移動することにより与える。また、Ｘ方向（図面
上の左右方向）の切込みはロータリーテーブル４の回転
により与える。ワーク３の加工はＹ方向及びＸ方向の合
成した切込みで行われる。従って、ワーク３から見た切
込み方向は砥石軸に対して傾斜する。そのため、図８に
示すように、Ｙ方向の切込みを与えず、Ｘ方向の切込み
を与えるスパークアウトまでの加工途中では、ワーク３
の加工面はテーブル４の上面に対して傾斜する。ここ
で、砥石１による加工は砥粒層２の側面部と底面部との
両面を使って行われ、側面部と底面部との加工に寄与す
る割合は、Ｙ方向の切込み速度ＶX と、Ｘ方向の切込み
速度たるテーブル４の周速度ＶY によって定まる。[0003] In the case of performing grinding with such a cup-type grindstone, a grinding method called an in-feed system is used. In this method, a cut feed of a work is performed by rotation of a rotary table, while a cut feed at a constant speed is provided in a rotation axis direction of a cup-type grindstone. This will be described with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. 7 is a schematic diagram of the processing machine viewed from the top, and FIG. 8 is a diagram viewed from the direction A of FIG. As shown in FIG.
The cut in the direction (vertical direction in the drawing) is given by moving the grindstone axis or the work axis. Further, the cut in the X direction (left and right direction in the drawing) is given by the rotation of the rotary table 4. The processing of the work 3 is performed by a combined cut in the Y direction and the X direction. Therefore, the cutting direction viewed from the work 3 is inclined with respect to the grinding wheel axis. Therefore, as shown in FIG. 8, the workpiece 3 is not cut in the Y direction, and is not processed until the spark out in which the cut in the X direction is performed.
Is inclined with respect to the upper surface of the table 4. Here, processing by the grindstone 1 is performed with the both surfaces of the side surface portion and the bottom portion of the abrasive layer 2, the ratio contributes to machining of the side surface portion and the bottom portion has a feed speed V X in the Y direction, X direction determined by the peripheral velocity V Y of the feed speed serving table 4.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
なカップ型砥石を用いたインフィード方式の研削加工で
は、Ｙ方向の切込み速度とＸ方向の切込み速度との割合
によって砥粒層の側面部と底面部とのワーク除去量の割
合が異なり、このため、砥粒層の目詰まりの度合いも異
なっていた。このことをより詳しく説明すれば以下の通
りである。まず、Ｘ及びＹ方向の切込み速度の関係によ
り加工条件を以下の３パターンに分ける。 ＶX ＝ＶY （図９） ＶX ＞ＶY （図１０） ＶX ＜ＶY （図１１） 次に、これら３パターンの加工条件のそれぞれについ
て、砥粒層２の各面の単位時間あたりのワーク除去断面
積について説明する。However, in the infeed-type grinding using the cup-type grindstone as described above, the side portion of the abrasive grain layer is determined by the ratio of the cutting speed in the Y direction to the cutting speed in the X direction. The ratio of the amount of workpiece removal between the bottom and the bottom was different, and therefore, the degree of clogging of the abrasive layer was also different. This will be described in more detail below. First, the processing conditions are divided into the following three patterns according to the relationship between the cutting speeds in the X and Y directions. V X = V Y (FIG. 9) V X > V Y (FIG. 10) V X <V Y (FIG. 11) Next, for each of these three processing conditions, the unit time of each surface of the abrasive grain layer 2 was determined. A description will be given of the work removal cross-sectional area per unit.
【０００５】まず、ＶX ＝ＶY の場合を図９にて説明
する。図９は図８のＣ部を拡大して加工途中のワーク３
の断面を示す図である。台形ａｂｃｄは約半周前のカッ
プ型砥石１の砥粒層２の内側面が研削加工したワーク３
の断面である。単位時間Δｔあたりに砥粒層２の底面断
面がＯＺ0 からＯ1 Ｚ1 に移動したとき、Ｙ方向の切込
み量はＶY ・Δｔであり、Ｘ方向の切込み量はＶX ・Δ
ｔである。いま、ＶX＝ＶY の条件から、ワーク３から
見た砥石１の切込み方向（矢印Ｂ1 ）、言い替えれば加
工面Ｚ0 Ｚ1 と砥石軸とのなす角はα＝４５度である。
また、砥粒層２の側面部及び底面部のそれぞれの単位長
さをＯＹ0 、ＯＸ0 で示すと、単位時間・単位長さあた
りに各面がワーク３を除去した断面積は以下のようにな
る。 側面部ＯＹ0 ：ＯＹ0 ×ＶX ・Δｔ …(1) 底面部ＯＸ0 ：ＯＸ0 ×ＶY ・Δｔ …(2) ここで、ＶX ＝ＶY 、ＯＹ0 ＝ＯＸ0 なので、(1) 式と
(2) 式は等しくなる。従って、ＶX ＝ＶY の場合は、砥
粒層２の側面部と底面部との単位時間あたりの除去断面
積は等しいことになる。First, the case where V X = V Y will be described with reference to FIG. FIG. 9 is an enlarged view of part C in FIG.
FIG. The trapezoidal abcd is a work 3 in which the inner surface of the abrasive grain layer 2 of the cup-shaped grindstone 1 about half a circle before is ground.
FIG. When the bottom cross section of the abrasive layer 2 moves from OZ 0 to O 1 Z 1 per unit time Δt, the cutting amount in the Y direction is V Y · Δt, and the cutting amount in the X direction is V X · Δ
t. Now, from the condition of V X = V Y , the cutting direction (arrow B 1 ) of the grindstone 1 viewed from the work 3, in other words, the angle between the processing surface Z 0 Z 1 and the grindstone axis is α = 45 degrees.
In addition, when the unit lengths of the side surface and the bottom surface of the abrasive layer 2 are denoted by OY 0 and OX 0 , the cross-sectional area of each surface removing the work 3 per unit time / unit length is as follows. become. Side OY 0 : OY 0 × V X · Δt (1) Bottom OX 0 : OX 0 × V Y · Δt (2) Here, since V X = V Y and OY 0 = OX 0 , (1) ) Expression
Equation (2) becomes equal. Therefore, when V X = V Y , the removal cross-sectional area per unit time between the side surface and the bottom surface of the abrasive layer 2 is equal.
【０００６】次に、ＶＸ＞ＶＹの場合を図１０にて説
明する。図１０は図８のＣ部を拡大して加工途中のワー
ク３の断面を示す図である。台形ａｂｃｄは約半周前の
カップ型砥石１の砥粒層２の内側面が研削加工したワー
ク３の断面である。単位時間Δｔあたりに砥粒層２の底
面断面がＯＺ０からＯ２Ｚ２に移動したとき、Ｙ方向の
切込み量はＶＹ・Δｔであり、Ｘ方向の切込み量はＶＸ
・Δｔである。いま、ＶＸ＞ＶＹの条件から、ワーク３
から見た砥石１の切込み方向（矢印Ｂ２）、言い替えれ
ば加工面Ｚ０Ｚ２と砥石軸とのなす角はα＞４５度であ
る。また、砥粒層２の側面部及び底面部のそれぞれの単
位長さをＯＹ０、ＯＸ０で示すと、単位時間・単位長さ
あたりに各面がワーク３を除去した断面積は以下のよう
になる。 側面部ＯＹ０：ＯＹ０×ＶＸ・Δｔ …（３） 底面部ＯＸ０：ＯＸ０×ＶＹ・Δｔ …（４） ここで、ＶＸ＞ＶＹ、ＯＹ０＝ＯＸ０なので、（３）式
の値は（４）式の値よりも大きくなる。従って、ＶＸ＞
ＶＹの場合は、砥粒層２の側面部と底面部との単位時間
あたりの除去断面積は側面部の方が大きくなる。Next, the case where V X > V Y will be described with reference to FIG. FIG. 10 is an enlarged view of a portion C in FIG. 8 showing a cross section of the workpiece 3 in the middle of processing. The trapezoidal abcd is a cross section of the work 3 in which the inner surface of the abrasive layer 2 of the cup-shaped grindstone 1 about half a circle before is ground. When the bottom cross section of the abrasive layer 2 moves from OZ 0 to O 2 Z 2 per unit time Δt, the cutting amount in the Y direction is V Y · Δt, and the cutting amount in the X direction is V X
Δt. Now, based on the condition of V X > V Y , the work 3
The cutting direction (arrow B 2 ) of the grindstone 1 as viewed from above, in other words, the angle between the processing surface Z 0 Z 2 and the grindstone axis is α> 45 degrees. When the unit lengths of the side surface and the bottom surface of the abrasive layer 2 are denoted by OY 0 and OX 0 , the cross-sectional area of each surface per unit time and unit length from which the workpiece 3 is removed is as follows. become. Side portion OY 0 : OY 0 × V X · Δt (3) Bottom portion OX 0 : OX 0 × V Y · Δt (4) Here, since V X > V Y , OY 0 = OX 0 , (3) The value of equation (4) is larger than the value of equation (4). Therefore, V X >
For V Y, removal cross-sectional area per unit time of the side surface portion and the bottom portion of the abrasive layer 2 becomes larger toward the side surface portion.
【０００７】次に、ＶＸ＜ＶＹの場合を図１１にて説
明する。図１１は図８のＣ部を拡大して加工途中のワー
ク３の断面を示す図である。台形ａｂｃｄは約半周前の
カップ型砥石１の砥粒層２の内側面が研削加工したワー
ク３の断面である。単位時間Δｔあたりに砥粒層２の底
面断面がＯＺ０からＯ３Ｚ３に移動したとき、Ｙ方向の
切込み量はＶＹ・Δｔであり、Ｘ方向の切込み量はＶＸ
・Δｔである。いま、ＶＸ＜ＶＹの条件から、ワーク３
から見た砥石１の切込み方向（矢印Ｂ３）、言い替えれ
ば加工面Ｚ０Ｚ３と砥石軸とのなす角はα＜４５度であ
る。また、砥粒層２の側面部及び底面部のそれぞれの単
位長さをＯＹ０、ＯＸ０で示すと、単位時間・単位長さ
あたりに各面がワーク３を除去した断面積は以下のよう
になる。 側面部ＯＹ０：ＯＹ０×ＶＸ・Δｔ …（５） 底面部ＯＸ０：ＯＸ０×ＶＹ・Δｔ …（６） ここで、ＶＸ＜ＶＹ、ＯＹ０＝ＯＸ０なので、（５）式
の値は（６）式の値より小さくなる。従って、ＶＸ＜Ｖ
Ｙの場合は、砥粒層２の側面部と底面部との単位時間あ
たりの除去断面積は底面部の方が大きくなる。Next, the case where V X <V Y will be described with reference to FIG. FIG. 11 is an enlarged view of a portion C in FIG. The trapezoidal abcd is a cross section of the work 3 in which the inner surface of the abrasive layer 2 of the cup-shaped grindstone 1 about half a circle before is ground. When the bottom section of the abrasive layer 2 moves from the OZ 0 to O 3 Z 3 per unit time Delta] t, the depth of cut in the Y direction is V Y · Delta] t, the depth of cut in the X direction V X
Δt. Now, from the condition of V X <V Y , the work 3
The cutting direction (arrow B 3 ) of the grindstone 1 as viewed from above, in other words, the angle between the processing surface Z 0 Z 3 and the grindstone axis is α <45 degrees. When the unit lengths of the side surface and the bottom surface of the abrasive layer 2 are denoted by OY 0 and OX 0 , the cross-sectional area of each surface per unit time and unit length from which the workpiece 3 is removed is as follows. become. Side portion OY 0 : OY 0 × V X · Δt (5) Bottom portion OX 0 : OX 0 × V Y · Δt (6) Here, V X <V Y , OY 0 = OX 0 , (5) ) Is smaller than the value of equation (6). Therefore, V X <V
In the case of Y , the removal cross-sectional area per unit time between the side surface portion and the bottom surface portion of the abrasive grain layer 2 is larger at the bottom surface portion.
【０００８】以上説明したように、切込み速度比の変化
により砥粒層の側面部と底面部とで目詰まり状態が異な
る。従って、各面に対して適当な電解インプロセスドレ
ッシングを行う必要がある。例えば、切込み速度比ＶＸ
／ＶＹが１より大きい、即ちＶＸ＞ＶＹの場合、目詰ま
りの進行は砥粒層の側面部の方が速いので、側面部の電
解インプロセスドレッシングを強めにする必要がある。
しかしながら、上記従来技術においては、カップ型導電
性砥石とカバー電極とその両端の仕切板とで形成した空
間に電解液を満たして電解インプロセスドレッシングを
行うので、砥粒層表面に作用する電解インプロセスドレ
ッシングの強さは均等に作用し、常に砥粒層の側面と底
面とは均等にドレッシングされる。これは一般に電解槽
の中に陰極板と陽極板とを漬けた電気分解の場合と同様
な原理であり、両極板の間隔が変化しても流れる電流値
は変化しないからである。このような従来技術で電解イ
ンプロセスドレッシングを行う場合には各面の電解作用
を独立に調整することはできないので、目詰まりを発生
しやすい面を基準に電解強さを調整するため、他方の面
では過剰な電解インプロセスドレッシングを行うことに
なる。As described above, the clogging state is different between the side surface and the bottom surface of the abrasive grain layer due to the change in the cutting speed ratio. Therefore, it is necessary to perform appropriate electrolytic in-process dressing on each surface. For example, the cutting speed ratio V X
When / V Y is larger than 1, that is, when V X > V Y , the progress of clogging is faster on the side surface of the abrasive grain layer. Therefore, it is necessary to strengthen the electrolytic in-process dressing on the side surface.
However, in the above-mentioned conventional technique, since the space formed by the cup-shaped conductive grindstone, the cover electrode, and the partition plates at both ends is filled with the electrolytic solution and the electrolytic in-process dressing is performed, the electrolytic solution acting on the surface of the abrasive grain layer is formed. The strength of the process dressing acts evenly and the side and bottom surfaces of the abrasive layer are always dressed evenly. This is generally the same principle as in the case of electrolysis in which a cathode plate and an anode plate are immersed in an electrolytic cell, and the value of the flowing current does not change even if the distance between the two electrode plates changes. When performing electrolytic in-process dressing with such a conventional technique, since the electrolytic action of each surface cannot be adjusted independently, the electrolytic strength is adjusted on the basis of the surface where clogging is likely to occur. On the surface side, excessive electrolytic in-process dressing is performed.
【０００９】ところが、電解インプロセスドレッシング
は電解作用により砥粒を保持する導電性ボンド（結合
剤）を溶解し、砥粒を露出することにより目詰まり、目
つぶれを防止するものであり、過剰な電解インプロセス
ドレッシングを行うと、導電性ボンドの溶解速度が上昇
し、砥粒層が電解により減耗してしまう。従って、上記
従来技術では、どちらか一方の面が目詰まりを起こす
か、または、過剰な電解による摩耗で砥石寿命が低下す
ることになり、砥粒層の側面部と底面部の両方に見合っ
た電解インプロセスドレッシングを行うことはできなか
った。However, the electrolytic in-process dressing dissolves a conductive bond (binder) holding the abrasive grains by an electrolytic action, and prevents clogging and blinding by exposing the abrasive grains. When the electrolytic in-process dressing is performed, the dissolution rate of the conductive bond increases, and the abrasive layer is worn away by the electrolysis. Therefore, in the above prior art, either one of the surfaces causes clogging, or the grinding wheel life is reduced by abrasion due to excessive electrolysis, and both sides and bottoms of the abrasive layer are matched. Electrolytic in-process dressing could not be performed.
【００１０】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
ので、切込み速度比（ＶX ／ＶY ）に応じて砥粒層の側
面部と底面部とに見合った電解をかけることにより、砥
石寿命を向上することのできる電解インプロセスドレッ
シング研削方法及び装置を提供することを目的とする。[0010] The present invention has been made in view of the above problems, and by performing electrolysis corresponding to the side surface and the bottom surface of the abrasive layer according to the cutting speed ratio (V X / V Y ), An object of the present invention is to provide an electrolytic in-process dressing grinding method and apparatus capable of improving the life of a grindstone.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に係る本発明の電解インプロセスドレッシン
グ方法では、導電性砥石の砥粒層の側面に電流を印加す
る電極と、導電性砥石の底面に電流を印加する電極とを
有する電解インプロセスドレッシング装置に導電性砥石
を装着してワークを加工する電解インプロセスドレッシ
ング方法において、砥石の砥粒層の側面によって切込む
切込み速度と砥石の砥粒層の底面によって切込む切込み
速度とを比較し、切込み速度の大きい側の砥粒層を電解
する電極に印加する電流値を大きくし、他の電極に印加
する電流値を小さくすることとした。また、請求項２に
係る本発明の電解インプロセスドレッシング方法では、
導電性砥石の砥粒層の側面に電流を印加する電極と、導
電性砥石の底面に電流を印加する電極とを有する電解イ
ンプロセスドレッシング装置にカップ状の導電性砥石を
装着してワークを加工する電解インプロセスドレッシン
グ方法において、砥石の砥粒層の側面によって切込む切
込み速度と砥石の砥粒層の底面によって切込む切込み速
度とを比較し、切込み速度の大きい側の砥粒層を電解す
る電極に印加する電流値を大きくし、他の電極に印加す
る電流値を小さくすることとした。According to a first aspect of the present invention, there is provided an electrolytic in-process dressing method comprising: an electrode for applying a current to a side surface of an abrasive grain layer of a conductive grinding wheel; In an electrolytic in-process dressing method of processing a work by mounting a conductive grindstone on an electrolytic in-process dressing device having an electrode for applying a current to the bottom surface of the grindstone, a cutting speed and a grindstone cut by a side surface of an abrasive grain layer of the grindstone Comparing the cutting speed with the bottom surface of the abrasive layer of the above, increasing the current value applied to the electrode that electrolyzes the abrasive layer on the side with the higher cutting speed, and decreasing the current value applied to the other electrodes And Further, in the electrolytic in-process dressing method of the present invention according to claim 2,
Processing a workpiece by mounting a cup-shaped conductive grindstone on an electrolytic in-process dressing device that has an electrode that applies current to the side surface of the abrasive grain layer of the conductive grindstone and an electrode that applies current to the bottom surface of the conductive grindstone In the electrolytic in-process dressing method, the cutting speed cut by the side surface of the abrasive layer of the grindstone is compared with the cutting speed cut by the bottom surface of the abrasive layer of the grindstone, and the abrasive layer on the side with the larger cutting speed is electrolyzed. The current value applied to the electrodes was increased, and the current values applied to the other electrodes were reduced.
【００１２】また、請求項３に係る本発明の電解インプ
ロセスドレッシング装置は、導電性砥石と、前記導電性
砥石の砥粒層の側面を電解ドレスする電極と、前記導電
性砥石の砥粒層の底面を電解ドレスする電極と、前記各
電極に電流を印加するために各電極に接続されている電
源と、前記導電性砥石の砥粒層の側面によって切込む切
込み速度と砥石の砥粒層の底面によって切込む切込み速
度との比較結果に応じて、各電極に印加する電流値を変
化させる、前記電源と前記各電極との間に接続された可
変抵抗と、を具備するものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided an electrolytic in-process dressing apparatus comprising: a conductive grindstone; an electrode for electrolytically dressing a side surface of an abrasive grain layer of the conductive grindstone; and an abrasive grain layer of the conductive grindstone. An electrode for electrolytically dressing the bottom surface, a power supply connected to each electrode for applying a current to each of the electrodes, a cutting speed cut by a side surface of the abrasive layer of the conductive grindstone, and an abrasive layer of the grindstone And a variable resistor connected between the power supply and each of the electrodes for changing a current value applied to each of the electrodes in accordance with a result of comparison with a cutting speed cut by the bottom surface.
【００１３】さらに、請求項４に係る本発明の電解イン
プロセスドレッシング装置では、請求項３記載の電解イ
ンプロセスドレッシング装置において、前記電極に弱電
性クーラントを供給するための孔を複数設けることとし
た。Further, in the electrolysis in-process dressing apparatus according to the present invention according to claim 4, in the electrolysis in-process dressing apparatus according to claim 3, a plurality of holes for supplying a weak electric coolant to the electrode are provided. .
【００１４】そして、請求項５に係る本発明の電解イン
プロセスドレッシング装置は、請求項３または請求項４
記載の電解インプロセスドレッシング装置において、前
記各電極間に設けた絶縁体をさらに具備するものであ
る。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the electrolytic in-process dressing apparatus according to the third or fourth aspect.
The electrolytic in-process dressing apparatus according to the above, further comprising an insulator provided between the electrodes.
【００１５】本発明を構成する手段について、図面を用
いて例示してより詳しく説明すれば、次の通りである。
図１は本発明の例示を構成する装置の概念図である。図
示の通り、この装置は、カップ型導電性砥石１を砥石軸
方向に一定の速度で切込みを与えながら、または、ロー
タリーテーブル４をテーブル軸方向に一定の速度で切込
みを与えながら、前記テーブル４を回転させてワーク３
の研削加工を行うようになっている。そして、砥粒層２
の両側面及び底面に対向して側面用電極６、７、底面用
電極８が配置されている。なお、これらの両電極は絶縁
されている。ここで、側面用電極６及び７、ならびに底
面用電極８は電流調整装置９を介して電源１０の陰極に
接続されている。この電流調整装置９は各電極６、７、
８と各砥粒層との間に流れる電流値を調整するためのも
のである。一方、電源１０の陽極は給電ブラシ５を介し
てカップ型導電性砥石１に接続されている。そして、側
面用電極６、７と砥石１の砥粒層２の両側面との間には
隙間ｔ１を、底面用電極８と砥粒層２の底面との間には
隙間ｔ２を設け、この隙間にクーラントノズル１１によ
り弱電性クーラントを供給する。The means constituting the present invention will be described in more detail by way of example with reference to the drawings.
FIG. 1 is a conceptual diagram of an apparatus constituting an example of the present invention. As shown in the drawing, the apparatus is configured to cut the cup-shaped conductive grindstone 1 at a constant speed in the direction of the grindstone or to make the rotary table 4 cut at a constant speed in the direction of the table axis. Rotate to work 3
Grinding is performed. And the abrasive layer 2
The side electrodes 6, 7 and the bottom electrode 8 are arranged so as to face both side surfaces and the bottom surface. These two electrodes are insulated. Here, the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8 are connected to a cathode of a power supply 10 via a current adjusting device 9. The current adjusting device 9 is provided with each of the electrodes 6, 7,
This is for adjusting the value of the current flowing between the abrasive grains 8 and the respective abrasive grain layers. On the other hand, the anode of the power supply 10 is connected to the cup-shaped conductive grindstone 1 via the power supply brush 5. A gap t1 is provided between the side electrodes 6, 7 and both side surfaces of the abrasive layer 2 of the grindstone 1, and a gap t2 is provided between the bottom electrode 8 and the bottom surface of the abrasive layer 2. The coolant nozzle 11 supplies a weakly electric coolant to the gap.
【００１６】[0016]
【作用】上記例示した構成からなる本発明の電解インプ
ロセスドレッシング方法及び装置の作用を説明すれば次
の通りである。前述したように切込み速度比により砥粒
層の各面のワーク除去量が変わるため、砥粒層の各面に
適当な電解インプロセスドレッシングを行うには、その
ワーク除去量に見合った電解量を各面に独立に与える必
要がある。ここで、砥粒層２の側面部及び底面部に流す
電流値をＡ１及びＡ２とする。Ｘ方向の切込み速度の増
加に伴い、砥粒層２の側面部の電流値Ａ１を増加し、一
方、Ｙ方向の切込み速度の増加に伴い、砥粒層２の底面
部の電流値Ａ２を増加する。側面用電極６、７は砥粒層
２の側面部を、底面用電極８は砥粒層２の底面部を電解
するので、各面の電流値はそれぞれの電極と接続してい
る電流調整装置９により設定できる。そこで、電流調整
装置９を調整して、砥粒層２の各面の電流値を切込み速
度比に応じて設定する。The operation of the electrolytic in-process dressing method and apparatus of the present invention having the above-described configuration will be described below. As described above, the amount of work removal on each surface of the abrasive grain layer changes depending on the cutting speed ratio.To perform appropriate electrolytic in-process dressing on each surface of the abrasive grain layer, the amount of electrolysis corresponding to the amount of work removal is required. Each face must be given independently. Here, the current values flowing through the side and bottom portions of the abrasive layer 2 are denoted by A1 and A2. As the cutting speed in the X direction increases, the current value A1 on the side surface of the abrasive grain layer 2 increases. On the other hand, as the cutting speed in the Y direction increases, the current value A2 on the bottom surface of the abrasive grain layer 2 increases. I do. Since the side electrodes 6 and 7 electrolyze the side surface of the abrasive grain layer 2 and the bottom electrode 8 electrolyzes the bottom surface of the abrasive grain layer 2, the current value of each surface is adjusted by a current adjusting device connected to each electrode. 9 can be set. Therefore, the current adjusting device 9 is adjusted to set the current value of each surface of the abrasive grain layer 2 according to the cutting speed ratio.
【００１７】本発明の例示の構成では、砥粒層２の側面
部及び底面部と側面用電極６、７及び底面用電極８との
隙間ｔ１、ｔ２を好ましくは０．１〜０．３ｍｍに設定
する。そして、弱電性クーラントをクーラントノズル１
１より隙間ｔ１、ｔ２に供給しつつ、電源１０を作動
し、砥粒層２と各電極との間に電解作用を発生させて電
解インプロセスドレッシングを行う。In the exemplary configuration of the present invention, the gaps t1 and t2 between the side and bottom portions of the abrasive layer 2 and the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8 are preferably set to 0.1 to 0.3 mm. Set. Then, the weak electric coolant is supplied to the coolant nozzle 1.
The power source 10 is operated while supplying power to the gaps t1 and t2 from 1 to generate an electrolytic action between the abrasive layer 2 and each electrode, thereby performing electrolytic in-process dressing.
【００１８】以下、添付図面を参照して本発明に係る電
解インプロセスドレッシング方法及び装置のいくつかの
実施例を説明する。なお、図面の説明において同一の要
素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。Several embodiments of the method and apparatus for electrolytic in-process dressing according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements will be denoted by the same reference symbols, without redundant description.
【００１９】[0019]
【実施例１】まず、本発明の実施例１を説明する。図２
は実施例１の電解インプロセスドレッシング装置を示す
立面図である。図示の通りこの装置は、カップ型導電性
砥石１を砥石軸方向に一定の速度で切込みを与えなが
ら、または、ロータリーテーブル４をテーブル軸方向に
一定の速度で切込みを与えながら、前記テーブル４を回
転させてワーク３の研削加工を行うようになっている。
そして、砥粒層２の両側面及び底面に対向して側面用電
極６、７ならびに底面用電極８が配置されている。そし
て、各電極の間は電極絶縁体１２により絶縁されてい
る。ここで、側面用電極６及び７ならびに底面用電極８
はそれぞれ側面用電流計１３、１４、底面用電流計１５
及び側面用可変抵抗１６、１７、底面用可変抵抗１８を
介して電源１０に接続されている。一方、電源１０の陽
極は給電ブラシ５を介してカップ型導電性砥石１に接続
されている。なお、電源１０はパルス電流を発生するも
のである。そして、側面用電極６、７と砥石１の砥粒層
２の両側面との間には隙間ｔ１を、底面用電極８と砥粒
層２の底面との間には隙間ｔ２を設け、これらの隙間に
クーラントノズル１１から弱電性クーラントを供給す
る。なお、本実施例において砥粒層２の断面は、縦と横
の比率が同じであり、側面用電極６、７及び底面用電極
８の大きさは等しくなっている。Embodiment 1 First, Embodiment 1 of the present invention will be described. FIG.
1 is an elevation view showing an electrolytic in-process dressing apparatus of Example 1. FIG. As shown in the figure, this apparatus cuts the table 4 while giving a cut to the cup-type conductive grindstone 1 at a constant speed in the direction of the grindstone, or while giving a cut to the rotary table 4 at a constant speed in the direction of the table axis. The workpiece 3 is ground by being rotated.
The electrodes 6 and 7 for the side surfaces and the electrode 8 for the bottom surface are arranged so as to face both side surfaces and the bottom surface of the abrasive grain layer 2. Each electrode is insulated by an electrode insulator 12. Here, the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8
Are the side ammeters 13 and 14 and the bottom ammeter 15 respectively.
In addition, it is connected to the power supply 10 via the side variable resistors 16 and 17 and the bottom variable resistor 18. On the other hand, the anode of the power supply 10 is connected to the cup-shaped conductive grindstone 1 via the power supply brush 5. The power supply 10 generates a pulse current. A gap t1 is provided between the side electrodes 6, 7 and both side faces of the abrasive layer 2 of the grindstone 1, and a gap t2 is provided between the bottom electrode 8 and the bottom surface of the abrasive layer 2. Is supplied from the coolant nozzle 11 to the gap. In the present embodiment, the cross section of the abrasive layer 2 has the same vertical to horizontal ratio, and the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8 have the same size.
【００２０】次に、本実施例の作用を説明する。砥粒層
２の側面部及び底面部と側面用電極６、７、底面用電極
８との隙間ｔ１、ｔ２を好ましくは０．１〜０．３ｍｍ
に設定する。次に、弱電性クーラントをクーラントノズ
ル１１より隙間ｔ１、ｔ２に供給しつつ、カップ型導電
性砥石１を回転する。電源１０を作動し、砥粒層２と各
電極６、７、８との間に電解作用を発生されて電解イン
プロセスドレッシングを行う。このとき側面部と底面部
との電流値の和が０．３〜１．５Ａとなるように電源１
０を調整する。側面用電極６、７は砥粒層２の側面部
を、底面用電極８は砥粒層２の底面部を電解するので、
各面の電流値はそれぞれの電極に接続された可変抵抗１
６、１７、１８により設定できる。そして、砥粒層２の
側面部、底面部の電流値Ａ１、Ａ２は切込み速度比から
求める。Next, the operation of this embodiment will be described. The gaps t1 and t2 between the side face and bottom face of the abrasive grain layer 2 and the side face electrodes 6, 7 and the bottom face electrode 8 are preferably 0.1 to 0.3 mm.
Set to. Next, the cup-type conductive grindstone 1 is rotated while supplying the weakly-electric coolant from the coolant nozzle 11 to the gaps t1 and t2. The power supply 10 is operated, and an electrolytic action is generated between the abrasive layer 2 and each of the electrodes 6, 7, 8 to perform electrolytic in-process dressing. At this time, the power supply 1 is controlled so that the sum of the current values of the side and bottom portions is 0.3 to 1.5 A.
Adjust 0. Since the side electrodes 6 and 7 electrolyze the side surface of the abrasive layer 2 and the bottom electrode 8 electrolyzes the bottom surface of the abrasive layer 2,
The current value of each surface is determined by the variable resistor 1 connected to each electrode.
6, 17, and 18 can be set. Then, the current values A1 and A2 of the side and bottom portions of the abrasive grain layer 2 are obtained from the cutting speed ratio.
【００２１】図３に、ワークに対する砥石の切込み速度
比と各電極に印加する電流値との関係を示す。図におい
て、ＶX ／ＶY はワークに対する砥石の切込み速度比、
β1は全ての電極に印加される電流値に対する側面用電
極６、７に印加される電流値の割合、β2 は全ての電極
に印加される電流値に対する底面用電極８に印加される
電流値の割合を示している。本実施例においては、砥石
１の砥粒層２の内周面を電解ドレスする側面用電極６と
砥粒層２の外周面をドレスする側面用電極７とは同じ電
流値を印加するので、以降、β1 と称するときは砥粒層
の内周面を電解ドレスする電極６に印加される電流の割
合か、砥粒層の外周面をドレスする電極７に印加される
電流の割合を指すこととする。FIG. 3 shows the relationship between the cutting speed ratio of the grindstone to the work and the current value applied to each electrode. In the figure, V X / V Y is the cutting speed ratio of the grindstone to the workpiece,
β 1 is the ratio of the current applied to the side electrodes 6 and 7 to the current applied to all the electrodes, and β 2 is the current applied to the bottom electrode 8 relative to the current applied to all the electrodes. Indicates the percentage of the value. In this embodiment, the same current value is applied to the side electrode 6 for electrolytically dressing the inner peripheral surface of the abrasive grain layer 2 of the grindstone 1 and the side electrode 7 for dressing the outer peripheral surface of the abrasive grain layer 2. later, when called beta 1 or the ratio of the current applied to the electrodes 6 of the electrolyte dress the inner peripheral surface of the abrasive grain layer, it refers to the percentage of the current applied to the electrodes 7 to dress the outer peripheral surface of the abrasive layer It shall be.
【００２２】図３に示すように、切込み速度比が大きい
ときほど（Ｙ方向の切込み速度に比べてＸ方向の切込み
速度の方が大きいほど）、底面用電極８に印加する電流
値より側面用電極６、７に印加する電流値を大きくし、
切込み速度比が小さいときほど（Ｙ方向の切込み速度に
比べてＸ方向の切込み速度の方が小さいほど）、底面用
電極８に印加する電流値より側面用電極６、７に印加す
る電流値を小さくしている。また、切込み速度比が１の
とき（Ｙ方向の切込み速度とＸ方向の切込み速度が等し
い場合）、電流値の割合β1 及びβ2 はそれぞれ０．５
としている。ここで、例えばＹ方向への切込みがなく、
Ｘ方向への切込みのみの場合でも、砥石の下面による加
工は多少あるため、Ｙ方向への切込みがないときに、底
面用電極８にかける電流値を０にすると、砥石下面の砥
粒層は目つぶれを起こしてしまう。逆にＸ方向への切込
みがなく、Ｙ方向への切込みのみの場合でも、砥石の側
面による加工は多少あるため、Ｘ方向への切込みがない
ときに、側面用電極６、７にかける電流値を０にする
と、砥石側面の砥粒層は目つぶれを起こしてしまう。よ
って図３に示すように、切込み比が０もしくは∞に近づ
いても、側面用電極６、７及び底面用電極８に印加する
電流値の割合のどちらか一方を０とはしない。As shown in FIG. 3, as the cutting speed ratio increases (the cutting speed in the X direction is higher than the cutting speed in the Y direction), the current applied to the bottom surface electrode 8 is smaller than the current value applied to the bottom surface electrode 8. The current value applied to the electrodes 6 and 7 is increased,
When the cutting speed ratio is smaller (the cutting speed in the X direction is smaller than the cutting speed in the Y direction), the current value applied to the side electrodes 6 and 7 is smaller than the current value applied to the bottom electrode 8. I'm making it smaller. When the cutting speed ratio is 1 (when the cutting speed in the Y direction is equal to the cutting speed in the X direction), the current value ratios β 1 and β 2 are 0.5
And Here, for example, there is no cut in the Y direction,
Even when only cutting in the X direction is performed, there is some processing by the lower surface of the grindstone. Therefore, when the current value applied to the bottom electrode 8 is set to 0 when there is no cutting in the Y direction, the abrasive layer on the lower surface of the grindstone becomes It causes blindness. Conversely, even if there is no cut in the X direction and only the cut in the Y direction, there is some processing by the side surface of the grindstone. Therefore, when there is no cut in the X direction, the current value applied to the side electrodes 6 and 7 If is set to 0, the abrasive layer on the side of the grindstone will be blind. Therefore, as shown in FIG. 3, even when the cutting ratio approaches 0 or ∞, one of the ratios of the current values applied to the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8 is not set to 0.
【００２３】以上のように、図３の切込み速度比（ＶX
／ＶY ）から砥粒層２の側面部及び底面部に流す電流値
の比率（β1 、β2 ）を求めれば、砥粒層２の側面部及
び底面部の実際の電流値は次のように求められる。（な
お、β1 ＋β2 ＝１である。） 側面部の電流値：Ａ１＝Ａ０×β1 底面部の電流値：Ａ２＝Ａ０×β2 そして、求めた電流値となるように、側面用電流計１
３、１４、底面用電流計１５を見ながら、各可変抵抗１
６、１７、１８を調整する。As described above, the cutting speed ratio (V X
/ V Y ), the ratio of the current value (β 1 , β 2 ) flowing to the side surface portion and the bottom surface portion of the abrasive grain layer 2 is obtained. Asked to do so. (It should be noted that β 1 + β 2 = 1.) Current value at the side surface portion: A1 = A0 × β 1 Current value at the bottom portion portion: A2 = A0 × β 2 Ammeter 1
3, 14 and each variable resistor 1
Adjust 6, 17, and 18.
【００２４】以上のように本実施例によれば、砥粒層の
側面部と底面部とに切込み速度比に見合った、即ち、ワ
ーク除去量に見合った電流値を独立に設定することが可
能となって、過剰な電解による砥石の減耗を抑えること
ができる。As described above, according to this embodiment, it is possible to independently set the current value corresponding to the cutting speed ratio on the side and bottom portions of the abrasive layer, that is, the current value corresponding to the work removal amount. Thus, wear of the grinding wheel due to excessive electrolysis can be suppressed.
【００２５】なお、クーラント供給方法としては、砥石
軸中心を中空にして、その孔を通して供給するようにし
たり、クーラントノズルを電極端面部から供給するよう
にしてもよい。また、図３に示した電流値の切込み速度
と各電極に印加される電流値の割合との関係は、ロータ
リーテーブル上のワークの位置と、ワークの径と、砥石
の径と、ロータリーテーブルの中心と砥石の中心との距
離と、各電極の電極面の面積と、砥石の砥粒層の断面の
縦と横の比率とによって変化するため、この関係は、図
３のような関係のみとは限らない。As a coolant supply method, the center of the grinding wheel shaft may be hollow and the coolant may be supplied through the hole, or the coolant nozzle may be supplied from the electrode end face. The relationship between the cutting speed of the current value shown in FIG. 3 and the ratio of the current value applied to each electrode is as follows: the position of the work on the rotary table, the diameter of the work, the diameter of the grindstone, and the diameter of the rotary table. Since this varies depending on the distance between the center and the center of the grindstone, the area of the electrode surface of each electrode, and the ratio of the length and width of the cross section of the abrasive grain layer of the grindstone, this relationship is only the relationship shown in FIG. Not necessarily.
【００２６】[0026]
【実施例２】次に、本発明の実施例２を説明する。図４
は実施例２の電解インプロセスドレッシング装置を示す
立面図である。図示の通りこの実施例では、側面用電極
６、７及び底面用電極８が絶縁体からなる電極保持部材
１９に固定されている。電極保持部材１９の内部ａは空
洞になっており、クーラントポンプ（図示せず）からの
ホース２１を介してクーラントが供給される。そして、
クーラントは前記各電極６、７、８に設けられた複数の
孔２０から噴出する。Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG.
FIG. 2 is an elevational view showing an electrolytic in-process dressing apparatus of Example 2. As shown, in this embodiment, the side electrodes 6, 7 and the bottom electrode 8 are fixed to an electrode holding member 19 made of an insulator. The inside a of the electrode holding member 19 is hollow, and coolant is supplied via a hose 21 from a coolant pump (not shown). And
The coolant is ejected from a plurality of holes 20 provided in each of the electrodes 6, 7, 8.
【００２７】一般に、カップ型導電性砥石１が高速回転
すると、隙間ｔ１、ｔ２へのクーラント供給が困難にな
る。しかし、本実施例では弱電性クーラントが電極保持
部材１９の内部を通って、各電極６、７、８に設けられ
た複数の孔２０から隙間ｔ１、ｔ２に供給されるので、
砥石が高速回転してもクーラントを確実に供給すること
ができるものである。Generally, when the cup-shaped conductive grindstone 1 rotates at a high speed, it becomes difficult to supply the coolant to the gaps t1 and t2. However, in the present embodiment, the weakly-electric coolant passes through the inside of the electrode holding member 19 and is supplied to the gaps t1 and t2 from the plurality of holes 20 provided in the electrodes 6, 7, and 8,
Even if the grindstone rotates at high speed, the coolant can be supplied reliably.
【００２８】[0028]
【実施例３】次に、本発明の実施例３を説明する。図５
は実施例３の電解インプロセスドレッシング装置を示す
立面図である。図示の通りこの実施例では、砥粒層２の
両側面と底面との頂角に近接または接触するように絶縁
ブラシ２２を設けた。絶縁ブラシ２２は電極保持部材１
９により側面用電極６、７と底面用電極８との間に保持
される。Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG.
FIG. 6 is an elevational view showing an electrolytic in-process dressing apparatus of Example 3. As shown in the figure, in this embodiment, the insulating brush 22 is provided so as to approach or contact the apex angle between both side surfaces and the bottom surface of the abrasive grain layer 2. The insulating brush 22 is used for the electrode holding member 1.
9 holds between the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8.
【００２９】切込み速度比が大きい場合には、砥粒層２
の側面部と底面部との電流値の比は大きくなる。このた
め、側面用電極６、７と底面用電極８との間の電位差が
大きくなって、両電極間に電流が流れる。本実施例では
絶縁ブラシ２２によりクーラントを遮断するので電極間
の電流が流れなくなる。これにより、電流値の差が大き
い場合でも切込み速度に見合った電流値を適切に流すこ
とが可能となる。When the cutting speed ratio is large, the abrasive layer 2
The ratio of the current value between the side surface portion and the bottom surface portion becomes large. Therefore, the potential difference between the side electrodes 6 and 7 and the bottom electrode 8 increases, and a current flows between the electrodes. In this embodiment, the coolant is cut off by the insulating brush 22, so that no current flows between the electrodes. Thus, even when the difference between the current values is large, it is possible to appropriately supply a current value corresponding to the cutting speed.
【００３０】[0030]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、カ
ップ型導電性砥石を用いたインフィード方式の加工装置
に使用される砥石の寿命を向上させることができる。As described above, according to the present invention, the life of a grindstone used in an in-feed type processing apparatus using a cup-type conductive grindstone can be improved.
【図１】 本発明の電解インプロセスドレッシング装置
の例示を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of an electrolytic in-process dressing apparatus of the present invention.
【図２】実施例１の電解インプロセスドレッシング装置
を示す立面図である。FIG. 2 is an elevational view showing the electrolytic in-process dressing apparatus of Example 1.
【図３】実施例１の電流値の設定について説明する図で
ある。FIG. 3 is a diagram illustrating setting of a current value according to the first embodiment.
【図４】実施例２の電解インプロセスドレッシング装置
を示す立面図である。FIG. 4 is an elevation view showing an electrolytic in-process dressing apparatus according to a second embodiment.
【図５】実施例３の電解インプロセスドレッシング装置
を示す立面図である。FIG. 5 is an elevation view showing an electrolytic in-process dressing apparatus according to a third embodiment.
【図６】従来の平面研削盤を示す立面図である。FIG. 6 is an elevation view showing a conventional surface grinder.
【図７】インフィード研削方式を説明するための図であ
る。FIG. 7 is a diagram illustrating an in-feed grinding method.
【図８】図７のＡ方向からみた図である。FIG. 8 is a view as seen from a direction A in FIG. 7;
【図９】図８のＣ部を拡大して加工途中のワーク３の断
面を示す図である。9 is an enlarged view of a portion C in FIG. 8 showing a cross section of the workpiece 3 in the middle of processing.
【図１０】図８のＣ部を拡大して加工途中のワーク３の
断面を示す図である。FIG. 10 is an enlarged view of a portion C in FIG. 8 showing a cross section of the work 3 in the process of being processed.
【図１１】図８のＣ部を拡大して加工途中のワーク３の
断面を示す図である。FIG. 11 is an enlarged view of a portion C in FIG. 8 showing a cross section of the work 3 in the process of being processed;
１ 砥石 ２ 砥粒層 ３ ワーク ４ ロータリーテーブル ５ 給電ブラシ ６，７ 側面用電極 ８ 底面用電極 ９ 電流調整装置 １０ 電源 １１ クーラントノズル １２ 電極絶縁体 １３，１４，１５ 電流計 １６，１７，１８ 可変抵抗 １９ 電極保持部材 ２０ 孔 ２１ ホース ２２ 絶縁ブラシ ２３ 電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Whetstone 2 Abrasive layer 3 Work 4 Rotary table 5 Power supply brush 6,7 Side electrode 8 Bottom electrode 9 Current adjuster 10 Power supply 11 Coolant nozzle 12 Electrode insulator 13,14,15 Ammeter 16,17,18 Variable Resistance 19 Electrode holding member 20 Hole 21 Hose 22 Insulating brush 23 Electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B24B 53/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) B24B 53/00
Claims (5)
する電極と、導電性砥石の底面に電流を印加する電極と
を有する電解インプロセスドレッシング装置に導電性砥
石を装着してワークを加工する電解インプロセスドレッ
シング方法において、砥石の砥粒層の側面によって切込
む切込み速度と砥石の砥粒層の底面によって切込む切込
み速度とを比較し、切込み速度の大きい側の砥粒層を電
解する電極に印加する電流値を大きくし、他の電極に印
加する電流値を小さくすることを特徴とする電解インプ
ロセスドレッシング方法。1. A work in which a conductive grindstone is mounted on an electrolytic in-process dressing apparatus having an electrode for applying a current to a side surface of an abrasive grain layer of the conductive grindstone and an electrode for applying a current to a bottom surface of the conductive grindstone. In the electrolytic in-process dressing method of processing, the cutting speed cut by the side surface of the abrasive layer of the grindstone is compared with the cutting speed cut by the bottom surface of the abrasive layer of the grindstone, and the abrasive layer on the side where the cutting speed is large is determined. An electrolytic in-process dressing method characterized by increasing a current value applied to an electrode to be electrolyzed and decreasing a current value applied to another electrode.
する電極と、導電性砥石の底面に電流を印加する電極と
を有する電解インプロセスドレッシング装置にカップ状
の導電性砥石を装着してワークを加工する電解インプロ
セスドレッシング方法において、砥石の砥粒層の側面に
よって切込む切込み速度と砥石の砥粒層の底面によって
切込む切込み速度とを比較し、切込み速度の大きい側の
砥粒層を電解する電極に印加する電流値を大きくし、他
の電極に印加する電流値を小さくすることを特徴とする
電解インプロセスドレッシング方法。2. A cup-shaped conductive grindstone is mounted on an electrolytic in-process dressing apparatus having an electrode for applying a current to the side surface of the abrasive grain layer of the conductive grindstone and an electrode for applying a current to the bottom surface of the conductive grindstone. In the electrolytic in-process dressing method of machining a workpiece, the cutting speed cut by the side surface of the abrasive layer of the grindstone is compared with the cutting speed cut by the bottom surface of the abrasive layer of the grindstone. An electrolytic in-process dressing method characterized by increasing a current value applied to an electrode for electrolyzing a granular layer and decreasing a current value applied to another electrode.
と、 前記導電性砥石の砥粒層の底面を電解ドレスする電極
と、 前記各電極に電流を印加するために各電極に接続されて
いる電源と、 前記導電性砥石の砥粒層の側面によって切込む切込み速
度と砥石の砥粒層の底面によって切込む切込み速度とを
比較し、切込み速度の大きい側の砥粒層を電解する電極
に印加する電流値を大きく、他の電極に印加する電流値
を小さくなるように、各電極に印加する電流値を変化さ
せる、前記電源と前記各電極との間に接続された可変抵
抗と、 を具備することを特徴とする電解インプロセスドレッシ
ング装置。3. A conductive grindstone, an electrode for electrolytically dressing the side surface of the abrasive grain layer of the conductive grindstone, an electrode for electrolytically dressing the bottom surface of the abrasive grain layer of the conductive grindstone, and applying a current to each of the electrodes. The power supply connected to each electrode for applying, comparing the cutting speed cut by the side surface of the abrasive layer of the conductive grindstone and the cutting speed cut by the bottom surface of the abrasive layer of the grindstone, the cutting speed The current applied to each electrode is changed so that the current applied to the electrode for electrolyzing the abrasive layer on the larger side is increased and the current applied to the other electrode is reduced. An electrolytic in-process dressing device, comprising: a variable resistor connected between:
ための孔を複数設けたことを特徴とする請求項３に記載
の電解インプロセスドレッシング装置。4. The electrolytic in-process dressing apparatus according to claim 3, wherein a plurality of holes for supplying a weakly electric coolant to the electrode are provided.
備することを特徴とする請求項３または請求項４に記載
の電解インプロセスドレッシング装置。5. The apparatus according to claim 3, further comprising an insulator provided between the electrodes.
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|---|---|---|---|
| JP20043892A JP3194626B2 (en) | 1992-07-03 | 1992-07-03 | Electrolytic in-process dressing method and apparatus |
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|---|---|
| JPH0615568A JPH0615568A (en) | 1994-01-25 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101778452B1 (en) * | 2016-07-05 | 2017-09-14 | 최이상 | Cleaner of rotation type |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0615568A (en) | 1994-01-25 |
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