JP3188010U

JP3188010U - Electrode structure used for touch screen

Info

Publication number: JP3188010U
Application number: JP2013005903U
Authority: JP
Inventors: 裕洲葉; 宗和葉; 思凱廖; 久震崔
Original assignee: JTOUCH Corp
Current assignee: JTOUCH Corp
Filing date: 2013-10-15
Publication date: 2013-12-26
Anticipated expiration: 2023-10-15

Abstract

【課題】フレキシブル基板に安定に付着することができると共に金属光沢による光反射を低減することができる、タッチスクリーンに用いられる電極構造を提供する。
【解決手段】タッチスクリーンに用いられる電極構造は、フレキシブル基板１１と、フレキシブル基板１１の上に設けられる複数の電極線１９と、を含む。複数の電極線１９のうちの少なくとも一つの電極線１９は、フレキシブル基板の上に設けられる第１の接着層１２、第１の接着層１２の上に設けられる第２の接着層１３、第２の接着層１３の上に設けられる導電層１４、導電層１４の上に設けられる第１の耐食層１５及び第２の耐食層を含む。
【選択図】図１Provided is an electrode structure used for a touch screen that can be stably attached to a flexible substrate and can reduce light reflection due to metallic luster.
An electrode structure used for a touch screen includes a flexible substrate and a plurality of electrode lines provided on the flexible substrate. At least one of the plurality of electrode lines 19 includes a first adhesive layer 12 provided on the flexible substrate, a second adhesive layer 13 provided on the first adhesive layer 12, a second A conductive layer 14 provided on the adhesive layer 13, a first corrosion-resistant layer 15 provided on the conductive layer 14, and a second corrosion-resistant layer.
[Selection] Figure 1

Description

本考案は、タッチスクリーン（ｔｏｕｃｈｓｃｒｅｅｎ）に用いられる電極構造に関し、特にフレキシブルタッチパネルに用いられる電極構造に関する。 The present invention relates to an electrode structure used for a touch screen, and more particularly to an electrode structure used for a flexible touch panel.

従来のタッチパネルは、電極が目視されないように通常インジウムスズ酸化物（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ、ＩＴＯ）を使用して電極を形成するようにしている。しかしながら、タッチパネルの大型化傾向に伴い、インジウムスズ酸化物を使用した電極の有する例えばインピーダンスが高い、タッチに対する応答速度が遅いなど大型化には不利な要素も重視されつつある。従って、当業者は、金属細線で電極を構成することを試みている。 In the conventional touch panel, electrodes are usually formed using indium tin oxide (ITO) so that the electrodes are not visually observed. However, along with the trend toward larger touch panels, factors that are disadvantageous for increasing the size, such as high impedance of electrodes using indium tin oxide and low response speed to touch, are being emphasized. Accordingly, those skilled in the art have attempted to construct electrodes with fine metal wires.

一般には、金属導体で形成した電極を使用するタッチパネルにおいて、金属導体と汎用の基板との間の付着力があまりよくないため、電極脱落の不具合がよく発生して、タッチパネルの品質に悪影響を与える。一方、金属導体で形成した電極をフレキシブルタッチパネルに応用する場合、環境条件の変化による基板形状の頻繁変更によって、電極脱落の不具合は一層深刻になる。 In general, in a touch panel using an electrode formed of a metal conductor, the adhesion between the metal conductor and a general-purpose substrate is not so good, so the problem of electrode dropout often occurs and adversely affects the quality of the touch panel. . On the other hand, when an electrode formed of a metal conductor is applied to a flexible touch panel, the problem of electrode dropout becomes more serious due to frequent changes in the substrate shape due to changes in environmental conditions.

また、金属導体は、金属光沢による光反射が起こりやすいため、肉眼で目視される欠点が存在する。そこで、如何にして、フレキシブルタッチパネルに応用する際に電極脱落の不具合を防げると共に電極を目視できない電極構造を提供するかが、極めて期待されている。 Further, since the metal conductor is likely to reflect light due to metallic luster, there is a drawback that the metal conductor is visually observed. Therefore, how to provide an electrode structure that can prevent the electrode drop-off and prevent the electrode from being visually observed when applied to a flexible touch panel is highly expected.

本考案は、フレキシブル基板に安定に付着することができると共に金属光沢による光反射を低減することができる、タッチスクリーンに用いられる電極構造を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide an electrode structure used for a touch screen that can be stably attached to a flexible substrate and can reduce light reflection due to metallic luster.

本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造は、フレキシブル基板と、フレキシブル基板の上に設けられる複数の電極線と、を含む。複数の電極線のうちの少なくとも一つの電極線は、フレキシブル基板の上に設けられる第１の接着層と、第１の接着層の上に設けられる第２の接着層と、第２の接着層の上に設けられる導電層と、導電層の上に設けられる第１の耐食層と、を含む。 An electrode structure used for a touch screen according to the present invention includes a flexible substrate and a plurality of electrode lines provided on the flexible substrate. At least one electrode line of the plurality of electrode lines includes a first adhesive layer provided on the flexible substrate, a second adhesive layer provided on the first adhesive layer, and a second adhesive layer. And a first corrosion-resistant layer provided on the conductive layer.

本考案の実施例において、電極線は、少なくとも導電層の側部を被覆する若しくはフレキシブル基板に第１の耐食層、導電層、第２の接着層及び第１の接着層を完全に被覆する第２の耐食層を更に含む。第２の耐食層は、肉眼で反射光が見えないように光線を異なる角度に反射させることによって反射防止効果を奏することができる。 In an embodiment of the present invention, the electrode wire covers at least a side portion of the conductive layer, or a flexible substrate completely covers the first corrosion-resistant layer, the conductive layer, the second adhesive layer, and the first adhesive layer. And further comprising two corrosion resistant layers. The second corrosion-resistant layer can exhibit an antireflection effect by reflecting light rays at different angles so that the reflected light cannot be seen with the naked eye.

本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造における電極線において、第１の接着層はフレキシブル基板に対する付着性を向上するのに用いられ、第２の接着層は導電層と第１の接着層との間の接着性を向上するのに用いられる。 In the electrode line in the electrode structure used in the touch screen according to the present invention, the first adhesive layer is used to improve the adhesion to the flexible substrate, and the second adhesive layer includes the conductive layer, the first adhesive layer, and the like. Used to improve the adhesion between the two.

本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造によれば、第１の接着層によりフレキシブル基板に対する付着性を向上すると共に、第２の接着層により導電層と第１の接着層との間の接着性を向上することによって、導電層をフレキシブル基板に安定に付着させることができるため、基板の形状が変えられても、導電層が脱落し難い。また、各層のエッチング率を制御することで階段状表面の電極構造を生成するため、光線を散乱させることによって電極構造が目視される可能性を低減することができる。 According to the electrode structure used in the touch screen according to the present invention, the first adhesive layer improves adhesion to the flexible substrate, and the second adhesive layer adheres between the conductive layer and the first adhesive layer. By improving the property, the conductive layer can be stably attached to the flexible substrate. Therefore, even if the shape of the substrate is changed, the conductive layer is difficult to drop off. Moreover, since the electrode structure of the stepped surface is generated by controlling the etching rate of each layer, the possibility that the electrode structure is visually observed can be reduced by scattering light rays.

本考案の第１の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。It is sectional drawing of the electrode structure used for the touch screen which concerns on 1st Example of this invention. 本考案の第２の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。It is sectional drawing of the electrode structure used for the touch screen which concerns on 2nd Example of this invention. 本考案の第３の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。It is sectional drawing of the electrode structure used for the touch screen which concerns on 3rd Example of this invention. 本考案の第４の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。It is sectional drawing of the electrode structure used for the touch screen which concerns on 4th Example of this invention. 本考案の第５の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。It is sectional drawing of the electrode structure used for the touch screen which concerns on 5th Example of this invention. 本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造を使用するタッチ装置の模式図である。1 is a schematic diagram of a touch device using an electrode structure used in a touch screen according to the present invention.

本考案が所定の目的を達するために採用した技術、方法及び効果を一層理解できるよう、以下に本考案に関する詳細説明と添付図面を参照することで、本考案の目的、特徴がこれによって深く具体的に理解されると信じる。しかしながら、添付図面は参考と説明用に供したに過ぎず、本考案に制限を課すものではない。 In order to better understand the technology, method and effect adopted by the present invention to achieve a predetermined purpose, the object and features of the present invention will be more fully understood by referring to the following detailed description and the accompanying drawings. I believe it will be understood. However, the attached drawings are only provided for reference and explanation, and do not limit the present invention.

以下、本明細書と図面に開示された本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の実施形態は、本考案の技術内容をより分かりやすく説明し、本考案の理解を助けるために実施例を挙げたものに過ぎず、本考案の実用新案登録請求の範囲を限定するものではない。ここに開示された実施形態以外にも、本考案の技術的思想に基づく他の変形例も実施可能であることは、本考案の属する技術分野における当業者に自明なことである。 Hereinafter, embodiments of the electrode structure used in the touch screen according to the present invention disclosed in the specification and the drawings will be described in order to explain the technical contents of the present invention more clearly and to help understand the present invention. They are merely listed and do not limit the scope of the utility model registration request of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains that other variations based on the technical idea of the present invention are possible in addition to the embodiments disclosed herein.

図１は、本考案の第１の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。本実施例において、タッチスクリーンに用いられる電極構造は、フレキシブル基板１１及び複数の電極線１９（便宜上、図１において、一つの電極線のみを示す）を含む。複数の電極線１９は、フレキシブル基板１１の上に並列に配置されるようにしてもよい。電極線１９は、フレキシブル基板１１の上に設けられる第１の接着層１２と、第１の接着層１２の上に設けられる第２の接着層１３と、第２の接着層１３の上に設けられる導電層１４と、導電層１４の上に設けられる第１の耐食層１５と、を含む。 FIG. 1 is a cross-sectional view of an electrode structure used in a touch screen according to a first embodiment of the present invention. In this embodiment, the electrode structure used for the touch screen includes a flexible substrate 11 and a plurality of electrode lines 19 (for convenience, only one electrode line is shown in FIG. 1). The plurality of electrode wires 19 may be arranged in parallel on the flexible substrate 11. The electrode wire 19 is provided on the first adhesive layer 12 provided on the flexible substrate 11, the second adhesive layer 13 provided on the first adhesive layer 12, and the second adhesive layer 13. And a first corrosion-resistant layer 15 provided on the conductive layer 14.

詳しく説明すると、第１の接着層１２は、フレキシブル基板１１の上に被覆されており、フレキシブル基板１１に対する付着性を向上するのに用いられる。第１の接着層１２は、反射防止、干渉防止、干渉縞防止、耐摩耗、引っかき傷防止などの特性を有すると共に、目視快適性を提供することができる。第２の接着層１３は、第１の接着層１２の上に被覆されており、導電層１４と第１の接着層１２との間の接着性を向上すると共に、電極線１９全体の導電率を維持するのに用いられる。導電層１４は、第２の接着層１３の上に被覆されており、導電に用いられる。第１の耐食層１５は、導電層１４の上に被覆される。第１の耐食層１５は、その耐食性が導電層１４の耐食性よりもよいため、製作過程（エッチング）の際に導電層１４が深刻な侵食に晒されるのを防ぐことができるため、電極線１９は正常の線幅を保つことができる。 More specifically, the first adhesive layer 12 is coated on the flexible substrate 11 and used to improve adhesion to the flexible substrate 11. The first adhesive layer 12 has properties such as antireflection, interference prevention, interference fringe prevention, wear resistance, and scratch prevention, and can provide visual comfort. The second adhesive layer 13 is coated on the first adhesive layer 12 to improve the adhesiveness between the conductive layer 14 and the first adhesive layer 12, and the conductivity of the entire electrode line 19. Used to maintain The conductive layer 14 is covered on the second adhesive layer 13 and used for conduction. The first corrosion resistant layer 15 is coated on the conductive layer 14. Since the corrosion resistance of the first corrosion-resistant layer 15 is better than that of the conductive layer 14, it is possible to prevent the conductive layer 14 from being exposed to serious erosion during the manufacturing process (etching). Can keep the normal line width.

具体的に言えば、第１の接着層１２はフレキシブル基板１１との間に強い付着力を与えることができ、第２の接着層１３は第１の接着層１２と導電層１４との間の付着力を与えることができるため、第１の接着層１２及び第２の接着層１３は、脱落しにくいように導電層１４をフレキシブル基板１１の上に強固に付着させることができる。また、第１の接着層１２及び第２の接着層１３は、反射防止、干渉防止、干渉縞防止、耐摩耗、引っかき傷防止などの特性を有すると共に、目視快適性を提供することができる。また、第１の耐食層１５は、金属電極への酸化又は腐食を緩めることができる。 Specifically, the first adhesive layer 12 can give a strong adhesive force to the flexible substrate 11, and the second adhesive layer 13 is between the first adhesive layer 12 and the conductive layer 14. Since the adhesive force can be applied, the first adhesive layer 12 and the second adhesive layer 13 can firmly adhere the conductive layer 14 on the flexible substrate 11 so that the first adhesive layer 12 and the second adhesive layer 13 are not easily dropped off. In addition, the first adhesive layer 12 and the second adhesive layer 13 have characteristics such as antireflection, interference prevention, interference fringe prevention, abrasion resistance, and scratch prevention, and can provide visual comfort. The first corrosion-resistant layer 15 can relax oxidation or corrosion of the metal electrode.

上述の効果を達成するために、フレキシブル基板１１を形成するための材料は、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ、ＰＥＩ）、ポリフェニルサルホン（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ、ＰＰＳＵ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つである。 In order to achieve the above-described effects, the material for forming the flexible substrate 11 is polyethylene terephthalate (PET), polyether imide (PEI), polyphenylsulfone (PPSU), polyimide. (Polyimide, PI) and at least one selected from the group consisting of composite materials thereof.

また、第１の接着層１２を形成するための材料は、高分子材料、酸化物材料、金属材料、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つである。詳しく説明すると、高分子材料は、第１の接着層１２とフレキシブル基板１１との間の付着力を向上するためのものである。酸化物材料は、反射防止、干渉防止、干渉縞防止、耐摩耗、引っかき傷防止に役に立つ。金属材料は、第１の接着層１２と第２の接着層１３の付着力を向上するためのものである。高分子材料は、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｉｍｉｎｅ）、ポリフェニルサルホン、ポリイミド、ポリ（3，4−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ）、ポリピロール（ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ）、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つである。酸化物材料は、非晶質（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ）型又は多結晶（ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ）型の酸化物薄膜又は粉末であってもよい。酸化物材料は、酸化チタン、酸化タンタル、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つである。金属材料は、銅、銀、アルミニウム、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、珪素、錫、亜鉛、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つである。また、上述した高分子材料、酸化物材料及び金属材料は、単独で使用してもよく、二種類の材料又は三種類の材料で形成された混合の複合材料若しくは多層の複合材料として使用されてもよい。例を挙げて説明すると、高分子材料と酸化物材料からなる複合材料、高分子材料と金属材料からなる複合材料、酸化物材料と金属材料からなる複合材料、高分子材料、酸化物材料及び金属材料からなる複合材料などであってもよい。また、複合材料を使用する場合、その比例範囲として、高分子材料は１０〜９０％であってもよく、酸化物材料１０〜９０％であってもよく、金属材料は１０〜９０％であってもよい。酸化物材料は、多層の複合材料であってもよい。実施例において、例えば厚さが９００ｎｍの二酸化ケイ素及び厚さが１００ｎｍの酸化チタンからなる多層の酸化物を使用してもよい。また、第１の接着層１２の厚さは０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましい。また、第１の接着層１２は、１％〜５０％の反射率、好ましくは３０％以下の反射率を有する。 The material for forming the first adhesive layer 12 is at least one selected from the group consisting of a polymer material, an oxide material, a metal material, and a composite material thereof. More specifically, the polymer material is for improving the adhesion between the first adhesive layer 12 and the flexible substrate 11. The oxide material is useful for antireflection, interference prevention, interference fringe prevention, abrasion resistance and scratch prevention. The metal material is for improving the adhesion between the first adhesive layer 12 and the second adhesive layer 13. Polymer materials include acrylic, polyethylene terephthalate, polyethyleneimine, polyphenylsulfone, polyimide, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), polyaniline, polypyrrole, and the like These are at least one selected from the group consisting of composite materials. The oxide material may be an amorphous or polycrystalline oxide thin film or powder. The oxide material is at least one selected from the group consisting of titanium oxide, tantalum oxide, silicon dioxide, aluminum oxide, and composite materials thereof. The metal material is at least one selected from the group consisting of copper, silver, aluminum, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, silicon, tin, zinc, iron, and alloys thereof. In addition, the above-described polymer material, oxide material, and metal material may be used alone or as a mixed composite material or a multilayer composite material formed of two kinds of materials or three kinds of materials. Also good. For example, a composite material composed of a polymer material and an oxide material, a composite material composed of a polymer material and a metal material, a composite material composed of an oxide material and a metal material, a polymer material, an oxide material, and a metal It may be a composite material made of materials. In the case of using a composite material, as a proportional range thereof, the polymer material may be 10 to 90%, the oxide material may be 10 to 90%, and the metal material may be 10 to 90%. May be. The oxide material may be a multilayer composite material. In an embodiment, a multilayer oxide may be used, for example consisting of silicon dioxide with a thickness of 900 nm and titanium oxide with a thickness of 100 nm. Moreover, it is preferable that the thickness of the 1st contact bonding layer 12 is 0.001 micrometer-1 micrometer. The first adhesive layer 12 has a reflectance of 1% to 50%, preferably a reflectance of 30% or less.

本考案において、第２の接着層１３を形成するための材料は、銅、銀、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、錫、亜鉛、アルミニウム、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであり、その厚さが０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましい。第２の接着層１３は、１％〜５０％の反射率、好ましくは３０％以下の反射率を有する。また、全体から見れば、第１の接着層１２と第２の接着層１３の総反射率は３０％以下であることが好ましい。 In the present invention, the material for forming the second adhesive layer 13 is selected from the group consisting of copper, silver, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, tin, zinc, aluminum, iron, and alloys thereof. It is at least one, and it is preferable that the thickness is 0.001 micrometer-1 micrometer. The second adhesive layer 13 has a reflectance of 1% to 50%, preferably a reflectance of 30% or less. Further, when viewed from the whole, the total reflectance of the first adhesive layer 12 and the second adhesive layer 13 is preferably 30% or less.

本考案において、導電層１４を形成するための材料は、銅、金、銀、アルミニウム、タングステン、鉄、ニッケル、クロム、チタン、モリブデン、錫、亜鉛、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであり、その厚さが０．００１μｍ〜５μｍであることが好ましい。 In the present invention, the material for forming the conductive layer 14 is at least selected from the group consisting of copper, gold, silver, aluminum, tungsten, iron, nickel, chromium, titanium, molybdenum, tin, zinc, and alloys thereof. It is preferable that the thickness is 0.001 μm to 5 μm.

接着性及び導電性の最適化を達成するために、導電層１４が純金属材料である場合、第２の接着層１３の材料の成分は５０％以上の当該純金属材料を有し、且つ、第１の接着層１２の材料成分は５０％以下の当該純金属材料を有する。好ましい実施例において、導電層１４は純銅導線であり、第１の接着層１２はニッケル、銅、クロム、鉄からなる合金であり、ニッケル、銅、クロム、鉄の成分比例は約６０：３０：１０：０若しくは８０：１０：５：５であるようにしてもよい。また、ニッケル及びタングステンの成分比例は５０：５０であるようにしてもよい。第１の接着層１２は、珪素、リンなど他の材料を微量に含むようにしてもよい。また、第２の接着層１３は、銅、ニッケル、クロムからなる合金であり、銅、ニッケル、クロムの成分比例は約６０：３０：１０であるようにしてもよい。また、銅、ニッケル、タングステンの成分比例は６０：２０：２０であるようにしてもよい。また、第２の接着層１３は、珪素、リンなど他の材料を微量に含むようにしてもよい。 In order to achieve adhesion and conductivity optimization, when the conductive layer 14 is a pure metal material, the component of the material of the second adhesive layer 13 has 50% or more of the pure metal material, and The material component of the first adhesive layer 12 has 50% or less of the pure metal material. In a preferred embodiment, the conductive layer 14 is a pure copper conductor, the first adhesive layer 12 is an alloy made of nickel, copper, chromium, and iron, and the proportion of components of nickel, copper, chromium, and iron is about 60:30: It may be 10: 0 or 80: 10: 5: 5. Further, the component proportion of nickel and tungsten may be 50:50. The first adhesive layer 12 may contain a small amount of other materials such as silicon and phosphorus. The second adhesive layer 13 may be an alloy made of copper, nickel, and chromium, and the component proportion of copper, nickel, and chromium may be about 60:30:10. Moreover, you may make it the component proportion of copper, nickel, and tungsten be 60:20:20. Further, the second adhesive layer 13 may contain a trace amount of other materials such as silicon and phosphorus.

本考案において、第１の耐食層１５を形成するための材料は、銅、銀、アルミニウム、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、珪素、錫、亜鉛、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであってもよい。好ましい実施例において、第１の耐食層１５の厚さは、０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましい。第１の耐食層１５は、１％〜５０％の反射率、好ましくは３０％以下の反射率を有する。 In the present invention, the material for forming the first corrosion-resistant layer 15 is selected from the group consisting of copper, silver, aluminum, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, silicon, tin, zinc, iron, and alloys thereof. It may be at least one selected. In a preferred embodiment, the thickness of the first corrosion-resistant layer 15 is preferably 0.001 μm to 1 μm. The first corrosion-resistant layer 15 has a reflectance of 1% to 50%, preferably a reflectance of 30% or less.

本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造を製造する過程において、各層に対するエッチング速度を制御することによって、第１の接着層１２、第２の接着層１３、導電層１４、第１の耐食層１５をフレキシブル基板１１の上に段階状表面に形成することができる（図１に示すように）。段階状表面が不規則形状であるため、光線が電極表面で反射されると、反射光は異なる角度の方向に散乱し、これにより、人目が電極構造の存在を目視することができない。 In the process of manufacturing the electrode structure used in the touch screen according to the present invention, the first adhesive layer 12, the second adhesive layer 13, the conductive layer 14, and the first corrosion-resistant layer are controlled by controlling the etching rate for each layer. 15 can be formed on the flexible substrate 11 in a stepped surface (as shown in FIG. 1). Because the stepped surface is irregularly shaped, when light rays are reflected off the electrode surface, the reflected light is scattered in different angular directions, which prevents the human eye from seeing the presence of the electrode structure.

図２は本考案の第２の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。本考案において、電極線１９は、第１の耐食層１５の上に設けられる第２の耐食層２６を含んでもよい。第２の耐食層２６は、少なくとも導電層１４の側辺を被覆しなければならない。また、必要に応じて、第２の耐食層２６は、フレキシブル基板１１の上に第１の耐食層１５、導電層１４、第２の接着層１３及び第１の接着層１２を完全に被覆するようにしてもよい。第２の耐食層２０が第１の耐食層１５を被覆する目的は、導電層１４に対する耐食性を向上したり、金属電極に対する異物の摩擦による損害を低減したり、金属電極の正面及び側面による光反射を低減したりすることにある。 FIG. 2 is a cross-sectional view of an electrode structure used in a touch screen according to a second embodiment of the present invention. In the present invention, the electrode wire 19 may include a second corrosion resistant layer 26 provided on the first corrosion resistant layer 15. The second corrosion resistant layer 26 must cover at least the side of the conductive layer 14. If necessary, the second corrosion-resistant layer 26 completely covers the first corrosion-resistant layer 15, the conductive layer 14, the second adhesive layer 13, and the first adhesive layer 12 on the flexible substrate 11. You may do it. The purpose of the second corrosion-resistant layer 20 covering the first corrosion-resistant layer 15 is to improve the corrosion resistance of the conductive layer 14, to reduce damage caused by the friction of foreign matters against the metal electrode, or to light from the front and side surfaces of the metal electrode. It is to reduce reflection.

本考案において、第２の耐食層２６を形成するための材料は、酸化物材料、高分子材料、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであってもよい。酸化物材料は、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであってもよい。高分子材料は、アクリル、アルキルベンズイミダゾール（ａｌｋｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ）混合物、アルキルベンズイミダゾール化合物、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリ（3，4−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ）、ポリピロール（ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ）、炭素、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであってもよい。また、複合材料を使用する場合、その材料の比例として、高分子材料は１０〜９０％、酸化物材料は１０〜９０％であるようにしてもよい。また、第２の耐食層２６の厚さは０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましい。また、第２の耐食層２６は、１％〜５０％の反射率、好ましくは３０％以下の反射率を有する。また、全体から見れば、第１の耐食層１５と第２の耐食層２６の総反射率は３０％以下であることが好ましい。 In the present invention, the material for forming the second corrosion-resistant layer 26 may be at least one selected from the group consisting of oxide materials, polymer materials, and composite materials thereof. The oxide material may be at least one selected from the group consisting of silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, and composite materials thereof. Polymer materials are acrylic, alkyl benzimidazole mixture, alkyl benzimidazole compound, polyethylene terephthalate (PET), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), polyaniline, It may be at least one selected from the group consisting of polypyrrole, carbon, and composite materials thereof. When using a composite material, the proportion of the material may be 10 to 90% for the polymer material and 10 to 90% for the oxide material. Moreover, it is preferable that the thickness of the 2nd corrosion-resistant layer 26 is 0.001 micrometer-1 micrometer. The second corrosion-resistant layer 26 has a reflectance of 1% to 50%, preferably a reflectance of 30% or less. Further, when viewed from the whole, the total reflectance of the first corrosion-resistant layer 15 and the second corrosion-resistant layer 26 is preferably 30% or less.

図３は、本考案の第３の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。図４は、本考案の第４の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。図２との相違点として、図３において、第２の耐食層３６は、段階状表面を有する薄い層である。一方、図２との相違点として、図４において、第２の耐食層４６は、粒子直径が９００ｎｍよりも小さい粒子状表面を有する。好ましくは、第２の耐食層４６は、粒子直径が３００ｎｍ〜８００ｎｍである粒子状表面を有する。また、図２において、第２の耐食層２６は、曲面を有する薄い層である。第２の耐食層２６、３６、４６は、電極に対する腐食を防げるだけではなく、金属電極による光反射を低減する効果も有する。図５は、本考案の第５の実施例に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造の断面図である。図２及び図５において、電極構造は、曲面を有する薄い層である第２の耐食層（２６、５６）を有する。図２との相違点として、図５において、第１の接着層５２、第２の接着層５３、導電層５４、第１の耐食層５５の何れも非平坦で且つ粗面化の表面を有するため、金属電極による光反射を更に低減することができる。 FIG. 3 is a cross-sectional view of an electrode structure used in a touch screen according to a third embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of an electrode structure used in a touch screen according to a fourth embodiment of the present invention. As a difference from FIG. 2, in FIG. 3, the second corrosion-resistant layer 36 is a thin layer having a stepped surface. On the other hand, as a difference from FIG. 2, in FIG. 4, the second corrosion-resistant layer 46 has a particulate surface having a particle diameter smaller than 900 nm. Preferably, the second corrosion-resistant layer 46 has a particulate surface with a particle diameter of 300 nm to 800 nm. In FIG. 2, the second corrosion-resistant layer 26 is a thin layer having a curved surface. The second corrosion resistant layers 26, 36, 46 not only prevent corrosion of the electrode, but also have an effect of reducing light reflection by the metal electrode. FIG. 5 is a cross-sectional view of an electrode structure used in a touch screen according to a fifth embodiment of the present invention. 2 and 5, the electrode structure has a second corrosion-resistant layer (26, 56) which is a thin layer having a curved surface. As a difference from FIG. 2, in FIG. 5, the first adhesive layer 52, the second adhesive layer 53, the conductive layer 54, and the first corrosion-resistant layer 55 are all non-flat and have a roughened surface. Therefore, light reflection by the metal electrode can be further reduced.

また、上述した各エレメントの材料及び厚さは例示に過ぎず、同じ効果を達成することができれば、各エレメントの材料及び厚さについては特に制限がない。 In addition, the material and thickness of each element described above are merely examples, and the material and thickness of each element are not particularly limited as long as the same effect can be achieved.

図６は、本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造を使用するタッチ装置の模式図である。図６は、本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造におけるフレキシブル基板１１及び複数の電極線１９の配置状態を模式的に示す。図６に示すように、フレキシブル基板１１の上表面及び下表面に、電極線１９は、互いに絶縁的に重畳する。電極線１９が通電されると、容量式検知を行うことができる。また、図示において、フレキシブル基板１１に突出する電極線１９は、便宜上の例示に過ぎず、本考案に限定するものではない。 FIG. 6 is a schematic view of a touch device using an electrode structure used in a touch screen according to the present invention. FIG. 6 schematically shows an arrangement state of the flexible substrate 11 and the plurality of electrode lines 19 in the electrode structure used in the touch screen according to the present invention. As shown in FIG. 6, the electrode lines 19 are insulatively superimposed on the upper surface and the lower surface of the flexible substrate 11. When the electrode wire 19 is energized, capacitive detection can be performed. Moreover, in the drawing, the electrode wire 19 protruding from the flexible substrate 11 is merely an example for convenience and is not limited to the present invention.

上述したように、本考案に係るタッチスクリーンに用いられる電極構造において、第１の接着層１２とフレキシブル基板１１との間に生ずる強い付着力、及び第２の接着層１３により第１の接着層１２と導電層１４との間の粘着性によって、電極線１９をフレキシブル基板１１の上に安定に付着させることができる。更に、第１の耐食層１５により導電層１４への酸化又は腐食を低減することができる。第２の耐食層２６、３６、４６、５６により導電層１４の側面を被覆する。二層の耐食層による保護構造によれば、電極への酸化若しくは水気による電極への腐食を有効に防ぐことができるため、電極の寿命を延長することができる。また、本考案において、電極構造は階段状表面を有するため、金属電極による光反射を低減することができる。更に、酸化物材料で形成された第２の接着層１３及び第２の耐食層２６、３６、４６、５６によれば、反射防止、干渉防止、干渉縞防止などの特性を有すると共に、目視快適性を提供することができる。 As described above, in the electrode structure used in the touch screen according to the present invention, the first adhesive layer is formed by the strong adhesive force generated between the first adhesive layer 12 and the flexible substrate 11 and the second adhesive layer 13. The electrode wire 19 can be stably attached on the flexible substrate 11 by the adhesiveness between the conductive layer 12 and the conductive layer 14. Furthermore, oxidation or corrosion to the conductive layer 14 can be reduced by the first corrosion-resistant layer 15. The side surfaces of the conductive layer 14 are covered with the second corrosion-resistant layers 26, 36, 46 and 56. According to the protective structure of the two-layer corrosion-resistant layer, the oxidation of the electrode or the corrosion of the electrode due to water can be effectively prevented, so that the life of the electrode can be extended. In the present invention, since the electrode structure has a stepped surface, light reflection by the metal electrode can be reduced. Furthermore, according to the second adhesive layer 13 and the second corrosion-resistant layers 26, 36, 46, and 56 formed of an oxide material, it has properties such as antireflection, interference prevention, and interference fringe prevention, and is visually comfortable. Can provide sex.

上述したものは本考案の好ましい一例に過ぎず、本考案の実用新案登録請求の範囲を限定するものではない。本考案の明細書及び図面内容に基づいてなされた均等な変更および付加は、いずれも本考案の実用新案登録請求の範囲内に含まれるものとする。 What has been described above is merely a preferred example of the present invention, and does not limit the scope of the utility model registration request of the present invention. Any equivalent changes and additions made on the basis of the description and drawings of the present invention shall be included in the scope of the utility model registration request of the present invention.

１１フレキシブル基板
１２、５２第１の接着層
１３、５３第２の接着層
１４、５４導電層
１５、５５第１の耐食層
１９電極線
２６、３６、４６、５６第２の耐食層 11 Flexible substrate 12, 52 First adhesive layer 13, 53 Second adhesive layer 14, 54 Conductive layer 15, 55 First corrosion resistant layer 19 Electrode wire 26, 36, 46, 56 Second corrosion resistant layer

Claims

フレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の上に設けられる複数の電極線と、を含み、
前記複数の電極線のうちの少なくとも一つの前記電極線は、
前記フレキシブル基板の上に設けられる第１の接着層と、
前記第１の接着層の上に設けられる第２の接着層と、
前記第２の接着層の上に設けられる導電層と、
前記導電層の上に設けられる第１の耐食層と、
を含むことを特徴とするタッチスクリーンに用いられる電極構造。 A flexible substrate, and a plurality of electrode wires provided on the flexible substrate,
At least one of the plurality of electrode lines is
A first adhesive layer provided on the flexible substrate;
A second adhesive layer provided on the first adhesive layer;
A conductive layer provided on the second adhesive layer;
A first corrosion-resistant layer provided on the conductive layer;
An electrode structure used for a touch screen, comprising:

前記第１の接着層、前記第２の接着層、前記導電層及び前記第１の耐食層は、階段状表面になるように前記フレキシブル基板の上に形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 2. The first adhesive layer, the second adhesive layer, the conductive layer, and the first corrosion-resistant layer are formed on the flexible substrate so as to have a stepped surface. An electrode structure used for the touch screen described in 1.

前記複数の電極線のうちの少なくとも一つの前記電極線は、第２の耐食層を更に含み、
前記第２の耐食層は、少なくとも前記導電層の側面を被覆することを特徴とする請求項１または２に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 At least one of the plurality of electrode lines further includes a second corrosion-resistant layer,
The electrode structure used for a touch screen according to claim 1, wherein the second corrosion-resistant layer covers at least a side surface of the conductive layer.

前記第２の耐食層は、階段状表面を有する薄い層であることを特徴とする請求項３に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 4. The electrode structure used for a touch screen according to claim 3, wherein the second corrosion-resistant layer is a thin layer having a stepped surface.

前記第２の耐食層は、粒子直径が３００ｎｍ〜８００ｎｍである粒子状表面を有することを特徴とする請求項３に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The electrode structure used for a touch screen according to claim 3, wherein the second corrosion-resistant layer has a particulate surface having a particle diameter of 300 nm to 800 nm.

前記第２の耐食層は、曲面を有する薄い層であることを特徴とする請求項３に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The electrode structure used for a touch screen according to claim 3, wherein the second corrosion-resistant layer is a thin layer having a curved surface.

前記第１の接着層、前記第２の接着層、前記導電層及び前記第１の耐食層は非平坦な表面を有することを特徴とする請求項１〜３および６のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The said 1st contact bonding layer, the said 2nd contact bonding layer, the said conductive layer, and the said 1st corrosion-resistant layer have a non-flat surface, The any one of Claims 1-3 and 6 characterized by the above-mentioned. Electrode structure used for touch screens.

前記フレキシブル基板を形成するための材料は、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ、ＰＥＩ）、ポリフェニルサルホン（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ、ＰＰＳＵ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 Materials for forming the flexible substrate include polyethylene terephthalate (PET), polyether imide (PEI), polyphenylsulfone (PPSU), polyimide (polyimide, PI), and the like. The electrode structure used for a touch screen according to claim 1, wherein the electrode structure is at least one selected from the group consisting of composite materials.

前記第１の接着層を形成するための材料は、高分子材料、酸化物材料、金属材料、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The material for forming the first adhesive layer is at least one selected from the group consisting of a polymer material, an oxide material, a metal material, and a composite material thereof. The electrode structure used for the touch screen of any one of 8.

前記高分子材料は、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイミン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｉｍｉｎｅ）、ポリフェニルサルホン、ポリイミド、ポリ（3，4−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ）、ポリピロール（ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ）、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項９に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The polymer material includes acrylic, polyethylene terephthalate, polyethyleneimine, polyphenylsulfone, polyimide, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), polyaniline, polypyrrole, and The electrode structure used for a touch screen according to claim 9, wherein the electrode structure is at least one selected from the group consisting of those composite materials.

前記酸化物材料は、酸化チタン、酸化タンタル、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項９または１０に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The touch screen according to claim 9 or 10, wherein the oxide material is at least one selected from the group consisting of titanium oxide, tantalum oxide, silicon dioxide, aluminum oxide, and a composite material thereof. The electrode structure used.

前記金属材料は、銅、銀、アルミニウム、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、珪素、錫、亜鉛、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The metal material is at least one selected from the group consisting of copper, silver, aluminum, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, silicon, tin, zinc, iron, and alloys thereof. Item 12. An electrode structure used for a touch screen according to any one of Items 9 to 11.

前記第２の接着層を形成するための材料は、銅、銀、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、錫、亜鉛、アルミニウム、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The material for forming the second adhesive layer is at least one selected from the group consisting of copper, silver, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, tin, zinc, aluminum, iron, and alloys thereof. The electrode structure used for the touch screen according to claim 1, wherein the electrode structure is provided.

前記導電層を形成するための材料は、銅、金、銀、アルミニウム、タングステン、鉄、ニッケル、クロム、チタン、モリブデン、錫、亜鉛、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The material for forming the conductive layer is at least one selected from the group consisting of copper, gold, silver, aluminum, tungsten, iron, nickel, chromium, titanium, molybdenum, tin, zinc, and alloys thereof. The electrode structure used for the touch screen according to any one of claims 1 to 13.

前記第１の耐食層を形成するための材料は、銅、銀、アルミニウム、モリブデン、ニッケル、クロム、タングステン、チタン、珪素、錫、亜鉛、鉄、及びそれらの合金からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The material for forming the first corrosion-resistant layer is at least one selected from the group consisting of copper, silver, aluminum, molybdenum, nickel, chromium, tungsten, titanium, silicon, tin, zinc, iron, and alloys thereof. The electrode structure used for the touch screen according to claim 1, wherein the electrode structure is a single electrode structure.

前記第２の耐食層を形成するための材料は、酸化物材料、高分子材料、炭素及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The material for forming the second corrosion-resistant layer is at least one selected from the group consisting of oxide materials, polymer materials, carbon, and composite materials thereof. The electrode structure used for the touch screen of any one of Claims 1.

前記酸化物材料は、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１６に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The electrode structure used for a touch screen according to claim 16, wherein the oxide material is at least one selected from the group consisting of silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, and composite materials thereof.

前記高分子材料は、アクリル、アルキルベンズイミダゾール（ａｌｋｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｅ）混合物、アルキルベンズイミダゾール化合物、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリ（3，4−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ）、ポリピロール（ｐｏｌｙｐｙｒｒｏｌｅ）、及びそれらの複合材料からなる群から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項１６または１７に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The polymer material includes acrylic, alkyl benzimidazole, alkylbenzimidazole compound, polyethylene terephthalate (PET), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), polyaniline. The electrode structure used in the touch screen according to claim 16 or 17, wherein the electrode structure is at least one selected from the group consisting of polypyrrole, polypyrrole, and composite materials thereof.

前記第１の接着層、前記第２の接着層、前記第１の耐食層及び前記第２の耐食層のそれぞれの厚さは０．００１μｍ〜１μｍであり、
前記導電層の厚さは０．００１μｍ〜５μｍであることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 Each thickness of the first adhesive layer, the second adhesive layer, the first corrosion-resistant layer, and the second corrosion-resistant layer is 0.001 μm to 1 μm,
The electrode structure used for a touch screen according to claim 3, wherein the conductive layer has a thickness of 0.001 μm to 5 μm.

前記第１の接着層、前記第２の接着層、前記第１の耐食層、及び前記第２の耐食層のそれぞれの反射率は１％〜５０％であり、
前記第１の接着層及び前記第２の接着層の総反射率は３０％以下であり、
前記第１の耐食層及び前記第２の耐食層の総反射率は３０％以下であることを特徴とする請求項３〜６および１９のいずれか１項に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The reflectivity of each of the first adhesive layer, the second adhesive layer, the first corrosion resistant layer, and the second corrosion resistant layer is 1% to 50%,
The total reflectance of the first adhesive layer and the second adhesive layer is 30% or less,
20. The electrode structure used for a touch screen according to claim 3, wherein a total reflectance of the first corrosion-resistant layer and the second corrosion-resistant layer is 30% or less. .

前記導電層は純金属材料であり、
前記第２の接着層の材料成分は５０％以上の前記純金属材料を有し、
前記第１の接着層の材料成分は５０％以下の前記純金属材料を有することを特徴とする請求項１に記載のタッチスクリーンに用いられる電極構造。 The conductive layer is a pure metal material,
The material component of the second adhesive layer has 50% or more of the pure metal material,
The electrode structure used for the touch screen according to claim 1, wherein a material component of the first adhesive layer includes 50% or less of the pure metal material.