JP3174699B2 - Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field - Google Patents
Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic fieldInfo
- Publication number
- JP3174699B2 JP3174699B2 JP27395294A JP27395294A JP3174699B2 JP 3174699 B2 JP3174699 B2 JP 3174699B2 JP 27395294 A JP27395294 A JP 27395294A JP 27395294 A JP27395294 A JP 27395294A JP 3174699 B2 JP3174699 B2 JP 3174699B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass tube
- magnetic field
- plasma
- antenna
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを利用したプ
ロセス装置における、プラズマの生成、制御装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma generation and control apparatus in a plasma processing apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】磁場中の誘導型高周波放電によるプラズ
マ生成（通称、ヘリコン波によるプラズマ生成）技術
は、従来のプラズマ生成法である無磁場中の高周波放電
や電子サイクロトロン共鳴法等に比べて、より高い電子
密度を有するプラズマを生成できる特徴を持っている。2. Description of the Related Art Plasma generation by induction high-frequency discharge in a magnetic field (commonly referred to as plasma generation by helicon waves) is more efficient than conventional plasma generation methods such as high-frequency discharge in a non-magnetic field and electron cyclotron resonance. It has the feature that plasma with higher electron density can be generated.
【０００３】そして、この特徴が、プロセス（エッチン
グ、成膜等）の反応速度向上に有効であると期待されて
いる。図３に磁場中の誘導型高周波放電によるプラズマ
生成を行なうための装置の一例を示す。複数のソレノイ
ド状の磁場発生用コイル１の内空間に、円筒状のガラス
管２が、双方の軸を合わせて設置されている。ガラス管
２の周囲には、アンテナ４が設置されている。アンテナ
４としては銅パイプをガラス管２に螺旋状に巻き付けて
使用する。アンテナ４の端の一方には、高周波電源３が
接続され、他端は接地されている。[0003] This feature is expected to be effective in improving the reaction speed of processes (etching, film formation, etc.). FIG. 3 shows an example of an apparatus for generating plasma by induction high-frequency discharge in a magnetic field. A cylindrical glass tube 2 is installed in the inner space of a plurality of solenoid-shaped magnetic field generating coils 1 with both axes aligned. An antenna 4 is provided around the glass tube 2. A copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 and used as the antenna 4. The high-frequency power supply 3 is connected to one end of the antenna 4 and the other end is grounded.
【０００４】図４に、図３の側面図を示す。この様な状
態で、磁場発生用コイル１により、磁束密度方向５に磁
場を印加する。ガラス管２の内に目的に応じたガスを目
的の圧力で充填する。最後に、高周波電源３からアンテ
ナ４に高周波電力を印加し、ガラス管２の内に波動（電
磁波）を励起すると、磁場方向５に沿って、その波動が
伝搬する。波動が伝搬する空間においてプラズマが生成
される。FIG. 4 shows a side view of FIG. In such a state, a magnetic field is applied in the magnetic flux density direction 5 by the magnetic field generating coil 1. The glass tube 2 is filled with a desired gas at a desired pressure. Finally, when high-frequency power is applied from the high-frequency power supply 3 to the antenna 4 to excite a wave (electromagnetic wave) in the glass tube 2, the wave propagates along the magnetic field direction 5. Plasma is generated in the space where the waves propagate.
【０００５】ここで、プラズマが生成される機構を詳細
にみると次のようになっている。アンテナ４に高周波電
源３から高周波電力が印加されると、アンテナ４に高周
波電流が流れる。この高周波電流によって誘導磁場が高
周波電流と垂直方向に誘起される。更に、この誘導磁場
に従って誘導電場が高周波電流と逆方向に誘起される。Here, the mechanism for generating plasma is described in detail as follows. When high-frequency power is applied to the antenna 4 from the high-frequency power supply 3, a high-frequency current flows through the antenna 4. An induced magnetic field is induced by the high-frequency current in a direction perpendicular to the high-frequency current. Further, an induced electric field is induced in a direction opposite to the high-frequency current according to the induced magnetic field.
【０００６】ガラス管内に誘起された誘導電場によっ
て、充填されているガス中の自由電子が加速され、中性
粒子として衝突し、これを電離させる。この作用が連続
的に起こり、誘導電場に起因するプラズマがガラス管２
の内壁近傍で発生する。The free electrons in the filled gas are accelerated by the induced electric field induced in the glass tube, collide as neutral particles, and ionize them. This action occurs continuously, and the plasma caused by the induction electric field is generated by the glass tube 2.
Occurs near the inner wall.
【０００７】このプラズマが発生することで、磁場中に
波動を励起することができる。波動が励起されると、ガ
ラス管軸を中心として、磁場方向５に沿って波動が伝搬
する。波動が伝搬すると、そのエネルギが電子に移り、
加速された電子は中性粒子と衝突し、これを電離させ
る。そして、ガラス管壁近傍ではなく、管中心軸上にプ
ラズマが生成される。[0007] The generation of this plasma can excite a wave in a magnetic field. When the wave is excited, the wave propagates along the magnetic field direction 5 around the glass tube axis. As the wave propagates, its energy is transferred to the electrons,
The accelerated electrons collide with neutral particles and ionize them. Then, plasma is generated not on the glass tube wall but on the center axis of the tube.
【０００８】このとき、誘導電場に起因するガラス管壁
近傍のプラズマの密度は、管中心軸上のプラズマに比べ
て何桁も低くなる。しかし、このように構成されている
装置においてプラズマを生成すると、ガラス管素材
（例、ＳｉＯ2 ）や、ガラス管壁に吸着しているガス
（例、Ｏ2 ）が放出されて、本来充填したガス以外の不
純物として混入してしまう。[0008] At this time, the density of the plasma near the glass tube wall caused by the induction electric field is several orders of magnitude lower than the plasma on the center axis of the tube. However, when plasma is generated in the apparatus configured as described above, a glass tube material (eg, SiO 2 ) or a gas (eg, O 2 ) adsorbed on the glass tube wall is released and originally filled. It is mixed as impurities other than gas.
【０００９】つまり、プロセス装置において上記のまま
プラズマを生成すると、不純物が目的の化学反応を阻害
する。又、反応生成物に不純物がそのまま混入するとい
う不具合がある。That is, when plasma is generated in the process apparatus as it is, impurities impede the intended chemical reaction. Further, there is a disadvantage that impurities are directly mixed into the reaction product .
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来装置
において、ガラス管材や、それに吸着しているガスが不
純物として混入する理由は、プラズマ生成初期に、誘導
電場に起因してガラス管壁近傍にプラズマが発生し、こ
のプラズマがガラス管を侵食するからである。In the above-described conventional apparatus, the reason that the glass tube material and the gas adsorbed on the glass tube material are mixed as impurities is that the vicinity of the glass tube wall due to the induction electric field in the early stage of plasma generation. Is generated, and the plasma erodes the glass tube.
【００１１】波動に起因してガラス管中心軸上にプラズ
マが生成されてしまえば、プラズマがガラス管を侵食す
ることはなくなる。しかし、この波動を励起する条件
は、磁場雰囲気でプラズマが存在することであり、上記
装置において波動を励起するために必要なプラズマは、
誘導電場に起因して発生するものだけである。つまり、
誘導電場に起因するプラズマを利用するかぎりは、ガラ
ス管から発生する不純物を避けられないという問題点が
あった。 本発明は、上記の問題点を解決し、誘導電場
を使わずに波動を励起するためのプラズマを生成するこ
とができる装置を提供することを目的とする。If plasma is generated on the central axis of the glass tube due to the wave, the plasma will not erode the glass tube. However, the condition for exciting the wave is that the plasma exists in a magnetic field atmosphere, and the plasma necessary for exciting the wave in the above device is
It only occurs due to the induced electric field. That is,
As long as the plasma generated by the induced electric field is used, there is a problem that impurities generated from the glass tube cannot be avoided. An object of the present invention is to solve the above problems and to provide an apparatus capable of generating plasma for exciting a wave without using an induction electric field.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】（第１の手段） 本発明に係る磁場中の高周波放電の点火装置は、 （Ａ）磁場発生用コイルの内空間にその中心軸を一致さ
せて設置した円筒状のガラス管と、 （Ｂ）前記ガラス管の周囲に設けたアンテナと、 （Ｃ）前記アンテナの一端に接続した高周波電源と、 （Ｄ）前記ガラス管の軸方向に設置したレーザ発振器
と、 （Ｅ）前記レーザ振器から出力するレーザ光線をガラス
管軸上にその焦点を合わせるために調整するレンズとを
具備し、 （Ｆ）プラズマ生成における放電点火にレーザ光線を用
いることを特徴とする。 （第２の手段） 本発明に係る磁場中の高周波放電の点火装置は、 （Ａ）磁場発生用コイルの内空間にその中心軸を一致さ
せて設置した円筒状のガラス管と、 （Ｂ）前記ガラス管の周囲に設けたアンテナと、 （Ｃ）前記アンテナの一端に接続した高周波電源と、 （Ｄ）前記ガラス管の軸方向に設置した電子ビーム発生
装置）と、 （Ｅ）前記電子ビーム発生装置から出射する電子ビーム
を透過させてガラス管軸上に入射させるように配置した
電子ビーム透過フォイルとを具備し、 （Ｆ）プラズマ生成における放電点火に電子ビームを用
いることを特徴とする。すなわち、本発明によれば、磁
場を発生するための磁場発生用コイルと、プラズマを生
成する場であるガラス管と、プラズマ生成のエネルギを
供給する高周波電源と、波動を励起するアンテナからな
る装置においてプラズマ生成を行う場合、レーザ光、電
子ビーム、紫外線より短波長より光を利用してガスを電
離させて、磁力線に沿って伝搬する波動を励起させるプ
ラズマを発生させることを特徴とする。Means for Solving the Problems (First Means) The igniter for high-frequency discharge in a magnetic field according to the present invention comprises: (A) the center axis of the coil is coincident with the inner space of the magnetic field generating coil.
A glass tube cylindrical who installed by, (B) an antenna provided around the glass tube, installation and high-frequency power source, in the axial direction of the (D) the glass tube connected to one end of (C) the antenna (E) a lens for adjusting a laser beam output from the laser shaker to focus on a glass tube axis , and (F) using the laser beam for discharge ignition in plasma generation. It is characterized by the following. (Second means) ignition device of a high-frequency discharge in a magnetic field according to the present invention, it is coincident with the central axis in the inner space (A) magnetic field generating coils
A glass tube cylindrical who installed by, (B) an antenna provided around the glass tube, installation and high-frequency power source, in the axial direction of the (D) the glass tube connected to one end of (C) the antenna (E) an electron beam emitted from the electron beam generator.
The by transmitting; and a <br/> electron beam transmission foil arranged so as to be incident on the glass tube axis, characterized by using an electron beam to the firing in (F) plasma generation. That is, according to the present invention, an apparatus including a magnetic field generating coil for generating a magnetic field, a glass tube for generating plasma, a high frequency power supply for supplying energy for plasma generation, and an antenna for exciting waves In the case of generating plasma, the method is characterized in that gas is ionized using light having a wavelength shorter than that of a laser beam, an electron beam, or ultraviolet light to generate a plasma that excites a wave propagating along the line of magnetic force.
【００１３】[0013]
【作用】本発明によれば、磁力線に沿って伝搬する波動
を励起させるためのプラズマを、ガスを充填したガラス
管内にレンズ、又は電子ビーム透過用フォイルを介し
て、レーザ光線、又は電子ビームを入射し、ガラス管の
軸中心上に生成するようにし、誘導電場によって発生さ
せることがないので、ガラス管近傍で発生したプラズマ
によってガラス管が侵食されることがなくなる。According to the present invention, a laser beam or an electron beam is supplied to a glass tube filled with gas through a lens or an electron beam transmitting foil into a glass tube for exciting a wave propagating along a magnetic field line. Since the incident light is generated on the axial center of the glass tube and is not generated by the induction electric field, the glass tube is not eroded by the plasma generated in the vicinity of the glass tube.
【００１４】従って、ガラス管から不純物を発生せず、
不純物による目的の化学反応の阻害、反応生成物に不純
物がそのまま混入するという不具合を回避することがで
きる。Therefore, no impurities are generated from the glass tube,
It is possible to avoid a problem that the target chemical reaction is inhibited by impurities and the impurities are directly mixed into the reaction product.
【００１５】[0015]
【実施例】本発明の実施例を図１〜図２に基づき説明す
る。図１は、本発明の第１実施例の概略構成を示す。図
１において、複数のソレノイド状の磁場発生用コイル１
の内空間に、円筒状のガラス管２を、双方の軸を合わせ
て設置する。ガラス管２の周囲に、アンテナ４を設置す
る。この例では、アンテナ４として銅パイプをガラス管
２に螺旋状に巻き付ける。アンテナ４の一端には、高周
波電源３を接続し、他端は接地する。ガラス管２の軸方
向にレーザ発振器８とレンズ９を配置し、レーザ発振器
８から出力するレーザ光線１０がレンズ９を透過して、
ガラス管２の管内に入射するように調整して設置する。
更にこの時、レンズ９によって集光される光が、アンテ
ナ４が囲む空間の中心（ガラス管２の軸中心上）に焦点
を結ぶように、レーザ発振器８と、レンズ９の配置を決
める。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 shows a schematic configuration of a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, a plurality of solenoid-shaped magnetic field generating coils 1
A cylindrical glass tube 2 is installed in the inner space with both axes aligned. An antenna 4 is installed around the glass tube 2. In this example, a copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 as the antenna 4. The high frequency power supply 3 is connected to one end of the antenna 4 and the other end is grounded. A laser oscillator 8 and a lens 9 are arranged in the axial direction of the glass tube 2, and a laser beam 10 output from the laser oscillator 8 passes through the lens 9,
The glass tube 2 is adjusted and installed so as to enter the inside of the glass tube 2.
Further, at this time, the arrangement of the laser oscillator 8 and the lens 9 is determined so that the light condensed by the lens 9 is focused on the center of the space surrounded by the antenna 4 (on the axial center of the glass tube 2).
【００１６】次に、以上の様に構成した第１実施例の動
作を説明する。まず、ガラス管２の内にガスを充填して
から、磁場発生用コイル１に通電し、磁場方向５に磁場
を発生させる。Next, the operation of the first embodiment configured as described above will be described. First, after filling the glass tube 2 with gas, the magnetic field generating coil 1 is energized to generate a magnetic field in the magnetic field direction 5.
【００１７】次に、レーザ発振器８をプラズマ生成のタ
イミングに合わせて動作させ、レーザ光線１０を出力さ
せる。プラズマ生成のタイミングとは次のことを意味す
る。 （Ａ）連続的にプラズマを生成する場合は、「初めにプ
ラズマを点火する時に」、（Ｂ）パルス的（間欠的）に
プラズマを生成する場合は、「繰り返し点火する毎に」
という意味である。Next, the laser oscillator 8 is operated in accordance with the plasma generation timing, and the laser beam 10 is output. The timing of plasma generation means the following. (A) When generating plasma continuously, “when the plasma is first ignited”; (B) When generating plasma in a pulsed manner (intermittently), “whenever the ignition is repeated”
It means.
【００１８】レーザ光線１０は、アンテナ４が囲む空間
に集光され、そこに、プラズマ７が生成される。注意す
べき点は、図１のプラズマ７のエネルギ源は、レーザ光
線１０であり、図３のプラズマ６のエネルギ源は、高周
波電源３からアンテナ４に供給される高周波電力である
ことである。The laser beam 10 is focused on a space surrounded by the antenna 4, and a plasma 7 is generated there. It should be noted that the energy source of the plasma 7 in FIG. 1 is the laser beam 10, and the energy source of the plasma 6 in FIG. 3 is high-frequency power supplied from the high-frequency power supply 3 to the antenna 4.
【００１９】プラズマ７が生成された後、高周波電源３
からアンテナ４に高周波電力を供給し、プラズマ７中に
波動を励起する。波動は磁場方向５に伝搬し、ガラス管
２の内に目的のプラズマを生成する。波動を励起した以
降の動作は従来の技術と同様である。After the plasma 7 is generated, the high-frequency power source 3
Supplies high frequency power to the antenna 4 to excite the waves in the plasma 7. The wave propagates in the magnetic field direction 5 and generates a target plasma in the glass tube 2. The operation after the excitation of the wave is the same as in the prior art.
【００２０】従って、この様な実施例によれば、ガスを
充填したガラス管２の内にレンズ９を介してレーザ光線
１０を導入し、アンテナ４が囲む空間の中心（ガラス管
２の軸中心上）にプラズマ７を生成するようにしたの
で、従来、波動を励起するために、ガラス管壁近傍の誘
導電場によってプラズマを生成していたものに比べて、
ガラス管内面がプラズマによって侵されにくくなり、ガ
ラス管材の成分や、ガラス管壁に吸着しているガスが、
不純物として現われにくくなる。Therefore, according to such an embodiment, the laser beam 10 is introduced through the lens 9 into the glass tube 2 filled with gas, and the center of the space surrounded by the antenna 4 (the axial center of the glass tube 2). Since the plasma 7 is generated in the upper part, compared with the conventional method in which the plasma is generated by the induction electric field near the glass tube wall to excite the wave,
The inner surface of the glass tube is hardly attacked by the plasma, and the components of the glass tube material and the gas adsorbed on the glass tube wall are
Less likely to appear as impurities.
【００２１】図２は、本発明の第２時実施例の概略構成
を示す。図２において、磁場発生用コイル１から磁場方
向５までの構成は、第１実施例と同様である。ガラス管
２の一端を電子ビーム透過フォイール１２を以て真空境
界とし、更にこのフォイルを介して、ガラス管２の軸方
向に電子ビーム発生装置１１を接続する。電子ビーム発
生装置１１から出力する電子ビーム１３が電子ビーム透
過フォイール１２を透過してガラス管２の内に入射する
ように調整して設置する。FIG. 2 shows a schematic configuration of a second embodiment of the present invention. In FIG. 2, the configuration from the magnetic field generating coil 1 to the magnetic field direction 5 is the same as in the first embodiment. One end of the glass tube 2 is set as a vacuum boundary with an electron beam transmitting foil 12, and an electron beam generator 11 is connected in the axial direction of the glass tube 2 via this foil. The electron beam 13 output from the electron beam generator 11 is adjusted and installed so that it passes through the electron beam transmission wheel 12 and enters the glass tube 2.
【００２２】次に、以上のように構成した第２実施例の
動作を説明する。まず、ガラス管２の内に目的のガスを
充填してから、磁場発生用コイル１に通電し、磁場方向
５に磁場を発生させる。Next, the operation of the second embodiment configured as described above will be described. First, after filling the glass tube 2 with a target gas, the magnetic field generating coil 1 is energized to generate a magnetic field in the magnetic field direction 5.
【００２３】次に、電子ビーム発生装置１１をプラズマ
生成のタイミングに合わせて動作させ、電子ビーム１３
を出力させる。プラズマ生成のタイミングは、第１実施
例の場合と同様である。Next, the electron beam generator 11 is operated in accordance with the plasma generation timing, and the electron beam 13 is emitted.
Output. The timing of plasma generation is the same as in the first embodiment.
【００２４】電子ビーム１３が電子ビーム透過フォイー
ル１２を透過して、ガラス管２の軸方向に入射すると、
そこにプラズマ７が生成される。注意すべき点は、この
プラズマ７のエネルギ源は、電子ビーム１３であり、図
３のプラズマ６のエネルギ源は、高周波電源３からアン
テナ４に供給される高周波電力であることである。When the electron beam 13 passes through the electron beam transmission wheel 12 and enters the glass tube 2 in the axial direction,
The plasma 7 is generated there. It should be noted that the energy source of the plasma 7 is the electron beam 13, and the energy source of the plasma 6 in FIG. 3 is high-frequency power supplied from the high-frequency power supply 3 to the antenna 4.
【００２５】プラズマ７が生成された後、高周波電源３
からアンテナ４に高周波電力を供給し、プラズマ７中に
波動を励起する。波動は磁場方向５に伝搬し、ガラス管
２の内に目的のプラズマを生成する。波動を励起した以
降の動作は従来の技術と同様である。After the plasma 7 is generated, the high-frequency power source 3
Supplies high frequency power to the antenna 4 to excite the waves in the plasma 7. The wave propagates in the magnetic field direction 5 and generates a target plasma in the glass tube 2. The operation after the excitation of the wave is the same as in the prior art.
【００２６】従って、このような実施例によれば、ガス
を充填したガラス管２の内に、電子ビーム透過フォイー
ル１２を介して電子ビーム１３を入射し、ガラス管２の
軸中心上にプラズマ７を生成するようにしているので、
従来、波動を励起するために、ガラス管壁近傍の誘導電
場によってプラズマを生成していたものに比べて、ガラ
ス管内面がプラズマによって侵されにくくなり、ガラス
管材の成分や、ガラス管壁に吸着しているガスが、不純
物として現われにくくなる。Therefore, according to such an embodiment, the electron beam 13 enters the gas-filled glass tube 2 via the electron beam transmitting foil 12, and the plasma 7 is placed on the axial center of the glass tube 2. Is generated, so
The inner surface of the glass tube is less likely to be attacked by the plasma than in the past, where the plasma was generated by an induced electric field near the wall of the glass tube to excite the waves, and the glass tube material was adsorbed on the glass tube wall. Gas is less likely to appear as impurities.
【００２７】なお、本発明は上記実施例にのみ限定され
ず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施できる。
例えば、ガラス管２はガラス材に限らず、誘電体材料な
らば材料は問わない。又、アンテナ４として銅パイプを
ガラス管２に螺旋状に巻き付けるが、銅パイプの代わり
に線状導体や、リボン状導体を用いても構わない。又、
磁場方向５はこれと反対方向でも構わない。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the invention.
For example, the glass tube 2 is not limited to a glass material, and any material can be used as long as it is a dielectric material. In addition, a copper pipe is spirally wound around the glass tube 2 as the antenna 4, but a linear conductor or a ribbon conductor may be used instead of the copper pipe. or,
The magnetic field direction 5 may be the opposite direction.
【００２８】[0028]
【発明の効果】本発明は前述のように構成されているの
で、以下に記載する様な効果を奏する。 （１）本発明の放電点火方法によれば、プラズマプロセ
ス装置において、磁力線に沿って伝搬する波動を励起さ
せるためのプラズマを、ガスを充填したガラス管内にレ
ンズ、又は電子ビーム透過用フォイルを介して、レーザ
光線、又は電子ビームを入射し、ガラス管の軸中心上に
生成することができる。 （２）そのためガラス管内面がプラズマによって侵され
にくくなり、ガラス管材の成分や、ガラス管壁に吸着し
ているガスが、不純物として現れにくくなる。 （３）従って、これらの不純物による、目的の化学反応
の阻害、又は、反応生成物に不純物がそのまま混入する
という不具合を回避することができる。Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. (1) According to the discharge ignition method of the present invention, in a plasma processing apparatus, a plasma for exciting a wave propagating along a line of magnetic force is introduced into a glass tube filled with gas through a lens or an electron beam transmitting foil. Then, a laser beam or an electron beam can be incident and generated on the axial center of the glass tube. (2) Therefore, the inner surface of the glass tube is less likely to be eroded by the plasma, and the components of the glass tube material and the gas adsorbed on the glass tube wall are less likely to appear as impurities. (3) Therefore, it is possible to avoid a problem that these impurities impede a target chemical reaction or that impurities are directly mixed into a reaction product.
【図１】本発明の第１実施例の概略構成を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第２の実施例の概略構成を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.
【図３】従来の磁場中の誘導型高周波放電によるプラズ
マ生成を行なうための装置の一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a conventional apparatus for generating plasma by induction high-frequency discharge in a magnetic field.
【図４】図３の装置の側面図。FIG. 4 is a side view of the apparatus of FIG. 3;
１…磁場発生用コイル、 ２…ガラス管、 ３…高周波電源、 ４…アンテナ、 ５…磁場方向、 ６…プラズマ（波動が伝搬することによって生成される
プラズマ）、 ７…プラズマ（レーザ光線、又は電子ビームによって生
成されるプラズマ）、 ８…レーザ発振器、 ９…レンズ、 １０…レーザ光線、 １１…電子ビーム発生装置、 １２…電子ビーム透過用フォイル、 １３…電子ビーム。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Coil for generating magnetic field, 2 ... Glass tube, 3 ... High frequency power supply, 4 ... Antenna, 5 ... Direction of magnetic field, 6 ... Plasma (plasma generated by propagation of wave), 7 ... Plasma (laser beam or 8: laser oscillator, 9: lens, 10: laser beam, 11: electron beam generator, 12: foil for transmitting electron beam, 13: electron beam.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−163187（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−200851（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−178779（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−158798（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−183097（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05H 1/24 H05H 1/46 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-6-163187 (JP, A) JP-A-61-200851 (JP, A) JP-A-62-178779 (JP, A) JP-A-63-163 158798 (JP, A) JP-A-7-183097 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05H 1/24 H05H 1/46
Claims (2)
その中心軸を一致させて設置した円筒状のガラス管
（２）と、 （Ｂ）前記ガラス管（２）の周囲に設けたアンテナ
（４）と、 （Ｃ）前記アンテナ（４）の一端に接続した高周波電源
（３）と、 （Ｄ）前記ガラス管（２）の軸方向に設置したレーザ発
振器（８）と、 （Ｅ）前記レーザ振器（８）から出力するレーザ光線
（１０）をガラス管（２）軸上にその焦点を合わせるた
めに調整するレンズ（９）とを具備し、 （Ｆ）プラズマ生成における放電点火にレーザ光線（１
０）を用いることを特徴とする磁場中の高周波放電の点
火装置。(A) In the inner space of a magnetic field generating coil (1)
And its central axis cylindrical glass tube which is placed to match the (2), an antenna (4) provided around the (B) the glass tube (2), one end of (C) the antenna (4) (D) a laser oscillator (8) installed in the axial direction of the glass tube (2), and (E) a laser beam (10) output from the laser vibrator (8). Focus on the glass tube (2) axis
; And a lens (9) to adjust the fit, the laser beam (1 to the firing of (F) a plasma generation
An ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field, wherein the ignition device is used.
その中心軸を一致させて設置した円筒状のガラス管
（２）と、 （Ｂ）前記ガラス管（２）の周囲に設けたアンテナ
（４）と、 （Ｃ）前記アンテナ（４）の一端に接続した高周波電源
（３）と、 （Ｄ）前記ガラス管（２）の軸方向に設置した電子ビー
ム発生装置（１１）と、 （Ｅ）前記電子ビーム発生装置（１１）から出射する電
子ビーム（１３）を透過させてガラス管（２）軸上に入
射させるように配置した電子ビーム透過フォイル（１
２）とを具備し、 （Ｆ）プラズマ生成における放電点火に電子ビーム（１
３）を用いることを特徴とする磁場中の高周波放電の点
火装置。(A) In the internal space of the magnetic field generating coil (1).
And its central axis cylindrical glass tube which is placed to match the (2), an antenna (4) provided around the (B) the glass tube (2), one end of (C) the antenna (4) (D) an electron beam generator (11) installed in the axial direction of the glass tube (2), and (E) an electric power emitted from the electron beam generator (11).
Penetrates the beam (13) and enters the axis of the glass tube (2)
Electron beam transmission foil arranged so as to Isa (1
(F) electron beam (1) for discharge ignition in plasma generation.
(3) An ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field, characterized by using (3).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27395294A JP3174699B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27395294A JP3174699B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08138886A JPH08138886A (en) | 1996-05-31 |
| JP3174699B2 true JP3174699B2 (en) | 2001-06-11 |
Family
ID=17534863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27395294A Expired - Fee Related JP3174699B2 (en) | 1994-11-08 | 1994-11-08 | Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3174699B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3758520B2 (en) | 2001-04-26 | 2006-03-22 | 日新イオン機器株式会社 | Ion beam irradiation apparatus and related method |
| JP5651843B2 (en) * | 2007-09-10 | 2015-01-14 | イマジニアリング株式会社 | Measuring method and measuring device |
| CN106898861A (en) * | 2017-03-01 | 2017-06-27 | 合肥工业大学 | A kind of plasma antenna for working in Terahertz frequency range |
| WO2020225920A1 (en) * | 2019-05-09 | 2020-11-12 | Ｓｐｐテクノロジーズ株式会社 | Plasma ignition method and plasma generation device |
-
1994
- 1994-11-08 JP JP27395294A patent/JP3174699B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08138886A (en) | 1996-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6062163A (en) | Plasma initiating assembly | |
| KR100291152B1 (en) | Plasma generating apparatus | |
| JPH088095A (en) | High-frequency induction plasma source device for plasma treatment | |
| JPH06508718A (en) | Method for generating excited neutral particles for etching and deposition processes in semiconductor technology | |
| JP4615730B2 (en) | Method and plasma processing reactor for igniting plasma in a processing chamber | |
| JP2004047207A5 (en) | ||
| JP3174699B2 (en) | Ignition device for high-frequency discharge in a magnetic field | |
| JP2004047207A (en) | Method and device of generating ground wave excitation plasma at conductor proximity area | |
| JPH06196446A (en) | High frequency magnetic field excitation treatment device | |
| JP2910381B2 (en) | Plasma equipment | |
| JP2000058292A (en) | Method and device for plasma treatment | |
| JPH0831417B2 (en) | Plasma processing deposition equipment | |
| JP3287041B2 (en) | Control method of plasma processing apparatus | |
| JPH04167424A (en) | Microwave plasma treatment apparatus | |
| JP2001058127A (en) | Apparatus for generating plasma in chamber by microwave excitation | |
| JP3080471B2 (en) | Microwave plasma generator | |
| JP3396345B2 (en) | Plasma generator | |
| JPH07263160A (en) | Microwave excited light source | |
| JP2974635B2 (en) | Microwave plasma generator | |
| JP2002280197A (en) | Igniter for generating plasma | |
| JP2629610B2 (en) | Microwave plasma processing equipment | |
| Budnikov et al. | Absorption of large-amplitude microwaves at intermediate frequencies | |
| JPH06349776A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
| JPH04264722A (en) | Method and device for plasma treatment using microwave | |
| JP3498424B2 (en) | ECR ion source |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010306 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |