JP3163675B2 - 機械式インターフェース装置 - Google Patents

機械式インターフェース装置

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JP3163675B2
JP3163675B2 JP24085191A JP24085191A JP3163675B2 JP 3163675 B2 JP3163675 B2 JP 3163675B2 JP 24085191 A JP24085191 A JP 24085191A JP 24085191 A JP24085191 A JP 24085191A JP 3163675 B2 JP3163675 B2 JP 3163675B2
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等 河野
敦 奥野
正徳 津田
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哲平 山下
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幹 田中
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神鋼電機株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造プロセス
で用いられる機械式インターフェース・システム(SM
IF装置)に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体の処理は、半導体のパーテ
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭6
0−143623号公報に開示されているような標準化
された機械的インターフェース装置(SMIF装置)が
開発された。
【0003】このSMIF装置は、例えば、図4に示す
ように、ウエハ処理装置(図示しない)を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース1と、可搬式タ
イプのボックス(以下、ポッドPODという)10およ
び搬送装置30を含んでいる。装置本体の本体ケース1
の天板2にはポートプレート3によりポート(ウエハカ
セット20の搬入・搬出口)4が形成されており、把持
部10Aを持つポッドPOD10はこのポートプレート
3上に載置される。ポッドPOD10はその開口11の
周囲に環状部12aを持つフランジ12を有する形状と
なっている。この例の搬送装置30は昇降装置であっ
て、昇降軸32に支持された昇降台31にウエハカセッ
ト20を載せて昇降するが、この昇降台31は、ポート
ドアとなっており、最上昇時には、ポートプレート3に
下から当接もしくは嵌合してポート4を本体ケース1を
外部に対して密閉し、また、ポートドア31上にあるウ
エハカセット20の台21はポッドPOD10の開口1
1の周部に当接して当該開口11を密閉する。この台2
1を、以下、ポッドドアという。13はシール材であっ
て、ポッドPOD10の開口とポッドドア21との間
シールし、シール材14はポッドPOD10のフランジ
12とポートプレート3との間をシールし、シール材1
5はポートプレート3とポートドア31との間をシール
する。40はロック機構であって、図示しないギヤード
モータにより駆動されるロックレバー41を有し、ポッ
ドPOD10のフランジ12をポートプレート3上へ押
し下げる働きをする。
【0004】この例においては、処理前のウエハWが図
示しない他の場所からポートドア31上へ移載されたの
ち、ポッドPOD10をポートプレート3上に載置し、
ロックレバー41で固定する。ロックレバー41で固定
したのち、ポッドPOD10内に清浄空気を供給して、
ポッドPOD10内を本体ケース1内と同様の清浄雰囲
気としたのち、ポートドア31を移載位置まで下降す
る。ポートドア31が移載位置まで下降すると、図示し
ない移載装置がポートドア31上のウエハカセット20
を処理機械へ搬送する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、ウ
エハWのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハWの移動、
搬送等を不活性ガス(N2 ガス)雰囲気中で行なう必要
が生じ、現在では、O2 、H2 Oの濃度が10ppm以
下であるN2 ガス雰囲気が要求されている。
【0006】上記したSMIF装置を用いる場合には、
本体ケース1内の空気をN2 ガスで置換してN2 ガス雰
囲気とし、ポッドPOD10は、当該ポッドPOD10
が本体ケース1の天板2上にセットされる都度、その内
部をN2 ガスで置換してN2ガス雰囲気とすることにな
る。
【0007】この場合、ポッドPOD10とポートプレ
ート3間、ポッドPOD10とポッドドア21との間、
ポートドア21とポートプレート3との間のシール性、
特に、ポッドPOD10とポートプレート3間のシール
性の向上が要求されるが、シール材(Oーリング)は製
造上のバラツキがあり、巨視的に見た場合、きれいな平
面に対して波を打った形状のものもあるので、前記ロッ
クレバー41を用いるような機械的手段でシール材(O
ーリング)を押圧する方法では、充分なシール性能を得
ることが難しく、この機械的手段でシール性能を向上す
るには、ポートプレート3の周方向に多数のロックレバ
ー41を配設する必要がある上、ポッドPOD10が大
きくなると所要の押圧力が大きくなるので、1つ1つの
ロック機構が大形化し、これに要する費用も高価になる
他、本体ケースのポートまわりが煩雑になり、ロック機
構のために大きなスペースを取られるという問題があ
る。
【0008】本発明はこの問題を解消するためになされ
たもので、本体ケースのポートまわりにロック機構等を
設けることなく、簡便な手段で、ポッドと装置本体間の
シール性を確実に向上することができる機械式インター
フェース装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、請求項1では、本体ケースに設けられ被処理
物の搬入・搬出用ポートを形成するポートプレート上に
シール材を介して載置されて前記ポートを覆う開口フラ
ンジ付ポッド、このポッドの開口を閉鎖可能なポッドド
ア、前記本体ケース内に昇降可能に支持され最上昇時に
上記ポートプレートに係合して前記ポートを閉鎖するポ
ートドア、および上記ポッドのフランジを上記ポートプ
レートに向けて付勢する手段とを備え、このポートドア
が上記ポッドドアを上記ポッド内から本体ケースへまた
その逆へ搬送する機械式インターフェース装置におい
て、上記付勢する手段が、上記ポッドのフランジとポー
トプレートとの対向面間に周方向に延びる環状の閉鎖さ
れた溝状空間を形成し、この溝状空間の空気を排気して
上記ポートプレートと上記ポッドのフランジとの対向面
間に真空吸引力を作用させる第1の手段を有する構成と
した。
【0010】請求項2では、請求項1記載の機械式イン
ターフェース装置であって、付勢する手段が、上記ポッ
ドのフランジとポートプレートとの対向面間に磁気吸引
力を作用させる第2の手段を有する構成とした。
【0011】請求項3では、請求項1または2記載の機
械式インターフェース装置であって、第1の手段が、ポ
ッドのフランジとポートプレートの互いに面対向する部
分のいずれか一方の面に設けられ周方向に延びる溝状空
間を区画する2本のシール材と、上記ポートプレートに
設けられ一端が上記溝状空間に向かって開口し他端が装
置外の真空ポンプに連絡される通路孔とを有する構成と
した。請求項4では、請求項2記載の機械式インターフ
ェース装置であって、第2の手段が、上記ポッドのフラ
ンジと上記ポートプレートの互いに面対向する部分のい
ずれか一方の部材に設けられ周方向に並ぶ複数の永久磁
と、他方の部材が磁性体であるかもしくは上記永久磁
石列と対向して周方向に延びる磁性体部材を有してい
る構成とした。
【0012】請求項5では、請求項1〜4のいずれか1
項に記載の機械式インターフェース装置であって、ポッ
ドのフランジは、嵌合部となる環状部と当該環状部から
外方に広がる延長フランジを有し、上記環状部はポート
プレートに内嵌可能であるとともにポッドドアに外嵌可
能であり、付勢する手段は、上記延長フランジ側に設け
るようにした。
【0013】請求項6では、請求項1〜5のいずれか1
項に記載の機械式インターフェース装置であって、ポッ
ドのフランジの下面に偏平の脚部を有し、この偏平脚部
は、溝状空間に対応する位置に設けられている構成とし
た。
【0014】
【作用】本発明では、ポッドをポートプレート上に載置
すると、第2の手段が働いて、ポッドのフランジに永久
磁石の磁気吸引力が作用し、全周で両シール材を押圧す
る。真空ポンプを動作させると、両シール材が形成する
溝状空間が負圧になり、ポッドのフランジがポートプレ
ート側へ吸引されて、両シール材を強く押圧する。
【0015】
【実施例】以下、本発明の1実施例を図面を参照して説
明する。
【0016】図1において、ポッドPOD10は磁性体
(磁性ステンレスからなる)であって、そのフランジ1
は環状部12bから更に外方に広がる延長フランジ1
2Aが形成された広幅のフランジとなっている。本実施
例の環状部12bは嵌合筒部(位置決め用の嵌合筒部)
となっており、ポッドPOD10は、この環状部12b
をポートプレートに内嵌して当該ポートプレート
に載置され、ポッドドア21はこの環状部12bに内嵌
する。嵌合筒部12bの先端は丸みを帯びた形状になっ
ている。ポートプレート3の表面の延長フランジ12A
に対向する部分には、周方向に延びるシール溝3aと3
bが周方向と直交する方向に小間隔を隔てて形成されて
いる。このシール溝3aと3bにはシール材(Oーリン
グ)51a、51bが嵌着され、両シール材はポートプ
レート表面に環状の溝状空間Aを形成する。ポートプレ
ート3には、更に、一端が上記シール溝3a、3bとの
間からポートプレート3表面に開口し、他端がポートプ
レート3の外側面に開口する通路孔3Cが形成されると
ともに、図示しないガス給気口とガス排気口3Eが形成
されている。この通路孔3Cには配管52が接続され、
この配管52は本体ケース1の外に配設された真空ポン
プ60に接続されている。53は永久磁石であって、ポ
ートプレート3の表面の延長フランジ12Aに対向する
部分に埋設状に設けられており、この永久磁石は、図2
に示すように、ポートプレート3の周方向に一定間隔を
隔てて並んでいる。本実施例のポートドア31はその下
部に鍔部31Aを有し、この鍔部31Aにポートプレー
ト3との間をシールするシール材15が嵌着されてい
る。
【0017】なお、ガス給気口とガス排気口3Eはポッ
ドPOD10内をN2 ガス置換する場合に利用されるも
のであり、ガス給気口は配管を通して図示しないN2
スボンベに連絡される。また本体ケース1内は、N2
ス雰囲気にあり、常時、20リットル/分のN2 ガス注
入により与圧されている。
【0018】本実施例においては、ポッドPOD10が
装置外から本体ケース1のポートプレート3上へ移載さ
れると、両シール材51a、51bが形成する溝状空間
Aが延長フランジ12A下面で閉鎖される。この状態
で、ポッドPOD10の上記移載が終わると、真空ポン
プ60が駆動される。真空ポンプ60が駆動されると、
配管52内が負圧になるので、閉鎖された溝状空間Aの
空気は配管52を通して外へ排気され、溝状空間Aが負
圧となる。溝状空間Aが負圧になると、ポッドPOD1
0のフランジ12に対して吸引力が作用するので、ポッ
ドPOD10のフランジ12はシール材51a、51b
の弾力に抗してポートプレート3側へ変位し、ポートプ
レート3との間にシール材51a、51bを挟圧する。
【0019】前記したように、一般に、シール材(Oー
リング)は製造上のバラツキがあり、巨視的に見た場
合、きれいな平面に対して波を打った形状のものもある
ので、ポッドPOD10をポートプレート3上に載置し
た状態では、両シール材51a、51bがその全周でフ
ランジ12の面に接触係合している保証がなく、一部非
接触係合部分があることを看過して、上記真空吸引した
場合には、充分な真空吸引力が得られない。
【0020】しかし、本実施例では、ポートプレート3
に永久磁石53を配設し、ポッドPOD10が磁性体で
あるので、ポッドPOD10のフランジ12が磁気吸引
力を受けてシール材51a、51bを押圧する。永久磁
石53はポートプレート3の周方向に多数並んでいるの
で、上記磁気吸引力はポッドPOD10のフランジ12
の全周に作用する。
【0021】従って、本実施例では、ポッドPOD10
をポートプレート3上に載置すると、ポッドPOD10
のフランジ12に上記磁気吸引力が作用して全周で両シ
ール材51a、51bを押圧するので、上記溝状空間A
が充分に密封された空間となり、上記真空吸引により、
シール材51a、51bはもちろんシール材13も確実
にその全周で強く挟圧され良好なシール性を確保する。
【0022】このように、本実施例では、永久磁石53
の磁気吸引力により、溝状空間Aを完全に気密な空間と
したのち、真空吸引を行なうから、ポッドPOD10内
を確実に外気に対して遮断することができる。
【0023】本実施例のSMIF装置は、このようにし
て、ポッドPOD10内を確実に外気に対して遮断し
状態で、図示しないガス給気口およびガス排気口3Eを
利用して、ポッドPOD10内をN2 ガスで置換する。
【0024】上記実施例のポッドPOD10のフランジ
12は環状部12bと延長フランジ12Aを有している
が、ポッドPODのフランジ12として、これらを持た
ないものがものがある。この種のものでは、ポッドPO
D10を装置外の床や棚に置いた場合に、フランジ12
の下面前面に塵埃が付着しやすいので、図3(A)・
(B )に示すように、偏平の脚部12cを設ける。この
偏平の脚部12cは周方向に複数個並ぶものであって
も、また連続した環状ものであってもよい。この偏平の
脚部12cがあれば、ポッドPOD10を、図3の
(A)に示すように、装置外の床や棚に置いた場合、当
該偏平の脚部12cの下面にだけ、塵埃が付着等が付着
する。
【0025】従って、この偏平の脚部12cを、溝状空
間Aに対向する位置に設け、ポッドPOD10を本体ケ
ース1のポートプレート3上へ移載した状態で、偏平突
部12cが通路孔3Cとの間に、図3の(B)に示すよ
うに、空気流が通過可能な間隙を隔ててポートプレート
3表面に対向するようにしておけば、偏平の脚部12c
の下面に付着している塵埃等は真空吸引により装置外へ
吸引され、偏平の脚部12cの下面は浄化される。
【0026】なお、上記実施例では、ホッドPOD10
を磁性体としたが、ホッドPOD10を非磁性体とし、
延長フランジ12Aの上表面に永久磁石の列と当該延長
フランジ12A部を介して対向するように、周方向に延
びる磁性体部材を取付けてもよい。
【0027】また、シール材51a、51bを延長フラ
ンジ12A側に設けてもよい。
【0028】また、ポートプレート3を磁性体とし、延
長フランジ12A側に永久磁石53を配列してもよい。
【0029】また、2本のシール材51a、51bで1
本の溝状空間Aを形成しているが、溝状空間Aを複数本
形成してもよく、2本以上のシール材で1本の溝状空間
Aを形成してもよい。
【0030】
【発明の効果】本発明は以上説明した通り、ポッドのフ
ランジをポートプレートに向けて付勢する手段として、
真空吸引力を利用する構成としたことにより、所要の挟
圧力を容易に得ることができるので、気体に対するシー
ル性を向上することができる上、補助的に永久磁石によ
る磁気吸引力も利用するみとにより、シール材の波打ち
等があっても、確実にシール材全周に亘って所要の挟圧
力を作用させることができ、信頼性を向上することがで
きる。
【0031】また、本体ケースのポートまわりに部材を
配設する必要がないので、前記ロック機構等を設ける場
合に比して、ポートまわりを簡素化することができる利
点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す縦断面図である。
【図2】上記実施例におけるポートプレートの平面図で
ある。
【図3】ポッドのフランジの他の例を示す図である。
【図4】従来のSMIF装置の概略を示す図である。
【符号の説明】
1 本体ケース 3 ポートプレート 3a、3b シール溝 3C 通路孔 3E 排気口 4 ポート 10 ポッドPOD 11 ポッドPODの開口 12 ポッドPODのフランジ 12A 延長フランジ 12b 環状部 12c 偏平の脚部 13、15 シール材 20 ウエハカセット 21 ポッドドア 31 ポートドア 31A ポートドアの鍔部 32 昇降軸 40 ロック機構 51a、51b シール材 52 配管 53 永久磁石 60 真空ポンプ A 溝状空間
フロントページの続き (72)発明者 林 満弘 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 山下 哲平 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 村田 正直 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 田中 幹 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 森田 日也 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/02 B65D 85/38 C23C 14/56 H01L 21/68

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 本体ケースに設けられ被処理物の搬入・
    搬出用ポートを形成するポートプレート上にシール材を
    介して載置されて前記ポートを覆う開口フランジ付ポッ
    ド、このポッドの開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本
    体ケース内に昇降可能に支持され最上昇時に上記ポート
    プレートに係合して前記ポートを閉鎖するポートドア、
    および上記ポッドのフランジを上記ポートプレートに
    けて付勢する手段とを備え、このポートドアが上記ポッ
    ドドアを上記ポッド内から本体ケースへまたその逆へ搬
    送する機械式インターフェース装置において、 上記付勢する手段は、 上記ポッドのフランジとポートプレートとの対向面間に
    周方向に延びる環状の閉鎖された溝状空間を形成し、こ
    の溝状空間の空気を排気して 上記ポッドのフランジとポ
    ートプレートとの対向面間に真空吸引力を作用させる
    1の手段を有することを特徴とする機械式インターフェ
    ース装置。
  2. 【請求項2】 付勢する手段が、上記ポッドのフランジ
    とポートプレートとの対向面間に磁気吸引力を作用させ
    る第2の手段を有することを特徴とする請求項1記載の
    機械式インターフェース装置。
  3. 【請求項3】 第1の手段が、ポッドのフランジとポー
    トプレートの互いに面対向する部分のいずれか一方の面
    に設けられ周方向に延びる溝状空間を区画する少なくと
    も2本のシール材と、上記ポートプレートに設けられ一
    端が上記溝状空間に向かって開口し他端が装置外の真空
    ポンプに連絡される通路孔とを有することを特徴とする
    請求項1または2記載の機械式インターフェース装置。
  4. 【請求項4】 第2の手段が、上記ポッドのフランジと
    上記ポートプレートの互いに面対向する部分のいずれか
    一方の部材に設けられ周方向に並ぶ複数の永久磁石と、
    他方の部材が磁性体であるかもしくは上記永久磁石列と
    対向して周方向に延びる磁性体部材を有していること
    を特徴とする請求項2記載の機械式インターフェース装
    置。
  5. 【請求項5】 ポッドのフランジは、嵌合部となる環状
    部と当該環状部から外方に広がる延長フランジを有し、
    上記環状部はポートプレートに内嵌可能であるとともに
    ポッドドアに外嵌可能であり、付勢する手段は、上記
    長フランジ側に設けられていることを特徴とする請求項
    1〜4のいずれか1項に記載の機械式インターフェース
    装置。
  6. 【請求項6】 ポッドのフランジの下面に偏平の脚部を
    有し、この偏平脚部は、溝状空間に対応する位置に設け
    られていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか
    項に記載の機械式インターフェース装置。
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