JP3146195B2 - X-ray mapping device - Google Patents
X-ray mapping deviceInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線マッピング装置
に関する。The present invention relates to an X-ray mapping device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】第３図は従来までのＸ線マッピング装置
を示し、同図において、Ｘ線管21からの入射Ｘ線がコリ
メータ22を介して試料ステージ23上の試料24の一部に照
射され、螢光Ｘ線を発生する。この螢光Ｘ線はたとえば
半導体検出器（ＳＳＤ）よりなるＸ線検出器25で検出さ
れる。上記Ｘ線検出器25からの出力はパルスプロセッサ
ー26で処理され、試料中に含まれる元素とその強度を判
別する。その後、このパルスプロセッサー26からの信号
はコンピュータ27に入力され、画像処理装置28にて画像
表示を行う。2. Description of the Related Art FIG. 3 shows a conventional X-ray mapping apparatus, in which incident X-rays from an X-ray tube 21 irradiate a part of a sample 24 on a sample stage 23 via a collimator 22. To generate fluorescent X-rays. This fluorescent X-ray is detected by an X-ray detector 25 composed of, for example, a semiconductor detector (SSD). The output from the X-ray detector 25 is processed by a pulse processor 26 to determine the elements contained in the sample and their intensities. Thereafter, the signal from the pulse processor 26 is input to the computer 27, and the image is displayed by the image processing device 28.
【０００３】そして試料24全体にわたって測定を行うに
は、第４図に示すように、あらかじめ定められた試料24
を含むマッピング領域Ｍ内においてその測定点を分割し
て設け、試料ステージ23を所定の方向に移動させるステ
ージコントローラ29にコンピュータ27からの信号が入力
されることにより試料ステージ23を移動させ、前記Ｘ線
管21からのＸ線が照射されている位置に１，２〜ｎとい
うように順番に各測定点を移動させることにより、各測
定点における螢光Ｘ線を検出し、試料24中の各測定点の
螢光Ｘ線の種類と強度から含有元素の分布を測定するも
のであった。In order to perform measurement on the entire sample 24, as shown in FIG.
The measurement point is divided and provided in the mapping area M including the following. The signal from the computer 27 is input to a stage controller 29 for moving the sample stage 23 in a predetermined direction, and the sample stage 23 is moved. By moving each measurement point in order from 1, 2 to n to the position where the X-ray from the tube 21 is irradiated, the fluorescent X-ray at each measurement point is detected, The distribution of the contained elements was measured from the type and intensity of the fluorescent X-ray at the measurement point.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記測
定方法では、たとえマッピング領域Ｍ内に試料24が存在
しない測定点（例えば７，８，９等）においてもＸ線検
出器25における螢光Ｘ線検出およびパルスプロセッサー
26、コンピュータ27での信号処理という一連の作業を行
った後に試料ステージ23を移動させるため、非常に長時
間にわたって測定を行う必要があった。However, according to the above-mentioned measuring method, the fluorescent X-rays in the X-ray detector 25 are detected even at the measuring points (for example, 7, 8, 9 etc.) where the sample 24 does not exist in the mapping area M. Detection and pulse processor
26. Since the sample stage 23 is moved after performing a series of operations of signal processing in the computer 27, it is necessary to perform measurement for a very long time.
【０００５】本発明は、上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的とするところは、非常に短時間で高精
度な測定を可能とするＸ線マッピング装置を提供するこ
とにある。The present invention has been made in consideration of the above-mentioned matters, and an object of the present invention is to provide an X-ray mapping apparatus which enables highly accurate measurement in a very short time.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、試料を載置する試料ステージと、前記試
料にＸ線を照射するＸ線管と、該Ｘ線照射により前記試
料において生ずる螢光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、こ
のＸ線検出器の出力に基づいて試料中に含まれる元素と
その強度を判別するパルスプロセッサーと、このパルス
プロセッサーからの信号が入力されるコンピュータと、
このコンピュータの出力を処理して画像表示する画像処
理装置と、前記コンピュータからの制御信号に基づいて
前記試料ステージを所定の方向に移動させるステージコ
ントローラとからなり、前記Ｘ線管からのＸ線が照射さ
れている位置に試料があるか否かを検出するための試料
有無センサを設け、このセンサからの信号を前記コンピ
ュータに入力するようにしたＸ線マッピング装置であっ
て、Ｘ線管からのＸ線が照射されている位置に試料が存
在しない場合には、前記コンピュータにおいてデータ収
集を行わず、直ちに試料ステージを移動させて次の測定
点で測定を行うように構成している。In order to achieve the above object, the present invention provides a sample stage on which a sample is mounted, an X-ray tube for irradiating the sample with X-rays, and an X-ray tube for irradiating the sample with the X-rays. An X-ray detector for detecting fluorescent X-rays generated in the step, a pulse processor for determining the elements contained in the sample and their intensities based on the output of the X-ray detector, and a signal from the pulse processor. Computer
An image processing apparatus that processes the output of the computer and displays an image, and a stage controller that moves the sample stage in a predetermined direction based on a control signal from the computer, wherein X-rays from the X-ray tube An X-ray mapping apparatus which is provided with a sample presence / absence sensor for detecting whether or not a sample is present at an irradiated position, and which inputs a signal from the sensor to the computer. When the sample does not exist at the position irradiated with the X-rays, the computer does not collect data, but immediately moves the sample stage to perform measurement at the next measurement point.
【０００７】上記特徴構成によれば、Ｘ線管からのＸ線
が照射されている位置に試料が存在しない場合には、コ
ンピュータにおいてデータ収集を行わず、直ちに試料ス
テージを移動させて次の測定点で測定を行うため、全測
定に要する時間が大幅に短縮される。According to the above-mentioned characteristic configuration, when the sample is not present at the position where the X-ray from the X-ray tube is irradiated, the data is not collected by the computer and the sample stage is immediately moved to perform the next measurement. Since the measurement is performed at points, the time required for the entire measurement is significantly reduced.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【０００９】第１図は本発明に係るＸ線マッピング装置
の一例を示し、この図において、第３図に示す符号と同
一のものは同一物または相当物を示す。ここで、このＸ
線マッピング装置が従来のＸ線マッピング装置と大きく
異なる点は、試料があるか否かを検出するためのセンサ
30を設け、このセンサ30からの信号をコンピュータ27に
入力するようにした点である。このセンサ30は例えばセ
ンサ先端から測定点までの距離を測定する変位センサや
反射型光電センサからなり（以下、変位センサと云
う）、試料24の有るときと無いときとで、試料の厚み分
だけ変位量が異なることを利用して試料があるか否かを
検出するもので、本実施例では試料がある場合を基準値
とし、基準値から外れた場合にコンピュータ27に信号を
入力するようにしてある。FIG. 1 shows an example of an X-ray mapping apparatus according to the present invention. In FIG. 1, the same reference numerals as those shown in FIG. 3 denote the same or corresponding components. Here, this X
The major difference between the X-ray mapping device and the conventional X-ray mapping device is the sensor for detecting whether or not there is a sample.
30 is provided, and a signal from the sensor 30 is input to the computer 27. The sensor 30 is composed of, for example, a displacement sensor or a reflection type photoelectric sensor that measures the distance from the sensor tip to the measurement point (hereinafter, referred to as a displacement sensor). In this embodiment, the presence or absence of a sample is detected by utilizing the difference in the amount of displacement, and in this embodiment, a signal is input to the computer 27 when a sample is present and the reference value is used. It is.
【００１０】而して、上記Ｘ線マッピング装置の作用を
第２図をも参照しながら説明すると、あらかじめ定めら
れた試料24を含むマッピング領域Ｍにおいて測定点を
１，２〜ｎというように分割して設け、図中の矢印Ａに
示す順序にそって試料ステージ23を移動させるようにコ
ンピュータ27にプログラムしておく。そして、まず、Ｘ
線管21からの入射Ｘ線がコリメータ22を介して試料ステ
ージ23上のマッピング領域Ｍ内の測定点１に照射される
よう試料ステージ23を移動させる。この測定点１には試
料24が存在しないので、変位センサ30が試料無しと判断
し、コンピュータ27にその信号が入力されると同時に、
コンピュータ27においてパルスプロセッサー26からのデ
ータ収集は行われない。そして、入力された信号に基づ
いてコンピュータ27からの制御信号をステージコントロ
ーラ29に入力し、直ちに試料ステージ23を移動させ、Ｘ
線が照射されている位置に測定点２を移動させる。測定
点２あるいは測定点３においても試料24は存在しないの
で、測定点１と同様にコンピュータ27においてパルスプ
ロセッサー26からのデータ収集は行わず、試料ステージ
23により測定点４を移動させる。The operation of the X-ray mapping apparatus will now be described with reference to FIG. 2. In the mapping area M including the predetermined sample 24, the measurement points are divided into 1, 2 to n. The computer 27 is programmed to move the sample stage 23 in the order shown by the arrow A in the figure. And first, X
The sample stage 23 is moved so that the incident X-rays from the ray tube 21 are irradiated to the measurement point 1 in the mapping area M on the sample stage 23 via the collimator 22. Since the sample 24 does not exist at the measurement point 1, the displacement sensor 30 determines that there is no sample, and when the signal is input to the computer 27,
No data is collected from the pulse processor 26 in the computer 27. Then, a control signal from the computer 27 is input to the stage controller 29 based on the input signal, and the sample stage 23 is immediately moved, and X
The measurement point 2 is moved to the position where the line is irradiated. Since the sample 24 does not exist at the measurement point 2 or the measurement point 3 as well, the data collection from the pulse processor 26 is not performed in the computer 27 as in the measurement point 1, and the sample stage
The measuring point 4 is moved by 23.
【００１１】ここで、測定点４には試料24が存在するの
で、変位センサ30からの信号はコンピュータ27に入力さ
れず、試料24から発生された螢光Ｘ線はたとえば半導体
検出器（ＳＳＤ）等よりなるＸ線検出器25で検出され、
その出力はパルスプロセッサー26においてその測定点４
中に含まれる元素とその強度を判別する。その後、この
パルスプロセッサー26からの信号はコンピュータ27に入
力され、画像処理装置28にて画像表示を行う。以後、同
様の方法で測定点ｎまで測定を行い、各測定点における
螢光Ｘ線の種類と強度から試料24の含有元素の分布を測
定する。Here, since the sample 24 exists at the measuring point 4, the signal from the displacement sensor 30 is not input to the computer 27, and the fluorescent X-ray generated from the sample 24 is, for example, a semiconductor detector (SSD). Detected by the X-ray detector 25 composed of
The output is output to the pulse processor 26 at the measurement point 4
The elements contained therein and their intensities are determined. Thereafter, the signal from the pulse processor 26 is input to the computer 27, and the image is displayed by the image processing device 28. Thereafter, the measurement is performed up to the measurement points n in the same manner, and the distribution of the elements contained in the sample 24 is measured from the type and intensity of the fluorescent X-ray at each measurement point.
【００１２】なお、試料ステージ23は試料24に含まれて
いない軽元素からなるアルミニウムなどで形成し、試料
24から発生する螢光Ｘ線と混合しないようにするのが望
ましい。The sample stage 23 is formed of aluminum or the like made of a light element which is not contained in the sample 24.
It is desirable not to mix with the fluorescent X-rays generated from 24.
【００１３】[0013]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｘ線管からのＸ線が照射されている位置に試料が存在し
ない場合には、コンピュータにおいてデータ収集を行わ
ず、直ちに試料ステージを移動させて次の測定点で測定
を行うため、全測定に要する時間が大幅に短縮されるの
である。As described above, according to the present invention,
If the sample does not exist at the position where the X-ray is irradiated from the X-ray tube, the data is not collected by the computer, and the sample stage is immediately moved to perform measurement at the next measurement point. The time required is greatly reduced.
【図１】本発明の一実施例におけるＸ線マッピング装置
を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an X-ray mapping apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】上記実施例におけるマッピング方法を説明する
ための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a mapping method in the embodiment.
【図３】従来のＸ線マッピング装置を示す構成図であ
る。FIG. 3 is a configuration diagram showing a conventional X-ray mapping apparatus.
【図４】従来のＸ線マッピング装置におけるマッピング
方法を説明するための図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a mapping method in a conventional X-ray mapping device.
21…Ｘ線管、23…試料ステージ、24…試料、25…Ｘ線検
出器、26…パルスプロセッサ、27…コンピュータ、28…
画像処理装置、29…ステージコントローラ、30…試料有
無センサ。21 ... X-ray tube, 23 ... Sample stage, 24 ... Sample, 25 ... X-ray detector, 26 ... Pulse processor, 27 ... Computer, 28 ...
Image processing device, 29 ... Stage controller, 30 ... Sample presence / absence sensor.
Claims (1)
料にＸ線を照射するＸ線管と、該Ｘ線照射により前記試
料において生ずる螢光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、こ
のＸ線検出器の出力に基づいて試料中に含まれる元素と
その強度を判別するパルスプロセッサーと、このパルス
プロセッサーからの信号が入力されるコンピュータと、
このコンピュータの出力を処理して画像表示する画像処
理装置と、前記コンピュータからの制御信号に基づいて
前記試料ステージを所定の方向に移動させるステージコ
ントローラとからなり、前記Ｘ線管からのＸ線が照射さ
れている位置に試料があるか否かを検出するための試料
有無センサを設け、このセンサからの信号を前記コンピ
ュータに入力するようにしたＸ線マッピング装置であっ
て、Ｘ線管からのＸ線が照射されている位置に試料が存
在しない場合には、前記コンピュータにおいてデータ収
集を行わず、直ちに試料ステージを移動させて次の測定
点で測定を行うように構成したことを特徴とするＸ線マ
ッピング装置。1. A sample stage on which a sample is placed, an X-ray tube for irradiating the sample with X-rays, an X-ray detector for detecting fluorescent X-rays generated in the sample by the X-ray irradiation, A pulse processor that determines an element contained in the sample and its intensity based on the output of the X-ray detector, a computer to which a signal from the pulse processor is input,
An image processing apparatus that processes the output of the computer and displays an image, and a stage controller that moves the sample stage in a predetermined direction based on a control signal from the computer, wherein X-rays from the X-ray tube An X-ray mapping apparatus which is provided with a sample presence / absence sensor for detecting whether or not a sample is present at an irradiated position, and which inputs a signal from the sensor to the computer. When the sample is not present at the position where the X-ray is irradiated, the data is not collected in the computer, and the sample stage is immediately moved to perform measurement at the next measurement point. X-ray mapping device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01456699A JP3146195B2 (en) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | X-ray mapping device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01456699A JP3146195B2 (en) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | X-ray mapping device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30586490A Division JP2920687B2 (en) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | X-ray mapping device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11264805A JPH11264805A (en) | 1999-09-28 |
| JP3146195B2 true JP3146195B2 (en) | 2001-03-12 |
Family
ID=11864714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01456699A Expired - Lifetime JP3146195B2 (en) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | X-ray mapping device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3146195B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011169821A (en) | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Sii Nanotechnology Inc | X-ray analyzer and mapping method for x-ray analysis |
| JP5684612B2 (en) | 2011-03-09 | 2015-03-18 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X-ray analyzer |
| CN103308539B (en) * | 2012-03-12 | 2017-04-12 | 日本株式会社日立高新技术科学 | Fluorescence X-ray analyzing apparatus and method of analyzing fluorescence X-ray |
-
1999
- 1999-01-22 JP JP01456699A patent/JP3146195B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11264805A (en) | 1999-09-28 |
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