JP3132316B2 - カラー陰極線管の蛍光面形成方法 - Google Patents
カラー陰極線管の蛍光面形成方法Info
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラー受像管の蛍光面形
成方法に関し、特にブラックマトリクス膜に蛍光体の発
光領域を限定する所定のホール径分布の開口部を形成す
るのに好適する方法に関する。
成方法に関し、特にブラックマトリクス膜に蛍光体の発
光領域を限定する所定のホール径分布の開口部を形成す
るのに好適する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、蛍光体の発光領域を光吸収物質
であるグラファイト膜で限定したいわゆるブラックマト
リクス型カラー陰極線管の蛍光面形成は、特開平５−８
９７７５号公報に開示されているような工程により行な
われる。すなわち、図３（ａ）に示すように、パネル１
の内面に、たとえば、ポリビニルピロリドンおよびビス
アジド化合物を主成分とするフォトレジスト液を塗布
し、乾燥してフォトレジスト層２を形成した後、シャド
ウマスク（図示せず）を装着して露光する。そして、露
光終了後、図３（ｂ）に示すように、上記フォトレジス
ト層２を現像し、シャドウマスクの電子ビーム通過孔を
介して焼き付けられたドット状のレジストパターン３を
形成する。そして、図３（ｃ）に示すように、このレジ
ストパターン３の上にグラファイト懸濁液を塗布し、乾
燥してグラファイト膜４を形成した後、例えば、過酸化
水素水のようなエッチング液をパネル１内面に注入し、
レジストパターン３に作用させ、分解させる。さらに、
強力なスプレー圧でこの分解したレジストパターン３を
除去し、水洗して乾燥すると、図３（ｄ）に示すよう
に、所望の開口部５を有するブラックマトリクス膜６が
形成される。そして、この開口部５の所定位置に三色蛍
光体層Ｂ，Ｇ，Ｒを埋め込んで蛍光面を形成している。
であるグラファイト膜で限定したいわゆるブラックマト
リクス型カラー陰極線管の蛍光面形成は、特開平５−８
９７７５号公報に開示されているような工程により行な
われる。すなわち、図３（ａ）に示すように、パネル１
の内面に、たとえば、ポリビニルピロリドンおよびビス
アジド化合物を主成分とするフォトレジスト液を塗布
し、乾燥してフォトレジスト層２を形成した後、シャド
ウマスク（図示せず）を装着して露光する。そして、露
光終了後、図３（ｂ）に示すように、上記フォトレジス
ト層２を現像し、シャドウマスクの電子ビーム通過孔を
介して焼き付けられたドット状のレジストパターン３を
形成する。そして、図３（ｃ）に示すように、このレジ
ストパターン３の上にグラファイト懸濁液を塗布し、乾
燥してグラファイト膜４を形成した後、例えば、過酸化
水素水のようなエッチング液をパネル１内面に注入し、
レジストパターン３に作用させ、分解させる。さらに、
強力なスプレー圧でこの分解したレジストパターン３を
除去し、水洗して乾燥すると、図３（ｄ）に示すよう
に、所望の開口部５を有するブラックマトリクス膜６が
形成される。そして、この開口部５の所定位置に三色蛍
光体層Ｂ，Ｇ，Ｒを埋め込んで蛍光面を形成している。
【０００３】ところが、このブラックマトリクス膜の開
口部寸法はフォトレジスト層の膜厚分布、調光フィルタ
の透過率分布等の要因により変動するとともに、カラー
陰極線管の動作時、蛍光面の中央部に比べ周辺部では電
子ビームスポツトが偏向により拡がるため、この開口部
を大きくして蛍光体ドツト面積を増加させる必要があ
る。このようにブラックマトリクス膜の開口部径を所定
の寸法分布に形成するためには、シャドウマスクのホー
ル径分布を変更したり、調光フィルタの透過率分布を変
更したり、露光前に温風や冷風をフォトレジスト膜に吹
き付けてフォトレジスト膜の感度を調整したり、フォト
レジスト膜厚分布を調整したりすることが必要であっ
た。
口部寸法はフォトレジスト層の膜厚分布、調光フィルタ
の透過率分布等の要因により変動するとともに、カラー
陰極線管の動作時、蛍光面の中央部に比べ周辺部では電
子ビームスポツトが偏向により拡がるため、この開口部
を大きくして蛍光体ドツト面積を増加させる必要があ
る。このようにブラックマトリクス膜の開口部径を所定
の寸法分布に形成するためには、シャドウマスクのホー
ル径分布を変更したり、調光フィルタの透過率分布を変
更したり、露光前に温風や冷風をフォトレジスト膜に吹
き付けてフォトレジスト膜の感度を調整したり、フォト
レジスト膜厚分布を調整したりすることが必要であっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、シャドウマス
クのホール径分布や調光フィルタの透過率分布の変更に
はシャドウマスク原板や調光フィルタの変更を要するた
め、実用上非常に困難であり、フォトレジスト膜厚分布
の調整は蛍光体残り、ホール落ち、膜ムラ等の不具合を
誘発し、フォトレジスト膜の感度調整は異物付着等の不
具合を誘発するという問題があった。本発明の目的は、
上記の問題点を解決するために、グラファイト膜の乾燥
工程で乾燥状態を調整することにより任意の箇所のグラ
ファイト膜へのエツチング液の浸透性を変化させ、ブラ
ックマトリクス膜の開口部の寸法を所定の分布に調整す
るカラー陰極線管の蛍光面形成方法を提供することにあ
る。
クのホール径分布や調光フィルタの透過率分布の変更に
はシャドウマスク原板や調光フィルタの変更を要するた
め、実用上非常に困難であり、フォトレジスト膜厚分布
の調整は蛍光体残り、ホール落ち、膜ムラ等の不具合を
誘発し、フォトレジスト膜の感度調整は異物付着等の不
具合を誘発するという問題があった。本発明の目的は、
上記の問題点を解決するために、グラファイト膜の乾燥
工程で乾燥状態を調整することにより任意の箇所のグラ
ファイト膜へのエツチング液の浸透性を変化させ、ブラ
ックマトリクス膜の開口部の寸法を所定の分布に調整す
るカラー陰極線管の蛍光面形成方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、内面にフォト
レジストを塗布したガラスパネルにシャドウマスクを介
して露光しレジストパターンを形成したのち、吸光性物
質を塗布して乾燥し、その後前記レジストパターンを除
去して、蛍光体配置部に開口部を有する吸光性物質膜を
形成する工程を具備したカラー陰極線管の蛍光面形成方
法において、前記吸光性物質膜の乾燥状態を制御して前
記開口部の形状寸法を調整することを特徴としたカラー
陰極線管の蛍光面形成方法を提供する。また、前記乾燥
状態を制御する方法が蛍光面形成面を複数のブロックに
分割した乾燥用ヒータの配置パターンとブロック毎の出
力調整で行なったり、前記乾燥状態を制御する方法が複
数の温風噴射ノズルの配置パターンとノズル毎の温風温
度調整で行なうのが望ましい。
レジストを塗布したガラスパネルにシャドウマスクを介
して露光しレジストパターンを形成したのち、吸光性物
質を塗布して乾燥し、その後前記レジストパターンを除
去して、蛍光体配置部に開口部を有する吸光性物質膜を
形成する工程を具備したカラー陰極線管の蛍光面形成方
法において、前記吸光性物質膜の乾燥状態を制御して前
記開口部の形状寸法を調整することを特徴としたカラー
陰極線管の蛍光面形成方法を提供する。また、前記乾燥
状態を制御する方法が蛍光面形成面を複数のブロックに
分割した乾燥用ヒータの配置パターンとブロック毎の出
力調整で行なったり、前記乾燥状態を制御する方法が複
数の温風噴射ノズルの配置パターンとノズル毎の温風温
度調整で行なうのが望ましい。
【０００６】
【作用】通常、吸光性物質膜の乾燥状態が完全であれ
ば、レジストパターンのエッチング液は吸光性物質膜へ
浸透しないため、レジストパターンのみが除去されレジ
ストパターンと同一寸法の開口部が形成され、乾燥状態
が不十分であれば、レジストパターンのエッチング液が
吸光性物質膜にも浸透し、レジストパターンと接触して
いる吸光性物質膜の一部も除去されるため、レジストパ
ターンより大きい開口部が形成される。したがって、場
所により吸光性物質膜の乾燥状態を調整して任意の開口
部径分布を有する吸光性物質膜が形成できる。なお、蛍
光面の中央部ブロックと周辺部ブロックとに分割して乾
燥用ヒータや乾燥用温風噴射ノズルの配置パターンを変
化させ、乾燥出力を調整すれば、電子ビームの偏向によ
り密度が低下する周辺部の開口部径を大きくして、蛍光
面全域での発光光度を均一にしたカラー陰極線管の蛍光
面が容易に形成できる。
ば、レジストパターンのエッチング液は吸光性物質膜へ
浸透しないため、レジストパターンのみが除去されレジ
ストパターンと同一寸法の開口部が形成され、乾燥状態
が不十分であれば、レジストパターンのエッチング液が
吸光性物質膜にも浸透し、レジストパターンと接触して
いる吸光性物質膜の一部も除去されるため、レジストパ
ターンより大きい開口部が形成される。したがって、場
所により吸光性物質膜の乾燥状態を調整して任意の開口
部径分布を有する吸光性物質膜が形成できる。なお、蛍
光面の中央部ブロックと周辺部ブロックとに分割して乾
燥用ヒータや乾燥用温風噴射ノズルの配置パターンを変
化させ、乾燥出力を調整すれば、電子ビームの偏向によ
り密度が低下する周辺部の開口部径を大きくして、蛍光
面全域での発光光度を均一にしたカラー陰極線管の蛍光
面が容易に形成できる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明について、図面を参照して説明
する。従来例と同一部分には同一参照符号を付し説明を
省略する。本発明のカラー陰極線管の蛍光面形成方法
は、図１（ａ）に示すように、従来例と同様に、パネル
１の内面に、たとえば、ポリビニルピロリドンおよびビ
スアジド化合物を主成分とするフォトレジスト液を塗布
し、乾燥してフォトレジスト層２を形成した後、シャド
ウマスク（図示せず）を装着して露光する。そして、露
光終了後、図１（ｂ）に示すように、上記フォトレジス
ト層２を現像し、シャドウマスクの電子ビーム通過孔を
介して焼き付けられたドット状のレジストパターン３を
形成する。そして、図１（ｃ）に示すように、このレジ
ストパターン３の上にグラファイト懸濁液を塗布し、例
えば、パネル１内面の中央部７と周辺部８に分割して配
置した乾燥用ヒータ９，９ａの出力を調整して中央部７
は完全に、周辺部８は若干不完全に乾燥状態を制御して
乾燥してグラファイト膜１０を形成した後、例えば、過
酸化水素水のようなエッチング液をパネル１内面に注入
し、レジストパターン３に作用させ、分解させる。さら
に、強力なスプレー圧でこの分解したレジストパターン
３を除去し、水洗して乾燥する。すると、図１（ｄ）に
示すように、グラファイト膜１０の乾燥状態が完全な中
央部７にはレジストパターンに一致した開口部１１を、
グラファイト膜１０の乾燥状態の不完全な周辺部８には
レジストパターンに接するグラファイト膜の一部がエッ
チング液の浸透で除去され、レジストパターンより若干
大きい開口部１２を有するブラックマトリクス膜１３が
形成される。そして、この開口部１１，１２の所定位置
に三色蛍光体層Ｂ，Ｇ，Ｒを埋め込んで蛍光面を形成す
れば、電子ビーム密度の低下する周辺部の蛍光体ドット
を大きくできるため、蛍光面全域に亘って輝度の均一な
特性の蛍光面が形成できる。
する。従来例と同一部分には同一参照符号を付し説明を
省略する。本発明のカラー陰極線管の蛍光面形成方法
は、図１（ａ）に示すように、従来例と同様に、パネル
１の内面に、たとえば、ポリビニルピロリドンおよびビ
スアジド化合物を主成分とするフォトレジスト液を塗布
し、乾燥してフォトレジスト層２を形成した後、シャド
ウマスク（図示せず）を装着して露光する。そして、露
光終了後、図１（ｂ）に示すように、上記フォトレジス
ト層２を現像し、シャドウマスクの電子ビーム通過孔を
介して焼き付けられたドット状のレジストパターン３を
形成する。そして、図１（ｃ）に示すように、このレジ
ストパターン３の上にグラファイト懸濁液を塗布し、例
えば、パネル１内面の中央部７と周辺部８に分割して配
置した乾燥用ヒータ９，９ａの出力を調整して中央部７
は完全に、周辺部８は若干不完全に乾燥状態を制御して
乾燥してグラファイト膜１０を形成した後、例えば、過
酸化水素水のようなエッチング液をパネル１内面に注入
し、レジストパターン３に作用させ、分解させる。さら
に、強力なスプレー圧でこの分解したレジストパターン
３を除去し、水洗して乾燥する。すると、図１（ｄ）に
示すように、グラファイト膜１０の乾燥状態が完全な中
央部７にはレジストパターンに一致した開口部１１を、
グラファイト膜１０の乾燥状態の不完全な周辺部８には
レジストパターンに接するグラファイト膜の一部がエッ
チング液の浸透で除去され、レジストパターンより若干
大きい開口部１２を有するブラックマトリクス膜１３が
形成される。そして、この開口部１１，１２の所定位置
に三色蛍光体層Ｂ，Ｇ，Ｒを埋め込んで蛍光面を形成す
れば、電子ビーム密度の低下する周辺部の蛍光体ドット
を大きくできるため、蛍光面全域に亘って輝度の均一な
特性の蛍光面が形成できる。
【０００８】また、本発明の第二の実施例のカラー陰極
線管の蛍光面形成方法は、図２に示すように、乾燥手段
として温風噴射ノズルを使用するもので、中央部７の温
風噴射ノズル１４と、周辺部８の温風噴射ノズル１４ａ
との温風温度や風量を調整して乾燥状態を制御するもの
である。この実施例によっても前記第一実施例と同様な
効果が得られる。
線管の蛍光面形成方法は、図２に示すように、乾燥手段
として温風噴射ノズルを使用するもので、中央部７の温
風噴射ノズル１４と、周辺部８の温風噴射ノズル１４ａ
との温風温度や風量を調整して乾燥状態を制御するもの
である。この実施例によっても前記第一実施例と同様な
効果が得られる。
【０００９】以上、蛍光面の中央部と周辺部のブラック
マトリクス膜の開口部の寸法形状分布を乾燥状態を制御
して調整する方法について説明したが、本発明はこの例
に限定されず、例えば、乾燥用ヒータや温風噴射ノズル
等の乾燥手段の分割配置をさらに細分割したり、出力を
調整してて、シャドウマスクの孔径分布や調光フィルタ
の透過光量分布を補正する乾燥状態の制御を実施するこ
ともできる。
マトリクス膜の開口部の寸法形状分布を乾燥状態を制御
して調整する方法について説明したが、本発明はこの例
に限定されず、例えば、乾燥用ヒータや温風噴射ノズル
等の乾燥手段の分割配置をさらに細分割したり、出力を
調整してて、シャドウマスクの孔径分布や調光フィルタ
の透過光量分布を補正する乾燥状態の制御を実施するこ
ともできる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、場所により吸光性物質
膜の乾燥状態を調整して任意の開口部径分布を有する吸
光性物質膜が形成できるので、例えば、蛍光面の中央部
ブロックと周辺部ブロックとに分割して乾燥用ヒータや
乾燥用温風噴射ノズルの配置パターンを変化させ、乾燥
出力を調整すれば、電子ビームの偏向により密度が低下
する周辺部の開口部径を大きくして、蛍光面全域での発
光光度を均一にしたカラー陰極線管の蛍光面が容易に形
成できる。
膜の乾燥状態を調整して任意の開口部径分布を有する吸
光性物質膜が形成できるので、例えば、蛍光面の中央部
ブロックと周辺部ブロックとに分割して乾燥用ヒータや
乾燥用温風噴射ノズルの配置パターンを変化させ、乾燥
出力を調整すれば、電子ビームの偏向により密度が低下
する周辺部の開口部径を大きくして、蛍光面全域での発
光光度を均一にしたカラー陰極線管の蛍光面が容易に形
成できる。
【図１】 （ａ）〜（ｄ）本発明の一実施例のカラー陰
極線管の蛍光面形成工程の説明図
極線管の蛍光面形成工程の説明図
【図２】 本発明の第二実施例の乾燥噴射ノズルの配置
図
図
【図３】 従来のカラー陰極線管の蛍光面形成工程の説
明図
明図
Claims (3)
- 【請求項１】内面にフォトレジストを塗布したガラスパ
ネルにシャドウマスクを介して露光しレジストパターン
を形成した後吸光性物質を塗布して、乾燥し、その後前
記レジストパターンを除去して蛍光体配置部に開口部を
有する吸光性物質膜を形成する工程を具備したカラー陰
極線管の蛍光面形成方法において、前記吸光性物質の乾
燥状態をパネル中央部は完全に、周辺部は若干不完全に
制御して前記開口部の形状を周辺部の開口部径を中央部
の開口部径より大きく調整することを特徴とするカラー
陰極線管の蛍光面形成方法。 - 【請求項２】前記乾燥状態を制御する方法が複数のブロ
ックに分割した乾燥用ヒータの配置パターンとブロック
毎の出力調整で行なうことを特徴とする請求項１記載の
カラー陰極線管の蛍光面形成方法。 - 【請求項３】前記乾燥状態を制御する方法が複数の温風
噴射ノズルの配置パターンとノズル毎の温風温度調整で
行なうことを特徴とする請求項１記載のカラー陰極線管
の蛍光面形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06312888A JP3132316B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06312888A JP3132316B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08171853A JPH08171853A (ja) | 1996-07-02 |
| JP3132316B2 true JP3132316B2 (ja) | 2001-02-05 |
Family
ID=18034658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06312888A Expired - Fee Related JP3132316B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | カラー陰極線管の蛍光面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3132316B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7403941B2 (ja) | 2018-03-07 | 2023-12-25 | 株式会社イノアックコーポレーション | ブラジャー用パッドの製造方法 |
-
1994
- 1994-12-16 JP JP06312888A patent/JP3132316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7403941B2 (ja) | 2018-03-07 | 2023-12-25 | 株式会社イノアックコーポレーション | ブラジャー用パッドの製造方法 |
| JP7478209B2 (ja) | 2018-03-07 | 2024-05-02 | 株式会社イノアックコーポレーション | ブラジャー用パッド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08171853A (ja) | 1996-07-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |