JP3131472B2 - 光学素子及び光学素子の成形方法 - Google Patents
光学素子及び光学素子の成形方法Info
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- JP3131472B2 JP3131472B2 JP03276991A JP27699191A JP3131472B2 JP 3131472 B2 JP3131472 B2 JP 3131472B2 JP 03276991 A JP03276991 A JP 03276991A JP 27699191 A JP27699191 A JP 27699191A JP 3131472 B2 JP3131472 B2 JP 3131472B2
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- molding
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- optical
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子及び光学素子
の成形方法に関する。
の成形方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ガラス素材を加熱軟化した後、成
形用金型によりガラス素材を押圧して光学素子を得る方
法としては、例えば、特開平2−133325号公報記
載の発明がある。
形用金型によりガラス素材を押圧して光学素子を得る方
法としては、例えば、特開平2−133325号公報記
載の発明がある。
【0003】上記発明は、ガラス素材を加熱軟化する
際、プリフォームの厚肉部よりも薄肉部が高温度となる
様に加熱したのち成形することにより、成形時にプリフ
ォーム内部の温度差を少なくし、冷却過程での不均一な
収縮から生じるヒケによる反転劣化を防止する成形方法
である。
際、プリフォームの厚肉部よりも薄肉部が高温度となる
様に加熱したのち成形することにより、成形時にプリフ
ォーム内部の温度差を少なくし、冷却過程での不均一な
収縮から生じるヒケによる反転劣化を防止する成形方法
である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、前記特開平
2−133325号公報記載の発明においては、プリフ
ォームを加熱軟化する際、プリフォームに温度分布を強
制的につけなければならず、プリフォームの加熱方法が
複雑となる。また、プリフォームに厳密な温度分布をつ
けることは困難である。さらに、大口径の光学素子にお
いてはある程度可能なものの、小口径の光学素子におい
ては温度分布をつけることは困難である。
2−133325号公報記載の発明においては、プリフ
ォームを加熱軟化する際、プリフォームに温度分布を強
制的につけなければならず、プリフォームの加熱方法が
複雑となる。また、プリフォームに厳密な温度分布をつ
けることは困難である。さらに、大口径の光学素子にお
いてはある程度可能なものの、小口径の光学素子におい
ては温度分布をつけることは困難である。
【0005】因って、本発明は前記従来技術における問
題点に鑑みて開発されたもので、ヒケによる反転劣化が
生じない光学素子及び光学素子の成形方法の提供を目的
とする。
題点に鑑みて開発されたもので、ヒケによる反転劣化が
生じない光学素子及び光学素子の成形方法の提供を目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、光学機能面と
非光学機能面とを有する金型を用いて光学素子を成形す
る光学素子の成形方法において、前記光学機能面の面粗
度よりも前記非光学機能面の面粗度が大きい金型を用い
て成形することにより、非光学機能面と光学素子との接
触面積を光学機能面と光学素子との接触面積よりも小さ
くして、非光学機能面と光学素子との接触部分の冷却速
度を遅くしつつ成形を行う方法である。
非光学機能面とを有する金型を用いて光学素子を成形す
る光学素子の成形方法において、前記光学機能面の面粗
度よりも前記非光学機能面の面粗度が大きい金型を用い
て成形することにより、非光学機能面と光学素子との接
触面積を光学機能面と光学素子との接触面積よりも小さ
くして、非光学機能面と光学素子との接触部分の冷却速
度を遅くしつつ成形を行う方法である。
【0007】従って、面粗度の異なる成形面によりプレ
スされた光学素子は、非光学機能面にヒケがあって、非
光学機能面の面精度が光学機能面の面精度よりも低くな
る。
スされた光学素子は、非光学機能面にヒケがあって、非
光学機能面の面精度が光学機能面の面精度よりも低くな
る。
【0008】
【作用】本発明では、プレス中の光学素子の光学機能面
よりも非光学機能面の冷却速度が遅いため、光学機能面
に比べて非光学機能面の温度が高くなり、光学素子中の
熱だまりが収縮する時に発生するヒケは、高温部すなわ
ち粘性の低い非光学機能面に集中し、光学機能面におけ
るヒケの発生を防止できる。
よりも非光学機能面の冷却速度が遅いため、光学機能面
に比べて非光学機能面の温度が高くなり、光学素子中の
熱だまりが収縮する時に発生するヒケは、高温部すなわ
ち粘性の低い非光学機能面に集中し、光学機能面におけ
るヒケの発生を防止できる。
【0009】(参考例) まず、本発明の具体的な実施例を説明する前に、本発明
の概要を説明する。本発明の概要は、成形面が光学機能
面と非光学機能面とから成る金型を用いてガラス光学素
子を成形するにあたり、光学機能面よりも非光学機能面
の冷却速度を遅くしつつ成形を行う方法である。すなわ
ち、プリフォームを加熱軟化してプリフォームよりも低
い温度に加熱した金型でプレスする際、光学素子におけ
る光学機能面よりも非光学機能面の方のプレス中の冷却
速度を遅くする。あるいは、金型における光学機能面よ
りも非光学機能面の温度を高くする方法である。従っ
て、成形面が光学機能面と非光学機能面とからなる金型
を用いて成形された本発明の光学素子は、被成形面の非
光学機能面にプレス成形時の収縮によるヒケを有するこ
とを特徴とするものである。本発明の概要では、プレス
中の光学素子の光学機能面よりも非光学機能面の冷却速
度が遅いため、光学機能面に比べて非光学機能面の温度
が高くなり、光学素子中の熱だまりが収縮する時に発生
するヒケは、高温部すなわち粘性の低い非光学機能面に
集中し、光学機能面におけるヒケの発生を防止できる。
図1および図2は参考例で用いる上下型を示す縦断面図
である。
の概要を説明する。本発明の概要は、成形面が光学機能
面と非光学機能面とから成る金型を用いてガラス光学素
子を成形するにあたり、光学機能面よりも非光学機能面
の冷却速度を遅くしつつ成形を行う方法である。すなわ
ち、プリフォームを加熱軟化してプリフォームよりも低
い温度に加熱した金型でプレスする際、光学素子におけ
る光学機能面よりも非光学機能面の方のプレス中の冷却
速度を遅くする。あるいは、金型における光学機能面よ
りも非光学機能面の温度を高くする方法である。従っ
て、成形面が光学機能面と非光学機能面とからなる金型
を用いて成形された本発明の光学素子は、被成形面の非
光学機能面にプレス成形時の収縮によるヒケを有するこ
とを特徴とするものである。本発明の概要では、プレス
中の光学素子の光学機能面よりも非光学機能面の冷却速
度が遅いため、光学機能面に比べて非光学機能面の温度
が高くなり、光学素子中の熱だまりが収縮する時に発生
するヒケは、高温部すなわち粘性の低い非光学機能面に
集中し、光学機能面におけるヒケの発生を防止できる。
図1および図2は参考例で用いる上下型を示す縦断面図
である。
【0010】1は下型で、この下型1の上方には同一軸
線上に上型2が対向配設されている。上型2は光学機能
面3を有する上型4と非光学機能面5を有する上型6と
から構成されている。上型6は、上型4に対してスライ
ド自在に嵌合されており、プレス時には上型4と一体と
なってプレスできるとともに、プレス中に軸方向へスラ
イドできる様に構成されている。
線上に上型2が対向配設されている。上型2は光学機能
面3を有する上型4と非光学機能面5を有する上型6と
から構成されている。上型6は、上型4に対してスライ
ド自在に嵌合されており、プレス時には上型4と一体と
なってプレスできるとともに、プレス中に軸方向へスラ
イドできる様に構成されている。
【0011】以上の構成から成る上下型2,1を用いて
の成形は、まず下型1および上型2を550℃に加熱す
る。次に、皿7に保持したガラスプリフォーム8を85
0℃に加熱した後、ガラスプリフォーム8を下型1と上
型2との間に介在させて下型1および上型2により20
Kgf でプレス成形する(図1参照)。
の成形は、まず下型1および上型2を550℃に加熱す
る。次に、皿7に保持したガラスプリフォーム8を85
0℃に加熱した後、ガラスプリフォーム8を下型1と上
型2との間に介在させて下型1および上型2により20
Kgf でプレス成形する(図1参照)。
【0012】ガラスプリフォーム8を所望の光学素子形
状とした後、光学機能面3を有する上型4のプレスを続
行したまま、ガラスプリフォーム8の非光学機能面9の
温度を光学機能面10より高くするため、プレス中に上
型6のみを上方にスライドさせてガラスプリフォーム8
の非光学機能面9を成形雰囲気ガスにさらした(図2参
照)。
状とした後、光学機能面3を有する上型4のプレスを続
行したまま、ガラスプリフォーム8の非光学機能面9の
温度を光学機能面10より高くするため、プレス中に上
型6のみを上方にスライドさせてガラスプリフォーム8
の非光学機能面9を成形雰囲気ガスにさらした(図2参
照)。
【0013】上記の成形方法は、ガラスプリフォーム8
の非光学機能面9の冷却速度が上型4により冷却されて
いる光学機能面10の冷却速度よりも遅いため、非光学
機能面9の粘度は光学機能面10の粘度よりも低く、そ
のため熱だまり11の収縮に伴うヒケは非光学機能面9
に集中した。
の非光学機能面9の冷却速度が上型4により冷却されて
いる光学機能面10の冷却速度よりも遅いため、非光学
機能面9の粘度は光学機能面10の粘度よりも低く、そ
のため熱だまり11の収縮に伴うヒケは非光学機能面9
に集中した。
【0014】実際に成形したところ、上型4により、成
形された光学素子の光学機能面10の面精度はP−V値
で0.1μm、下型のそれは0.1μmとなり設計規格
内となった。また、参考として非光学機能面9の面精度
を測定したところP−V値で6μmとなった。
形された光学素子の光学機能面10の面精度はP−V値
で0.1μm、下型のそれは0.1μmとなり設計規格
内となった。また、参考として非光学機能面9の面精度
を測定したところP−V値で6μmとなった。
【0015】これに対し、上型6をプレス中に上方へス
ライドさせずに上型4と一体化して成形したところ、下
型1および上型2により成形された光学機能面の面精度
は共にP−V値で3〜5μmとなり設計規格外であっ
た。
ライドさせずに上型4と一体化して成形したところ、下
型1および上型2により成形された光学機能面の面精度
は共にP−V値で3〜5μmとなり設計規格外であっ
た。
【0016】参考例によれば、光学機能面の面精度が優
れた光学素子を得ることができる。
れた光学素子を得ることができる。
【0017】
【実施例1】図3は本実施例で用いる上下型の縦断面図
である。
である。
【0018】21は下型で、この下型21は成形面全体
が光学機能面22に形成されている。23は上型で、こ
の上型23は成形面に光学機能面24とその外周に非光
学機能面25とが形成されている。上型23の光学機能
面24の面粗度はRmax =0.03μmで、非光学機能
面25の面粗度はRmax =0.2μmに加工されてい
る。
が光学機能面22に形成されている。23は上型で、こ
の上型23は成形面に光学機能面24とその外周に非光
学機能面25とが形成されている。上型23の光学機能
面24の面粗度はRmax =0.03μmで、非光学機能
面25の面粗度はRmax =0.2μmに加工されてい
る。
【0019】以上の構成から成る上下型23,21を用
いての成形は、成形面の面粗度が大きな非光学機能面2
5は成形の際、成形面の面粗度が小さな光学機能面24
に対して、成形面と光学素子との間に隙間ができるとと
もに接触面積が小さく、一種の断熱効果を生ずる。これ
により、非光学機能面25と接する光学素子の冷却速度
は光学機能面24より遅くなり相対的に高温となる。
いての成形は、成形面の面粗度が大きな非光学機能面2
5は成形の際、成形面の面粗度が小さな光学機能面24
に対して、成形面と光学素子との間に隙間ができるとと
もに接触面積が小さく、一種の断熱効果を生ずる。これ
により、非光学機能面25と接する光学素子の冷却速度
は光学機能面24より遅くなり相対的に高温となる。
【0020】まず、上下型23,21を550℃に加熱
し、850℃に加熱したBK7のプリフォームをプレス
成形した。成形された光学素子の光学機能面の面精度は
図4のグラフに示すように、P−V値で0.38μmと
なり設計規格内となった。また、非光学機能面の面精度
は図5に示す様に、P−V値で3.5μmとなりヒケを
生じていた。さらに、光学素子の面精度は図6に示すよ
うに、Rmax=0.3μmであった。
し、850℃に加熱したBK7のプリフォームをプレス
成形した。成形された光学素子の光学機能面の面精度は
図4のグラフに示すように、P−V値で0.38μmと
なり設計規格内となった。また、非光学機能面の面精度
は図5に示す様に、P−V値で3.5μmとなりヒケを
生じていた。さらに、光学素子の面精度は図6に示すよ
うに、Rmax=0.3μmであった。
【0021】本実施例によれば、光学機能面の面精度が
優れた光学素子を得ることができる。
優れた光学素子を得ることができる。
【0022】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明に係る光学素
子の成形方法によれば、ガラス成形において非光学機能
面の冷却速度を光学機能面よりも遅くすることにより、
熱だまりの収縮に伴うヒケが非光学機能面に集中し、優
れた光学機能面の転写精度を確保することができる。従
って、容易に高精度な光学素子を得ることができる。
又、本発明による光学素子は、光学機能面の面精度を高
く維持でき、これにより、高精度とすることができる。
子の成形方法によれば、ガラス成形において非光学機能
面の冷却速度を光学機能面よりも遅くすることにより、
熱だまりの収縮に伴うヒケが非光学機能面に集中し、優
れた光学機能面の転写精度を確保することができる。従
って、容易に高精度な光学素子を得ることができる。
又、本発明による光学素子は、光学機能面の面精度を高
く維持でき、これにより、高精度とすることができる。
【図1】 参考例を示す縦断面図である。
【図2】 参考例を示す縦断面図である。
【図3】 実施例1を示す縦断面図である。
【図4】 実施例1のグラフである。
【図5】 実施例1のグラフである。
【図6】 実施例1のグラフである。
1 下型 2,4,6 上型 3,10 光学機能面 5,9 非光学機能面 7 皿 8 ガラスプリフォーム 11 熱だまり
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−157130(JP,A) 特開 昭62−226827(JP,A) 特開 昭63−107822(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03B 11/08 C03B 11/12
Claims (2)
- 【請求項1】 光学機能面と非光学機能面とを有する金
型を用いて光学素子を成形する光学素子の成形方法にお
いて、 前記光学機能面の面粗度よりも前記非光学機能面の面粗
度が大きい金型を用いて成形することにより、非光学機
能面と光学素子との接触面積を光学機能面と光学素子と
の接触面積よりも小さくして、非光学機能面と光学素子
との接触部分の冷却速度を遅くしつつ成形を行うことを
特徴とする光学素子の成形方法。 - 【請求項2】 面粗度の異なる成形面によりプレスさ
れ、その被成形面に光学機能面と非光学機能面とを有す
る光学素子において、 前記非光学機能面にヒケがあって、前記非光学機能面の
面精度が前記光学機能面の面精度よりも低いことを特徴
とする光学素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03276991A JP3131472B2 (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 光学素子及び光学素子の成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03276991A JP3131472B2 (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 光学素子及び光学素子の成形方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10260286A Division JP3131584B2 (ja) | 1998-09-14 | 1998-09-14 | 光学素子の成形方法及び光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0585752A JPH0585752A (ja) | 1993-04-06 |
JP3131472B2 true JP3131472B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=17577245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03276991A Expired - Fee Related JP3131472B2 (ja) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | 光学素子及び光学素子の成形方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3131472B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9435919B2 (en) | 2012-03-26 | 2016-09-06 | Konica Minolta, Inc. | Prism and sensor chip |
-
1991
- 1991-09-27 JP JP03276991A patent/JP3131472B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0585752A (ja) | 1993-04-06 |
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JPH0355420B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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