JP3131375B2 - Color display device and method of manufacturing the color display device - Google Patents
Color display device and method of manufacturing the color display deviceInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示装置及
び該カラー表示装置の製造方法に係り、詳しくはカラー
フィルタ相互の間隙に配置された遮光手段に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color display device and a method of manufacturing the color display device, and more particularly, to a light shielding means disposed in a gap between color filters.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、薄型のカラー表示装置として
は主にＣＲＴが使用されていたが、近年はＣＲＴに代わ
るものとしてカラーの液晶表示装置が注目されている。
図１に、その一例を示す。2. Description of the Related Art Conventionally, a CRT has mainly been used as a thin color display device. However, in recent years, a color liquid crystal display device has been attracting attention as a substitute for the CRT.
FIG. 1 shows an example.
【０００３】この液晶表示装置１は液晶パネルＰとバッ
クライト装置Ｂとを備えている。This liquid crystal display device 1 includes a liquid crystal panel P and a backlight device B.
【０００４】このうち液晶パネルＰは、平行に配置され
た一対のガラス基板２，３を備えており、下側のガラス
基板２（以下、“下基板２”とする）の表面には、所定
間隙を開けて３原色（赤、緑、青）のカラーフィルタ
５，…が多数形成されている。また、これらカラーフィ
ルタ５，…の間隙には、Ｃｒ等の金属からなる遮光膜
６，…が形成されており、これらカラーフィルタ５，…
及び遮光膜６，…は保護膜７によって被覆されている。
さらに、保護膜７の表面には多数の帯状電極９，…が形
成されている。一方、上側のガラス基板（以下、“上基
板”とする）３の表面には、同じく多数の帯状電極１
０，…が形成されており、これらの両基板２，３は、帯
状電極９，…，１０，…が直交するように貼り合わされ
ている。そして、両基板２，３の間隙には液晶１１が挟
持されている。なお、カラーフィルタ５，…は、染色法
や顔料分散法や電着法とフォトリソグラフィ法とによっ
て形成され、遮光膜６，…は、スパッタ法とフォトリソ
グラフィ法とによって形成されている。The liquid crystal panel P has a pair of glass substrates 2 and 3 arranged in parallel, and a predetermined surface of a lower glass substrate 2 (hereinafter referred to as “lower substrate 2”) A large number of color filters 5 of three primary colors (red, green, blue) are formed with a gap. A light-shielding film 6 made of a metal such as Cr is formed in the gap between the color filters 5,.
The light-shielding films 6 are covered with a protective film 7.
Further, on the surface of the protective film 7, a number of strip-shaped electrodes 9,... Are formed. On the other hand, on the surface of the upper glass substrate (hereinafter, referred to as “upper substrate”) 3, many strip electrodes 1
., And these two substrates 2 and 3 are bonded together so that the strip electrodes 9,. A liquid crystal 11 is held between the substrates 2 and 3. The color filters 5 are formed by a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method, and a photolithography method, and the light-shielding films 6 are formed by a sputtering method and a photolithography method.
【０００５】また、上基板（対向基板）３に対向する位
置にはバックライト装置（照明装置）Ｂが配置されてお
り、液晶パネルＰを照明するように構成されている。A backlight device (illumination device) B is disposed at a position facing the upper substrate (counter substrate) 3 so as to illuminate the liquid crystal panel P.
【０００６】以上の構成に基づき、液晶パネルＰが駆動
されると、画素毎に液晶１１がスイッチングされる。ま
た、バックライト装置Ｂが駆動されると、液晶パネルＰ
には照明光（以下、“バックライト光”とする）が照射
され、カラーフィルタ５，…を透過するバックライト光
の組み合わせによって種々の情報がカラー表示されるこ
ととなる。また、カラーフィルタ５，…相互の間隙には
遮光膜６，…が設けられているため、色の混ざり等を防
止し、コントラストの向上が図られている。When the liquid crystal panel P is driven based on the above configuration, the liquid crystal 11 is switched for each pixel. When the backlight device B is driven, the liquid crystal panel P
Are irradiated with illumination light (hereinafter, referred to as "backlight light"), and various information is displayed in color by a combination of the backlight light transmitted through the color filters 5,. Further, since the light-shielding films 6 are provided in the gaps between the color filters 5, the mixing of colors and the like is prevented, and the contrast is improved.
【０００７】ところで、このような構成の液晶表示装置
１を、屋外等の明るい場所で使用した場合には、観察側
（図示Ａ側）からの光（バックライト光とは逆方向の光
であり、以下“外光”とする）が遮光膜６，…によって
反射され、液晶パネルＰの表示品位が悪くなってしまう
という問題があった。When the liquid crystal display device 1 having such a configuration is used in a bright place such as outdoors, the light from the observation side (the A side in the drawing) is light in the direction opposite to the backlight light. , Hereinafter referred to as “external light”) is reflected by the light-shielding films 6, so that the display quality of the liquid crystal panel P is deteriorated.
【０００８】そこで、特開平２−１４４５２５号公報等
においては、遮光膜を図２(a) 及び(b) に示すような積
層構造とした技術が開示されている。これらの遮光膜１
６，２６においては、基板側の第１層１６ａ，２６ａ及
び第３層２６ｃが金属酸化膜にて構成されて、外光等の
反射を低減して表示品位を良好に保つように構成されて
おり、また第２層１６ｂ，２６ｂは、金属膜にて構成さ
れて、遮光性が確保されるように構成されている。な
お、各層は、いずれもＣｒにて形成されている。Therefore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-144525 discloses a technique in which the light-shielding film has a laminated structure as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). These light shielding films 1
In Nos. 6 and 26, the first layers 16a and 26a and the third layer 26c on the substrate side are formed of a metal oxide film, and are configured to reduce reflection of external light and the like to maintain good display quality. In addition, the second layers 16b and 26b are made of a metal film, and are configured to secure light-shielding properties. Each layer is formed of Cr.
【０００９】なお、このような遮光膜１６，２６はスパ
ッタリングによって形成されるが、バッジ方式のスパッ
タ装置を用いる場合には、金属膜を成膜する場合と金属
酸化膜を成膜する場合とではスパッタ条件を異ならせる
必要があり、その方法としては、 金属酸化膜（第１層１６ａ，２６ａ）を成膜する場
合には、雰囲気ガスをＡｒとＯ2 の混合ガスにすると共
にターゲットを金属（上述の場合にはＣｒ）とし、金属
膜（第２層１６ｂ，２６ｂ）を形成する場合には、ター
ゲットをそのままとして雰囲気ガスをＡｒガスにガス交
換する方法や、 金属酸化膜（第１層１６ａ，２６ａ）を成膜する場
合には、雰囲気ガスをＡｒガスにすると共にターゲット
を金属酸化物とし、金属膜（第２層１６ｂ，２６ｂ）を
形成する場合には、雰囲気ガスの交換は行なわずにター
ゲットを金属酸化物から金属に交換する方法があった。The light-shielding films 16 and 26 are formed by sputtering. However, when a badge type sputtering apparatus is used, the case where a metal film is formed and the case where a metal oxide film is formed are different. It is necessary to change the sputtering conditions. For example, when forming a metal oxide film (first layers 16a and 26a), the atmosphere gas is changed to a mixed gas of Ar and O 2 and the target is formed of metal ( When Cr is used in the above-described case, and the metal film (the second layers 16b and 26b) is formed, a method of exchanging the atmospheric gas with Ar gas while leaving the target as it is, or a method using a metal oxide film (the first layer 16a) is used. , 26a), the atmosphere gas is Ar gas and the target is a metal oxide. When the metal films (second layers 16b, 26b) are formed, the atmosphere gas is Ar gas. There has been a method of exchanging the target from metal oxide to metal without exchanging.
【００１０】また、このようなバッジ方式のものではな
く通過成膜方式のスパッタ装置を用いる場合には、金属
酸化膜（第１層１６ａ，２６ａ）を成膜するチャンバに
はＡｒとＯ2 の混合ガスを充填し、金属膜（第２層１６
ｂ，２６ｂ）を成膜するチャンバにはＡｒガスを充填し
ていた。When a sputtering apparatus of a pass-through film forming method is used instead of the badge type, a chamber for forming a metal oxide film (first layers 16a and 26a) contains Ar and O 2 . The mixed gas is filled, and the metal film (the second layer 16
The chamber for forming the films b and 26b) was filled with Ar gas.
【００１１】[0011]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した遮
光膜は、金属酸化膜と金属膜との積層構造であったため
種々の問題があった。However, the light-shielding film described above has various problems because it has a laminated structure of a metal oxide film and a metal film.
【００１２】すなわち、金属酸化膜と金属膜の積層構造
は、外光の低反射化と遮光性の向上をバランスよく設定
することが困難であった。また、当該積層構造ではエッ
チングされる度合いが異なるため、フォトリソグラフィ
法によってパターニングをする際に両膜の間に段差が生
じ、液晶パネルＰの表示品質が悪くなるという問題があ
った。That is, in the laminated structure of the metal oxide film and the metal film, it has been difficult to set a good balance between the low reflection of external light and the improvement of the light shielding property. Further, since the degree of etching is different in the laminated structure, a step is generated between the two films when patterning is performed by the photolithography method, and there is a problem that the display quality of the liquid crystal panel P is deteriorated.
【００１３】また、スパッタリング時に雰囲気ガスを交
換した場合には、製造時間が長くなって、いわゆるスル
ープットの低下があり、製造コストが上昇するという問
題があった。さらに、ターゲットの交換を行なう場合に
は、成膜レート、ターゲットの割れなど量産上の問題が
あった。またさらに、通過成膜方式のスパッタ装置を用
いた場合には、スパッタ装置が高価で、かつ製造工程が
複雑になるという問題があり、さらには製造コストが上
昇してしまうという問題があった。Further, when the atmosphere gas is exchanged at the time of sputtering, there is a problem that the production time becomes longer, so-called throughput decreases, and the production cost increases. Further, when the target is replaced, there are problems in mass production such as a film formation rate and cracking of the target. Further, when a pass-through film forming type sputtering apparatus is used, there is a problem that the sputtering apparatus is expensive and the manufacturing process is complicated, and further, there is a problem that the manufacturing cost is increased.
【００１４】そこで、本発明は、色の混ざり等を防止
し、コントラストの向上を図るカラー表示装置を提供す
ることを目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a color display device which prevents color mixing and the like and improves contrast.
【００１５】また、本発明は、エッチングに伴う段差の
発生を抑えて、高精度で高品質なカラー表示装置を提供
することを目的とするものである。It is another object of the present invention to provide a high-precision and high-quality color display device by suppressing the occurrence of steps due to etching.
【００１６】さらに、本発明は、製造時間が短縮化され
て製造コストが低減されるカラー表示装置を提供するこ
とを目的とするものである。Another object of the present invention is to provide a color display device in which the manufacturing time is shortened and the manufacturing cost is reduced.
【００１７】またさらに、本発明は、成膜レートやター
ゲット割れなどの量産上の問題点も発生しないカラー表
示装置を提供することを目的とするものである。Still another object of the present invention is to provide a color display device which does not cause mass production problems such as a film formation rate and a target crack.
【００１８】また、本発明は、表示品位が向上されるカ
ラー表示装置を提供することを目的とするものである。Another object of the present invention is to provide a color display device having improved display quality.
【００１９】さらに、本発明は、上述した種々の効果を
達成するカラー表示装置の製造方法を提供することを目
的とするものである。Still another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color display device which achieves the various effects described above.
【００２０】[0020]
【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、透明基板と、該透明基板上に
所定の間隙を開けて配置された多数のカラーフィルタ
と、これらカラーフィルタの間隙に形成された遮光手段
と、を備え、前記カラーフィルタを透過する照明光の組
み合わせにより種々の情報をカラー表示してなるカラー
表示装置において、前記遮光手段が、前記透明基板上に
配置された第１層と、該第１層を覆うように配置された
第２層と、該第２層を覆うように配置された第３層と、
を少なくとも有し、前記第１層、前記第２層及び前記第
３層が、炭素、酸素若しくはそれら両方、並びに金属を
含有する層であり、 前記第１層がＭｏを含有し、かつ、
前記第２層がＡｌ又はＳｉを含有する、ことを特徴とす
る。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and has been made in consideration of the above circumstances. It is an object of the present invention to provide a transparent substrate, a large number of color filters arranged on the transparent substrate at predetermined intervals, and A light-shielding means formed in a gap between the filters, wherein the light-shielding means is arranged on the transparent substrate in a color display device in which various kinds of information are displayed in color by a combination of illumination light transmitted through the color filter. A first layer, a second layer disposed to cover the first layer, a third layer disposed to cover the second layer,
Having at least a first layer, the second layer and the third layer, carbon, oxygen or both thereof, and a layer der containing a metal is, the first layer contains Mo, and,
Wherein the second layer contains Al or Si.
You.
【００２１】この場合、前記第１層が、ＭｏとＴａとの
合金を成分とする、ようにしても良く、前記透明基板に
略平行に配置された対向基板と、前記透明基板と前記対
向基板との間に挟持された液晶と、前記透明基板よりも
前記対向基板の側に配置された照明装置と、を備えてな
るようにしても良い。In this case, the first layer may be composed of an alloy of Mo and Ta as components, and a counter substrate disposed substantially parallel to the transparent substrate; And a lighting device disposed on the side of the counter substrate with respect to the transparent substrate.
【００２２】[0022]
【００２３】なお、以上構成に基づき、前記遮光手段が
少なくとも３つの層を有するようにしたため、例えば各
層の光学定数を独立に設定するなどして、各層に独自の
機能を持たせることができる。また、前記第１層、前記
第２層及び前記第３層が、炭素、酸素若しくはそれら両
方、並びに金属を含有する層であるようにしたため、エ
ッチングされる度合いが近似し、その結果、フォトリソ
グラフィ法によってパターニングをしても両膜の間に段
差は生じにくい。Since the light-shielding means has at least three layers based on the above configuration, each layer can have its own function by, for example, independently setting the optical constant of each layer. Further, since the first layer, the second layer, and the third layer are layers containing carbon, oxygen, or both, and a metal, the degree of etching is similar, and as a result, photolithography is performed. Even if patterning is performed by the method, a step is hardly generated between the two films.
【００２４】[0024]
【発明の実施の形態】以下、図面に沿って、本発明の実
施の形態について説明する。なお、図１に示すものと同
一部分は同一符号を付して説明を省略する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the same parts as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【００２５】まず、本発明の第１の実施の形態につい
て、図３及び図４に沿って説明する。First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
【００２６】本実施の形態に係る液晶表示装置（カラー
表示装置）３０は、図１に示した液晶表示装置１と同様
に、液晶パネルとバックライト装置（照明装置）とを備
えている。このうち、液晶パネルは、図１に示したもの
と同様に、透明基板としての下基板２を有しており、こ
の下基板２に対して略平行に上基板（対向基板）３が配
置されている。また、本実施の形態に係る液晶パネル
も、図１に示したものと同様に、保護膜７、帯状電極
９，…，１０，…、液晶１１を有しており、上基板３に
対向する位置にはバックライト装置が配置されている。
なお、本実施の形態においては、両基板２，３には、厚
さが１ｍｍのガラス板（ＢＳＬ７小原光学硝子製）を使
用し、これらの基板２，３を両面研磨して用いている。The liquid crystal display device (color display device) 30 according to the present embodiment includes a liquid crystal panel and a backlight device (illumination device), like the liquid crystal display device 1 shown in FIG. Among them, the liquid crystal panel has a lower substrate 2 as a transparent substrate, similar to the one shown in FIG. 1, and an upper substrate (counter substrate) 3 is arranged substantially parallel to the lower substrate 2. ing. The liquid crystal panel according to the present embodiment also has a protective film 7, band-shaped electrodes 9,..., 10,..., And liquid crystal 11 similarly to the one shown in FIG. A backlight device is arranged at the position.
In this embodiment, a glass plate (manufactured by BSL7 Ohara Optical Glass) having a thickness of 1 mm is used for both substrates 2 and 3, and these substrates 2 and 3 are polished on both sides.
【００２７】また、下基板２の表面には、図３に詳示す
るように、所定間隙を開けて３原色（赤、緑、青）のカ
ラーフィルタ５，…が多数配置されており、これらのカ
ラーフィルタ５，…の間隙には遮光膜（遮光手段）３
６，…が形成されている。この遮光膜３６，…は、下基
板（透明基板）２の表面に配置された第１層３６ａ，…
と、第１層３６ａ，…を被覆するように形成された第２
層３６ｂ，…と、第２層３６ｂ，…を被覆するように形
成された第３層３６ｃ，…とによって、３層構造に構成
されている。また、本実施の形態においては、第１層３
６ａ，…及び第３層３６ｃ，…は、共にＭｏＴａ合金の
炭酸化物によって形成されており、第２層３６ｂ，…は
Ａｌの炭酸化物によって形成されている。つまり、これ
ら３層３６ａ，…は、いずれも炭酸化金属によって形成
されている。さらに本実施の形態においては、第１層３
６ａ，…の厚さを２００Åとし、第２層３６ｂ，…の厚
さを３００Åとし、第３層３６ｃ，…の厚さを１０００
Åとし、遮光膜全体では１５００Åの厚さとしている。On the surface of the lower substrate 2, as shown in detail in FIG. 3, a large number of three primary color (red, green, blue) color filters 5,... The light-shielding film (light-shielding means) 3 is provided between the color filters 5,.
6,... Are formed. The light-shielding films 36,... Are formed on first layers 36a,.
And a second layer formed so as to cover the first layers 36a,.
, And the third layers 36c,... Formed so as to cover the second layers 36b,. In the present embodiment, the first layer 3
6a,... And the third layers 36c,... Are both formed of a MoTa alloy carbonate, and the second layers 36b,. That is, each of these three layers 36a,... Is formed of metal carbonate. Further, in the present embodiment, the first layer 3
, The thickness of the second layers 36b,... Is 300 mm, and the thickness of the third layers 36c,.
And the entire light-shielding film has a thickness of 1500 °.
【００２８】また、本実施の形態においては、第１層３
６ａ，…の屈折率及び消衰係数をｎ1 ，ｋ1 とし、第２
層３６ｂ，…の屈折率及び消衰係数をｎ2 ，ｋ2 とし、
第３層３６ｃ，…の屈折率及び消衰係数をｎ3 ，ｋ3 と
した場合に、これらの光学定数ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 、ｋ
1 ，ｋ2 ，ｋ3 を表１〜３に示すように設定し、それら
の関係が、 ｎ2 ＜ｎ1 ＜ｎ3 及びｋ2 ＜ｋ1 ＜ｋ3 となるようにし、ｎ1 が、ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 の内で最も
大きくならず、かつ、ｋ1 が、ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 の内で
最も大きくならないようにしている。なお、これらの光
学定数はエリプソによる測定値である。In this embodiment, the first layer 3
6a, ... refractive index and extinction coefficient and n 1, k 1, the second
Layer 36b, ... refractive index and extinction coefficient of the n 2, k 2,
When the refractive index and the extinction coefficient of the third layers 36c,... Are n 3 and k 3 , these optical constants n 1 , n 2 , n 3 and k
1, the k 2, k 3 and set as shown in Tables 1-3, their relationship is set to be n 2 <n 1 <n 3, and k 2 <k 1 <k 3 , n 1 is, It is set so that it does not become the largest among n 1 , n 2 , and n 3 , and that k 1 does not become the largest among k 1 , k 2 , and k 3 . These optical constants are values measured by ellipsometry.
【００２９】[0029]
【表１】 [Table 1]
【００３０】[0030]
【表２】 [Table 2]
【００３１】[0031]
【表３】 次に、遮光膜３６，…の製造方法について説明する。[Table 3] Next, a method of manufacturing the light shielding films 36,... Will be described.
【００３２】遮光膜３６，…の製造に際しては、まず、
下基板２を十分に洗浄し、その下基板２をスパッタ装置
にセットする。なお、スパッタ装置としては、バッジ方
式の通常のマグネトロン−スパッタ装置（ＤＣ放電）を
使用した。 〈第１層形成工程〉雰囲気ガスをＡｒガスとＣＯ2 ガス
との混合ガスとし、ターゲットにＭｏＴａ合金を用い、
下基板２の表面に第１層３６ａ，…をスパッタ形成し
た。 〈第２層形成工程〉雰囲気ガスをＡｒ・ＣＯ2 の混合ガ
スのままとして、ターゲットをＡｌに交換し、第１層３
６ａ，…を覆うように第２層３６ｂ，…をスパッタ形成
した。 〈第３層形成工程〉さらに、雰囲気ガスをＡｒ・ＣＯ2
の混合ガスのままとして、ターゲットを再びＭｏＴａ合
金に交換し、第２層３６ｂ，…を覆うように第３層３６
ｃ，…をスパッタ形成した。When manufacturing the light shielding films 36,.
The lower substrate 2 is sufficiently washed, and the lower substrate 2 is set in a sputtering device. In addition, as a sputtering device, a normal magnetron-sputtering device (DC discharge) of a badge type was used. <First layer forming step> The atmosphere gas is a mixed gas of Ar gas and CO 2 gas, and a MoTa alloy is used as a target.
The first layers 36a,... Were formed on the surface of the lower substrate 2 by sputtering. <Second Layer Forming Step> The target was exchanged with Al while the atmosphere gas was a mixed gas of Ar and CO 2 , and the first layer 3 was formed.
The second layers 36b were formed by sputtering so as to cover 6a. <Third layer forming step> Further, the atmosphere gas is Ar.CO 2
, The target is exchanged again with the MoTa alloy, and the third layer 36 is formed so as to cover the second layers 36b,.
c,... were formed by sputtering.
【００３３】なお、本実施の形態においては、ターゲッ
トや、Ａｒガスに添加するガス（ＣＯ2 ガス）の割り合
いや、パワー等のスパッタ条件を下表のように各層毎に
異ならせ、光学定数ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 ，ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ
3 が表１〜表３の値になるようにしている。 〈フォトリソ工程〉その後、このようにして成膜した積
層膜をフォトリソグラフィ法によってパターニングし、
カラーフィルタ５，…の間隙に配置された遮光膜３６，
…を形成する。In the present embodiment, the sputtering conditions such as the proportion of the gas added to the target and the Ar gas (CO 2 gas), the power, and the like are varied for each layer as shown in the following table, and the optical constants are changed. n 1, n 2, n 3 , k 1, k 2, k
3 is set to the values shown in Tables 1 to 3. <Photolithography step> Thereafter, the laminated film thus formed is patterned by photolithography,
The light shielding film 36, which is arranged in the gap between the color filters 5,.
... is formed.
【００３４】[0034]
【表４】 次に、本実施の形態の作用について説明する。[Table 4] Next, the operation of the present embodiment will be described.
【００３５】いま、帯状電極９，…，１０，…に所定の
信号を印加すると、液晶１１は画素毎にスイッチングさ
れる。したがって、カラーフィルタ５，…を透過する照
明光の組み合わせにより種々の情報がカラー表示され
る。When a predetermined signal is applied to the strip electrodes 9,..., 10,..., The liquid crystal 11 is switched for each pixel. Therefore, various information is displayed in color by a combination of the illumination light transmitted through the color filters 5,.
【００３６】ところで、第１層３６ａ，３６ｂ，３６ｃ
の光学定数ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 ，ｋ1，ｋ2 ，ｋ3 は上述
のように設定されているため、その反射率が所定値以下
に低減される。したがって、いま、液晶表示装置３０を
屋外等の明るい場所で使用し、観察側（図示Ａ側）から
外光が入射されても、第１層３６ａ，…の表面では外光
は余り反射されない。The first layers 36a, 36b, 36c
Since the optical constants n 1 , n 2 , n 3 , k 1 , k 2 , and k 3 are set as described above, the reflectance is reduced to a predetermined value or less. Therefore, even if the liquid crystal display device 30 is used in a bright place such as outdoors and external light is incident from the observation side (A side in the drawing), the external light is not reflected much on the surface of the first layers 36a.
【００３７】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。Next, the effect of this embodiment will be described.
【００３８】本実施の形態によれば、遮光膜３６，…に
おける全ての層３６ａ，３６ｂ，３６ｃがいずれも炭酸
化金属によって形成されているため、エッチングされる
度合いが近似し、フォトリソグラフィ法によってパター
ニングをしても両膜の間に段差は生じにくい。その結
果、遮光膜３６，…を積層構造としたにもかかわらず、
高品質で高精度な液晶表示装置を得ることができる。According to the present embodiment, since all the layers 36a, 36b, 36c in the light shielding films 36,... Are formed of metal carbonate, the degree of etching is similar, and the photolithography method is used. Even when patterning is performed, a step is unlikely to occur between the two films. As a result, despite the fact that the light shielding films 36,.
A high-quality and high-precision liquid crystal display device can be obtained.
【００３９】また、全ての層３６ａ，３６ｂ，３６ｃを
いずれも炭酸化金属によって形成したため、スパッタリ
ングする際の雰囲気ガスの交換の必要はなく、製造時間
が短縮化されて製造コストが低減される。さらに、上述
のように雰囲気ガスの交換の必要のないことから、高価
な通過成膜方式のスパッタ装置ではなく、安価なバッジ
方式のスパッタ装置を使用できて製造コストが低減さ
れ、製造工程の簡素化も図れる。Further, since all the layers 36a, 36b, 36c are formed of metal carbonate, there is no need to exchange the atmosphere gas at the time of sputtering, so that the manufacturing time is shortened and the manufacturing cost is reduced. Further, since there is no need to exchange the atmosphere gas as described above, it is possible to use an inexpensive badge type sputtering apparatus instead of an expensive passing film forming type sputtering apparatus, thereby reducing the manufacturing cost and simplifying the manufacturing process. Can also be planned.
【００４０】またさらに、本実施の形態においては、ス
パッタリング時の雰囲気ガスとしてＡｒ・ＣＯ2 の混合
ガスを用いたため、金属酸化物をスパッタリングターゲ
ットにする必要がなく、成膜レート、ターゲットの割れ
などの量産上の問題点も発生しない。Further, in this embodiment, since a mixed gas of Ar and CO 2 is used as an atmosphere gas at the time of sputtering, it is not necessary to use a metal oxide as a sputtering target. There is no problem in mass production.
【００４１】第１層３６ａ，３６ｂ，３６ｃの屈折率ｎ
1 ，ｎ2 ，ｎ3 及び消衰係数ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 を表１の
ように設定したため、液晶表示装置３０を屋外等の明る
い場所で使用しても外光の反射は低減され、その表示品
位は良好に維持される。なお、本発明者は外光の反射率
を実測したが（図４参照）、それによると、可視領域
（４００〜７００ｎｍ）の光については、反射率が２〜
４％程度でかなり低く、低反射化と遮光性との向上がバ
ランス良く向上することが確認された。The refractive index n of the first layers 36a, 36b, 36c
Since 1 , 1 , n 2 and n 3 and the extinction coefficients k 1 , k 2 and k 3 are set as shown in Table 1, reflection of external light is reduced even when the liquid crystal display device 30 is used in a bright place such as outdoors. , Its display quality is maintained well. The inventor actually measured the reflectance of external light (see FIG. 4). According to the measurement, the reflectance of light in the visible region (400 to 700 nm) was 2 to 2.
It was considerably low at about 4%, and it was confirmed that the improvement of the low reflection and the improvement of the light shielding property were improved in a well-balanced manner.
【００４２】また一方、本実施の形態においては、Ａｒ
ガスとＣＯ2 ガスとの混合ガスを雰囲気ガスとして用い
た上でリアクティブスパッタリングし、かつ、ＭｏＴａ
合金等をターゲットとして使用したため、スパッタ条件
（パワーやＣＯ2 ガスの割り合い）を調整することによ
り、容易に各層の光学定数ｎ，ｋをコントロールでき
る。また、スパッタ条件と光学定数の再現性・安定性が
非常に良いため、量産時においても安定した品質の遮光
膜３６，…を製造できる。On the other hand, in the present embodiment, Ar
Reactive sputtering using a mixed gas of a gas and a CO 2 gas as an atmosphere gas, and MoTa
Since an alloy or the like is used as a target, the optical constants n and k of each layer can be easily controlled by adjusting the sputtering conditions (power and proportion of CO 2 gas). Also, since the reproducibility and stability of the sputtering conditions and the optical constants are very good, it is possible to manufacture the light-shielding films 36 of stable quality even during mass production.
【００４３】さらに、Ｃｒ等の金属を用いた場合には廃
液処理のためにコストがかかるが、本実施の形態におい
てはＭｏ合金を使用しているためにそのような問題もな
い。Further, when a metal such as Cr is used, cost is required for waste liquid treatment. However, in the present embodiment, there is no such problem because a Mo alloy is used.
【００４４】ついで、図５に沿って、本発明の第２の実
施の形態について説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
【００４５】本実施の形態に係る液晶表示装置は、上述
した実施の形態と同様に、略平行に配置された下基板
（透明基板）及び上基板（対向基板）を備えており、こ
れらの上下基板の間には液晶が挟持されている。また、
上基板の側にはバックライト装置（照明装置）が配置さ
れている。The liquid crystal display device according to this embodiment includes a lower substrate (transparent substrate) and an upper substrate (opposite substrate) which are arranged substantially in parallel, as in the above-described embodiment. Liquid crystals are sandwiched between the substrates. Also,
A backlight device (illumination device) is arranged on the side of the upper substrate.
【００４６】さらに、下基板の表面には、多数のカラー
フィルタが所定の間隙を開けて配置されており、これら
カラーフィルタの間隙には遮光膜（遮光手段）が形成さ
れている。この遮光膜は、上述した実施の形態と同様
に、下基板の表面に配置された第１層と、第１層を覆う
ように配置された第２層と、第２層を覆うように配置さ
れた第３層とによって、３層構造に構成されている。Further, a large number of color filters are arranged on the surface of the lower substrate with a predetermined gap therebetween, and a light-shielding film (light-shielding means) is formed in the gap between these color filters. As in the above-described embodiment, the light-shielding film has a first layer disposed on the surface of the lower substrate, a second layer disposed so as to cover the first layer, and a second layer disposed so as to cover the second layer. With the third layer thus formed, a three-layer structure is formed.
【００４７】さらに本実施の形態においては、第１層の
膜厚は２００Åとし、第２層の膜厚は３００Åとし、第
３層の膜厚は１０００Åとしている。Further, in the present embodiment, the thickness of the first layer is 200 °, the thickness of the second layer is 300 °, and the thickness of the third layer is 1000 °.
【００４８】また、本実施の形態においては、第１層及
び第３層の屈折率及び消衰係数ｎ1，ｋ1 ，ｎ3 ，ｋ3
は、上述実施の形態と同様に表１及び表３に示すように
設定し、第２層の屈折率及び消衰係数ｎ2 ，ｋ2 は表５
に示す通りとし、それらの関係が、 ｎ2 ＜ｎ1 ＜ｎ3 及びｋ2 ＜ｋ1 ＜ｋ3 となるようにし、ｎ1 が、ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 の内で最も
大きくならず、かつ、ｋ1 が、ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 の内で
最も大きくならないようにした。なお、これらの光学定
数はエリプソによる測定値である。Further, in the present embodiment, the refractive index and the extinction coefficient n 1 , k 1 , n 3 , k 3 of the first and third layers are set.
Are set as shown in Tables 1 and 3 in the same manner as in the above embodiment, and the refractive index and extinction coefficient n 2 , k 2 of the second layer are set in Table 5
, And their relationships are set so that n 2 <n 1 <n 3 and k 2 <k 1 <k 3. If n 1 is the largest among n 1 , n 2 , and n 3 , not, and, k 1 has to avoid the largest among the k 1, k 2, k 3 . These optical constants are values measured by ellipsometry.
【００４９】[0049]
【表５】 また、この遮光膜は、下基板上に第１層をスパッタ形成
する第１層形成工程と、第１層を覆うように第２層をス
パッタ形成する第２層形成工程と、第２層を覆うように
第３層をスパッタ形成する第３層形成工程と、を経て製
造される。さらに、これらの工程における雰囲気ガスに
は、ＡｒガスとＣＯ2 ガスとの混合ガスを用い、バッジ
方式の通常のマグネトロン−スパッタ装置（ＤＣ放電）
を使用した。またさらに、第１層形成工程及び第３層形
成工程におけるターゲットには、上述した実施の形態と
同様にＭｏＴａ合金を用い、第２層形成工程におけるタ
ーゲットにはＳｉを用いた。[Table 5] The light-shielding film includes a first layer forming step of forming a first layer by sputtering on the lower substrate, a second layer forming step of forming a second layer by sputtering so as to cover the first layer, and forming the second layer by sputtering. And a third layer forming step of forming a third layer by sputtering so as to cover the third layer. Further, a mixed gas of an Ar gas and a CO 2 gas is used as an atmosphere gas in these steps, and a normal magnetron-sputtering apparatus of a badge type (DC discharge)
It was used. Further, a MoTa alloy was used as a target in the first layer forming step and the third layer forming step as in the above-described embodiment, and Si was used as a target in the second layer forming step.
【００５０】なお、本実施の形態においては、ターゲッ
トや、Ａｒガスに添加するガス（ＣＯ2 ガス）の割り合
いや、パワー等のスパッタ条件は、第１層及び第３層に
関しては表４に示すものと同じであり、第２層に関して
は表６に示すものとした。これにより、各層の光学定数
ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 ，ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 が表１、表５及び
表３の値になるようにしている。In this embodiment, the sputtering conditions such as the ratio of the gas added to the target and the Ar gas (CO 2 gas) and the power are shown in Table 4 for the first and third layers. This is the same as that shown, and the second layer is shown in Table 6. Thus, the optical constants n 1 , n 2 , n 3 , k 1 , k 2 , and k 3 of each layer are set to the values shown in Tables 1, 5, and 3.
【００５１】[0051]
【表６】 そして、このようにして成膜した積層膜をフォトリソグ
ラフィ法によってパターニングしている。[Table 6] Then, the laminated film thus formed is patterned by photolithography.
【００５２】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。Next, effects of the present embodiment will be described.
【００５３】本実施の形態によれば、上述した第１の実
施の形態と同様の効果を得ることができる。According to this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.
【００５４】すなわち、本実施の形態によれば、遮光膜
における全ての層がいずれも炭酸化金属によって形成さ
れているため、エッチングされる度合いが近似し、フォ
トリソグラフィ法によってパターニングをしても両膜の
間に段差は生じにくい。その結果、遮光膜を積層構造と
したにもかかわらず、高品質で高精度な液晶表示装置を
得ることができる。That is, according to this embodiment, since all the layers in the light-shielding film are formed of metal carbonate, the degree of etching is almost the same. A step is unlikely to occur between the films. As a result, a high-quality and high-precision liquid crystal display device can be obtained despite the fact that the light-shielding film has a laminated structure.
【００５５】また、全ての層をいずれも炭酸化金属によ
って形成したため、スパッタリングする際の雰囲気ガス
の交換の必要がないため、製造時間が短縮化されて製造
コストが低減される。さらに、上述のように雰囲気ガス
の交換の必要のないことから、高価な通過成膜方式のス
パッタ装置ではなく、安価なバッジ方式のスパッタ装置
を使用できて製造コストが低減され、製造工程の簡素化
も図れる。Further, since all the layers are formed of metal carbonate, there is no need to exchange the atmosphere gas at the time of sputtering, so that the manufacturing time is shortened and the manufacturing cost is reduced. Further, since there is no need to exchange the atmosphere gas as described above, it is possible to use an inexpensive badge type sputtering apparatus instead of an expensive passing film forming type sputtering apparatus, thereby reducing the manufacturing cost and simplifying the manufacturing process. Can also be planned.
【００５６】またさらに、本実施の形態においては、ス
パッタリング時の雰囲気ガスとしてＡｒ・ＣＯ2 の混合
ガスを用いたため、金属酸化物をスパッタリングターゲ
ットにする必要がなく、成膜レート、ターゲットの割れ
などの量産上の問題点も発生しない。Further, in this embodiment, since a mixed gas of Ar and CO 2 is used as an atmosphere gas at the time of sputtering, it is not necessary to use a metal oxide as a sputtering target. There is no problem in mass production.
【００５７】また、本実施の形態においては、遮光膜を
３層の積層構造とし、かつ、各層の光学定数ｎ1 ，ｎ
2 ，ｎ3 ，ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 を表１、表５及び表３のよ
うに設定しているため、各層に独自の機能を持たせて液
晶表示装置の表示品位を向上させることができる。In this embodiment, the light-shielding film has a three-layered structure, and the optical constants n 1 , n
Since 2 , n 3 , k 1 , k 2 , and k 3 are set as shown in Tables 1, 5, and 3, each layer has its own function to improve the display quality of the liquid crystal display device. Can be.
【００５８】つまり、第１層〜第３層の屈折率ｎ1 ，ｎ
2 ，ｎ3 及び消衰係数ｋ1 ，ｋ2 ，ｋ3 を表１のように
設定したため、液晶表示装置を屋外等の明るい場所で使
用しても外光の反射は低減され、その表示品位は良好に
維持される。なお、本発明者は、外光の反射率を実測し
た（図５参照）。それによると、可視領域（４００〜７
００ｎｍ）の光については、反射率が２．３〜３．７％
程度でかなり低く、遮光性も十分確保され、低反射化と
遮光性の向上がバランス良く実現されている。That is, the refractive indexes n 1 and n of the first to third layers
2 , n 3 and the extinction coefficients k 1 , k 2 , and k 3 are set as shown in Table 1. Therefore, even when the liquid crystal display device is used in a bright place such as outdoors, the reflection of external light is reduced, and the display quality is reduced. Is well maintained. The inventor actually measured the reflectance of external light (see FIG. 5). According to that, the visible region (400-7)
00 nm), the reflectivity is 2.3 to 3.7%.
The degree of reflection is considerably low, the light-shielding property is sufficiently ensured, and the reduction in reflection and the improvement in light-shielding property are realized in a well-balanced manner.
【００５９】また一方、本実施の形態においては、Ａｒ
ガスとＣＯ2 ガスとの混合ガスを雰囲気ガスとして用い
た上でリアクティブスパッタリングし、かつ、ＭｏＴａ
合金等をターゲットとして使用したため、スパッタ条件
（パワーやＣＯ2 ガスの割り合い）を調整することによ
り、容易に各層の光学定数ｎ，ｋをコントロールでき
る。また、スパッタ条件と光学定数の再現性・安定性が
非常に良いため、量産時においても安定した品質の遮光
膜を製造できる。On the other hand, in the present embodiment, Ar
Reactive sputtering using a mixed gas of a gas and a CO 2 gas as an atmosphere gas, and MoTa
Since an alloy or the like is used as a target, the optical constants n and k of each layer can be easily controlled by adjusting the sputtering conditions (power and proportion of CO 2 gas). Further, since the reproducibility and stability of sputtering conditions and optical constants are very good, a light-shielding film of stable quality can be manufactured even in mass production.
【００６０】さらに、Ｃｒ等の金属を用いた場合には廃
液処理のためにコストがかかるが、本実施の形態におい
てはＭｏ合金やＳｉを使用しているためにそのような問
題もない。Further, when a metal such as Cr is used, cost is required for waste liquid treatment. However, in the present embodiment, such a problem does not occur because a Mo alloy or Si is used.
【００６１】なお、上述した実施の形態においては、第
１層、第２層及び第３層の全てを炭酸化膜によって形成
したが、もちろんこれに限る必要はなく、各層を全て炭
化膜で形成しても良く、各層を全て酸化膜で形成しても
良い。また、酸化膜と炭酸化膜との積層構造（例えば、
第１層と第３層が酸化膜で、第２層が炭酸化膜）であっ
ても良く、酸化膜と炭化膜との積層構造であっても良
く、炭化膜と炭酸化膜との積層構造であっても良い。さ
らには、各層を、酸化膜、炭酸化膜及び炭化膜によって
それぞれ形成しても良い。このようにすることにより、
雰囲気ガス交換の問題は残るものの、遮光膜の段差の問
題は解決される。In the above-described embodiment, all of the first layer, the second layer, and the third layer are formed by the carbonated film. However, the present invention is not limited to this. Alternatively, all the layers may be formed of an oxide film. In addition, a laminated structure of an oxide film and a carbonation film (for example,
The first layer and the third layer may be oxide films, and the second layer may be a carbonated film. It may have a structure. Further, each layer may be formed of an oxide film, a carbonated film, and a carbonized film. By doing this,
Although the problem of atmosphere gas exchange remains, the problem of the step of the light shielding film is solved.
【００６２】さらに、上述した実施の形態においては、
光学定数ｎ1 ，ｎ2 ，ｎ3 及びｋ1，ｋ2 ，ｋ3 の関係
を、 ｎ2 ＜ｎ1 ＜ｎ3 ｋ2 ＜ｋ1 ＜ｋ3 としたが、もちろんこれに限る必要はない。ｎ1 が、ｎ
1 ，ｎ2 ，ｎ3 の内で最大ではなく、ｋ1 がｋ1 ，ｋ
2 ，ｋ3 の内で最大でなければ良く、例えば、 ｎ3 ＜ｎ1 ＜ｎ2 、及び ｋ3 ＜ｋ1 ＜ｋ2 ｎ1 ＜ｎ3 ＜ｎ2 、及び ｋ1 ＜ｋ3 ＜ｋ2 ｎ2 ＜ｎ1 ＜ｎ3 、及び ｋ2 ＜ｋ1 ＜ｋ3 ｎ1 ＜ｎ2 ＜ｎ3 、及び ｋ1 ＜ｋ2 ＜ｋ3 のいずれの関係であっても良い。Further, in the above-described embodiment,
The relationship among the optical constants n 1 , n 2 , n 3 and k 1 , k 2 , k 3 is n 2 <n 1 <n 3 k 2 <k 1 <k 3 , but of course it is not limited to this. . n 1 is n
K 1 is not the maximum of 1 , n 2 and n 3 but k 1 is k 1
It is not necessary to be the maximum of 2 and k 3. For example, n 3 <n 1 <n 2 , k 3 <k 1 <k 2 n 1 <n 3 <n 2 , and k 1 <k 3 <k Any of 2 n 2 <n 1 <n 3 , k 2 <k 1 <k 3 n 1 <n 2 <n 3 , and k 1 <k 2 <k 3 may be used.
【００６３】またさらに、上述した実施の形態において
は、第１層及び第３層をＭｏＴａ合金にて構成したが、
もちろんこれに限る必要はない。例えば、合金でないＭ
ｏ金属や、ＭｏＴａ合金以外のＭｏ合金であっても良
い。Further, in the above-described embodiment, the first layer and the third layer are made of the MoTa alloy.
Of course, there is no need to be limited to this. For example, M which is not an alloy
o metal or a Mo alloy other than the MoTa alloy may be used.
【００６４】また、上述した実施の形態においては、第
２層をＡｌやＳｉによって構成するものとしたが、もち
ろんこれに限る必要はなく、特定の反射率の設定を行な
うようにすれば、他のどのような金属で構成するように
しても良い。In the above-described embodiment, the second layer is made of Al or Si. However, the present invention is not limited to this, and if a specific reflectance is set, other layers can be used. Any metal may be used.
【００６５】さらに、上述した実施の形態においてはス
パッタリング時の雰囲気ガスを、ＡｒガスとＣＯ2 ガス
との混合ガスとしたが、もちろんこれに限る必要はな
く、ＣＯ2 ガスの代わりにＯ2 ガスやＣＨ4 ガスを使用
してもよい。[0065] Further, the atmospheric gas at the time of sputtering in the embodiment described above, although a mixed gas of Ar gas and CO 2 gas, of course need not be limited to this, O 2 gas instead of CO 2 gas Alternatively, CH 4 gas may be used.
【００６６】[0066]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
カラーフィルタの間隙には遮光手段が設けられているた
め、色の混ざり等が防止され、コントラストが向上され
る。As described above, according to the present invention,
Since the light shielding means is provided in the gap between the color filters, mixing of colors and the like is prevented, and the contrast is improved.
【００６７】また、本発明によれば、前記遮光手段にお
ける第１層、第２層及び第３層が、炭素、酸素若しくは
それら両方、並びに金属を含有する層であるようにした
ため、エッチングされる度合いが近似し、フォトリソグ
ラフィ法によってパターニングをしても両膜の間に段差
は生じにくい。その結果、遮光手段を積層構造としたに
もかかわらず、高品質で高精度なカラー表示装置を得る
ことができる。According to the present invention, the first layer, the second layer, and the third layer in the light shielding means are layers containing carbon, oxygen, or both, and a metal, and thus are etched. The degree is similar, and even if patterning is performed by photolithography, a step is unlikely to occur between the two films. As a result, a high-quality and high-precision color display device can be obtained despite the fact that the light shielding means has a laminated structure.
【００６８】さらに、前記遮光手段における第１層、第
２層及び第３層を、炭素及び酸素の両方を含有する層に
よって構成した場合には、スパッタリングする際の雰囲
気ガスの交換の必要がないため、製造時間が短縮化され
て製造コストが低減される。また、上述のように雰囲気
ガスの交換の必要のないことから、高価な通過成膜方式
のスパッタ装置ではなく、安価なバッジ方式のスパッタ
装置を使用できて製造コストが低減され、製造工程の簡
素化も図れる。Further, when the first layer, the second layer, and the third layer in the light-shielding means are constituted by layers containing both carbon and oxygen, there is no need to exchange the atmosphere gas during sputtering. Therefore, the manufacturing time is shortened and the manufacturing cost is reduced. In addition, since there is no need to exchange the atmosphere gas as described above, an inexpensive badge type sputtering device can be used instead of an expensive pass-through film forming type sputtering device, thereby reducing the manufacturing cost and simplifying the manufacturing process. Can also be planned.
【００６９】一方、第１層形成工程、第２層形成工程及
び第３層形成工程における雰囲気ガスを、炭素、酸素若
しくはそれら両方を混入させたＡｒガスとした場合に
は、金属酸化物をスパッタリングターゲットにする必要
がなく、成膜レート、ターゲットの割れなどの量産上の
問題点も発生しない。On the other hand, when the atmosphere gas in the first layer forming step, the second layer forming step, and the third layer forming step is Ar gas in which carbon, oxygen, or both are mixed, the metal oxide is sputtered. There is no need to use a target, and there is no problem in mass production such as a film formation rate and cracking of the target.
【００７０】また一方、本発明によれば、遮光手段が少
なくとも３つの層を有するようにしたため、各層に独自
の機能を持たせてカラー表示装置の表示品位を向上させ
ることができる。On the other hand, according to the present invention, since the light shielding means has at least three layers, each layer can have its own function to improve the display quality of the color display device.
【００７１】[0071]
【図１】液晶表示装置の構造を示す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal display device.
【図２】従来の遮光膜の構成を示す断面図であり、(a)
は２層構造の遮光膜を示す図、(b) は３層構造の遮光膜
を示す図。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional light shielding film, and FIG.
FIG. 3B is a diagram showing a light-shielding film having a two-layer structure, and FIG. 3B is a diagram showing a light-shielding film having a three-layer structure.
【図３】本発明の一実施の形態に係る液晶表示装置にお
いて、遮光膜の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a light-shielding film in the liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention.
【図４】第１の実施の形態の効果を説明するための図。FIG. 4 is a view for explaining effects of the first embodiment.
【図５】第２の実施の形態の効果を説明するための図。FIG. 5 is a diagram illustrating an effect of the second embodiment.
２ 下基板（透明基板） ３ 上基板（対向基板） ５，… カラーフィルタ １１ 液晶 ３０ 液晶表示装置（カラー表示装置） ３６，… 遮光膜（遮光手段） ３６ａ，… 第１層 ３６ｂ，… 第２層 ３６ｃ，… 第３層 Ｂ バックライト装置（照明装置） 2 Lower substrate (transparent substrate) 3 Upper substrate (counter substrate) 5,... Color filter 11 Liquid crystal 30 Liquid crystal display device (Color display device) 36,. Layer 36c,... Third layer B Backlight device (lighting device)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沢村 光治 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平４−1728（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−307693（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−188366（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−1725（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−194684（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−1726（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−80414（ＪＰ，Ｕ) 実開 平３−49530（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1335 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Koji Sawamura 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (56) References JP-A-4-1728 (JP, A) JP-A-63 JP-A-307693 (JP, A) JP-A-5-188366 (JP, A) JP-A-4-1725 (JP, A) JP-A-6-194684 (JP, A) JP-A-4-1726 (JP, A) ) JP-A-3-80414 (JP, U) JP-A-3-49530 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1335
Claims (6)
を開けて配置された多数のカラーフィルタと、これらカ
ラーフィルタの間隙に形成された遮光手段と、を備え、
前記カラーフィルタを透過する照明光の組み合わせによ
り種々の情報をカラー表示してなるカラー表示装置にお
いて、 前記遮光手段が、前記透明基板上に配置された第１層
と、該第１層を覆うように配置された第２層と、該第２
層を覆うように配置された第３層と、を少なくとも有
し、 前記第１層、前記第２層及び前記第３層が、炭素、酸素
若しくはそれら両方、並びに金属を含有する層であり、 前記第１層がＭｏを含有し、かつ、 前記第２層がＡｌ又はＳｉを含有する、 ことを特徴とするカラー表示装置。1. A transparent substrate and a predetermined gap on the transparent substrate
With many color filters open
Light shielding means formed in the gap of the color filter,
The combination of illumination light transmitted through the color filter
A color display device that displays various information in color.
And wherein the light shielding means is a first layer disposed on the transparent substrate.
A second layer disposed to cover the first layer;
At least a third layer disposed to cover the layer.
The first layer, the second layer, and the third layer each include carbon, oxygen,
Or both, and a layer containing metal.And The first layer contains Mo, and The second layer contains Al or Si, A color display device characterized by the above-mentioned.
分とする、 ことを特徴とする請求項１記載のカラー表示装置。2. The color display device according to claim 1 , wherein the first layer contains an alloy of Mo and Ta as a component.
基板と、 前記透明基板と前記対向基板との間に挟持された液晶
と、 前記透明基板よりも前記対向基板の側に配置された照明
装置と、 を備えてなる請求項１又は２に記載のカラー表示装置。A counter substrate disposed substantially parallel to the transparent substrate; a liquid crystal interposed between the transparent substrate and the counter substrate; and a liquid crystal disposed between the transparent substrate and the counter substrate. The color display device according to claim 1 , further comprising: a lighting device.
第１層形成工程と、前記第１層を覆うように第２層をス
パッタ形成する第２層形成工程と、前記第２層を覆うよ
うに第３層をスパッタ形成する第３層形成工程と、を少
なくとも有するカラー表示装置の製造方法において、 前記第１層形成工程、前記第２層形成工程及び前記第３
層形成工程における雰囲気ガスを、炭素、酸素若しくは
それら両方を混入させたＡｒガスとし、 前記第１層形成工程及び前記第３層形成工程におけるタ
ーゲットを、炭素、酸素若しくはそれら両方を含有した
第１の金属とし、 前記第２層形成工程におけるターゲットを、炭素、酸素
若しくはそれら両方、並びに金属を含有した第２の金属
とし、 前記第１の金属がＭｏを含有してなり、かつ、 前記第２の金属がＡｌ又はＳｉを含有してなる、 ことを特徴とするカラー表示装置の製造方法。4. A first layer is formed on a transparent substrate by sputtering.
Forming a first layer, and forming a second layer so as to cover the first layer.
A second layer forming step of forming a putter, and a step of covering the second layer.
And a third layer forming step of forming the third layer by sputtering.
A method of manufacturing a color display device having at least the first layer forming step, the second layer forming step, and the third layer forming step.
Atmosphere gas in the layer forming step is carbon, oxygen or
An Ar gas containing both of them is mixed, and the gas in the first layer forming step and the third layer forming step
Target contains carbon, oxygen or both
As the first metal, the target in the second layer forming step is carbon, oxygen
Or both, and a second metal containing metal
WhenAnd The first metal contains Mo, and The second metal contains Al or Si, A method for manufacturing a color display device, comprising:
である、 ことを特徴とする請求項４記載のカラー表示装置の製造
方法。5. The method for manufacturing a color display device according to claim 4 , wherein the first metal is an alloy of Mo and Ta.
程及び前記第３層形成工程において、ＡｒガスとＣＯ2
ガスとの混合ガスを雰囲気ガスとした、 ことを特徴とする請求項４又は５に記載のカラー表示装
置の製造方法。6. In the first layer forming step, the second layer forming step and the third layer forming step, Ar gas and CO 2
The method for manufacturing a color display device according to claim 4 , wherein a mixed gas with the gas is an atmospheric gas.
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