JP3129096B2 - Ag表面保護用耐蝕性膜および耐蝕性複合構造体 - Google Patents
Ag表面保護用耐蝕性膜および耐蝕性複合構造体Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、Agの大気中のオゾ
ン、硫化物成分などによる表面腐蝕を防止するためのA
g表面保護用耐蝕性膜に係り、さらに詳しくは、例えば
光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リフレ
クタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜などの
反射膜、および、金属製品用、プラスチック製品用のメ
ッキ膜などとして用いられるAg基体と前記耐蝕性膜と
からなる複合構造物に関するものである。
ン、硫化物成分などによる表面腐蝕を防止するためのA
g表面保護用耐蝕性膜に係り、さらに詳しくは、例えば
光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リフレ
クタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜などの
反射膜、および、金属製品用、プラスチック製品用のメ
ッキ膜などとして用いられるAg基体と前記耐蝕性膜と
からなる複合構造物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】Agは、その銀白色の美しい光沢ととも
に展性、延性に優れ、金属のうちで電気および熱の伝導
率が最も大きいので非常に有用な金属である。特に可視
光に対する反射率が広い波長範囲にわたって100%に
近い値を示すため、鏡面を必要とする装置、例えば、前
記したような光記録媒体等の反射膜などに広く利用され
ている。また、このようなAgの特徴を生かして例えば
洋食器にAgメッキを行うと、その装飾性に優れている
点や水分中の微生物が殺菌されるなどの利点があるため
に、被メッキ物に高級感を与え商品価値を高めることと
なる。
に展性、延性に優れ、金属のうちで電気および熱の伝導
率が最も大きいので非常に有用な金属である。特に可視
光に対する反射率が広い波長範囲にわたって100%に
近い値を示すため、鏡面を必要とする装置、例えば、前
記したような光記録媒体等の反射膜などに広く利用され
ている。また、このようなAgの特徴を生かして例えば
洋食器にAgメッキを行うと、その装飾性に優れている
点や水分中の微生物が殺菌されるなどの利点があるため
に、被メッキ物に高級感を与え商品価値を高めることと
なる。
【0003】以上のようにAgは非常に有用な金属であ
り、酸素中で高温に熱しても酸化されない等、化学的に
も安定な金属であるが、唯一その欠点として、大気中の
硫化物成分によって褐色または黒色のAg2 Sに変化
し、また、硫化物ほどではないが、大気中のオゾンによ
り黒色のAgOに変化して、その光沢を失うことが挙げ
られる。特に、硫黄とは直接結合して、例えばH2 Sと
反応して常温でも容易にAg2 Sとなり黒変する。この
黒変化を逆に利用した古美術色装飾品も知られているが
一般的ではない。このような黒変化を一時的に防止する
には、クロム酸処理や透明樹脂を塗装する方法が用いら
れ、またさらに効果的な方法としてAg上にRhメッキ
を薄く形成する方法が知られている。
り、酸素中で高温に熱しても酸化されない等、化学的に
も安定な金属であるが、唯一その欠点として、大気中の
硫化物成分によって褐色または黒色のAg2 Sに変化
し、また、硫化物ほどではないが、大気中のオゾンによ
り黒色のAgOに変化して、その光沢を失うことが挙げ
られる。特に、硫黄とは直接結合して、例えばH2 Sと
反応して常温でも容易にAg2 Sとなり黒変する。この
黒変化を逆に利用した古美術色装飾品も知られているが
一般的ではない。このような黒変化を一時的に防止する
には、クロム酸処理や透明樹脂を塗装する方法が用いら
れ、またさらに効果的な方法としてAg上にRhメッキ
を薄く形成する方法が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来知
られる前記したようなAgの褪色を防止する方法はいず
れも十分なものではない。すなわち、クロム酸処理によ
って形成される化成膜は非常に薄くかつ比較的短時間で
その活性が失われてしまうものである。また樹脂被膜は
ピンホール等の膜欠陥を完全になくすことが困難であ
り、このような欠陥部からAgの腐蝕が進行してしまう
ものであった。さらにRhメッキを施す方法は、材料自
体が高価であるために一般的なものではなかった。さら
に上記したような光磁気記録媒体用反射膜などとして用
いる場合には熱伝導率の高さが問題となる。
られる前記したようなAgの褪色を防止する方法はいず
れも十分なものではない。すなわち、クロム酸処理によ
って形成される化成膜は非常に薄くかつ比較的短時間で
その活性が失われてしまうものである。また樹脂被膜は
ピンホール等の膜欠陥を完全になくすことが困難であ
り、このような欠陥部からAgの腐蝕が進行してしまう
ものであった。さらにRhメッキを施す方法は、材料自
体が高価であるために一般的なものではなかった。さら
に上記したような光磁気記録媒体用反射膜などとして用
いる場合には熱伝導率の高さが問題となる。
【0005】本発明は、大気中の硫化物成分やオゾンに
よるAgの硫化、酸化という化合物化による褪色を防止
し、Agの反射率、光沢の高さを保持するAg表面保護
用耐蝕性膜を提供することを目的とする。本発明はま
た、Ag基体とこのような耐蝕性膜とからなる、例え
ば、光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リ
フレクタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜な
どの反射膜、および、金属製品用、プラスチック製品用
のメッキ膜など好適に用いられる複合構造物を提供する
ことを目的とする。
よるAgの硫化、酸化という化合物化による褪色を防止
し、Agの反射率、光沢の高さを保持するAg表面保護
用耐蝕性膜を提供することを目的とする。本発明はま
た、Ag基体とこのような耐蝕性膜とからなる、例え
ば、光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リ
フレクタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜な
どの反射膜、および、金属製品用、プラスチック製品用
のメッキ膜など好適に用いられる複合構造物を提供する
ことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
なAgの大気中の硫化物成分やオゾンによる腐蝕を防止
するために鋭意検討を行なった結果、Agに代えてAg
−Mg合金を用いることで上記したような腐蝕を有効に
防止し得るとの知見を得た。しかしながら、このような
Ag−Mg合金膜はAg膜よりも残留圧縮応力が大きい
ので硬いが、例えばこのようなAg−Mg合金膜を、基
板ないし下地層上に形成しようとする場合には、これら
の基板ないし下地層との密着性が悪く、剥離しやすいも
のとなってしまい、剥離が生じるとこれらの部分から腐
蝕が進行してしまうために、Ag膜をAg−Mg合金膜
に単純に置換えるのみでは、十分な効果が得られない。
そこで、さらに本発明者らは、鋭意検討を進めた結果、
Ag基体の保護膜としてAg−Mg合金膜を形成し、A
g基体とこのAg−Mg合金膜とで複合構造化すること
で、非常に耐蝕性の良好なものが得られることを見い出
し本発明を完成するに至った。
なAgの大気中の硫化物成分やオゾンによる腐蝕を防止
するために鋭意検討を行なった結果、Agに代えてAg
−Mg合金を用いることで上記したような腐蝕を有効に
防止し得るとの知見を得た。しかしながら、このような
Ag−Mg合金膜はAg膜よりも残留圧縮応力が大きい
ので硬いが、例えばこのようなAg−Mg合金膜を、基
板ないし下地層上に形成しようとする場合には、これら
の基板ないし下地層との密着性が悪く、剥離しやすいも
のとなってしまい、剥離が生じるとこれらの部分から腐
蝕が進行してしまうために、Ag膜をAg−Mg合金膜
に単純に置換えるのみでは、十分な効果が得られない。
そこで、さらに本発明者らは、鋭意検討を進めた結果、
Ag基体の保護膜としてAg−Mg合金膜を形成し、A
g基体とこのAg−Mg合金膜とで複合構造化すること
で、非常に耐蝕性の良好なものが得られることを見い出
し本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち、上記目的は、Ag基体に対する
保護膜であって、Mgの含有量が1〜10原子%である
Ag−Mg合金からなることを特徴とするAg表面保護
用耐蝕性膜(以下、保護膜と称する。)により達成され
る。なお、本明細書において述べる保護膜におけるMg
の含有量は、その保護膜の層厚全体にわたる平均値を示
すものであり、従って、Ag基体との接合界面から最表
面にわたり漸次Mg濃度が変化するもの、あるいは例え
ば接合界面あるいは最表面などの部分において部分的に
Mg濃度が異なるものであっても、平均として上記含有
量範囲に収まるものであれば、本発明の範囲内に含まれ
る。
保護膜であって、Mgの含有量が1〜10原子%である
Ag−Mg合金からなることを特徴とするAg表面保護
用耐蝕性膜(以下、保護膜と称する。)により達成され
る。なお、本明細書において述べる保護膜におけるMg
の含有量は、その保護膜の層厚全体にわたる平均値を示
すものであり、従って、Ag基体との接合界面から最表
面にわたり漸次Mg濃度が変化するもの、あるいは例え
ば接合界面あるいは最表面などの部分において部分的に
Mg濃度が異なるものであっても、平均として上記含有
量範囲に収まるものであれば、本発明の範囲内に含まれ
る。
【0008】上記目的はまた、Ag基体と、その表面に
形成されたMgの含有量が1〜10原子%であるAg−
Mg合金からなる保護膜とよりなることを特徴とする耐
蝕性複合構造体によっても達成される。本発明の複合構
造体において、Ag−Mg合金からなる保護膜の表層部
が酸化によりMgO層となっているものであることが、
十分な保護効果を得る上で望まれる。
形成されたMgの含有量が1〜10原子%であるAg−
Mg合金からなる保護膜とよりなることを特徴とする耐
蝕性複合構造体によっても達成される。本発明の複合構
造体において、Ag−Mg合金からなる保護膜の表層部
が酸化によりMgO層となっているものであることが、
十分な保護効果を得る上で望まれる。
【0009】本発明の複合構造体において、前記Ag基
体は、代表的には膜状体である。しかしながら、Ag基
体の形状は特に限定されるものではなく、バルク状のも
のなどでもあり得る。本発明の複合構造体においては、
500オングストローム以上の膜厚を有するAg基体上
に50オングストローム以上の膜厚を有する保護膜を形
成してなることが安定した特性を得る上から望まれる。
体は、代表的には膜状体である。しかしながら、Ag基
体の形状は特に限定されるものではなく、バルク状のも
のなどでもあり得る。本発明の複合構造体においては、
500オングストローム以上の膜厚を有するAg基体上
に50オングストローム以上の膜厚を有する保護膜を形
成してなることが安定した特性を得る上から望まれる。
【0010】本発明はまた、上記したような複合構造体
より構成される反射膜である。この反射膜は例えば、光
磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、照明器具、各
種標識等に用いられる。さらに反射膜として用いられる
場合、Ag基体下部にアンダーコートを、および/また
は保護膜上部にオーバーコートを有するものであること
がより耐蝕性の良好な反射膜となるために望ましいもの
である。アンダーコート、オーバーコートとしては合成
樹脂、透明誘電体薄膜などが用いられ得る。
より構成される反射膜である。この反射膜は例えば、光
磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、照明器具、各
種標識等に用いられる。さらに反射膜として用いられる
場合、Ag基体下部にアンダーコートを、および/また
は保護膜上部にオーバーコートを有するものであること
がより耐蝕性の良好な反射膜となるために望ましいもの
である。アンダーコート、オーバーコートとしては合成
樹脂、透明誘電体薄膜などが用いられ得る。
【0011】本発明の反射膜を光磁気記録媒体用として
用いる場合、保護膜がAgに1〜8原子%のMgを含有
させたAg−Mg合金からなるものであることが望まし
い。本発明の反射膜を光記録媒体用として用いる場合、
保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたAg−
Mg合金からなるものであることが望ましい。
用いる場合、保護膜がAgに1〜8原子%のMgを含有
させたAg−Mg合金からなるものであることが望まし
い。本発明の反射膜を光記録媒体用として用いる場合、
保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたAg−
Mg合金からなるものであることが望ましい。
【0012】本発明の反射膜をリフレクタ用として用い
る場合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させ
たAg−Mg合金からなるものであることが望ましい。
なお、このリフレクタとは、反射器、反射鏡、反射板な
どを示す。本発明の反射膜を照明器具用として用いる場
合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたA
g−Mg合金からなることが望ましい。
る場合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させ
たAg−Mg合金からなるものであることが望ましい。
なお、このリフレクタとは、反射器、反射鏡、反射板な
どを示す。本発明の反射膜を照明器具用として用いる場
合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたA
g−Mg合金からなることが望ましい。
【0013】本発明の反射膜を標識用として用いる場
合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたA
g−Mg合金からなることが望ましい。さらに本発明は
上記したような複合構造体より構成されるプラスチック
製品のメッキ膜である。プラスチック製品としては例え
ば家庭で使用される各種製品があり、例えば化粧品容器
等である。
合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを含有させたA
g−Mg合金からなることが望ましい。さらに本発明は
上記したような複合構造体より構成されるプラスチック
製品のメッキ膜である。プラスチック製品としては例え
ば家庭で使用される各種製品があり、例えば化粧品容器
等である。
【0014】
【作用】上記したように本発明のAg表面保護用耐蝕性
膜は、Mgの含有量が1〜10原子%であるAg−Mg
合金からなる。Agに含有させるMgは、Agと近似し
た銀白色の光沢を有する金属であり、銀と同様に展性、
延性に富み容易に箔化する。よって、銀と合金をつくる
のに適した金属である。Mgは常温の空気中で容易に酸
化され安定な酸化物を形成する。このため、Ag−Mg
合金よりなる保護膜においては、酸化処理を施すことに
より、あるいは大気中に曝すことによって、その表層部
においてMgが選択的に酸化されてMgO層を形成し、
その内部ではMgが消費されるためにMg濃度が下が
る。MgOは可視光に対しては透明であり、光は通すが
オゾンやSO2 は遮断することとなるため、Ag基体に
対する有効な保護膜として働くこととなる。またこの表
層部のMgO層より内部の組成はAgに近づくことにな
るため、その反射率はよりAg基体に近づくこととな
る。
膜は、Mgの含有量が1〜10原子%であるAg−Mg
合金からなる。Agに含有させるMgは、Agと近似し
た銀白色の光沢を有する金属であり、銀と同様に展性、
延性に富み容易に箔化する。よって、銀と合金をつくる
のに適した金属である。Mgは常温の空気中で容易に酸
化され安定な酸化物を形成する。このため、Ag−Mg
合金よりなる保護膜においては、酸化処理を施すことに
より、あるいは大気中に曝すことによって、その表層部
においてMgが選択的に酸化されてMgO層を形成し、
その内部ではMgが消費されるためにMg濃度が下が
る。MgOは可視光に対しては透明であり、光は通すが
オゾンやSO2 は遮断することとなるため、Ag基体に
対する有効な保護膜として働くこととなる。またこの表
層部のMgO層より内部の組成はAgに近づくことにな
るため、その反射率はよりAg基体に近づくこととな
る。
【0015】また、Ag基体上に上記したようなAg−
Mg合金よりなる保護膜を形成した場合、Ag基体側へ
とある程度のMg成分の拡散が生じ、組成が連続的に変
化してその界面が明確なものとならないために密着性が
良好であり、例えばAg基体上に反応性スパッタ等によ
りMgO層を形成する場合と比べて剥離が生じにくく高
い保護作用が得られる。
Mg合金よりなる保護膜を形成した場合、Ag基体側へ
とある程度のMg成分の拡散が生じ、組成が連続的に変
化してその界面が明確なものとならないために密着性が
良好であり、例えばAg基体上に反応性スパッタ等によ
りMgO層を形成する場合と比べて剥離が生じにくく高
い保護作用が得られる。
【0016】本発明の耐蝕性複合構造体は、Ag基体
と、その表面に形成された上記したようなAg−Mg合
金からなる保護膜とよりなる。Ag基体が膜状体である
態様においては、このようなAg膜は、基板ないし下地
層上に形成されることとなるが、上記したようなAg−
Mg合金からなる保護膜は基板ないし下地層上に直接形
成されるものでなく、Ag膜を介して形成されるので、
従来Ag膜用の基板ないし下地層として使用されている
材料をそのまま利用して、これらに対して密着性の良好
な複合構造体を形成でき、例えばAg基体(膜)に代え
てAg−Mg合金よりなる基体を用い、Ag−Mg合金
を直接基板ないし下地層上に形成した場合と比較してよ
り安定な構造物とすることができる。
と、その表面に形成された上記したようなAg−Mg合
金からなる保護膜とよりなる。Ag基体が膜状体である
態様においては、このようなAg膜は、基板ないし下地
層上に形成されることとなるが、上記したようなAg−
Mg合金からなる保護膜は基板ないし下地層上に直接形
成されるものでなく、Ag膜を介して形成されるので、
従来Ag膜用の基板ないし下地層として使用されている
材料をそのまま利用して、これらに対して密着性の良好
な複合構造体を形成でき、例えばAg基体(膜)に代え
てAg−Mg合金よりなる基体を用い、Ag−Mg合金
を直接基板ないし下地層上に形成した場合と比較してよ
り安定な構造物とすることができる。
【0017】さらに、前記複合構造体を例えば光磁気記
録媒体用反射膜などの反射膜として使用する態様におい
ては、この反射膜上にはさらに合成樹脂などからなる透
明保護層が設けられることが多くあるが、このような透
明保護層は、Ag等の金属上よりもMgOのような酸化
物上の方が、ボイドや、ピンホール等の欠陥が少なく、
より高密度でかつ密着性の高い膜構造を形成し得るため
に、より保護効果の高いものとなる。
録媒体用反射膜などの反射膜として使用する態様におい
ては、この反射膜上にはさらに合成樹脂などからなる透
明保護層が設けられることが多くあるが、このような透
明保護層は、Ag等の金属上よりもMgOのような酸化
物上の方が、ボイドや、ピンホール等の欠陥が少なく、
より高密度でかつ密着性の高い膜構造を形成し得るため
に、より保護効果の高いものとなる。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施態様に基づきより詳細に
説明する。本発明のAg表面保護用耐蝕性膜は、Mgの
含有量が1〜10原子%であるAg−Mg合金からな
る。この合金を大気中あるいは酸化されやすい雰囲気、
例えば高温、高湿度の雰囲気中に置くと、Agより酸化
されやすいMgが優先的に酸化され、合金表面に透明な
Mg酸化被膜が形成される。このMg酸化被膜は透明で
あるのでAgの銀白色光沢を損なうことがないだけでな
く、Agを前述の大気中のオゾン、硫化物成分から遮断
する有効な保護膜として機能する。そして、このMg酸
化被膜が合金表層部に形成される際に、表層部近傍のM
gが酸化被膜中に取り込まれるため、表層部より内部の
合金組成は純Agに近づく。このため、Mg酸化被膜が
形成されると、合金の反射率は90〜95%と増加し、
純Agの98%に近づく。
説明する。本発明のAg表面保護用耐蝕性膜は、Mgの
含有量が1〜10原子%であるAg−Mg合金からな
る。この合金を大気中あるいは酸化されやすい雰囲気、
例えば高温、高湿度の雰囲気中に置くと、Agより酸化
されやすいMgが優先的に酸化され、合金表面に透明な
Mg酸化被膜が形成される。このMg酸化被膜は透明で
あるのでAgの銀白色光沢を損なうことがないだけでな
く、Agを前述の大気中のオゾン、硫化物成分から遮断
する有効な保護膜として機能する。そして、このMg酸
化被膜が合金表層部に形成される際に、表層部近傍のM
gが酸化被膜中に取り込まれるため、表層部より内部の
合金組成は純Agに近づく。このため、Mg酸化被膜が
形成されると、合金の反射率は90〜95%と増加し、
純Agの98%に近づく。
【0019】この合金のMg濃度を1〜10原子%と限
定したのは、この範囲未満ではMgの量が酸化膜形成に
よる十分な保護作用を発揮し得ず、一方この範囲を越え
ると表層部のMgが強固なAg−Mg金属間化合物を形
成していると考えられるので、Mgの酸化被膜の形成が
困難となるからである。
定したのは、この範囲未満ではMgの量が酸化膜形成に
よる十分な保護作用を発揮し得ず、一方この範囲を越え
ると表層部のMgが強固なAg−Mg金属間化合物を形
成していると考えられるので、Mgの酸化被膜の形成が
困難となるからである。
【0020】なお、このAg−Mg合金保護膜におい
て、Mg濃度は膜厚全体を通じてほぼ均一なものとする
ことも、あるいはAg基体との接合界面から最表面に向
って漸次濃度が増加するといったように、膜厚方向に濃
度勾配を有するものとすることも可能である。
て、Mg濃度は膜厚全体を通じてほぼ均一なものとする
ことも、あるいはAg基体との接合界面から最表面に向
って漸次濃度が増加するといったように、膜厚方向に濃
度勾配を有するものとすることも可能である。
【0021】また、このAg−Mg合金保護膜の表層部
に形成されるMg酸化被膜は、大気中に放置することに
より形成される自然酸化膜であっても、あるいは高温、
高湿度、例えば80℃、85%RH雰囲気中に10時間
程度といった処理条件下で積極的に酸化処理を行なうこ
とによって形成される酸化膜であってもよい。
に形成されるMg酸化被膜は、大気中に放置することに
より形成される自然酸化膜であっても、あるいは高温、
高湿度、例えば80℃、85%RH雰囲気中に10時間
程度といった処理条件下で積極的に酸化処理を行なうこ
とによって形成される酸化膜であってもよい。
【0022】このようなAg−Mg合金からなる保護膜
を適用するAg基体の形状としては、特に限定されず、
バルク状のものであってもあるいは膜状のものであって
もよいが、代表的には各種の反射膜あるいはメッキ膜に
おけるような膜状のものである。
を適用するAg基体の形状としては、特に限定されず、
バルク状のものであってもあるいは膜状のものであって
もよいが、代表的には各種の反射膜あるいはメッキ膜に
おけるような膜状のものである。
【0023】本発明の複合構造体は、Ag基体の上に前
記のごときAg−Mg合金からなる保護膜を形成してな
る。このような複合構造体の具体例としては、例えば、
光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、照明器具、
各種標識等における反射膜、あるいはプラスチック製品
のメッキ膜などが挙げられる。このような複合構造体に
おいては、一般に、500オングストローム、より好ま
しくは1000オングストローム以上の厚さを有するA
g基体上に50オングストローム以上の膜厚を有する保
護膜を形成してなることが望まれる。すなわち、Ag基
体の厚さが500オングストローム未満では所望の光
沢、反射率などの特性が得られない虞れが多い。なお、
保護膜の厚さのより好ましい範囲としては、後述するよ
うにその用途により若干の変動がある。
記のごときAg−Mg合金からなる保護膜を形成してな
る。このような複合構造体の具体例としては、例えば、
光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、照明器具、
各種標識等における反射膜、あるいはプラスチック製品
のメッキ膜などが挙げられる。このような複合構造体に
おいては、一般に、500オングストローム、より好ま
しくは1000オングストローム以上の厚さを有するA
g基体上に50オングストローム以上の膜厚を有する保
護膜を形成してなることが望まれる。すなわち、Ag基
体の厚さが500オングストローム未満では所望の光
沢、反射率などの特性が得られない虞れが多い。なお、
保護膜の厚さのより好ましい範囲としては、後述するよ
うにその用途により若干の変動がある。
【0024】さらに本発明の反射膜を、いわゆる大容量
メモリとしての光磁気ディスク等の光磁気記録媒体用と
して用いる場合、保護膜がAgに1〜8原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるものであることが望
ましい。すなわち、この組成範囲に限定した理由は、熱
伝導率がAgのそれの2/3以下であり、かつ反射率が
80%以上であることが必要であるからである。
メモリとしての光磁気ディスク等の光磁気記録媒体用と
して用いる場合、保護膜がAgに1〜8原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるものであることが望
ましい。すなわち、この組成範囲に限定した理由は、熱
伝導率がAgのそれの2/3以下であり、かつ反射率が
80%以上であることが必要であるからである。
【0025】図1および図2は本発明の複合構造体を反
射膜として光磁気ディスクに使用した実施例を示してい
る。これらの図に示すように、光磁気ディスク11は、
ポリカーボネート(PC)基板12に保護層13を介し
て記録層14を積層し、さらに保護層15を介して反射
層16を積重ねている。この反射層16を、本発明に係
るAg膜16aとその上部に形成されたAg−Mg合金
膜16bとからなる複合構造体により形成している。A
g−Mg合金膜16bはAgに1〜8原子%のMgを含
有させた合金膜で形成され、その厚さは50オングスト
ローム以上が適当である。またAg膜の厚さは500オ
ングストローム以上が適当である。Ag膜厚と、Ag−
Mg膜厚の合計が500〜1000オングストロームで
あることが望ましい。なお、保護層にはSiAlON、
Si3 N4 などが、記録層としてはTbFeCoまたは
TbFeCoCrなどがそれぞれ使用される。この記録
層の厚さは200〜250オングストロームのものが用
いられる。図2(A)は3.5インチの光磁気ディス
ク、図2(B)は5.25インチの光磁気ディスクの構
造を示している。本発明に係る反射膜はこれらのいずれ
についても用いることができる。
射膜として光磁気ディスクに使用した実施例を示してい
る。これらの図に示すように、光磁気ディスク11は、
ポリカーボネート(PC)基板12に保護層13を介し
て記録層14を積層し、さらに保護層15を介して反射
層16を積重ねている。この反射層16を、本発明に係
るAg膜16aとその上部に形成されたAg−Mg合金
膜16bとからなる複合構造体により形成している。A
g−Mg合金膜16bはAgに1〜8原子%のMgを含
有させた合金膜で形成され、その厚さは50オングスト
ローム以上が適当である。またAg膜の厚さは500オ
ングストローム以上が適当である。Ag膜厚と、Ag−
Mg膜厚の合計が500〜1000オングストロームで
あることが望ましい。なお、保護層にはSiAlON、
Si3 N4 などが、記録層としてはTbFeCoまたは
TbFeCoCrなどがそれぞれ使用される。この記録
層の厚さは200〜250オングストロームのものが用
いられる。図2(A)は3.5インチの光磁気ディス
ク、図2(B)は5.25インチの光磁気ディスクの構
造を示している。本発明に係る反射膜はこれらのいずれ
についても用いることができる。
【0026】本発明の反射膜を、例えば光ディスク(C
D)用反射膜、光カード用反射膜などの光記録媒体用反
射膜として使用する場合、保護膜がAgに1〜5原子%
のMgを含有させたAg−Mg合金からなるものである
ことが望ましい。すなわち、反射率が90%以上である
ことが必要であるからである。
D)用反射膜、光カード用反射膜などの光記録媒体用反
射膜として使用する場合、保護膜がAgに1〜5原子%
のMgを含有させたAg−Mg合金からなるものである
ことが望ましい。すなわち、反射率が90%以上である
ことが必要であるからである。
【0027】図3は光ディスクについて本発明に係る反
射膜を適用した実施例を示す。透明プラスチックの基板
22に反射膜21を積層し、保護膜23で被覆してい
る。この反射膜21を、本発明に係るAg膜とその上部
に形成されたAg−Mg合金膜とからなる複合構造体に
より形成している。Ag−Mg合金膜はAgに1〜5原
子%のMgを含有させた合金膜で形成され、その厚さは
50オングストローム以上が適当である。またAg膜の
厚さは500オングストローム以上が適当である。保護
層はSiAlON、Si3 N4 などで形成される。
射膜を適用した実施例を示す。透明プラスチックの基板
22に反射膜21を積層し、保護膜23で被覆してい
る。この反射膜21を、本発明に係るAg膜とその上部
に形成されたAg−Mg合金膜とからなる複合構造体に
より形成している。Ag−Mg合金膜はAgに1〜5原
子%のMgを含有させた合金膜で形成され、その厚さは
50オングストローム以上が適当である。またAg膜の
厚さは500オングストローム以上が適当である。保護
層はSiAlON、Si3 N4 などで形成される。
【0028】さらに、本発明の反射膜をリフレクタ用と
して用いる場合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるものであることが望
ましい。すなわち、反射率が90%以上であることが望
ましいからである。図4はリフレクタの1つである鏡
(家庭用、自動車用等)について本発明に係る反射膜を
適用した実施例を示す。この鏡では、平坦なガラス板3
1に反射膜32を被着し、さらにその上部を樹脂コーテ
ィング層33で保護している。反射膜32は、厚さ50
0オングストローム以上のAg膜とその上部に形成され
た厚さ50オングストローム以上のAgに1〜5原子%
のMgを含有させたAg−Mg合金とから形成されてな
るものである。Ag膜厚とAg−Mg合金膜厚の合計が
500〜1000オングストロームであることが望まし
い。この組成範囲内であれば、従来のAlまたはCr製
の反射膜を有する鏡と同等の反射率を維持しつつ、耐蝕
性を一段と優れたものとすることができる。
して用いる場合、保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるものであることが望
ましい。すなわち、反射率が90%以上であることが望
ましいからである。図4はリフレクタの1つである鏡
(家庭用、自動車用等)について本発明に係る反射膜を
適用した実施例を示す。この鏡では、平坦なガラス板3
1に反射膜32を被着し、さらにその上部を樹脂コーテ
ィング層33で保護している。反射膜32は、厚さ50
0オングストローム以上のAg膜とその上部に形成され
た厚さ50オングストローム以上のAgに1〜5原子%
のMgを含有させたAg−Mg合金とから形成されてな
るものである。Ag膜厚とAg−Mg合金膜厚の合計が
500〜1000オングストロームであることが望まし
い。この組成範囲内であれば、従来のAlまたはCr製
の反射膜を有する鏡と同等の反射率を維持しつつ、耐蝕
性を一段と優れたものとすることができる。
【0029】また、本発明の反射膜を照明器具用のある
いは標識用の反射膜として用いる場合、保護膜がAgに
1〜5原子%のMgを含有させたAg−Mg合金からな
るものであることが望ましい。すなわち、反射率が90
%以上であることが望ましいからである。
いは標識用の反射膜として用いる場合、保護膜がAgに
1〜5原子%のMgを含有させたAg−Mg合金からな
るものであることが望ましい。すなわち、反射率が90
%以上であることが望ましいからである。
【0030】図5は本発明に係る反射膜を使用した照明
器具の断面構造を示す。41がSG製の原板で、これに
粘着剤層42、密着コート層43を介して、厚さ500
オングストローム以上のAg膜とその上部に形成された
厚さ50オングストローム以上のAgに1〜5原子%の
Mgを含有させたAg−Mg合金とから形成されてなる
反射層44が積層されている。Ag膜厚とAg−Mg合
金膜厚の合計が1000〜2000オングストロームで
あることが望ましい。45はトップコート層である。な
お、アクリル樹脂にこのようなAg膜およびAg−Mg
合金膜からなる反射層を被着してもよい。
器具の断面構造を示す。41がSG製の原板で、これに
粘着剤層42、密着コート層43を介して、厚さ500
オングストローム以上のAg膜とその上部に形成された
厚さ50オングストローム以上のAgに1〜5原子%の
Mgを含有させたAg−Mg合金とから形成されてなる
反射層44が積層されている。Ag膜厚とAg−Mg合
金膜厚の合計が1000〜2000オングストロームで
あることが望ましい。45はトップコート層である。な
お、アクリル樹脂にこのようなAg膜およびAg−Mg
合金膜からなる反射層を被着してもよい。
【0031】さらに、本発明の複合構造体を例えば化粧
品容器、アクセサリ等のプラスチック製品のメッキ膜と
して用いる場合には、保護膜がAgに1〜5原子%のM
gを含有させたAg−Mg合金からなるものであること
が望ましい。すなわち、反射率が90%以上であること
が望ましいからである。
品容器、アクセサリ等のプラスチック製品のメッキ膜と
して用いる場合には、保護膜がAgに1〜5原子%のM
gを含有させたAg−Mg合金からなるものであること
が望ましい。すなわち、反射率が90%以上であること
が望ましいからである。
【0032】図6は家庭用プラスチック製品の一例とし
ての化粧品容器にメッキ膜として本発明に係る複合構造
物を適用した例を示している。容器本体55および蓋5
4の各表面にメッキ膜52を施している。その構造は、
円筒状のプラスチック製基体51に、メッキ膜52のコ
ーティングしたものである。このメッキ膜52は透明な
樹脂層53でサンドイッチ状にはさまれている。このメ
ッキ膜は厚さ500オングストローム以上のAg膜52
aとその外周側表面に形成された厚さ50オングストロ
ーム以上のAgに1〜5原子%のMgを含有させたAg
−Mg合金52bとから形成されているものである。A
g膜厚とAg−Mg合金膜厚の合計が1000〜100
00オングストロームであることが望ましい。
ての化粧品容器にメッキ膜として本発明に係る複合構造
物を適用した例を示している。容器本体55および蓋5
4の各表面にメッキ膜52を施している。その構造は、
円筒状のプラスチック製基体51に、メッキ膜52のコ
ーティングしたものである。このメッキ膜52は透明な
樹脂層53でサンドイッチ状にはさまれている。このメ
ッキ膜は厚さ500オングストローム以上のAg膜52
aとその外周側表面に形成された厚さ50オングストロ
ーム以上のAgに1〜5原子%のMgを含有させたAg
−Mg合金52bとから形成されているものである。A
g膜厚とAg−Mg合金膜厚の合計が1000〜100
00オングストロームであることが望ましい。
【0033】次に、本発明に係るAg−Mg合金からな
る保護膜の形成方法について説明する。前記したような
Ag基体の上にAg−Mg合金からなる保護膜を形成す
るには、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法などにより行うことが可能である。このうち
特にスパッタリング法、さらにはマグネトロンスパッタ
リング法が好適である。これは合金組成をスパッタリン
グの際にターゲットに印加される高周波電力値の増減、
被着体の位置の移動等によって容易に行ない得ること、
Ag基体に対する膜の付着力が大きいこと、大面積の基
板に組成、厚さの均一な膜を形成しやすいことなどの特
色が、他の方法よりも優れているからである。例えば上
記光磁気ディスク、CD、照明器具用反射板等に適用さ
れる場合には、主としてこのマグネトロンスパッタリン
グで反射膜を作製する。なお、家庭用プラスチック製品
のメッキ膜、鏡の反射膜等については、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法が用いられることもある。
る保護膜の形成方法について説明する。前記したような
Ag基体の上にAg−Mg合金からなる保護膜を形成す
るには、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法などにより行うことが可能である。このうち
特にスパッタリング法、さらにはマグネトロンスパッタ
リング法が好適である。これは合金組成をスパッタリン
グの際にターゲットに印加される高周波電力値の増減、
被着体の位置の移動等によって容易に行ない得ること、
Ag基体に対する膜の付着力が大きいこと、大面積の基
板に組成、厚さの均一な膜を形成しやすいことなどの特
色が、他の方法よりも優れているからである。例えば上
記光磁気ディスク、CD、照明器具用反射板等に適用さ
れる場合には、主としてこのマグネトロンスパッタリン
グで反射膜を作製する。なお、家庭用プラスチック製品
のメッキ膜、鏡の反射膜等については、真空蒸着法、イ
オンプレーティング法が用いられることもある。
【0034】また、Ag基体が膜状のものである態様に
おいては、Ag基体とAg−Mg保護膜を、スパッタリ
ング法によって途中で大気に曝すことなく連続して形成
することができる。スパッタリング法によるAg−Mg
保護膜の形成は、AgターゲットとMgターゲットとを
用いたコスパッタ、またはAg−Mg合金ターゲットを
用いたスパッタのいずれによっても行なうことができ
る。
おいては、Ag基体とAg−Mg保護膜を、スパッタリ
ング法によって途中で大気に曝すことなく連続して形成
することができる。スパッタリング法によるAg−Mg
保護膜の形成は、AgターゲットとMgターゲットとを
用いたコスパッタ、またはAg−Mg合金ターゲットを
用いたスパッタのいずれによっても行なうことができ
る。
【0035】以下、これらのスパッタリング法によるA
g基体とAg−Mg合金保護膜の形成の一例を説明す
る。AgターゲットとMgターゲットとを用いたコスパ
ッタは次のようにして行なわれる。図10に示すよう
に、直径5インチのAgターゲット61と直径5インチ
のMgターゲット62と直径4インチの基板ホルダ63
とを、チャンバー中心からの距離140mmに配置す
る。このとき、ターゲットに対する基板の高さは70m
mとなるように配置する。図で、角度ηは、120°で
ある。Agターゲット、Mgターゲットのいずれも、片
方のターゲットからスパッタされた粒子が横方向に飛散
して、もう片方のターゲット表面を汚染するのを防ぐた
め、図7に示すように高さ50mmの円筒状シールド6
4が施されている。
g基体とAg−Mg合金保護膜の形成の一例を説明す
る。AgターゲットとMgターゲットとを用いたコスパ
ッタは次のようにして行なわれる。図10に示すよう
に、直径5インチのAgターゲット61と直径5インチ
のMgターゲット62と直径4インチの基板ホルダ63
とを、チャンバー中心からの距離140mmに配置す
る。このとき、ターゲットに対する基板の高さは70m
mとなるように配置する。図で、角度ηは、120°で
ある。Agターゲット、Mgターゲットのいずれも、片
方のターゲットからスパッタされた粒子が横方向に飛散
して、もう片方のターゲット表面を汚染するのを防ぐた
め、図7に示すように高さ50mmの円筒状シールド6
4が施されている。
【0036】スパッタリングパワーは、Agターゲット
投入電力がRF200W、Mgターゲット投入電力がR
F200Wである。また、基板ホルダは、10rpmで
回転させる。まず、図7のように、基板65をAgター
ゲットの上部にセットする。このとき図10におけるθ
=0°となる。また、Mgターゲットの上部には、ター
ゲットからの高さ60mmのところに、直径160mm
のシャッター66がセットされている。
投入電力がRF200W、Mgターゲット投入電力がR
F200Wである。また、基板ホルダは、10rpmで
回転させる。まず、図7のように、基板65をAgター
ゲットの上部にセットする。このとき図10におけるθ
=0°となる。また、Mgターゲットの上部には、ター
ゲットからの高さ60mmのところに、直径160mm
のシャッター66がセットされている。
【0037】到達真空度5×10-7Torrに達したと
ころで、Arガスを導入し1×10-3Torrとし、ス
パッタリングを開始する。基板温度を室温25℃±3℃
で、Agを所定膜厚例えば1000オングストロームだ
け成膜する。続いて図8のように基板をAgターゲット
とMgターゲットの間にセットし直す。このとき図10
におけるθ=0〜40°である。同時にMgターゲット
上にあったシャッターも取除く。以上のように、基板位
置とシャッターの条件を同時に変更して、続けてAg−
Mg膜を所定膜厚、例えば50オングストロームだけ成
膜する。Ag−Mg合金膜組成は例えばθ=20°で
2.4原子%Mgである。なお、Ag−Mg合金膜を形
成後酸化処理を施す場合には、形成後基板を放置するこ
となく直ちに高温高湿中か高温高圧高湿中に保持して行
なう、または成膜後、基板を大気に曝すことなく、スパ
ッタチャンバ内でのO2 中加熱によって行う。
ころで、Arガスを導入し1×10-3Torrとし、ス
パッタリングを開始する。基板温度を室温25℃±3℃
で、Agを所定膜厚例えば1000オングストロームだ
け成膜する。続いて図8のように基板をAgターゲット
とMgターゲットの間にセットし直す。このとき図10
におけるθ=0〜40°である。同時にMgターゲット
上にあったシャッターも取除く。以上のように、基板位
置とシャッターの条件を同時に変更して、続けてAg−
Mg膜を所定膜厚、例えば50オングストロームだけ成
膜する。Ag−Mg合金膜組成は例えばθ=20°で
2.4原子%Mgである。なお、Ag−Mg合金膜を形
成後酸化処理を施す場合には、形成後基板を放置するこ
となく直ちに高温高湿中か高温高圧高湿中に保持して行
なう、または成膜後、基板を大気に曝すことなく、スパ
ッタチャンバ内でのO2 中加熱によって行う。
【0038】また、Ag−Mg合金ターゲットを用いた
スパッタは、次のようにして行なわれる。図11に示す
ように、直径5インチのAgターゲット61と直径5イ
ンチのAg−Mgターゲット[Mg:2〜20原子%]
67と直径4インチの基板ホルダ63とを、チャンバー
中心からの距離140mmに配置する。このとき、ター
ゲットに対する基板の高さは70mmとなるように配置
する。図で、角度ηは、120°である。Agターゲッ
ト、Ag−Mgターゲットのいずれも、片方のターゲッ
トからスパッタされた粒子が横方向に飛散して、もう片
方のターゲット表面を汚染するのを防ぐため、図7に示
すように高さ50mmの円筒状シールド64が施されて
いる。
スパッタは、次のようにして行なわれる。図11に示す
ように、直径5インチのAgターゲット61と直径5イ
ンチのAg−Mgターゲット[Mg:2〜20原子%]
67と直径4インチの基板ホルダ63とを、チャンバー
中心からの距離140mmに配置する。このとき、ター
ゲットに対する基板の高さは70mmとなるように配置
する。図で、角度ηは、120°である。Agターゲッ
ト、Ag−Mgターゲットのいずれも、片方のターゲッ
トからスパッタされた粒子が横方向に飛散して、もう片
方のターゲット表面を汚染するのを防ぐため、図7に示
すように高さ50mmの円筒状シールド64が施されて
いる。
【0039】スパッタリングパワーは、Agターゲット
投入電力がRF200W、Ag−Mgターゲット投入電
力がRF200Wである。また、基板ホルダは、10r
pmで回転させる。まず図7のように基板65をAgタ
ーゲットの上部にセットする。このとき図10における
θ=0°となる。また、Mgターゲットの上部には、タ
ーゲットからの高さ60mmのところに、直径160m
mのシャッター66がセットされている。
投入電力がRF200W、Ag−Mgターゲット投入電
力がRF200Wである。また、基板ホルダは、10r
pmで回転させる。まず図7のように基板65をAgタ
ーゲットの上部にセットする。このとき図10における
θ=0°となる。また、Mgターゲットの上部には、タ
ーゲットからの高さ60mmのところに、直径160m
mのシャッター66がセットされている。
【0040】到達真空度5×10-7Torrに達したと
ころで、Arガスを導入し1×10-3Torrとし、ス
パッタリングを開始する。基板温度を室温25℃±3
℃)で、Agを所定膜厚例えば1000オングストロー
ムだけ成膜する。続いて図9のように基板をAg−Mg
ターゲットの上部にセットし直す。このとき図10にお
けるθ=120°である。同時にAg−Mgターゲット
上にあったシャッターを取除き、Agターゲット上に移
動させる。以上のように、基板位置とシャッターの条件
を同時に変更して、続けてAg−Mg膜を所定膜厚、例
えば50オングストロームだけ成膜する。得られたAg
−Mg合金膜組成は例えばターゲット組成が5.0原子
%Mgで2.4原子%Mgである。なお、Ag−Mg合
金膜を形成後酸化処理を施す場合には、形成後基板を放
置することなく直ちに高温高湿中か高温高圧高湿中に保
持して行なう、または成膜後基板を大気に曝すことな
く、スパッタチャンバ内でのO2 中加熱によって行う。
ころで、Arガスを導入し1×10-3Torrとし、ス
パッタリングを開始する。基板温度を室温25℃±3
℃)で、Agを所定膜厚例えば1000オングストロー
ムだけ成膜する。続いて図9のように基板をAg−Mg
ターゲットの上部にセットし直す。このとき図10にお
けるθ=120°である。同時にAg−Mgターゲット
上にあったシャッターを取除き、Agターゲット上に移
動させる。以上のように、基板位置とシャッターの条件
を同時に変更して、続けてAg−Mg膜を所定膜厚、例
えば50オングストロームだけ成膜する。得られたAg
−Mg合金膜組成は例えばターゲット組成が5.0原子
%Mgで2.4原子%Mgである。なお、Ag−Mg合
金膜を形成後酸化処理を施す場合には、形成後基板を放
置することなく直ちに高温高湿中か高温高圧高湿中に保
持して行なう、または成膜後基板を大気に曝すことな
く、スパッタチャンバ内でのO2 中加熱によって行う。
【0041】以上のようなスパッタリング法により、実
際にガラス基板(コーニング社製、7059F)上に、
順に膜厚1000オングストロームのAg膜、膜厚10
00オングストロームまたは、50オングストロームの
Ag−Mg合金膜(Mg含有量12.0原子%および
2.4原子%)を形成して試験片を作製し、耐蝕試験を
行なった。耐蝕試験は温度80℃、湿度85%RHに保
たれた恒温恒湿容器中に10時間保持し、時間の経過に
伴なう反射率の変化を調べた。反射率測定は分光光度計
により行なった。なお比較対照として同様の基板上に膜
厚1000オングストロームのAg膜のみを形成したも
の、基板上に膜厚1000オングストロームのAg−M
g合金膜(Mg含有量2.4原子%)のみを形成したも
のを用意した。
際にガラス基板(コーニング社製、7059F)上に、
順に膜厚1000オングストロームのAg膜、膜厚10
00オングストロームまたは、50オングストロームの
Ag−Mg合金膜(Mg含有量12.0原子%および
2.4原子%)を形成して試験片を作製し、耐蝕試験を
行なった。耐蝕試験は温度80℃、湿度85%RHに保
たれた恒温恒湿容器中に10時間保持し、時間の経過に
伴なう反射率の変化を調べた。反射率測定は分光光度計
により行なった。なお比較対照として同様の基板上に膜
厚1000オングストロームのAg膜のみを形成したも
の、基板上に膜厚1000オングストロームのAg−M
g合金膜(Mg含有量2.4原子%)のみを形成したも
のを用意した。
【0042】得られた結果を表1に示す。
【0043】
【表1】
【0044】表1に示すように、Ag膜上に50オング
ストロームのMg含有量2.4原子%のAg−Mg合金
膜形成してなる本発明に係る試験片は、耐蝕性が良好
で、苛酷な条件下においても反射率の低下がほとんど見
られなかった。さらに、ガラス基板上に、順に膜厚1ミ
クロンアンダーコート、膜厚500オングストロームの
Ag膜、膜厚500オングストロームのAg−Mg合金
膜(Mg含有量2.4原子%)、膜厚1ミクロンオーバ
ーコートを形成して試験片を作製し、塩水噴霧による促
進腐蝕試験を行なった。試験は40g/リットルの濃度
の塩化ナトリウム水溶液(pH6.5〜7.2)を試験
片に対し、35℃±2℃にて、8時間噴霧し、10時間
間隔を置いた後、再度噴霧を行なうというものを3サイ
クル繰り返し、全サイクル終了後に試験片の状態を目視
により観察した。
ストロームのMg含有量2.4原子%のAg−Mg合金
膜形成してなる本発明に係る試験片は、耐蝕性が良好
で、苛酷な条件下においても反射率の低下がほとんど見
られなかった。さらに、ガラス基板上に、順に膜厚1ミ
クロンアンダーコート、膜厚500オングストロームの
Ag膜、膜厚500オングストロームのAg−Mg合金
膜(Mg含有量2.4原子%)、膜厚1ミクロンオーバ
ーコートを形成して試験片を作製し、塩水噴霧による促
進腐蝕試験を行なった。試験は40g/リットルの濃度
の塩化ナトリウム水溶液(pH6.5〜7.2)を試験
片に対し、35℃±2℃にて、8時間噴霧し、10時間
間隔を置いた後、再度噴霧を行なうというものを3サイ
クル繰り返し、全サイクル終了後に試験片の状態を目視
により観察した。
【0045】その結果、上記試験片においては、試験前
とその光沢等の度合が何ら変化していないものであっ
た。これに対し、同様の基板上に順に膜厚1ミクロンア
ンダーコート、膜厚1000オングストロームのAg
膜、膜厚1ミクロンオーバーコートを形成してなる比較
対照においては、試験後においてAg膜全体が白濁して
おり腐蝕されていることがあきらかであった。
とその光沢等の度合が何ら変化していないものであっ
た。これに対し、同様の基板上に順に膜厚1ミクロンア
ンダーコート、膜厚1000オングストロームのAg
膜、膜厚1ミクロンオーバーコートを形成してなる比較
対照においては、試験後においてAg膜全体が白濁して
おり腐蝕されていることがあきらかであった。
【0046】このことは、Ag−Mg合金表面に形成さ
れる自然酸化膜は、オーバーコート材料との相性がよ
く、Ag膜上にオーバーコートを形成する場合と比べ
て、ピンホール等の欠陥ができにくく、保護効果の高い
オーバーコートを形成することができる、すなわち耐蝕
性を向上させることができることを示唆する。従って、
Ag−Mg合金表面を強制的に酸化させることも耐蝕性
を向上させる上から有効であると考えられる。
れる自然酸化膜は、オーバーコート材料との相性がよ
く、Ag膜上にオーバーコートを形成する場合と比べ
て、ピンホール等の欠陥ができにくく、保護効果の高い
オーバーコートを形成することができる、すなわち耐蝕
性を向上させることができることを示唆する。従って、
Ag−Mg合金表面を強制的に酸化させることも耐蝕性
を向上させる上から有効であると考えられる。
【0047】
【発明の効果】以上述べたように、本発明は、Mg含有
量が1〜10原子%であるAg−Mg合金よりなる保護
膜であり、その表層部においてMg酸化被膜が形成され
ることにより、大気中のオゾン、硫化物によるAg基体
の腐蝕を阻止する有効な保護膜として働くこととなるも
のであり、またこの保護膜を形成することによるAgの
反射率の低下は実質的には生じない。さらに、Ag基体
と前記したようなAg−Mg合金よりなる保護膜との密
着性は高く、かつこのようにAg基体とAg−Mg合金
保護膜とで複合構造化することで、従来Ag膜用の基板
ないし下地層として使用されている材料をそのまま利用
して、これらに対して密着性の良好なものとすることが
でき、例えば、光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレク
タ、照明器具、標識用などの反射膜として、あるいはプ
ラスチック製品のメッキ膜として、このような複合構造
物を好適に使用することができるものである。
量が1〜10原子%であるAg−Mg合金よりなる保護
膜であり、その表層部においてMg酸化被膜が形成され
ることにより、大気中のオゾン、硫化物によるAg基体
の腐蝕を阻止する有効な保護膜として働くこととなるも
のであり、またこの保護膜を形成することによるAgの
反射率の低下は実質的には生じない。さらに、Ag基体
と前記したようなAg−Mg合金よりなる保護膜との密
着性は高く、かつこのようにAg基体とAg−Mg合金
保護膜とで複合構造化することで、従来Ag膜用の基板
ないし下地層として使用されている材料をそのまま利用
して、これらに対して密着性の良好なものとすることが
でき、例えば、光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレク
タ、照明器具、標識用などの反射膜として、あるいはプ
ラスチック製品のメッキ膜として、このような複合構造
物を好適に使用することができるものである。
【0048】さらに、この反射膜上にはさらに合成樹脂
などからなる透明保護層を設けた場合、このような透明
保護層は、Ag等の金属上よりもMgOのような酸化物
上の方が、ボイドや、ピンホール等の欠陥が少なく、よ
り高密度でかつ密着性の高い膜構造を形成し得るため
に、より保護効果の高いものとなる。
などからなる透明保護層を設けた場合、このような透明
保護層は、Ag等の金属上よりもMgOのような酸化物
上の方が、ボイドや、ピンホール等の欠陥が少なく、よ
り高密度でかつ密着性の高い膜構造を形成し得るため
に、より保護効果の高いものとなる。
【図1】図1は本発明の実施例に係る光磁気ディスクの
構造を示す斜視図である。
構造を示す斜視図である。
【図2】図2(A),(B)は本発明の実施例に係る光
磁気ディスクの構造を示す断面図である。
磁気ディスクの構造を示す断面図である。
【図3】図3は本発明の実施例に係るコンパクトディス
クの構造を示す斜視図である。
クの構造を示す斜視図である。
【図4】図4は本発明の実施例に係る鏡の構造を示す斜
視図である。
視図である。
【図5】図5は本発明の実施例に係る照明器具の構造を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図6】図6(A),(B)は本発明の実施例に係る化
粧品容器の構造を示す斜視図および断面図である。
粧品容器の構造を示す斜視図および断面図である。
【図7】図7は本発明の実施例に係るスパッタ装置の使
用状態を示す模式図である。
用状態を示す模式図である。
【図8】図8は本発明の実施例に係るスパッタ装置の別
の使用状態を示す模式図である。
の使用状態を示す模式図である。
【図9】図9は本発明の実施例に係るスパッタ装置のさ
らに別の使用状態を示す模式図である。
らに別の使用状態を示す模式図である。
【図10】図10(A),(B)は本発明の実施例に係
るスパッタ装置の構成を示す模式図である。
るスパッタ装置の構成を示す模式図である。
【図11】図11(A),(B)は本発明の実施例に係
るスパッタ装置の別の構成を示す模式図である。
るスパッタ装置の別の構成を示す模式図である。
16a…Ag膜、16b…Ag−Mg合金膜、 16…光磁気ディスクの反射層、 21…光ディスクの反射膜、 32…鏡の反射層、 44…照明器具の反射層、 52…化粧品容器のメッキ膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 15/01 G11B 7/24 535 G11B 11/10 500
Claims (14)
- 【請求項1】 Ag基体に対する保護膜であって、Mg
の含有量が1〜10原子%であるAg−Mg合金からな
ることを特徴とするAg表面保護用耐蝕性膜。 - 【請求項2】 Ag基体と、その表面に形成されたMg
の含有量が1〜10原子%であるAg−Mg合金からな
る保護膜とよりなることを特徴とする耐蝕性複合構造
体。 - 【請求項3】 Ag−Mg合金からなる保護膜の表層部
が酸化によりMgO層となっている請求項2に記載の耐
蝕性複合構造体。 - 【請求項4】 Ag基体が膜状体である請求項2または
3に記載の耐蝕性複合構造体。 - 【請求項5】 500オングストローム以上の膜厚を有
するAg基体上に50オングストローム以上の膜厚を有
する保護膜を形成してなることを特徴とする請求項4に
記載の耐蝕性複合構造体。 - 【請求項6】 請求項3〜5のいずれかに記載の複合構
造体より構成される反射膜。 - 【請求項7】 Ag基体下部にアンダーコートを、およ
び/または保護膜上部にオーバーコートを有する請求項
6に記載の反射膜。 - 【請求項8】 保護膜の膜厚が50オングストローム以
上である請求項6または7に記載の反射膜。 - 【請求項9】 保護膜がAgに1〜8原子%のMgを含
有させたAg−Mg合金からなる光磁気記録媒体用とし
て用いられる請求項6〜8のいずれかに記載の反射膜。 - 【請求項10】 保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるものである光記録媒
体用として用いられる請求項6〜8のいずれかに記載の
反射膜。 - 【請求項11】 保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなるリフレクタ用として
用いられる請求項6〜8のいずれかに記載の反射膜。 - 【請求項12】 保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなる照明器具用として用
いられる請求項6〜8のいずれかに記載の反射膜。 - 【請求項13】 保護膜がAgに1〜5原子%のMgを
含有させたAg−Mg合金からなる標識用として用いら
れる請求項6〜8のいずれかに記載の反射膜。 - 【請求項14】 請求項3〜5のいずれかに記載の複合
構造体より構成されるプラスチック製品のメッキ膜。
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JP06203875A JP3129096B2 (ja) | 1994-08-29 | 1994-08-29 | Ag表面保護用耐蝕性膜および耐蝕性複合構造体 |
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US08/598,397 US5738947A (en) | 1994-08-29 | 1996-02-08 | Corrosion-resistant film for protecting surfaces of Ag and corrosion-resist composite structures |
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Cited By (1)
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EP1273558A1 (de) * | 2001-07-02 | 2003-01-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden Schichtsystems für transparente Substrate und danach hergestelltes Schichtsystem |
US6660136B2 (en) | 2002-03-27 | 2003-12-09 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a non-volatile resistance variable device and method of forming a metal layer comprising silver and tungsten |
US7105220B2 (en) * | 2003-01-29 | 2006-09-12 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated article having a sealed layered edge to impede corrosion of a coating at the edge and method of making same |
DE102004059876B4 (de) * | 2004-12-10 | 2010-01-28 | W.C. Heraeus Gmbh | Verwendung eines Sputtertargets aus einer Silberlegierung sowie Glassubstrat mit Wärmedämmschicht |
JP4575211B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2010-11-04 | 株式会社東芝 | 記憶媒体、再生方法及び記録方法 |
JP2006303092A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 発光素子搭載用パッケージ |
JP2006303069A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 発光素子搭載用パッケージ |
FR2893632B1 (fr) * | 2005-11-18 | 2008-01-25 | Commissariat Energie Atomique | Revetement a base d'argent resistant a la sulfuration, procede de depot et utilisation |
JP2011238819A (ja) * | 2010-05-12 | 2011-11-24 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置及びパッケージ |
US20160102841A1 (en) * | 2014-10-09 | 2016-04-14 | Ge Lighting Solutions | Silver based reflector with hybrid protection layers |
CN109321810B (zh) * | 2018-10-30 | 2020-01-24 | 湖北文理学院 | 一种以球形结构Ag-Mg为固体润滑剂的20CrMnTi基自润滑复合材料及制备方法 |
CN111393036A (zh) * | 2020-03-25 | 2020-07-10 | 四川猛犸半导体科技有限公司 | 一种薄膜器件 |
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BE519545A (ja) * | 1952-05-01 | |||
US3379566A (en) * | 1960-05-19 | 1968-04-23 | Gen Electric | Method of making a polycrystalline dual layered aluminum oxide-magnesium oxide storage electrode |
US5076663A (en) * | 1989-10-04 | 1991-12-31 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Corrosion protection for silver reflectors |
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- 1994-08-29 JP JP06203875A patent/JP3129096B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-08-23 DE DE19530997A patent/DE19530997A1/de not_active Withdrawn
- 1995-08-24 US US08/519,025 patent/US5630886A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-02-08 US US08/598,397 patent/US5738947A/en not_active Expired - Fee Related
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CN110819846A (zh) * | 2019-11-19 | 2020-02-21 | 湘潭大学 | 一种光电倍增极用高镁含量的银镁合金带材及其制备方法 |
CN110819846B (zh) * | 2019-11-19 | 2021-05-25 | 湘潭大学 | 一种光电倍增极用高镁含量的银镁合金带材及其制备方法 |
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