JP3128193B2 - Method for producing alkoxysilane compound - Google Patents

Method for producing alkoxysilane compound

Info

Publication number
JP3128193B2
JP3128193B2 JP07317888A JP31788895A JP3128193B2 JP 3128193 B2 JP3128193 B2 JP 3128193B2 JP 07317888 A JP07317888 A JP 07317888A JP 31788895 A JP31788895 A JP 31788895A JP 3128193 B2 JP3128193 B2 JP 3128193B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tri
mol
salt
reaction
alkoxysilane compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07317888A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH09157277A (en
Inventor
透 久保田
幹夫 遠藤
和敏 沼波
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP07317888A priority Critical patent/JP3128193B2/en
Publication of JPH09157277A publication Critical patent/JPH09157277A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3128193B2 publication Critical patent/JP3128193B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、クロロシラン化合物か
ら高品質のアルコキシシラン化合物を容易に製造する方
法に関するものである。
The present invention relates to a method for easily producing a high-quality alkoxysilane compound from a chlorosilane compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】各種シリコーンの原料、樹脂変性剤ある
いはカップリング剤には、アルコキシシラン化合物が有
用であることが知られている。このアルコキシシラン化
合物は、対応するクロロシラン化合物を第3級アミンの
存在下でアルコールと反応させて製造される。第3級ア
ミンには、トリエチルアミン、ピリジンが一般的に使用
される。
2. Description of the Related Art It is known that alkoxysilane compounds are useful as raw materials for various silicones, resin modifiers or coupling agents. This alkoxysilane compound is produced by reacting the corresponding chlorosilane compound with an alcohol in the presence of a tertiary amine. As the tertiary amine, triethylamine and pyridine are generally used.

【0003】しかしながら上記製法では、有機化合物に
対する溶解性が低く、結晶性のトリエチルアミン塩酸塩
あるいはピリジン塩酸塩が大量に生成・析出し、攪拌性
が低下して均一な反応ができなくなる。これを防ぐには
大量の反応溶媒を使用すれば良いが、アルコキシシラン
化合物の生産性が低下してコスト高になる。
However, in the above-mentioned production method, the solubility in organic compounds is low, and a large amount of crystalline triethylamine hydrochloride or pyridine hydrochloride is produced and precipitated, and the stirring property is lowered, so that a uniform reaction cannot be performed. To prevent this, a large amount of a reaction solvent may be used, but the productivity of the alkoxysilane compound is reduced and the cost is increased.

【0004】さらに、これらの塩は昇華性が高く、反応
液を直接蒸留して目的物であるアルコキシシラン化合物
を単離することは困難である。アルコキシシラン化合物
を単離するためには、反応後、塩を濾過によって取り除
く工程、あるいは水を添加して塩を溶解してから水槽を
分離する工程を経た後、蒸留単離することが必要であっ
た。しかし、これらの操作は工程を長くするためコスト
的に不利である。
Furthermore, these salts have high sublimability, and it is difficult to directly distill the reaction solution to isolate the desired alkoxysilane compound. In order to isolate the alkoxysilane compound, it is necessary to carry out a step of removing the salt by filtration after the reaction or a step of dissolving the salt by adding water and then separating the water tank, followed by distillation isolation. there were. However, these operations are disadvantageous in terms of cost because the process is lengthened.

【0005】さらに前者の方法では、高価な濾過設備が
必要であり、濾過残渣へアルコキシシラン化合物が吸着
し、収率が低下する。また炉液中に溶解する塩が蒸留時
に昇華してアルコキシシラン化合物に混入し、品質が低
下することがあった。後者の方法では、エステルシラン
化合物が本質的に加水分解性を有するため、適応できる
場合が限られている。適応できる場合でも、水添加によ
って生産性が低下し、水分混入によってアルコキシシラ
ン化合物の品質が低下する。
[0005] Furthermore, the former method requires expensive filtration equipment, and the alkoxysilane compound is adsorbed on the filtration residue, resulting in a lower yield. In addition, the salt dissolved in the furnace liquid sublimates during the distillation and mixes with the alkoxysilane compound, sometimes deteriorating the quality. In the latter method, the applicable cases are limited because the ester silane compound is inherently hydrolyzable. Even when applicable, the addition of water reduces the productivity, and the mixing of water lowers the quality of the alkoxysilane compound.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の課題を
解決するためなされたもので、クロロシラン化合物とア
ルコールとを反応させ、高品質なアルコキシシラン化合
物を容易に製造する方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a method for easily producing a high-quality alkoxysilane compound by reacting a chlorosilane compound with an alcohol. Aim.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意研究を
重ねた結果、クロロシランとアルコールとを反応させる
際に使用する第3級アミンの種類によっては、溶媒を使
用せず、また生成する塩を濾過や水添加・分液によって
除去することなく、容易に高品質のアルコキシシラン化
合物を得ることができるのを見いだし、本発明を完成さ
せた。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that, depending on the type of tertiary amine used in reacting chlorosilane with alcohol, no tertiary amine is used and no tertiary amine is formed. The present inventors have found that a high-quality alkoxysilane compound can be easily obtained without removing the salt by filtration, addition of water, and liquid separation, thereby completing the present invention.

【0008】すなわち、本発明のアルコキシシランの製
造方法は、下記式〔I〕 R1 nSiCl4-n 〔I〕 で表されるクロロシラン化合物と、下記式〔II〕 R2OH 〔II〕 で表されるアルコールとを、下記式〔III〕 R3 3N 〔III〕 で表される第3級アミンの存在下で反応させ、その反応
液を蒸留して下記式〔IV〕 R1 nSi(OR2)4-n 〔IV〕 で表されるアルコキシシラン化合物を得るものである。
That is, the method for producing an alkoxysilane of the present invention comprises the steps of: preparing a chlorosilane compound represented by the following formula [I] R 1 n SiCl 4-n [I] and a formula [II] R 2 OH [II] an alcohol represented, it is reacted in the presence of a tertiary amine represented by the following formula [III] R 3 3 n (III), the following equation was distilled and the reaction solution [IV] R 1 n Si (OR 2 ) 4-n An alkoxysilane compound represented by [IV] is obtained.

【0009】アルコキシシラン化合物は下記式に示され
るような反応を経て製造される。
An alkoxysilane compound is produced through a reaction represented by the following formula.

【0010】[0010]

【化1】 Embedded image

【0011】nは0〜3の整数である。R1は一価の有
機基、アルコキシ基または水素原子であり、nが2また
は3の場合には同一でも異なっても良い。一価の有機基
としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール
基が挙げられる。これらの基は炭素原子の一部が窒素原
子、酸素原子、ケイ素原子、硫黄原子で置換されていて
も良い。
N is an integer of 0-3. R 1 is a monovalent organic group, an alkoxy group or a hydrogen atom, and when n is 2 or 3, they may be the same or different. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a halogenated alkyl group, and a halogenated aryl group. In these groups, some of the carbon atoms may be substituted with a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, or a sulfur atom.

【0012】R2は一価の有機基である。一価の有機基
には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基
が挙げられる。R3は同一または異なった炭素数4以上
のアルキル基である。
R 2 is a monovalent organic group. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a halogenated alkyl group, and a halogenated aryl group. R 3 is the same or a different alkyl group having 4 or more carbon atoms.

【0013】〔I〕式で示されるクロロシラン化合物に
は、具体的にテトラクロロシラン、トリクロロシラン、
メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、n
−プロピルトリクロロシラン、イソプロピルトリクロロ
シラン、n−ブチルトリクロロシラン、イソブチルトリ
クロロシラン、sec−ブチルトリクロロシラン、te
rt−ブチルトリクロロシラン、n−ヘキシルトリクロ
ロシラン、テキシルトリクロロシラン、シクロヘキシル
トリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチニル
トリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、フェニル
トリクロロシラン、ベンジルトリクロロシラン、3−ク
ロロプロピルトリクロロシラン、3,3,3−トリフル
オロプロピトリクロロシラン、3−メタクリロキシプロ
ピルトリクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリ
クロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシラン、ジ
クロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロ
ロシラン、メチルプロピルジクロロシラン、メチル−t
ert−ブチルジクロロシラン、メチル−n−ヘキシル
ジクロロシラン、メチルテキシルジクロロシラン、シク
ロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルビニルジクロ
ロシラン、アリルメチルジクロロシラン、メチルフェニ
ルジクロロシラン、2−シアノエチルメチルジクロロシ
ラン、メチル−イソプロポキシジクロロシラン、メチル
−tert−ブトキシジクロロシラン、ジ−n−プロピ
ルジクロロシラン、ジ−tert−ブチルジクロロシラ
ン、ジシクロペンチルジクロロシラン、ジシクロヘキシ
ルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジフェニ
ルジクロロシラン、ジメチルクロロシラン、トリメチル
クロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、t
ert−ブチルジメチルクロロシラン、ジメチルテキシ
ルクロロシラン、シクロヘキシルジメチルクロロシラ
ン、トリエチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロ
シラン、トリシクロヘキシルクロロシラン、トリフェニ
ルクロロシラン、ジメチルエトキシクロロシランが挙げ
られる。
The chlorosilane compound represented by the formula (I) includes tetrachlorosilane, trichlorosilane,
Methyltrichlorosilane, ethyltrichlorosilane, n
-Propyltrichlorosilane, isopropyltrichlorosilane, n-butyltrichlorosilane, isobutyltrichlorosilane, sec-butyltrichlorosilane, te
rt-butyltrichlorosilane, n-hexyltrichlorosilane, texyltrichlorosilane, cyclohexyltrichlorosilane, vinyltrichlorosilane, ethynyltrichlorosilane, allyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, benzyltrichlorosilane, 3-chloropropyltrichlorosilane, 3, 3,3-trifluoropropitrichlorosilane, 3-methacryloxypropyltrichlorosilane, 3-acryloxypropyltrichlorosilane, 2-cyanoethyltrichlorosilane, dichlorosilane, methyldichlorosilane, dimethyldichlorosilane, methylpropyldichlorosilane, methyl-t
tert-butyldichlorosilane, methyl-n-hexyldichlorosilane, methyltexyldichlorosilane, cyclohexylmethyldichlorosilane, methylvinyldichlorosilane, allylmethyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, 2-cyanoethylmethyldichlorosilane, methyl-isopropoxy Dichlorosilane, methyl-tert-butoxydichlorosilane, di-n-propyldichlorosilane, di-tert-butyldichlorosilane, dicyclopentyldichlorosilane, dicyclohexyldichlorosilane, diallyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, dimethylchlorosilane, trimethylchlorosilane, Isopropyldimethylchlorosilane, t
tert-butyldimethylchlorosilane, dimethyltexylchlorosilane, cyclohexyldimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, triisopropylchlorosilane, tricyclohexylchlorosilane, triphenylchlorosilane, dimethylethoxychlorosilane.

【0014】式〔II〕で示されるアルコールには、具体
的にメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、se
c−ブタノール、tert−ブタノール、シクロヘキサ
ノール、3,3,3−トリフルオロエタノール、アリル
アルコール、2−メトキシエタノール、フェノール、p
−クロロフェノールが挙げられる。
Specific examples of the alcohol represented by the formula [II] include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol and se.
c-butanol, tert-butanol, cyclohexanol, 3,3,3-trifluoroethanol, allyl alcohol, 2-methoxyethanol, phenol, p
-Chlorophenol.

【0015】式〔III〕で示される第3級アミンは、ト
リ−n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルオクチルアミ
ン、トリ−n−ペンチルアミン、トリ−n−ヘキシルア
ミンおよびトリ−n−オクチルアミンから選ばれる少な
くとも1種であるのが好ましい。その中でも、工業的入
手が容易であること、および価格が安いことからトリ−
n−ブチルアミンが最適である。
The tertiary amine represented by the formula [III] includes tri-n-butylamine, di-n-butyloctylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine and tri-n-octylamine. It is preferable that at least one member selected from the group consisting of Among them, trie is easy because of industrial availability and low price.
n-Butylamine is optimal.

【0016】クロロシランとアルコールとは無溶媒下で
反応させることが好ましいが、トルエン、キシレン、ヘ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、アセ
トニトリル等の非プロトン性溶媒を使用しても良い。反
応温度は任意であるが、0〜100℃が好ましい。
The chlorosilane and the alcohol are preferably reacted in the absence of a solvent, but an aprotic solvent such as toluene, xylene, hexane, tetrahydrofuran, diethyl ether or acetonitrile may be used. The reaction temperature is optional, but preferably from 0 to 100 ° C.

【0017】式〔IV〕で表されるアルコキシシラン化合
物としては、具体的にテトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−
n−ブトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチル
トリ−n−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、n−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルト
リエトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、イ
ソブチルトリエトキシシラン、sec−ブチルトリイソ
プロポキシシラン、tert−ブチルトリメトキシシラ
ン、tert−ブチルトリエトキシシラン、n−ヘキシ
ルトリメトキシシラン、テキシルトリメトキシシラン、
テキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメト
キシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリ(2−メトキシメチ
ル)シラン、エチニルトリメトキシシラン、アリルトリ
メトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、3
−クロロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−ト
リフルオロプロピトリ(3,3,3−トリフルオロエト
キシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、2−シアノエチルトリメトキシシラン、2−シアノ
エチルトリエトキシシラン、ジエトキシシラン、メチル
ジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルジイソプロポキシシラン、ジメチルジ−n−ブトキシ
シラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチル−t
ert−ブチルジメトキシシラン、メチル−tert−
ブチルジエトキシシラン、メチル−n−ヘキシルジメト
キシシラン、メチルテキシルジメトキシシラン、シクロ
ヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチ
ルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、
アリルメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメト
キシシラン、2−シアノエチルメチルジメトキシシラ
ン、メチル−イソプロポキシジメトキシシラン、メチル
−tert−ブトキシジメトキシシラン、ジ−n−プロ
ピルジメトキシシラン、ジ−tert−ブチルジメトキ
シシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジシク
ロヘキシルジメトキシシラン、ジアリルジメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキ
シシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシ
シラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキ
シシラン、トリメチルシクロヘキシルオキシシラン、ト
リメチルフェノキシシラン、イソプロピルジメチルエト
キシシラン、tert−ブチルジメチルメトキシシラ
ン、tert−ブチルジメチルエトキシシラン、ter
t−ブチルジメチルシクロヘキシルオキシシラン、te
rt−ブチルジメチルフェノキシシラン、ジメチルテキ
シルメトキシシラン、ジメチルテキシルエトキシシラ
ン、ジメチルテキシルシクロヘキシルオキシシラン、ジ
メチルテキシルフェノキシシラン、シクロヘキシルジメ
チルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリ
エチルエトキシシラン、トリエチルシクロヘキシルオキ
シシラン、トリエチルフェノキシシラン、トリイソプロ
ピルメトキシシラン、トリシクロヘキシルメトキシシラ
ン、トリフェニルメトキシシランが挙げられる。
Specific examples of the alkoxysilane compound represented by the formula [IV] include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane,
n-butoxysilane, trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, ethyltrimethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, isopropyltrisilane Ethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, sec-butyltriisopropoxysilane, tert-butyltrimethoxysilane, tert-butyltriethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, texyltrimethoxysilane,
Texyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, cyclohexyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltri (2-methoxymethyl) silane, ethynyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, Benzyltrimethoxysilane, 3
-Chloropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropitri (3,3,3-trifluoroethoxy) silane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyl Trimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, diethoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldiisopropoxysilane, dimethyldi-n-butoxysilane, methylpropyldimethoxysilane , Methyl-t
tert-butyldimethoxysilane, methyl-tert-
Butyldiethoxysilane, methyl-n-hexyldimethoxysilane, methyltexyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane,
Allylmethyldimethoxysilane, methylphenyldimethoxysilane, 2-cyanoethylmethyldimethoxysilane, methyl-isopropoxydimethoxysilane, methyl-tert-butoxydimethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-tert-butyldimethoxysilane, dicyclopentyl Dimethoxysilane, dicyclohexyldimethoxysilane, diallyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylcyclohexyloxysilane, trimethylphenoxysilane, isopropyldimethylethoxysilane, tert-butyldimethylmethoxysilane, tert-butyl Methylethoxy silane, ter
t-butyldimethylcyclohexyloxysilane, te
rt-butyldimethylphenoxysilane, dimethyl texyl methoxy silane, dimethyl texyl ethoxy silane, dimethyl texyl cyclohexyl oxy silane, dimethyl texyl phenoxy silane, cyclohexyl dimethyl methoxy silane, triethyl methoxy silane, triethyl ethoxy silane, triethyl cyclohexyl oxy silane, Examples thereof include triethylphenoxysilane, triisopropylmethoxysilane, tricyclohexylmethoxysilane, and triphenylmethoxysilane.

【0018】反応液を蒸留してアルコキシシラン化合物
を回収した後、水酸化ナトリウム等を蒸留釜に添加する
ことによって、残存する第3級アミンを容易に回収する
ことができる。
After the alkoxysilane compound is recovered by distilling the reaction solution, the remaining tertiary amine can be easily recovered by adding sodium hydroxide or the like to the still.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の製造方法では、クロロシランと
アルコールとを、炭素数4以上のアルキル基を有する第
3級アミンの存在下で反応させ、その反応液を直接蒸留
して目的物質であるアルコキシシラン化合物を単離して
いる。本案で使用している第3級アミンは、その塩の有
機化合物に対する溶解性が高く、また結晶性が低いた
め、反応系にほとんど析出しない。さらに昇華性が小さ
いので、蒸留時に留分に昇華混入することがない。従っ
て、無溶媒下でも攪拌性が良く、濾過等によって反応液
から塩を除去する必要がないので、工業的に効率良く高
品質のアルコキシシラン化合物を製造できる。
According to the production method of the present invention, chlorosilane and alcohol are reacted in the presence of a tertiary amine having an alkyl group having 4 or more carbon atoms, and the reaction solution is directly distilled to obtain the target substance. An alkoxysilane compound has been isolated. The tertiary amine used in the present invention hardly precipitates in the reaction system because its salt has high solubility in organic compounds and low crystallinity. Furthermore, since the sublimability is small, there is no possibility of sublimation in the fraction during distillation. Therefore, even when no solvent is used, the stirring property is good, and there is no need to remove the salt from the reaction solution by filtration or the like.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail.

【0021】実施例1 攪拌機、環流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlフラスコ中に、トリ−n−ブチルアミン18
9.0g(1.02mol)およびメタノール32.3
g(1.01mol)を仕込んだ。滴下ロートからトリ
メチルクロロシラン108.6g(1.0mol)を5
0〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌
性は良好であり、反応液に塩の析出はみられなかった。
この反応液を蒸留し、57〜58℃の留分を分取するこ
とによってトリメチルメトキシシラン97.8gを得
た。収率は94%であった。蒸留装置への塩の昇華付着
はみられず、留分へ塩が混入することもなく、釜内残存
物も蒸留終了時まで液状であった。
Example 1 Tri-n-butylamine 18 was placed in a 500 ml flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and dropping funnel.
9.0 g (1.02 mol) and methanol 32.3
g (1.01 mol) was charged. 108.6 g (1.0 mol) of trimethylchlorosilane was added from the dropping funnel to 5
The mixture was added dropwise with stirring at 0 to 60 ° C over 2 hours. The stirring property was good, and no precipitation of salt was observed in the reaction solution.
This reaction solution was distilled, and a fraction at 57 to 58 ° C was collected to obtain 97.8 g of trimethylmethoxysilane. The yield was 94%. No sublimation adhesion of the salt to the distillation apparatus was observed, no salt was mixed into the fraction, and the residue in the kettle was liquid until the distillation was completed.

【0022】実施例2 メタノール32.3g(1.01mol)をエタノール
46.6g(1.01mol)に変更し、その他の条件
を実施例1と同一にして反応を行った。この反応液を蒸
留し、75〜76℃の留分を分取することによってトリ
メチルエトキシシラン108.8gを得た。収率は92
%であった。反応時の攪拌性は良好で、蒸留時の塩の昇
華も見られなかった。
Example 2 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 32.3 g (1.01 mol) of methanol was changed to 46.6 g (1.01 mol) of ethanol. The reaction solution was distilled, and a fraction at 75 to 76 ° C. was collected to obtain 108.8 g of trimethylethoxysilane. Yield is 92
%Met. The stirring property during the reaction was good, and no sublimation of the salt was observed during the distillation.

【0023】実施例3 トリ−n−ブチルアミン189.0g(1.02mo
l)をトリ−n−オクチルアミン360.8g(1.0
2mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一に
して反応を行った。この反応液を蒸留し、57〜58℃
の留分を分取することによってトリメチルメトキシシラ
ン96.1gを得た。収率は92%であった。反応時の
攪拌性は良好で、蒸留時の塩の昇華も見られなかった。
Example 3 189.0 g of tri-n-butylamine (1.02 mol)
l) was treated with 360.8 g of tri-n-octylamine (1.0
2 mol), and the other conditions were the same as in Example 1 for the reaction. The reaction solution is distilled,
Was separated to obtain 96.1 g of trimethylmethoxysilane. The yield was 92%. The stirring property during the reaction was good, and no sublimation of the salt was observed during the distillation.

【0024】実施例4 メタノール32.3g(1.01mol)をイソプロパ
ノール60.7g(101mol)、トリメチルクロロ
シランをトリエチルクロロシラン150.7g(1.0
mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一にし
て反応を行った。この反応液を減圧蒸留し、84〜86
℃/50mmHgの留分を分取することによってトリエ
チルイソプロポキシシラン165.7gを得た。収率は
95%であった。反応時の攪拌性は良好で、蒸留時の塩
の昇華も見られなかった。
Example 4 32.3 g (1.01 mol) of methanol was added to 60.7 g (101 mol) of isopropanol, and trimethylchlorosilane was added to 150.7 g (1.0 mol) of triethylchlorosilane.
mol), and the other conditions were the same as in Example 1 to carry out the reaction. The reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain 84-86.
165.7 g of triethylisopropoxysilane was obtained by fractionating the fraction at 50 ° C / 50 mmHg. The yield was 95%. The stirring property during the reaction was good, and no sublimation of the salt was observed during the distillation.

【0025】比較例1 トリ−n−ブチルアミン189.0g(1.02mo
l)をトリエチルアミン103.2g(1.02mo
l)に変更し、その他の条件を実施例1と同一にして反
応を行った。滴下途中で大量の塩が析出して攪拌不能と
なったが、そのまま滴下を最後まで続けた。この反応液
を蒸留したが塩の昇華が激しくて蒸留装置の閉塞が起こ
った。釜内残存物も固化しており、蒸留を続けることは
困難であった。
Comparative Example 1 189.0 g of tri-n-butylamine (1.02 mol)
l) with 103.2 g of triethylamine (1.02 mol)
The reaction was carried out under the same conditions as in Example 1 except that the conditions were changed to 1). A large amount of salt was precipitated during the dropping and stirring became impossible, but the dropping was continued as it was. The reaction solution was distilled, but the sublimation of the salt was severe, and the distillation apparatus was blocked. The residue in the kettle was also solidified, and it was difficult to continue the distillation.

【0026】比較例2 トリ−n−ブチルアミン189.0g(1.02mo
l)をトリ−n−プロピルアミン146.2g(1.0
2mol)に変更し、その他の条件を実施例1と同一に
して反応を行った。蒸留は、比較例1と同様、困難なも
のとなった。
Comparative Example 2 189.0 g (1.02 mol) of tri-n-butylamine
l) with 146.2 g of tri-n-propylamine (1.0
2 mol), and the other conditions were the same as in Example 1 for the reaction. Distillation became difficult as in Comparative Example 1.

【0027】比較例3 トリ−n−ブチルアミン189.0g(1.02mo
l)をピリジン80.7g(1.02mol)に変更
し、その他の条件を実施例1と同一にして反応を行っ
た。蒸留は、比較例1と同様、困難であった。
Comparative Example 3 189.0 g of tri-n-butylamine (1.02 mol)
l) was changed to 80.7 g (1.02 mol) of pyridine, and the other conditions were the same as in Example 1 to carry out the reaction. Distillation was difficult as in Comparative Example 1.

【0028】実施例5 攪拌機、環流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlフラスコ中に、トリ−n−ブチルアミン18
9.0g(0.92mol)およびメタノール29.1
g(0.91mol)を仕込んだ。滴下ロートからアリ
ルトリクロロシラン52.6g(0.3mol)を50
〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌性
は良好であり、反応液中に塩の析出は見られなかった。
この反応液を減圧蒸留し、83〜85℃/100mmH
gの留分を分取することによりアリルトリメトキシシラ
ン45.3gを得た。収率は93%であった。蒸留装置
への塩の昇華付着は見られず、留分への塩の混入もな
く、釜内残存物も蒸留終了時まで液状であった。
Example 5 Tri-n-butylamine 18 was placed in a 500 ml flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel.
9.0 g (0.92 mol) and methanol 29.1
g (0.91 mol) was charged. 52.6 g (0.3 mol) of allyltrichlorosilane was added from the dropping funnel to 50
The mixture was added dropwise with stirring at ℃ 60 ° C. for 2 hours. The stirring property was good, and no precipitation of salt was observed in the reaction solution.
This reaction solution was distilled under reduced pressure, and the temperature was 83 to 85 ° C / 100 mmH.
The fraction of g was collected to obtain 45.3 g of allyltrimethoxysilane. The yield was 93%. No sublimation adhesion of salt to the distillation apparatus was observed, no salt was mixed into the fraction, and the residue in the kettle was liquid until the end of distillation.

【0029】実施例6 メタノール29.1g(0.91mol)をエタノール
41.9g(0.91mol)に変更し、その他の条件
を実施例5と同一にして反応を行った。この反応液を減
圧蒸留し、77〜80℃/20mmHgの留分を分取す
ることによりアリルトリエトキシシラン55.2gを得
た。収率は90%であった。反応時の攪拌性は良好であ
り、蒸留時の塩の昇華も見られなかった。
Example 6 A reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 29.1 g (0.91 mol) of methanol was changed to 41.9 g (0.91 mol) of ethanol. This reaction solution was distilled under reduced pressure, and a fraction of 77 to 80 ° C./20 mmHg was collected to obtain 55.2 g of allyltriethoxysilane. The yield was 90%. The stirring property during the reaction was good, and no sublimation of the salt was observed during the distillation.

【0030】実施例7 アリルトリクロロシラン52.6g(0.3mol)を
テキシルトリクロロシラン65.9g(0.3mol)
に変更し、その他の条件を実施例5と同一にして反応を
行った。この反応液を減圧蒸留し、84〜85℃/27
mmHgの留分を分取することによりテキシルトリメト
キシシラン57.6gを得た。収率は93%であった。
反応時の攪拌性は良好で蒸留時の塩の昇華も見られなか
った。
Example 7 52.6 g (0.3 mol) of allyltrichlorosilane was added to 65.9 g (0.3 mol) of texyltrichlorosilane.
And the other conditions were the same as in Example 5 to carry out the reaction. The reaction solution was distilled under reduced pressure to obtain a solution at 84 to 85 ° C / 27.
A fraction of mmHg was collected to obtain 57.6 g of texyltrimethoxysilane. The yield was 93%.
The stirring property during the reaction was good, and no sublimation of the salt was observed during the distillation.

【0031】実施例8 攪拌機、環流冷却器、温度計および滴下ロートを備えた
500mlフラスコ中にトリ−n−ブチルアミン18
9.0g(1.02mol)及びn−ブタノール74.
8g(1.01mol)を仕込んだ。滴下ロートからジ
メチルジクロロシラン64.5g(0.5mol)を5
0〜60℃で2時間かけて攪拌しながら滴下した。攪拌
性は良好であり、反応液中に塩の析出は見られなかっ
た。この反応液を減圧蒸留し、89〜91℃/23mm
Hgの留分を分取することによりジメチルジ−n−ブト
キシシラン94.0gを得た。収率は92%であった。
蒸留装置への塩の昇華付着は見られず、留分への塩の混
入もなく、釜内残存物も蒸留終了時まで液状であった。
Example 8 Tri-n-butylamine 18 was placed in a 500 ml flask equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer and dropping funnel.
9.0 g (1.02 mol) and n-butanol
8 g (1.01 mol) were charged. 64.5 g (0.5 mol) of dimethyldichlorosilane was added from the dropping funnel to 5
The mixture was added dropwise with stirring at 0 to 60 ° C over 2 hours. The stirring property was good, and no precipitation of salt was observed in the reaction solution. This reaction solution was distilled under reduced pressure, and the temperature was 89 to 91 ° C./23 mm.
By fractionating the Hg fraction, 94.0 g of dimethyldi-n-butoxysilane was obtained. The yield was 92%.
No sublimation adhesion of salt to the distillation apparatus was observed, no salt was mixed into the fraction, and the residue in the kettle was liquid until the end of distillation.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沼波 和敏 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地 の1 信越化学工業株式会社合成技術研 究所内 (56)参考文献 特開 平7−179447(JP,A) 特開 昭62−114992(JP,A) 特開 昭48−34131(JP,A) 特表 平6−509554(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 7/04 CA(STN) CASREACT(STN) CAPLUS(STN) REGISTRY(STN)────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazutoshi Numami 28-1, Nishifukushima, Oku-ku, Nakatsugi-gun, Niigata Prefecture Shinsei Chemical Industry Co., Ltd. Synthetic Technology Laboratory (56) References JP-A-7-179447 (JP, A) JP-A-62-114992 (JP, A) JP-A-48-34131 (JP, A) JP-A-6-509554 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) C07F 7/04 CA (STN) CASREAT (STN) CAPLUS (STN) REGISTRY (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 下記式〔I〕 R1 nSiCl4-n 〔I〕 (式中のR1は同一または異なった一価の有機基または
アルコキシ基または水素原子、nは0〜3の整数)で表
されるクロロシラン化合物と、下記式〔II〕 R2OH 〔II〕 (式中のR2は一価の有機基)で表されるアルコールと
を、下記式〔III〕 R3 3N 〔III〕 (式中のR3は同一または異なった炭素数4以上のアル
キル基)で表される第3級アミンの存在下で反応させ、
その反応液を蒸留することを特徴とする下記式〔IV〕 R1 nSi(OR2)4-n 〔IV〕 で表されるアルコキシシラン化合物の製造方法。
1. A compound represented by the following formula [I] R 1 n SiCl 4-n [I] (wherein R 1 is the same or different monovalent organic group or alkoxy group or hydrogen atom, and n is an integer of 0 to 3) a chlorosilane compound represented by), an alcohol represented by the following formula [II] R 2 OH (II) (R 2 is a monovalent organic group in the formula), the following formula [III] R 3 3 N [III] (wherein R 3 is the same or different alkyl group having 4 or more carbon atoms) and reacted in the presence of a tertiary amine represented by the formula:
Method for producing an alkoxysilane compound represented by the following formula, wherein [IV] R 1 n Si (OR 2) 4-n [IV] to distilling the reaction mixture.
【請求項2】 前記第3級アミンがトリ−n−ブチルア
ミン、ジ−n−ブチルオクチルアミン、トリ−n−ペン
チルアミン、トリ−n−ヘキシルアミンおよびトリ−n
−オクチルアミンから選ばれる少なくとも1種であるこ
とを特徴とする請求項1に記載のアルコキシシランの製
造方法。
2. The method of claim 1, wherein the tertiary amine is tri-n-butylamine, di-n-butyloctylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine and tri-n.
The method for producing an alkoxysilane according to claim 1, wherein the method is at least one selected from -octylamine.
【請求項3】 前記クロロシラン化合物と前記アルコー
ルとを無溶媒下で反応させることを特徴とする請求項1
または2に記載のアルコキシシランの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the chlorosilane compound and the alcohol are reacted in the absence of a solvent.
Or the method for producing an alkoxysilane according to 2.
JP07317888A 1995-12-06 1995-12-06 Method for producing alkoxysilane compound Expired - Fee Related JP3128193B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07317888A JP3128193B2 (en) 1995-12-06 1995-12-06 Method for producing alkoxysilane compound

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07317888A JP3128193B2 (en) 1995-12-06 1995-12-06 Method for producing alkoxysilane compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09157277A JPH09157277A (en) 1997-06-17
JP3128193B2 true JP3128193B2 (en) 2001-01-29

Family

ID=18093180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07317888A Expired - Fee Related JP3128193B2 (en) 1995-12-06 1995-12-06 Method for producing alkoxysilane compound

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3128193B2 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100530921B1 (en) * 2002-09-17 2005-11-23 애경유화 주식회사 Method for preparing alkoxysilane of high purity
KR100573784B1 (en) * 2002-11-06 2006-04-25 애경유화 주식회사 Method for preparing alkylalkoxysilane with high purity
KR100744834B1 (en) * 2006-05-02 2007-08-01 한국과학기술연구원 Method for preparing of fluorinated alkoxysilane derivatives
KR100778032B1 (en) * 2006-05-29 2007-11-28 경희대학교 산학협력단 Method for preparing of fluorinated alkoxysilane derivative
JP2010105918A (en) * 2008-10-28 2010-05-13 Jsr Corp Method for producing alkoxysilane
NZ732731A (en) 2014-11-12 2020-08-28 Univ Houston System Soil-resistant, stain-resistant coatings and methods of applying on textile or other flexible materials
CA2967755C (en) 2014-11-12 2024-05-14 University Of Houston System Weather-resistant, fungal-resistant, and stain-resistant coatings and methods of applying on wood, masonry, or other porous materials
EP3218540A4 (en) 2014-11-12 2018-07-11 The University Of Houston System Soil-resistant, stain-resistant fluorine-free coatings and methods of applying on materials
JP6665437B2 (en) * 2015-01-22 2020-03-13 東ソー株式会社 Method for producing tertiary alkyl silane and tertiary alkyl alkoxy silane
CN106279244B (en) * 2016-08-12 2019-04-16 荆州市江汉精细化工有限公司 A kind of methoxytrimethylsilane alcoholysis process

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09157277A (en) 1997-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0881478A (en) Amino-functional organosilane containing or not containing chloride and its production
US4851558A (en) Process for producing alkoxysilanes
JP3128193B2 (en) Method for producing alkoxysilane compound
US6323356B1 (en) Process for the preparation of alkoxysilanes
JPH0586074A (en) Process for producing alkoxy-oxyiminosilane
US3776933A (en) Method of preparing amidosilanes
KR20150115642A (en) Preparation of silazane compound
JP2795135B2 (en) Method for producing organoalkoxysilane compound
JP5652829B2 (en) Method for producing silanol under anhydrous conditions
JPH03197486A (en) Production of organosiloxane having alkoxysilyl group
JP2002179687A (en) Method for producing organoalkoxysilane
JP4332708B2 (en) Chlorosilane compound having bissilylamino group and method for producing the same, and method for producing organooxysilane compound having bissilylamino group
JPH10237177A (en) Production of network polysilane
JP6906424B2 (en) Manufacturing method of aminosilanes
JP3181380B2 (en) Method for producing 1-aza-2-silacyclopentane compound
JPH10139784A (en) Production of vinylsilyl group-containing silicone compound
JP2867118B2 (en) Method for producing silicon compound
JP3915875B2 (en) Process for producing N-substituted-3-silylpropylamines and derivatives thereof
JP4178369B2 (en) Method for producing silyl (meth) acrylate compound
WO2005028486A1 (en) Methods of refining silane compounds
JP2907061B2 (en) Method for producing organosilicon compound
JPH04159286A (en) Method for preventing oxide-silane from coloring
JP3175548B2 (en) Method for producing hydrogen-containing cyclic siloxane
JP4336970B2 (en) Silane compound having protected carboxyl group and method for producing the same
JPS6396192A (en) Production of alkoxysilanes

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131110

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees