JP3126716B2 - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
露光装置及び露光方法Info
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- JP3126716B2 JP3126716B2 JP02027294A JP2729490A JP3126716B2 JP 3126716 B2 JP3126716 B2 JP 3126716B2 JP 02027294 A JP02027294 A JP 02027294A JP 2729490 A JP2729490 A JP 2729490A JP 3126716 B2 JP3126716 B2 JP 3126716B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- curvature
- mask
- exposure
- optical element
- exposure apparatus
- Prior art date
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
- H01J9/2273—Auxiliary lenses and filters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、陰極線管のマスク−パネル組立体を照明す
ると共にパネル面上の感光層をマスクの開口を通過する
光のパターンで露光する露光装置であって、光源と、補
正レンズと、シェーダプレートとを具える露光装置に関
するものである。
ると共にパネル面上の感光層をマスクの開口を通過する
光のパターンで露光する露光装置であって、光源と、補
正レンズと、シェーダプレートとを具える露光装置に関
するものである。
さらに、本発明は光源と、補正レンズと、シェーダプ
レートとをマスク−パネル組立体に対して同軸状に配置
し、前記レンズおよびシェーダプレートを光源と感光層
との間の光路中に配置し、光源を点灯して陰極線管のマ
スク−パネル組立体を照明し、パネル面上の感光層を光
パターンで露光する露光方法に関するものである。
レートとをマスク−パネル組立体に対して同軸状に配置
し、前記レンズおよびシェーダプレートを光源と感光層
との間の光路中に配置し、光源を点灯して陰極線管のマ
スク−パネル組立体を照明し、パネル面上の感光層を光
パターンで露光する露光方法に関するものである。
（従来の技術） カラーテレビジョン用のカラーCRTの製造において
は、テレビジョン画像を表示するために用いられるCRT
の画面上に位置する螢光スクリーンは、通常リソグラフ
ィ技術によって形成され、画面上の感光層をスクリーン
上の所望の螢光パターンに対応する光パターンで露光す
ることにより形成される。
は、テレビジョン画像を表示するために用いられるCRT
の画面上に位置する螢光スクリーンは、通常リソグラフ
ィ技術によって形成され、画面上の感光層をスクリーン
上の所望の螢光パターンに対応する光パターンで露光す
ることにより形成される。
最終的に組立てられたCRTは、陰極線管のネック部に
ある３個の電子銃を含み、それぞれが赤、青及び緑の３
原色のうちの１個に対応する３個の電子ビームを発生さ
せスクリーン上の螢光素子を励起させている。スクリー
ンの後側に短い距離を以て開口マスクが配置され、この
マスクは適切に位置決めされた多数の開口を有し電子ビ
ームが対応する色の螢光素子だけに入射するように構成
されている。そして、３原色の個別のビデオ信号でそれ
ぞれ変調された３個の電子ビームによってスクリーンを
走査することにより、全カラー表示が行なわれる。
ある３個の電子銃を含み、それぞれが赤、青及び緑の３
原色のうちの１個に対応する３個の電子ビームを発生さ
せスクリーン上の螢光素子を励起させている。スクリー
ンの後側に短い距離を以て開口マスクが配置され、この
マスクは適切に位置決めされた多数の開口を有し電子ビ
ームが対応する色の螢光素子だけに入射するように構成
されている。そして、３原色の個別のビデオ信号でそれ
ぞれ変調された３個の電子ビームによってスクリーンを
走査することにより、全カラー表示が行なわれる。
所望のカラー鮮明度を達成するためには、電子ビーム
と対応する螢光素子との間において正確に整合させる必
要がある。
と対応する螢光素子との間において正確に整合させる必
要がある。
正確に整合させるためには、光源を電子ビームの電子
源の位置に配置し、陰極線管による表示に用いられる同
一の開口マスクを経て感光材料（レジスト）を露光する
ことによりマスクが形成される。従って、一旦マスクを
通してスクリーンが露光されると、このマスクはパネル
に結合されたものとなる。
源の位置に配置し、陰極線管による表示に用いられる同
一の開口マスクを経て感光材料（レジスト）を露光する
ことによりマスクが形成される。従って、一旦マスクを
通してスクリーンが露光されると、このマスクはパネル
に結合されたものとなる。
レジストを露光し、その後不所望部分を溶出させ、第
１の原色に対応する第１の螢光素子パターンを形成す
る。次に、光源を移動し第２の電子ビームの電子源に対
応させ、上記処理を繰り返して第２の原色用の第２のパ
ターンを形成する。さらに、同様に第３の原色用パター
ンを形成し、スクリーン上に赤、緑および青の螢光素子
が交互に形成されたパターンができあがる。
１の原色に対応する第１の螢光素子パターンを形成す
る。次に、光源を移動し第２の電子ビームの電子源に対
応させ、上記処理を繰り返して第２の原色用の第２のパ
ターンを形成する。さらに、同様に第３の原色用パター
ンを形成し、スクリーン上に赤、緑および青の螢光素子
が交互に形成されたパターンができあがる。
露光中における光の光路は画像表示中の走査電子ビー
ムの経路と同一でないため、露光中に光源とマクス−パ
ネル組立体との間に補正レンズが配置され、露光中の光
量分布が走査ビームの分布に等しくなるようにする。さ
らに、レジストの非溶出部分は露光強度が増大するに従
って大きくなるので、光路中にシェーダ プレート（sh
ader plate）も配置し画面上で所望の光強度分布を達成
している。
ムの経路と同一でないため、露光中に光源とマクス−パ
ネル組立体との間に補正レンズが配置され、露光中の光
量分布が走査ビームの分布に等しくなるようにする。さ
らに、レジストの非溶出部分は露光強度が増大するに従
って大きくなるので、光路中にシェーダ プレート（sh
ader plate）も配置し画面上で所望の光強度分布を達成
している。
電子ビームと螢光素子との間で正確な整合性を達成す
る別の概念として、画像表示中に電子ビームを地磁気の
ような外部磁場からシールドする必要があることであ
る。この外部磁場により電子ビームが所望の経路からず
れるおそれがあるためである。
る別の概念として、画像表示中に電子ビームを地磁気の
ような外部磁場からシールドする必要があることであ
る。この外部磁場により電子ビームが所望の経路からず
れるおそれがあるためである。
このような磁気シールドは、マスクフレームに内部磁
場シールド（IMS）を取り付けることにより達成され
る。このIMSは、典型的には鉄のような軟磁性体の１又
はそれ以上のシートを、フレームを包囲しフレームから
陰極線管の容器に沿って後方に延在する形状に形成する
ことにより製造される。
場シールド（IMS）を取り付けることにより達成され
る。このIMSは、典型的には鉄のような軟磁性体の１又
はそれ以上のシートを、フレームを包囲しフレームから
陰極線管の容器に沿って後方に延在する形状に形成する
ことにより製造される。
IMSはフレームによって支持されるから、IMS自身は自
己支持型である必要はなく、従って薄いシート材から比
較的容易に製造することができる。しかしながら、この
ような薄く非自己支持型の構造では、作業性に難点があ
り組立上に問題が生じてしまう。より剛性の高い構造に
すれば、工場の組立区域まで容易に搬送でき、適当な大
きさのIMSを選択して損傷を与えることなく短時間でマ
スクフレームに装着できる。
己支持型である必要はなく、従って薄いシート材から比
較的容易に製造することができる。しかしながら、この
ような薄く非自己支持型の構造では、作業性に難点があ
り組立上に問題が生じてしまう。より剛性の高い構造に
すれば、工場の組立区域まで容易に搬送でき、適当な大
きさのIMSを選択して損傷を与えることなく短時間でマ
スクフレームに装着できる。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、IMSをより剛性の高い構造とするに
は、より厚い材料を用いる必要がある。しかも、磁気特
性が局部的に変わるため、磁性材料の磁気特性を局部的
に変性させる処理も必要となる。すなわち、IMSの磁気
特性が不均一になると電子ビームをシールドする作用も
不均一になり、陰極線管の動作中に電子ビームの整合誤
差が生ずる。このためには、IMSにアニール処理を施し
て磁気特性の不均一性を除去する必要がある。しかしな
がら、このアニール処理を施すと、IMSの製造コストが
高価になる不都合が生じてしまう。
は、より厚い材料を用いる必要がある。しかも、磁気特
性が局部的に変わるため、磁性材料の磁気特性を局部的
に変性させる処理も必要となる。すなわち、IMSの磁気
特性が不均一になると電子ビームをシールドする作用も
不均一になり、陰極線管の動作中に電子ビームの整合誤
差が生ずる。このためには、IMSにアニール処理を施し
て磁気特性の不均一性を除去する必要がある。しかしな
がら、このアニール処理を施すと、IMSの製造コストが
高価になる不都合が生じてしまう。
（発明の概要） 従って、本発明の目的は、CRTのIMSについてアニール
処理を施す必要がなく、シート材料からIMSを製造する
際に生ずる磁気特性の不均一性を除去することにある。
処理を施す必要がなく、シート材料からIMSを製造する
際に生ずる磁気特性の不均一性を除去することにある。
本発明の別の目的は、CRT用のマスク−パネル組立体
を露光する光学装置及び方法を提供するものであり、シ
ート材料からIMSを形成することによって生ずる整合誤
差を補正レンズを変えることなくほぼ補償できる光学装
置を提供するものである。
を露光する光学装置及び方法を提供するものであり、シ
ート材料からIMSを形成することによって生ずる整合誤
差を補正レンズを変えることなくほぼ補償できる光学装
置を提供するものである。
本発明の１の見地によれば、冒頭部で述べた露光装置
において、ほぼ均一な曲率を有する１個の凸面を有する
光学素子を含むことを特徴とし、好ましくはこの光学素
子をシェーダプレートとする。
において、ほぼ均一な曲率を有する１個の凸面を有する
光学素子を含むことを特徴とし、好ましくはこの光学素
子をシェーダプレートとする。
製作の容易性より、この曲率は球面とすることが望ま
しい。このように球面曲率にすることにより、光パター
ンは径方向の内方に向けて移動する。
しい。このように球面曲率にすることにより、光パター
ンは径方向の内方に向けて移動する。
一方、一方向についてだけ整合させるCRTの場合に
は、曲率がシリンドリカルにすることができる。このよ
うなCRTは、カラーテレビジョンで広く用いられている
いわゆるインライン形である。このインライン形CRTは
水平方向に整列した電子ビームと、垂直方向に細条化さ
れたスクリーンと、垂直方向に整列したスロット状開口
マスクとを有している。このインライン形CRTの主たる
利点は、陰極線管の主軸に平行な方向についてだけ整合
させればよいことである。この主軸は垂直方向に延在す
るスクリーンストリップに対して垂直である。短軸方
向、すなわちストリップに平行な方向において、整合性
は制御する必要がない。
は、曲率がシリンドリカルにすることができる。このよ
うなCRTは、カラーテレビジョンで広く用いられている
いわゆるインライン形である。このインライン形CRTは
水平方向に整列した電子ビームと、垂直方向に細条化さ
れたスクリーンと、垂直方向に整列したスロット状開口
マスクとを有している。このインライン形CRTの主たる
利点は、陰極線管の主軸に平行な方向についてだけ整合
させればよいことである。この主軸は垂直方向に延在す
るスクリーンストリップに対して垂直である。短軸方
向、すなわちストリップに平行な方向において、整合性
は制御する必要がない。
本発明の別の概念は、冒頭部で述べた露光方法におい
て、ほぼ均一な曲率の１個の凸面を有する光学素子、好
ましくはシェーダプレートを主補正レンズとは無関係に
光路中に配置したことを特徴とする。
て、ほぼ均一な曲率の１個の凸面を有する光学素子、好
ましくはシェーダプレートを主補正レンズとは無関係に
光路中に配置したことを特徴とする。
円柱状に湾曲した光学素子を有するインライン形スク
リーンを形成する場合、光学素子は、その円柱軸が陰極
線管の短軸と平行になるように、すなわち垂直方向に延
在するストリップに平行になるように配置する。このよ
うに配置すれば、光パターンが所望通りに内方に向けて
変位する。
リーンを形成する場合、光学素子は、その円柱軸が陰極
線管の短軸と平行になるように、すなわち垂直方向に延
在するストリップに平行になるように配置する。このよ
うに配置すれば、光パターンが所望通りに内方に向けて
変位する。
（実施例） 第１図において、カラーCRT10は真空ガラス容器11と
電子銃12,13及び14を具え、これら電子銃からスクリー
ン18に向けて電子ビーム15,16及び17を放射する。スク
リーン18は赤、青及び緑の螢光ストリップを交互に有
し、これら螢光ストリップのうちの３個19,20及び21だ
けを示す。これらビーム15,16及び17は開口マスク22に
近ずくにしたがって集束し、縦方向に沿う開口列23を通
り、適当な螢光ストリップ19,20及び21上にわずかに発
散して入射する。別の開口列も別の螢光トリプレット
ストリップ（図示せず）に同様に対応して設ける。外部
偏向コイル及び関連する回路（図示せず）により、ビー
ムは既知の方法でマスク及びスクリーンを走査し、スク
リーン上に矩形のラスタパターンを発生させる。
電子銃12,13及び14を具え、これら電子銃からスクリー
ン18に向けて電子ビーム15,16及び17を放射する。スク
リーン18は赤、青及び緑の螢光ストリップを交互に有
し、これら螢光ストリップのうちの３個19,20及び21だ
けを示す。これらビーム15,16及び17は開口マスク22に
近ずくにしたがって集束し、縦方向に沿う開口列23を通
り、適当な螢光ストリップ19,20及び21上にわずかに発
散して入射する。別の開口列も別の螢光トリプレット
ストリップ（図示せず）に同様に対応して設ける。外部
偏向コイル及び関連する回路（図示せず）により、ビー
ムは既知の方法でマスク及びスクリーンを走査し、スク
リーン上に矩形のラスタパターンを発生させる。
マスク22及びスクリーン18を水平軸（Ｘ）及び垂直軸
（Ｙ）により４分割する。内部磁気シールド（IMS）24
により、電子ビーム15,16及び17を地磁気のような外部
磁場からシールドする。IMS24は、高カーボンスティー
ルのような軟磁性材料から成る厚さ150μｍの単一シー
トを深絞りすることにより作製される。このようにして
作製されたIMSは大量生産における移送性及び処理性に
耐えるだけの十分な強度を有すると共に、深絞り処理に
よりシート材料が延伸され磁気シールド特性を十分に均
一化することができる。一方、アニール処理によって磁
気特性の不均一性が除去されない場合、IMSの磁気特性
の局部的な変化により陰極線管の動作中にビームと螢光
素子との間で整合誤差が生じてしまう。
（Ｙ）により４分割する。内部磁気シールド（IMS）24
により、電子ビーム15,16及び17を地磁気のような外部
磁場からシールドする。IMS24は、高カーボンスティー
ルのような軟磁性材料から成る厚さ150μｍの単一シー
トを深絞りすることにより作製される。このようにして
作製されたIMSは大量生産における移送性及び処理性に
耐えるだけの十分な強度を有すると共に、深絞り処理に
よりシート材料が延伸され磁気シールド特性を十分に均
一化することができる。一方、アニール処理によって磁
気特性の不均一性が除去されない場合、IMSの磁気特性
の局部的な変化により陰極線管の動作中にビームと螢光
素子との間で整合誤差が生じてしまう。
本発明においては、光源と螢光層との間の光路中の光
学素子の一方の面、好ましくはスクリーンを形成するた
めに用いられる光学露光装置に含まれるシェーダプレー
トの一方の側を凸の曲率の面とすることにより上記整合
誤差をほぼ除去することができる。光学箱（light hous
e）として既知の露光装置の好適実施例は、第２図に示
す基本的な光学素子を有している。
学素子の一方の面、好ましくはスクリーンを形成するた
めに用いられる光学露光装置に含まれるシェーダプレー
トの一方の側を凸の曲率の面とすることにより上記整合
誤差をほぼ除去することができる。光学箱（light hous
e）として既知の露光装置の好適実施例は、第２図に示
す基本的な光学素子を有している。
スクリーン構造体が形成される予定の矩形パネル26
は、（ａ）内側表面28を有する面27と、（ｂ）一体的に
形成した周縁の側壁29とを具える。多数の開口が形成さ
れているシャドウマスク30は、取り付け手段31により側
壁29に着脱自在に装着される。公称コーティング軸34を
有し二色感知性のポリビニールアルコールから成るコー
ティング層33を、面27の内側表面28上に形成する。
は、（ａ）内側表面28を有する面27と、（ｂ）一体的に
形成した周縁の側壁29とを具える。多数の開口が形成さ
れているシャドウマスク30は、取り付け手段31により側
壁29に着脱自在に装着される。公称コーティング軸34を
有し二色感知性のポリビニールアルコールから成るコー
ティング層33を、面27の内側表面28上に形成する。
この技術分野で既知のように、マスク30から特定の距
離Ｐだけ離間して点光源35を位置決めし、マスク自身を
コーティング層33から距離Ｑだけ離間させる。マスク30
はスリットアレイ又は貫通する伸長状開口37を有し、こ
れら開口又はスリットの長手方向は、第１図に示すよう
に矩形パネル27の短軸にほぼ平行にする。光源35は、一
例として液体冷却型の高強度放電ランプとする。薄い水
晶板36を光源35の前側に配置し、ランプ周囲の冷却用液
体を収容する。
離Ｐだけ離間して点光源35を位置決めし、マスク自身を
コーティング層33から距離Ｑだけ離間させる。マスク30
はスリットアレイ又は貫通する伸長状開口37を有し、こ
れら開口又はスリットの長手方向は、第１図に示すよう
に矩形パネル27の短軸にほぼ平行にする。光源35は、一
例として液体冷却型の高強度放電ランプとする。薄い水
晶板36を光源35の前側に配置し、ランプ周囲の冷却用液
体を収容する。
主屈折体または公称レンズ軸41を有するレンズ39を、
光源35からコーティング層33に至る光路中に光源から離
間して配置する。光伝達フィルタ43（強度補正フィルタ
又はシェーダプレートとも称せられている）は、公称フ
ィルタ軸45及び光源に向く側に形成した光学的な勾配を
有するコーティング層47を有している。このフィルタ43
はレンズ29から離間して配置する。光源35及び軸34,41,
45は共用の軸49として一致させる。
光源35からコーティング層33に至る光路中に光源から離
間して配置する。光伝達フィルタ43（強度補正フィルタ
又はシェーダプレートとも称せられている）は、公称フ
ィルタ軸45及び光源に向く側に形成した光学的な勾配を
有するコーティング層47を有している。このフィルタ43
はレンズ29から離間して配置する。光源35及び軸34,41,
45は共用の軸49として一致させる。
本発明においては、フィルタ43（すなわちシェーダプ
レート）の上側面48をわずかに凸面とする。一例とし
て、27インチの対角面を有すると共に上述した型式のIM
Sを有するインライン型陰極線管の場合であって、フィ
ルタ（シェーダプレート）が約25cmの径を有すると共に
球面48が形成されこの球面48の曲率半径が約19〜22mの
範囲の場合、径方向の内方に向けて変位しIMSの作製過
程でアニーリング工程を省いた場合に生ずる整合誤差を
十分に補償し得る均一な露光パターンが形成された。
レート）の上側面48をわずかに凸面とする。一例とし
て、27インチの対角面を有すると共に上述した型式のIM
Sを有するインライン型陰極線管の場合であって、フィ
ルタ（シェーダプレート）が約25cmの径を有すると共に
球面48が形成されこの球面48の曲率半径が約19〜22mの
範囲の場合、径方向の内方に向けて変位しIMSの作製過
程でアニーリング工程を省いた場合に生ずる整合誤差を
十分に補償し得る均一な露光パターンが形成された。
面48が球面ではなくシリンドリカルであり、他の条件
が同一の場合、ほぼ同一の補償効果を達成するには約５
〜7.5mの曲率半径が必要である。
が同一の場合、ほぼ同一の補償効果を達成するには約５
〜7.5mの曲率半径が必要である。
本発明による作用効果を確認するため、24個の陰極線
管から成る２個の陰極線群について試験を行なった。用
いた陰極線管は27インチの上述した型式のインライン型
陰極線管である。両方の陰極線管群について、IMSはア
ニール処理が施されていない。しかしながら、第１の組
については平坦な上面を有するシェーダプレートを用い
てスクリーンを作製し、第２の組については上面として
20mの曲率半径を有する凸形の球面を有するシェーダプ
レートを用いた。
管から成る２個の陰極線群について試験を行なった。用
いた陰極線管は27インチの上述した型式のインライン型
陰極線管である。両方の陰極線管群について、IMSはア
ニール処理が施されていない。しかしながら、第１の組
については平坦な上面を有するシェーダプレートを用い
てスクリーンを作製し、第２の組については上面として
20mの曲率半径を有する凸形の球面を有するシェーダプ
レートを用いた。
主軸すなわちｘ軸（第１図参照）に平行な整合誤差
は、各陰極線について117個の点から成るアレイを陰極
線管の面に配置する標準試験技術を用いて測定した。ま
た、各点の整合誤差は、電子的平均化法を用いて決定
し、電子ビームを最大強度位置まで移動させるのに必要
な電圧を測定し、この電圧を較正によって決定した距離
に対応させて決定した。
は、各陰極線について117個の点から成るアレイを陰極
線管の面に配置する標準試験技術を用いて測定した。ま
た、各点の整合誤差は、電子的平均化法を用いて決定
し、電子ビームを最大強度位置まで移動させるのに必要
な電圧を測定し、この電圧を較正によって決定した距離
に対応させて決定した。
測定結果を第３図及び第４図に示す。第３図及び第４
図において各点の平均整合誤差をベクトルで表示し、ベ
クトルの長さは1cmに対して10μｍのスケールで整合誤
差に比例する。図面を明瞭にするため、図示の整合誤差
は測定した全誤差ではなく、アニール処理したIMSを有
する陰極線管で通常発生する整合誤差に対する差を表示
した。従って、湾曲したシェーダプレートによる効果が
一層明瞭に表わされている。
図において各点の平均整合誤差をベクトルで表示し、ベ
クトルの長さは1cmに対して10μｍのスケールで整合誤
差に比例する。図面を明瞭にするため、図示の整合誤差
は測定した全誤差ではなく、アニール処理したIMSを有
する陰極線管で通常発生する整合誤差に対する差を表示
した。従って、湾曲したシェーダプレートによる効果が
一層明瞭に表わされている。
第３図から明らかなように、アニール処理を省略した
ことにより発生した誤差は陰極線の角部で最大であり、
約150μｍの螢光ストリップ幅と比べて約17.5μｍの大
きさである。一方、第４図はシェーダプレートを球面曲
率に形成した陰極線管についての試験結果である。第４
図から明らかなように、整合誤差は顕著に減少した。
ことにより発生した誤差は陰極線の角部で最大であり、
約150μｍの螢光ストリップ幅と比べて約17.5μｍの大
きさである。一方、第４図はシェーダプレートを球面曲
率に形成した陰極線管についての試験結果である。第４
図から明らかなように、整合誤差は顕著に減少した。
第１図はIMSを有するインライン形CRTを一部切り欠いて
示す斜視図、 第２図は本発明による露光装置の一例の構成を示す線
図、 第３図は第１図に示す型式のアニールしないIMSを用い
たインライン形CRTの整合誤差の状況を示す線図、 第４図は球面曲率を有するシェーダプレートを用いる第
２図の装置により整合誤差を除去した状態を示す線図で
ある。 26……パネル 29……側壁 30……マスク 33……コーティング層 35……光源 39……レンズ 43……フィルタ 48……上面
示す斜視図、 第２図は本発明による露光装置の一例の構成を示す線
図、 第３図は第１図に示す型式のアニールしないIMSを用い
たインライン形CRTの整合誤差の状況を示す線図、 第４図は球面曲率を有するシェーダプレートを用いる第
２図の装置により整合誤差を除去した状態を示す線図で
ある。 26……パネル 29……側壁 30……マスク 33……コーティング層 35……光源 39……レンズ 43……フィルタ 48……上面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード アーウィン ブラウン アメリカ合衆国ニューヨーク州 13248 セネカ フォールス ステイト スト リート 111 (72)発明者 マーク デニース ドロジ アメリカ合衆国ニューヨーク州 14541 ラマールス ルート 89 5778 (56)参考文献 特開 昭62−157636（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−73836（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−134552（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 9/227
Claims (13)
- 【請求項１】陰極線管のマスク−パネル組立体を照明す
ると共にパネル面上の感光層をマスクの開口を通過する
光のパターンで露光する露光装置であって、共通の光軸
に沿ってそれぞれ配置した光源と、補正レンズと、シェ
ーダプレートとを具える露光装置において、前記共通の
光軸の補正レンズとパネルとの間に配置され、ほぼ均一
な曲率を有する１個の凸面を有する静止した光学素子を
含むことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記曲率を球面としたことを特徴とする請
求項１に記載の露光装置。 - 【請求項３】前記曲率半径がほぼ10〜22mの範囲にある
ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。 - 【請求項４】前記曲率がシリンドリカルであることを特
徴とする請求項１に記載の露光装置。 - 【請求項５】前記曲率半径がほぼ５〜7.5mの範囲にある
ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。 - 【請求項６】前記光学素子をシェーダプレートとしたこ
とを特徴とする請求項１から５までのいずれか１項に記
載の露光装置。 - 【請求項７】光源と、補正レンズと、シェーダプレート
とを、マスク−パネル組立体に対して同軸の共通の光軸
に沿って配置し、前記補正レンズおよびシェーダプレー
トを前記光源と感光層との間の光路中に配置し、光源を
点灯して陰極線管のマスク−パネル組立体を照明し、パ
ネル面上の感光層を光パターンで露光する方法であっ
て、ほぼ均一な曲率の１個の凸面を有する静止した光学
素子が前記共通の光軸の補正レンズとパネルとの間に配
置されていることを特徴とする露光方法。 - 【請求項８】前記マスク−パネル組立体のパネル面が27
インチの対角長を有することを特徴とする請求項７に記
載の露光方法。 - 【請求項９】前記光学素子の曲率を球面とすると共に、
約10〜22mの範囲のものとしたことを特徴とする請求項
７又は８に記載の露光方法。 - 【請求項１０】前記マスクの開口が、垂直方向に延在す
る列状に配置したスロット形態をしていることを特徴と
する請求項８に記載の露光方法。 - 【請求項１１】前記光学素子の曲率をシリンドリカルと
し、この光学素子が垂直方向に延在する列と直交するシ
リンドリカル軸を有するように配置したことを特徴とす
る請求項10に記載の露光方法。 - 【請求項１２】前記曲率半径が５〜7.5mの範囲にあるこ
とを特徴とする請求項11に記載の露光方法。 - 【請求項１３】前記光学素子をシェーダプレートとした
ことを特徴とする請求項７から12までのいずれか１項に
記載の露光方法。
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