JP3126070B2 - 平版印刷版基体及びそれを用いた平版印刷版の製造法 - Google Patents
平版印刷版基体及びそれを用いた平版印刷版の製造法Info
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- JP3126070B2 JP3126070B2 JP04156078A JP15607892A JP3126070B2 JP 3126070 B2 JP3126070 B2 JP 3126070B2 JP 04156078 A JP04156078 A JP 04156078A JP 15607892 A JP15607892 A JP 15607892A JP 3126070 B2 JP3126070 B2 JP 3126070B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
- G03F7/07—Silver salts used for diffusion transfer
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【0001】本発明は親水性層で被覆された支持体を含
有する平版印刷版基及びそれを用いた平版印刷版を製造
する方法に関する。
有する平版印刷版基及びそれを用いた平版印刷版を製造
する方法に関する。
【0002】平版印刷は特別に作られた面から印刷する
方法であり、その面の或る部域は平版印刷インクを受容
でき、一方他の部域は、水で湿潤されたとき、インクを
受容しない。インクを受容する部域は印刷像部域を形成
し、インク不受容性部域は背景部域を形成する。
方法であり、その面の或る部域は平版印刷インクを受容
でき、一方他の部域は、水で湿潤されたとき、インクを
受容しない。インクを受容する部域は印刷像部域を形成
し、インク不受容性部域は背景部域を形成する。
【0003】数種の支持体が、平版印刷版の製造のため
に使用できる。普通の支持体はAl又はZnの如き金属
支持体である。しかしながら、印刷版の親水性背景を形
成するため例えば親水性層で被覆された紙基体又はポリ
エステルフイルム支持体の如き他の支持体が知られてい
る(例えばDE−P1900469、DE−P2030
634及びUS−P3971660参照)。
に使用できる。普通の支持体はAl又はZnの如き金属
支持体である。しかしながら、印刷版の親水性背景を形
成するため例えば親水性層で被覆された紙基体又はポリ
エステルフイルム支持体の如き他の支持体が知られてい
る(例えばDE−P1900469、DE−P2030
634及びUS−P3971660参照)。
【0004】これらの材料における親水性層として、例
えばGB−P1419512、FR−P230035
4、US−P3971660及びUS−P428470
5に記載されている如くポリビニルアルコール及び加水
分解したテトラエチルオルソシリケート、及び又二酸化
ケイ素及び/又は二酸化チタンも含有する層を使用する
ことが知られている。この種の平版印刷版基体は、平版
印刷版を作るための幾つかの方法、例えば前増感した
版、銀塩拡散転写反転(以後DTRと略記する)法を基
本にした平版印刷版、電子写真像形成法等によって作ら
れた平版印刷版の製造に使用できる。
えばGB−P1419512、FR−P230035
4、US−P3971660及びUS−P428470
5に記載されている如くポリビニルアルコール及び加水
分解したテトラエチルオルソシリケート、及び又二酸化
ケイ素及び/又は二酸化チタンも含有する層を使用する
ことが知られている。この種の平版印刷版基体は、平版
印刷版を作るための幾つかの方法、例えば前増感した
版、銀塩拡散転写反転(以後DTRと略記する)法を基
本にした平版印刷版、電子写真像形成法等によって作ら
れた平版印刷版の製造に使用できる。
【0005】しかしながら前記平版印刷版基体の一般的
欠点は、その幾つかが高度に毒性であるテトラアルキル
オルソシリケートの使用にある。
欠点は、その幾つかが高度に毒性であるテトラアルキル
オルソシリケートの使用にある。
【0006】前増感した版の製造のための普通の方法に
おいて、親水性層、例えば前述した如き層を設けた支持
体は、感光性組成物の薄層で被覆される。そのための被
覆は、ジアゾ化合物、重クロム酸塩増感親水性コロイド
及び多種の合成光重合体を含有する感光性重合体層を含
む。特にジアゾ増感系が広く使用されている。これらの
材料は、米国ニューヨークのWiley 1965年発行、J.
Kosar 著、Light −Sensitive Systems の第7章に
広く調査されている。
おいて、親水性層、例えば前述した如き層を設けた支持
体は、感光性組成物の薄層で被覆される。そのための被
覆は、ジアゾ化合物、重クロム酸塩増感親水性コロイド
及び多種の合成光重合体を含有する感光性重合体層を含
む。特にジアゾ増感系が広く使用されている。これらの
材料は、米国ニューヨークのWiley 1965年発行、J.
Kosar 著、Light −Sensitive Systems の第7章に
広く調査されている。
【0007】一般に使用されるネガ作用ジアゾ増感材料
は、紫外及び青色放射線に露光されたとき重合体を硬化
するためのジアゾ化合物の能力を基本にしている。それ
らの硬化特性に基づいた平版印刷版の製造のため使用さ
れているジアゾ化合物には例えばジアゾニウム塩があ
り、その光分解生成物が直接的に重合体(天然コロイド
又は合成樹脂)及びジアゾニウム重合体を硬化できる。
ジアゾニウム基を含有する重合体は大きな構造を有する
が、それらはイオン性ジアゾニウム基の存在によって水
可溶性のまま残りうる。これらの基は露光によって分解
されたとき、不溶性樹脂を形成する。特に有用なジアゾ
ニウム重合体には、カルボニル化合物、例えばホルムア
ルデヒドの如きアルデヒドと、例えばp−アミノジフエ
ニルアミンのジアゾニウム塩との重縮合生成物がある。
これらの縮合生成物は通常ジアゾ樹脂と命名されてい
る。これらの系においては、所望によってジアゾ樹脂被
覆に重合体結合剤が加えられる。
は、紫外及び青色放射線に露光されたとき重合体を硬化
するためのジアゾ化合物の能力を基本にしている。それ
らの硬化特性に基づいた平版印刷版の製造のため使用さ
れているジアゾ化合物には例えばジアゾニウム塩があ
り、その光分解生成物が直接的に重合体(天然コロイド
又は合成樹脂)及びジアゾニウム重合体を硬化できる。
ジアゾニウム基を含有する重合体は大きな構造を有する
が、それらはイオン性ジアゾニウム基の存在によって水
可溶性のまま残りうる。これらの基は露光によって分解
されたとき、不溶性樹脂を形成する。特に有用なジアゾ
ニウム重合体には、カルボニル化合物、例えばホルムア
ルデヒドの如きアルデヒドと、例えばp−アミノジフエ
ニルアミンのジアゾニウム塩との重縮合生成物がある。
これらの縮合生成物は通常ジアゾ樹脂と命名されてい
る。これらの系においては、所望によってジアゾ樹脂被
覆に重合体結合剤が加えられる。
【0008】ジアゾ樹脂と組合せた加水分解されたテト
ラアルキルオルソシリケートで硬化されたポリビニルア
ルコールの親水性層の使用は、淡水で処理されたとき版
の非像部分にジアゾ樹脂が残り、これが印刷中汚れを生
ぜしめうる欠点を有する。この欠点は多分使用した親水
性層へのジアゾ樹脂の強力な吸着に原因があるようであ
る。
ラアルキルオルソシリケートで硬化されたポリビニルア
ルコールの親水性層の使用は、淡水で処理されたとき版
の非像部分にジアゾ樹脂が残り、これが印刷中汚れを生
ぜしめうる欠点を有する。この欠点は多分使用した親水
性層へのジアゾ樹脂の強力な吸着に原因があるようであ
る。
【0009】親水性層のための硬化剤として使用される
テトラアルキルオルソシリケート剤に起因しうる上述し
た平版印刷版基体の欠点のため、親水性層を他のもので
置換する計画がなされて来た。例えばテトラアルキルオ
ルソシリケート硬化剤を別の硬化剤例えばホルムアルデ
ヒド又はグリオキサールの如きアルデヒドで置換する計
画がなされた。これらの別の硬化剤は、特に前増感した
版の維持性を損う親水性層の許容しうる硬化レベルを得
るためにそれらを大量に使用しなければならない欠点を
有する。
テトラアルキルオルソシリケート剤に起因しうる上述し
た平版印刷版基体の欠点のため、親水性層を他のもので
置換する計画がなされて来た。例えばテトラアルキルオ
ルソシリケート硬化剤を別の硬化剤例えばホルムアルデ
ヒド又はグリオキサールの如きアルデヒドで置換する計
画がなされた。これらの別の硬化剤は、特に前増感した
版の維持性を損う親水性層の許容しうる硬化レベルを得
るためにそれらを大量に使用しなければならない欠点を
有する。
【0010】本発明は新規な種類の親水性層で被覆した
支持体を含む平版印刷版基体を提供することにある。
支持体を含む平版印刷版基体を提供することにある。
【0011】本発明の第二の目的は、新規な種類の親水
性層及び感光性層で被覆した支持体を含む像形成材料を
提供することにある。
性層及び感光性層で被覆した支持体を含む像形成材料を
提供することにある。
【0012】本発明の第三の目的は、新規な種類の親水
性層及び感光性層で被覆した支持体を含む像形成材料の
情報に従った露光及び現像を含む平版印刷版の製造方法
を提供することにある。
性層及び感光性層で被覆した支持体を含む像形成材料の
情報に従った露光及び現像を含む平版印刷版の製造方法
を提供することにある。
【0013】本発明の更に他の目的は以下の説明から明
らかになるであろう。
らかになるであろう。
【0014】本発明によれば、少なくとも1個の遊離水
素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個含
有する基で変性されたデキストラン又はプルランを含有
する硬化した親水性層を設けた支持体を含む平版印刷版
を提供する。
素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個含
有する基で変性されたデキストラン又はプルランを含有
する硬化した親水性層を設けた支持体を含む平版印刷版
を提供する。
【0015】本発明によれば(i) 少なくとも1個の遊離
水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個
含有する基で変性されたデキストラン又はプルランを含
有する硬化した親水性層及び(ii)感光性層を設けた支持
体を含有する像形成材料を提供する。
水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個
含有する基で変性されたデキストラン又はプルランを含
有する硬化した親水性層及び(ii)感光性層を設けた支持
体を含有する像形成材料を提供する。
【0016】本発明によれば、(i) 少なくとも1個の遊
離水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1
個含有する基で変性されたデキストラン又はプルランを
含む硬化した親水性層及び(ii)感光性層を設けた支持体
を含む像形成材料を情報に従って露光する工程、及び続
く前記情報に従って露光された像形成材料を現像する工
程を含む平版印刷版を製造する方法も提供する。
離水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1
個含有する基で変性されたデキストラン又はプルランを
含む硬化した親水性層及び(ii)感光性層を設けた支持体
を含む像形成材料を情報に従って露光する工程、及び続
く前記情報に従って露光された像形成材料を現像する工
程を含む平版印刷版を製造する方法も提供する。
【0017】本発明により使用するのが好ましいのは、
ヒドロキシ基の少なくとも幾つかが下記基の一つ以上で
変性されているデキストラン又はプルランである:
ヒドロキシ基の少なくとも幾つかが下記基の一つ以上で
変性されているデキストラン又はプルランである:
【0018】−O−R1 −O−CO−R2
【0019】式中R1は少なくとも1個の遊離水素原子
を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個含有
する有機残基、例えばアミン置換アルキル基、アミン置
換アルキルアリール基等を表わし、R2はR1について
示した定義の一つを有するか、又は−OR3もしくは−
N(R4)R5を表わし、R3はR1について示した定
義の一つを有し、R4及びR5の各々は同じであっても
異なってもよく、基−O−CO−R2が少なくとも1個
の遊離水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくと
も1個含有するという前提条件の下で、水素又は有機基
例えばアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、アルキルアリール基、少なくとも1個の遊
離水素原子を有するアミン又はアミド官能基を少なくと
も1個含有する有機残基を表わす。
を有するアミン又はアミド官能基を少なくとも1個含有
する有機残基、例えばアミン置換アルキル基、アミン置
換アルキルアリール基等を表わし、R2はR1について
示した定義の一つを有するか、又は−OR3もしくは−
N(R4)R5を表わし、R3はR1について示した定
義の一つを有し、R4及びR5の各々は同じであっても
異なってもよく、基−O−CO−R2が少なくとも1個
の遊離水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくと
も1個含有するという前提条件の下で、水素又は有機基
例えばアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、アルキルアリール基、少なくとも1個の遊
離水素原子を有するアミン又はアミド官能基を少なくと
も1個含有する有機残基を表わす。
【0020】プルランは、アウレオバシジウム・プルラ
ン(Aureobasidium pullulan)種(プルラリア・プルラ
ン)の微生物によって作られ、α−1,6−グルコシド
結合によって接続されたマルトトリオース反復単位を含
有するポリサツカライドである。プルランは、部分的に
加水分解された澱粉の醗酵又はシユクロースのバクテリ
ア醗酵によって工業的規模で一般に製造される。プルラ
ンは例えばShodex , Pharmacosmos から市場で入手しう
る。
ン(Aureobasidium pullulan)種(プルラリア・プルラ
ン)の微生物によって作られ、α−1,6−グルコシド
結合によって接続されたマルトトリオース反復単位を含
有するポリサツカライドである。プルランは、部分的に
加水分解された澱粉の醗酵又はシユクロースのバクテリ
ア醗酵によって工業的規模で一般に製造される。プルラ
ンは例えばShodex , Pharmacosmos から市場で入手しう
る。
【0021】本発明により使用するのに好適なデキスト
ラン又はプルランの例には、ヒドロキシル基の幾つかが
下表1に示す基の一つに変性されているデキストラン又
はプルランである。
ラン又はプルランの例には、ヒドロキシル基の幾つかが
下表1に示す基の一つに変性されているデキストラン又
はプルランである。
【0022】 表 1 番 号 変 性 基 1 −O−CH2 −CH2 −NH2 2 −O−CO−NH−CH2 −CH2 −NH2 3 −O −CO−NH−CH2 −CH2 −N(CH2 − CH2−NH2 )2 4 −O −CO−NH−( CH2 −CH2 −O)n − CH2− CH2−NH2 (nは1〜50の整数を表わす) 5 −O−CH2 −CH2 −NH−CH2 −CH2 −NH2
【0023】変性したデキストラン又はプルランは、デ
キストランと例えばアルキル化剤、クロロホルメート、
酸ハライド、カルボン酸等との反応によって製造でき
る。
キストランと例えばアルキル化剤、クロロホルメート、
酸ハライド、カルボン酸等との反応によって製造でき
る。
【0024】本発明によれば、前記親水性層はアルデヒ
ド例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒド、グリ
オキサール又はそれらの混合物で硬化できる。或いは硬
化のために例えばデキストランのマラプラード酸化の酸
化生成物を使用できる。硬化度は意のままに調整でき
る。
ド例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒド、グリ
オキサール又はそれらの混合物で硬化できる。或いは硬
化のために例えばデキストランのマラプラード酸化の酸
化生成物を使用できる。硬化度は意のままに調整でき
る。
【0025】前記親水性層は層の多孔性及び機械的強度
を増大する物質も含有するのが好ましい。このためにコ
ロイドシリカを使用できる。使用するコロイドシリカは
例えば40nm以下の、例えば20nmの平均粒度を有
する市場で入手しうるコロイドシリカの水分散液の形で
あることができる。更にコロイドシリカより大なる大き
さの不活性粒子、例えば J. Colloid and Interface
Sci. 第26巻(1968年)第62頁〜第69頁に記
載されている如き Stoeber により作られたシリカ、又
はアルミナ粒子、又は二酸化チタンもしくは他の重金属
酸化物の粒子である少なくとも100nmの平均直径を
有する粒子を加えることができる。これらの粒子を混入
することにより、顕微鏡的な岡及び谷からなる均一な粗
い組織を層の表面に与え、これらは背景部域に水に対す
る貯蔵場所として作用する。しかしながらジアゾ樹脂又
はジアゾニウム塩を含有する感光性層を親水性層に付与
するとき、親水性層にシリカ粒子を混入しないのが有利
である。後者の場合において、0.3μm〜0.5μm
の平均粒度を有する二酸化チタン及び他の重金属酸化物
が好ましい。
を増大する物質も含有するのが好ましい。このためにコ
ロイドシリカを使用できる。使用するコロイドシリカは
例えば40nm以下の、例えば20nmの平均粒度を有
する市場で入手しうるコロイドシリカの水分散液の形で
あることができる。更にコロイドシリカより大なる大き
さの不活性粒子、例えば J. Colloid and Interface
Sci. 第26巻(1968年)第62頁〜第69頁に記
載されている如き Stoeber により作られたシリカ、又
はアルミナ粒子、又は二酸化チタンもしくは他の重金属
酸化物の粒子である少なくとも100nmの平均直径を
有する粒子を加えることができる。これらの粒子を混入
することにより、顕微鏡的な岡及び谷からなる均一な粗
い組織を層の表面に与え、これらは背景部域に水に対す
る貯蔵場所として作用する。しかしながらジアゾ樹脂又
はジアゾニウム塩を含有する感光性層を親水性層に付与
するとき、親水性層にシリカ粒子を混入しないのが有利
である。後者の場合において、0.3μm〜0.5μm
の平均粒度を有する二酸化チタン及び他の重金属酸化物
が好ましい。
【0026】本発明により使用するための前記親水性層
は各種の支持体に適用できる。支持体の例には例えば写
真フイルム基体例えば下塗したポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、セルロースアセテートフイルム、上に金
属層もしくは付着を有するプラスチツク、金属支持体例
えばアルミニウム及びポリオレフイン(例えばポリエチ
レン)被覆紙があり、そのポリオレフイン面は平版印刷
被覆の接着を改良するためコロナ放電を受けさせかつ/
又は粗面化されているのがよい。前記親水性層は厚さ1
μm〜20μmでこれらの支持体に被覆するのが好まし
い。
は各種の支持体に適用できる。支持体の例には例えば写
真フイルム基体例えば下塗したポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、セルロースアセテートフイルム、上に金
属層もしくは付着を有するプラスチツク、金属支持体例
えばアルミニウム及びポリオレフイン(例えばポリエチ
レン)被覆紙があり、そのポリオレフイン面は平版印刷
被覆の接着を改良するためコロナ放電を受けさせかつ/
又は粗面化されているのがよい。前記親水性層は厚さ1
μm〜20μmでこれらの支持体に被覆するのが好まし
い。
【0027】本発明の平版印刷版基体は、例えばジアゾ
樹脂、ハロゲン化銀乳剤層、光重合性もしくは光架橋性
組成物等を含む一つ以上の感光性層で被覆できる。本発
明の一つの実施態様によれば、像形成材料は、本発明の
平版印刷版基体に光重合性組成物を含有する層及びハロ
ゲン化銀乳剤層を付与することによって作られる。ハロ
ゲン化銀乳剤層の像に従った露光及び続く現像後に、銀
像が得られる。かくして得られた銀像は、続いて像形成
材料の全面露光中光重合性組成物に対するマスクとして
使用される。最後に銀像及び非露光光重合性組成物を除
去し、かくして平版印刷版が得られる。
樹脂、ハロゲン化銀乳剤層、光重合性もしくは光架橋性
組成物等を含む一つ以上の感光性層で被覆できる。本発
明の一つの実施態様によれば、像形成材料は、本発明の
平版印刷版基体に光重合性組成物を含有する層及びハロ
ゲン化銀乳剤層を付与することによって作られる。ハロ
ゲン化銀乳剤層の像に従った露光及び続く現像後に、銀
像が得られる。かくして得られた銀像は、続いて像形成
材料の全面露光中光重合性組成物に対するマスクとして
使用される。最後に銀像及び非露光光重合性組成物を除
去し、かくして平版印刷版が得られる。
【0028】本発明の最も好ましい実施態様によれば、
前増感した像形成材料を得るため、ジアゾ樹脂又は低分
子量ジアゾニウム塩を含有する感光性層を本発明の平版
印刷版基体に適用する。本発明において有用なジアゾ樹
脂の例には感光性物質として芳香族ジアゾニウム塩の縮
合生成物を含む。かかる縮合生成物は知られており、例
えばドイツ特許第1214086号に記載されている。
それらは一般に、多核芳香族ジアゾニウム化合物、好ま
しくは置換又は非置換ジフエニルアミン−4−ジアゾニ
ウム塩と活性カルボニル化合物、好ましくはホルムアル
デヒドと、強力な酸性媒体中での縮合によって製造され
る。本発明において使用するための低分子量ジアゾニウ
ム塩の例には、ベンチジンテトラゾニウムクロライド、
3,3′−ジメチルベンチジンテトラゾニウムクロライ
ド、3,3′−ジメトキシベンチジンテトラゾニウムク
ロライド、4,4′−ジアミノジフエニルアミンテトラ
ゾニウムクロライド、3,3′−ジエチルベンチジンテ
トラゾニウムサルフエート、4−アミノジフエニルアミ
ンジアゾニウムサルフエート、4−アミノジフエニルア
ミンジアゾニウムクロライド、4−ピペリジノアニリン
ジアゾニウムサルフエート、4−ジエチルアミノアニリ
ンジアゾニウムサルフエート、及びジアゾジフエニルア
ミン及びホルムアルデヒドのオリゴマー縮合生成物を含
む。
前増感した像形成材料を得るため、ジアゾ樹脂又は低分
子量ジアゾニウム塩を含有する感光性層を本発明の平版
印刷版基体に適用する。本発明において有用なジアゾ樹
脂の例には感光性物質として芳香族ジアゾニウム塩の縮
合生成物を含む。かかる縮合生成物は知られており、例
えばドイツ特許第1214086号に記載されている。
それらは一般に、多核芳香族ジアゾニウム化合物、好ま
しくは置換又は非置換ジフエニルアミン−4−ジアゾニ
ウム塩と活性カルボニル化合物、好ましくはホルムアル
デヒドと、強力な酸性媒体中での縮合によって製造され
る。本発明において使用するための低分子量ジアゾニウ
ム塩の例には、ベンチジンテトラゾニウムクロライド、
3,3′−ジメチルベンチジンテトラゾニウムクロライ
ド、3,3′−ジメトキシベンチジンテトラゾニウムク
ロライド、4,4′−ジアミノジフエニルアミンテトラ
ゾニウムクロライド、3,3′−ジエチルベンチジンテ
トラゾニウムサルフエート、4−アミノジフエニルアミ
ンジアゾニウムサルフエート、4−アミノジフエニルア
ミンジアゾニウムクロライド、4−ピペリジノアニリン
ジアゾニウムサルフエート、4−ジエチルアミノアニリ
ンジアゾニウムサルフエート、及びジアゾジフエニルア
ミン及びホルムアルデヒドのオリゴマー縮合生成物を含
む。
【0029】前記感光性層は結合剤例えばポリビニルア
ルコールも含有するのが好ましく、平版印刷版基体に
0.2μm〜5μmの厚さで適用するとよい。前記前増
感した像形成材料は有利には、水溶性染料例えばローダ
ミン、スーダンブルー、メチレンブルー、エオシン又は
トリフエニルメタン染料例えばクリスタルバイオレツ
ト、ビクトリアピユアブルー、マラカイトグリーン、メ
チルバイオレツト及びフクシン、又は本質的に水不溶性
である染料顔料を含む。前記染料及び/又は染料顔料
は、前記前増感像形成材料の支持体上に含まれる任意の
層中に存在させることができるが、前記親水性層及び/
又は感光性層中に存在させるのが好ましい。
ルコールも含有するのが好ましく、平版印刷版基体に
0.2μm〜5μmの厚さで適用するとよい。前記前増
感した像形成材料は有利には、水溶性染料例えばローダ
ミン、スーダンブルー、メチレンブルー、エオシン又は
トリフエニルメタン染料例えばクリスタルバイオレツ
ト、ビクトリアピユアブルー、マラカイトグリーン、メ
チルバイオレツト及びフクシン、又は本質的に水不溶性
である染料顔料を含む。前記染料及び/又は染料顔料
は、前記前増感像形成材料の支持体上に含まれる任意の
層中に存在させることができるが、前記親水性層及び/
又は感光性層中に存在させるのが好ましい。
【0030】本発明の好ましい実施態様の前増感像形成
材料の露光は、有利には所望により250〜500nm
の波長範囲での青色光と組合せた形の紫外線を用いて行
う。有用な露光源は例えば1000Wの高圧又は中圧ハ
ロゲン水銀蒸気ランプである。大部分の平版印刷法はオ
フセツト法によって行われるから、像形成材料は、その
上に得られる像が正しく読めるような方法で露光する。
露光は受光器又は接触露光を用いる露光であることがで
きる。
材料の露光は、有利には所望により250〜500nm
の波長範囲での青色光と組合せた形の紫外線を用いて行
う。有用な露光源は例えば1000Wの高圧又は中圧ハ
ロゲン水銀蒸気ランプである。大部分の平版印刷法はオ
フセツト法によって行われるから、像形成材料は、その
上に得られる像が正しく読めるような方法で露光する。
露光は受光器又は接触露光を用いる露光であることがで
きる。
【0031】ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩は、露光し
たとき水溶性から水不溶性に変換され(ジアゾニウム基
の破壊により)、そして更にジアゾの光分解生成物が重
合体結合剤又はジアゾ樹脂の架橋程度の増進を誘起で
き、これによって像パターンの形で面を水溶性から水不
溶性に選択的に変えることができる。非露光部域は未変
化即ち水溶性のまま残る。
たとき水溶性から水不溶性に変換され(ジアゾニウム基
の破壊により)、そして更にジアゾの光分解生成物が重
合体結合剤又はジアゾ樹脂の架橋程度の増進を誘起で
き、これによって像パターンの形で面を水溶性から水不
溶性に選択的に変えることができる。非露光部域は未変
化即ち水溶性のまま残る。
【0032】印刷機に装着するとき、印刷版は先ず水性
フアンテン溶液で洗浄する。このフアンテン溶液を、水
溶性である残存非露光ジアゾによって汚されることから
防止するため、非露光ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩
は、印刷版を印刷機に装着する前にそれから除去すべき
である。この除去は像形成材料を淡水で洗うことによっ
て達成できる。
フアンテン溶液で洗浄する。このフアンテン溶液を、水
溶性である残存非露光ジアゾによって汚されることから
防止するため、非露光ジアゾ樹脂又はジアゾニウム塩
は、印刷版を印刷機に装着する前にそれから除去すべき
である。この除去は像形成材料を淡水で洗うことによっ
て達成できる。
【0033】本発明の別の実施態様によれば、物理現像
核の層を本発明の平版印刷版基体に適用するとよい。本
発明により使用するのに好適な物理現像核には例えばコ
ロイド銀、重金属硫化物例えば硫化銀、硫化ニッケル、
硫化パラジウム、硫化コバルト、硫化亜鉛、硫化銀ニッ
ケル等がある。物理現像核の層は親水性結合剤を含有し
てもよいが、結合剤を含有しないのが好ましい。像受容
層中に含有される物理現像核は、本発明により使用する
親水性層中に部分的に又は完全に存在させることもでき
る。かくして作った材料はDTR法における像受容層と
して使用できる。この方法によれば、ハロゲン化銀乳剤
層を含有する像に従って露光された写真材料は、前記像
受容材料と接触させ、ハロゲン化銀溶媒例えばチオサル
フエート又はチオシアネート及び1種以上の現像主薬の
存在下に現像する。両材料は次に分離し、銀像を像受容
材料上に含まれる物理現像核の層中で形成される。前記
受容層中に銀像を得るためのこの方法についての更に詳
細は例えばUS−P4649096又はEP−A397
926に見出すことができる。前記銀像は親油性であ
り、一方像受容材料の背景は疎水性であり、かくして平
版印刷版を生ぜしめる。しかしながら、いわゆる疎水性
化剤で銀像を処理することによって銀像の親油性を改良
することが有利であることがある。US−P37767
28には疎水性化剤として複素環式メルカプト化合物例
えば2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール誘
導体の使用が記載されている。US−P4563410
には1種以上のメルカプトトリアゾール又はメルカプト
テトラゾール誘導体を含有する疎水性化液が記載されて
いる。
核の層を本発明の平版印刷版基体に適用するとよい。本
発明により使用するのに好適な物理現像核には例えばコ
ロイド銀、重金属硫化物例えば硫化銀、硫化ニッケル、
硫化パラジウム、硫化コバルト、硫化亜鉛、硫化銀ニッ
ケル等がある。物理現像核の層は親水性結合剤を含有し
てもよいが、結合剤を含有しないのが好ましい。像受容
層中に含有される物理現像核は、本発明により使用する
親水性層中に部分的に又は完全に存在させることもでき
る。かくして作った材料はDTR法における像受容層と
して使用できる。この方法によれば、ハロゲン化銀乳剤
層を含有する像に従って露光された写真材料は、前記像
受容材料と接触させ、ハロゲン化銀溶媒例えばチオサル
フエート又はチオシアネート及び1種以上の現像主薬の
存在下に現像する。両材料は次に分離し、銀像を像受容
材料上に含まれる物理現像核の層中で形成される。前記
受容層中に銀像を得るためのこの方法についての更に詳
細は例えばUS−P4649096又はEP−A397
926に見出すことができる。前記銀像は親油性であ
り、一方像受容材料の背景は疎水性であり、かくして平
版印刷版を生ぜしめる。しかしながら、いわゆる疎水性
化剤で銀像を処理することによって銀像の親油性を改良
することが有利であることがある。US−P37767
28には疎水性化剤として複素環式メルカプト化合物例
えば2−メルカプト−1,3,4−オキサジアゾール誘
導体の使用が記載されている。US−P4563410
には1種以上のメルカプトトリアゾール又はメルカプト
テトラゾール誘導体を含有する疎水性化液が記載されて
いる。
【0034】更に別の実施態様によれば、本発明との関
連における平版印刷版基体は、次の順序で前述した如き
像受容層及びハロゲン化銀乳剤層を設けることができ
る。例えばポリメチルメタクリレートの親水性非蛋白質
フイルム形成性重合体及び/又は重合体ビーズを含有す
る任意の中間親水性層を、ハロゲン化銀乳剤層と像受容
層の間に設けることができる。像受容層中に含有される
物理現像核は本発明により使用する親水性層中に部分的
に又は完全に存在させることもできる。かくして得られ
た像形成材料は、EP−A410500又はEP−A4
83415に記載された方法により、像に従って露光
し、現像して印刷版を得ることができる。
連における平版印刷版基体は、次の順序で前述した如き
像受容層及びハロゲン化銀乳剤層を設けることができ
る。例えばポリメチルメタクリレートの親水性非蛋白質
フイルム形成性重合体及び/又は重合体ビーズを含有す
る任意の中間親水性層を、ハロゲン化銀乳剤層と像受容
層の間に設けることができる。像受容層中に含有される
物理現像核は本発明により使用する親水性層中に部分的
に又は完全に存在させることもできる。かくして得られ
た像形成材料は、EP−A410500又はEP−A4
83415に記載された方法により、像に従って露光
し、現像して印刷版を得ることができる。
【0035】本発明の平版印刷版基体は、疎水性物質又
は組成物を供与体材料から前記平版印刷版基体へ像に従
って転写する熱転写法における受容材料としても使用で
きる。かかる方法は例えばUS−P3060024、U
S−P3085488、US−P3649268及びE
P−A91200468.6に記載されている。
は組成物を供与体材料から前記平版印刷版基体へ像に従
って転写する熱転写法における受容材料としても使用で
きる。かかる方法は例えばUS−P3060024、U
S−P3085488、US−P3649268及びE
P−A91200468.6に記載されている。
【0036】本発明の更に別の実施態様によれば、例え
ばUS−P3971660及びEP405016に記載
されている如く、トナーは、電子写真法中に本発明の平
版印刷版基体に転写できる。
ばUS−P3971660及びEP405016に記載
されている如く、トナーは、電子写真法中に本発明の平
版印刷版基体に転写できる。
【0037】下記実施例は本発明を示すが、これに限定
するものではない。部は全て他に特記せぬ限り重量によ
る。
するものではない。部は全て他に特記せぬ限り重量によ
る。
【0038】実施例 1 デキストラン1(表1の変性基2)の製造
【0039】重量平均分子量70000g/モルを有す
るデキストラン43gを、同容量のジメチルスルホキサ
イド及びピリジンの乾燥混合物2lに溶解した。この溶
液を0℃に冷却し、43gのp−ニトロフエニルクロロ
ホルメート及び1.5gのジメチルアミノピリジンを加
えた。この混合物を0℃で4時間保ち、次いで1lの
1,2−ジアミノエタンに滴加した。次に形成された反
応混合物を室温で48時間撹拌した。得られた変性され
たデキストランは、3対1容量比のメタノール及びジエ
チルエーテルの混合物中で沈澱させて反応混合物から分
離させ、次いで濾過した。変性デキストランのアミン含
有量は約1.39ミリモル/gであった。
るデキストラン43gを、同容量のジメチルスルホキサ
イド及びピリジンの乾燥混合物2lに溶解した。この溶
液を0℃に冷却し、43gのp−ニトロフエニルクロロ
ホルメート及び1.5gのジメチルアミノピリジンを加
えた。この混合物を0℃で4時間保ち、次いで1lの
1,2−ジアミノエタンに滴加した。次に形成された反
応混合物を室温で48時間撹拌した。得られた変性され
たデキストランは、3対1容量比のメタノール及びジエ
チルエーテルの混合物中で沈澱させて反応混合物から分
離させ、次いで濾過した。変性デキストランのアミン含
有量は約1.39ミリモル/gであった。
【0040】デキストラン2(表1の変性基3)の製造
【0041】重量平均分子量70000g/モルを有す
るデキストラン43gを、同容量のジメチルスルホキサ
イド及びピリジンの混合物2l中に溶解した。この溶液
を0℃に冷却し、43gのp−ニトロフエニルクロロホ
ルメート及び1.5gのジメチルアミノピリジンを加え
た。この混合物を0℃で4時間保ち、次いで375ml
のトリス(アミノエチル)アミンに加えた。次に形成さ
れた反応混合物を室温で48時間撹拌した。得られた変
性されたデキストランを3対1のメタノール及びジエチ
ルエーテルの容量混合物中で沈澱によって反応混合物か
ら分離させ、次いで濾過した。変性デキストラン中のア
ミン含有量は約1.77ミリモル/gであった。
るデキストラン43gを、同容量のジメチルスルホキサ
イド及びピリジンの混合物2l中に溶解した。この溶液
を0℃に冷却し、43gのp−ニトロフエニルクロロホ
ルメート及び1.5gのジメチルアミノピリジンを加え
た。この混合物を0℃で4時間保ち、次いで375ml
のトリス(アミノエチル)アミンに加えた。次に形成さ
れた反応混合物を室温で48時間撹拌した。得られた変
性されたデキストランを3対1のメタノール及びジエチ
ルエーテルの容量混合物中で沈澱によって反応混合物か
ら分離させ、次いで濾過した。変性デキストラン中のア
ミン含有量は約1.77ミリモル/gであった。
【0042】実施例 2 親水性層用被覆溶液の製造
【0043】21.5%のTiO2 (平均粒度0.3〜
0.5μm)を含有する分散液440gに、撹拌しつつ
続けて水中5%のデキスタラン1の溶液250g、水中
3.5%のグリオキサールの溶液38g、湿潤剤の10
%溶液22g及び水250mlを加えた。pHは12%
の塩化水素溶液で4に調整した。
0.5μm)を含有する分散液440gに、撹拌しつつ
続けて水中5%のデキスタラン1の溶液250g、水中
3.5%のグリオキサールの溶液38g、湿潤剤の10
%溶液22g及び水250mlを加えた。pHは12%
の塩化水素溶液で4に調整した。
【0044】感光性層用被覆溶液の製造
【0045】水中でセチルトリメチルアンモニウムブロ
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液80gに、撹拌しつつ続けて、
水中の88%加水分解したポリビニルアセテートの5%
溶液240g、及び水中のホスタペルムブルー(ヘキス
ト社)の7.5%分散液60gを加えた。水中のジフエ
ニルアミンジアゾニウム塩とホルムアルデヒドの縮合生
成物の15%溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。
最後に湿潤剤10g及び水510mlを加えた。
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液80gに、撹拌しつつ続けて、
水中の88%加水分解したポリビニルアセテートの5%
溶液240g、及び水中のホスタペルムブルー(ヘキス
ト社)の7.5%分散液60gを加えた。水中のジフエ
ニルアミンジアゾニウム塩とホルムアルデヒドの縮合生
成物の15%溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。
最後に湿潤剤10g及び水510mlを加えた。
【0046】像形成材料の製造
【0047】親水性層用被覆溶液を下塗層を含有するポ
リエステル支持体上に50g/m2の湿潤被覆厚さで被
覆し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
リエステル支持体上に50g/m2の湿潤被覆厚さで被
覆し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
【0048】平版印刷版の製造
【0049】形成された像形成材料をマスクを介して、
70cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラ
ンプに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現
像区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PC28
E PS処理機で現像した。
70cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラ
ンプに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現
像区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PC28
E PS処理機で現像した。
【0050】得られた平版印刷版を、従来のフアンテン
溶液及び親油性平版印刷インクを用いるAB−Dick98
60印刷機上で使用したとき、高濃度(1.5より大)
を有し、非像部域で浮き粕のない像を与えた。
溶液及び親油性平版印刷インクを用いるAB−Dick98
60印刷機上で使用したとき、高濃度(1.5より大)
を有し、非像部域で浮き粕のない像を与えた。
【0051】実施例 3 親水性用被覆溶液の製造
【0052】21.5%のTiO2 (平均粒度0.3〜
0.5μm)を含有する溶液440gに、撹拌しつつ、
水中5%のデキストラン2の溶液250g、水3.5%
のグリオキサールの溶液38g、湿潤剤の10%溶液2
2g及び水250mlを続けて加えた。pHは12%塩
化水素溶液で4に調整した。
0.5μm)を含有する溶液440gに、撹拌しつつ、
水中5%のデキストラン2の溶液250g、水3.5%
のグリオキサールの溶液38g、湿潤剤の10%溶液2
2g及び水250mlを続けて加えた。pHは12%塩
化水素溶液で4に調整した。
【0053】感光性層用被覆溶液の製造
【0054】水中でセチルトリメチルアンモニウムブロ
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液80gに、撹拌しつつ水中の部
分加水分解ポリビニルアセテートの5%溶液240g及
び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト製)の7.5%
分散液60gを続けて加えた。ジフエニルアミンジアゾ
ニウム塩とホルムアルデヒドの縮合生成物の水中15%
溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。最後に10g
の湿潤剤及び510mlの水を加えた。
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液80gに、撹拌しつつ水中の部
分加水分解ポリビニルアセテートの5%溶液240g及
び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト製)の7.5%
分散液60gを続けて加えた。ジフエニルアミンジアゾ
ニウム塩とホルムアルデヒドの縮合生成物の水中15%
溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。最後に10g
の湿潤剤及び510mlの水を加えた。
【0055】像形成材料の製造
【0056】親水性層用被覆溶液を下塗層を含むポリエ
ステル支持体上に55g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
ステル支持体上に55g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
【0057】平版印刷版の製造
【0058】形成された像形成材料をマスクを介して7
0cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラン
プに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現像
区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PC28E
PS処理機現像した。
0cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラン
プに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現像
区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PC28E
PS処理機現像した。
【0059】得られた平版印刷版を、従来のフアンテン
溶液及び親油性平版印刷インクを用いるAB−Dick98
60印刷機で使用した時、高濃度(1.5より大)を有
し、非像部域で浮き粕のない像を生ぜしめた。
溶液及び親油性平版印刷インクを用いるAB−Dick98
60印刷機で使用した時、高濃度(1.5より大)を有
し、非像部域で浮き粕のない像を生ぜしめた。
【0060】実施例 4 親水性層用被覆溶液の製造
【0061】21.5%のTiO2(平均粒度0.3〜
0.5μm)を含有する分散液440gに、撹拌しつ
つ、水中のデキストラン1の5%溶液250g、水中の
ホルムアルデヒドの4%溶液20g、湿潤剤の10%溶
液22g及び水268mlを加えた。pHは12%塩化
水素溶液で4に調整した。
0.5μm)を含有する分散液440gに、撹拌しつ
つ、水中のデキストラン1の5%溶液250g、水中の
ホルムアルデヒドの4%溶液20g、湿潤剤の10%溶
液22g及び水268mlを加えた。pHは12%塩化
水素溶液で4に調整した。
【0062】感光性層用被覆溶液の製造
【0063】水中でセチルトリメチルアンモニウムクロ
ライドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液63gに、撹拌しつつ続けて、
水中の88%加水分解したポリビニルアセテートの5%
溶液120g及び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト
社)の10%分散液15gを加えた。上記混合物に水中
のジフエニルアミンジアゾニウム塩及びホルムアルデヒ
ドの縮合生成物の15%溶液66gを徐々に加えた。こ
の混合物に更に湿潤剤の10%溶液5ml及び水731
mlを加えた。
ライドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液63gに、撹拌しつつ続けて、
水中の88%加水分解したポリビニルアセテートの5%
溶液120g及び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト
社)の10%分散液15gを加えた。上記混合物に水中
のジフエニルアミンジアゾニウム塩及びホルムアルデヒ
ドの縮合生成物の15%溶液66gを徐々に加えた。こ
の混合物に更に湿潤剤の10%溶液5ml及び水731
mlを加えた。
【0064】像形成材料の製造
【0065】親水性層用被覆溶液を、下塗層を含むポリ
エステル支持体上に、50g/m2の湿潤被覆厚さで被
覆し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感
光性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
エステル支持体上に、50g/m2の湿潤被覆厚さで被
覆し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感
光性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
【0066】平版印刷版の製造
【0067】形成された像形成材料をマスクを介して、
70cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラ
ンプに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現
像区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PS28
E PS処理機で現像した。
70cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラ
ンプに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現
像区域で25℃で淡水を含有するPolychrome PS28
E PS処理機で現像した。
【0068】得られた平版印刷版を、従来のフアンテン
溶液及び親油性平版印刷インクを用いてAB−Dick986
0印刷機で使用したとき、高濃度(1.5より大)を有
し、非像部域に浮き粕のない像を生ぜしめた。
溶液及び親油性平版印刷インクを用いてAB−Dick986
0印刷機で使用したとき、高濃度(1.5より大)を有
し、非像部域に浮き粕のない像を生ぜしめた。
【0069】親水性層用被覆溶液の製造
【0070】21.5%のTiO2 (平均粒度0.3〜
0.5μm)を含有する分散液571gに、撹拌しつ
つ、続けて水中の2−ヒドロキシ−3−メタクリルオキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロライド及びアク
リルアミドの共重合体の5%溶液284g、水中のグリ
オキサールの3.5%溶液43g、湿潤剤の10%溶液
22g及び水79mlを加えた。pHは6に調整した。
0.5μm)を含有する分散液571gに、撹拌しつ
つ、続けて水中の2−ヒドロキシ−3−メタクリルオキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロライド及びアク
リルアミドの共重合体の5%溶液284g、水中のグリ
オキサールの3.5%溶液43g、湿潤剤の10%溶液
22g及び水79mlを加えた。pHは6に調整した。
【0071】感光性層用被覆溶液の製造
【0072】水中のセチルトリメチルアンモニウムブロ
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液に、撹拌しつつ続けて水中の8
8%加水分解したポリビニルアセテートの5%溶液24
0g及び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト社)の1
0%分散液30gを加えた。水中の、ジフエニルアミン
ジアゾニウム塩及びホルムアルデヒドの縮合生成物の1
5%溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。この混合
物に更に湿潤剤の10%溶液5ml及び水565mlを
加えた。
マイドで安定化したポリメチルメタクリレート(粒度6
0nm)の20%分散液に、撹拌しつつ続けて水中の8
8%加水分解したポリビニルアセテートの5%溶液24
0g及び水中のホスタペルムブルー(ヘキスト社)の1
0%分散液30gを加えた。水中の、ジフエニルアミン
ジアゾニウム塩及びホルムアルデヒドの縮合生成物の1
5%溶液80gを上記混合物に徐々に加えた。この混合
物に更に湿潤剤の10%溶液5ml及び水565mlを
加えた。
【0073】像形成材料の製造
【0074】親水性層用被覆溶液を、下塗層を含むポリ
エステル支持体上に50g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
エステル支持体上に50g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、35℃で乾燥した。かくして得られた材料に、感光
性層用被覆溶液を35g/m2 の湿潤被覆厚さで被覆
し、30℃で乾燥した。
【0075】平版印刷版の製造
【0076】形成された像形成材料をマスクを介して7
0cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラン
プに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現像
区域に25℃で淡水を含有するPolychrome PC28E
PS処理機で現像した。
0cmの距離で1000Wの高圧ハロゲン水銀蒸気ラン
プに対して2分間露光した。続いて像形成材料を、現像
区域に25℃で淡水を含有するPolychrome PC28E
PS処理機で現像した。
【0077】得られた平版印刷版を、従来のフアンテン
溶液及び親油性平版印刷インクを用いAB−Dick360
印刷機で使用した時、高濃度(1.5より大)を有し、
非像部域に浮き粕を有しない像を生ぜしめた。
溶液及び親油性平版印刷インクを用いAB−Dick360
印刷機で使用した時、高濃度(1.5より大)を有し、
非像部域に浮き粕を有しない像を生ぜしめた。
【0078】実施例 6 親水性層を、79.5%のTiO2 、9%のポリビニル
アルコール、10.5%のアミノエチルカルバメート変
性プルラン(反復単位の17%がアミノ基を含有)及び
1%のグリオキサールを含有する親水性層で置換して、
実施例2に記載した如く像形成材料を作った。
アルコール、10.5%のアミノエチルカルバメート変
性プルラン(反復単位の17%がアミノ基を含有)及び
1%のグリオキサールを含有する親水性層で置換して、
実施例2に記載した如く像形成材料を作った。
【0079】得られた像形成材料を実施例2に記載した
如く像に従って露光し、処理し、かくして得られた印刷
版を実施例2における如く印刷に使用した。
如く像に従って露光し、処理し、かくして得られた印刷
版を実施例2における如く印刷に使用した。
【0080】高濃度(1.5より大)の像を含有するコ
ピーが得られ、非像部域には浮き粕は生じなかった。
ピーが得られ、非像部域には浮き粕は生じなかった。
フロントページの続き (72)発明者 ポール・ジョゼフ・コッパン ベルギー国ベ 2300 テュルヌ、ショル ヴォールベル 121 (72)発明者 ギド・イシドール・オキエール ベルギー国ベ 2560 ニーラン、ヴァテ ルトランストラート 26 (72)発明者 エティエンヌ・ドリーヌ・シャクト ベルギー国ベ 8840 スターダン、リー セヴェルドストラート 99 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 3/03 501 B41N 1/12 - 1/14 G03F 7/06 - 7/07
Claims (2)
- 【請求項1】 硬化した親水性層を設けた支持体を含有
する平版印刷版基体において、前記硬化した親水性層
が、少なくとも1個の遊離水素を有するアミン又はアミ
ド官能基を少なくとも1個含有する基で変性されたデキ
ストラン又はプルランを含有することを特徴とする平版
印刷版基体。 - 【請求項2】 デキストラン又はプルランが、ヒドロキ
シ基の幾つかが下記基: −O−R1 −O−CO−R2 (式中R1は少なくとも1個の遊離水素原子を有するア
ミン又はアミド官能基を少なくとも1個含有する有機残
基を表わし、R2はR1に対して示したのと同意義を有
することができ、又は−OR3もしくは−N(R4)R
5を表わし、R3はR1に対して示したのと同意義を有
することができ、R4及びR5の各々は同じであっても
異なっても良く、基−O−CO−R2が少なくとも1個
の遊離水素を有するアミン又はアミド官能基を少なくと
も1個含有するという前提条件の下で、水素又は有機基
を表わす)の一つ以上に変性されているデキストラン又
はプルランであることを特徴とする請求項1の平版印刷
版基体。
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