JP3112703B2 - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor,
More specifically, the present invention relates to an electrophotographic photosensitive member having excellent electrostatic characteristics and moisture resistance.

【０００２】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of electrophotographic process to be applied.

【０００３】電子写真感光体の代表的なものとして、支
持体上に光導電層が形成されている感光体及び表面に絶
縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。支持
体と少なくとも１つの光導電層から構成される感光体
は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、
画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形
成に用いられる。[0003] As typical electrophotographic photoreceptors, there are a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having an insulating layer on the surface, and are widely used. A photoreceptor composed of a support and at least one photoconductive layer is produced by the most common electrophotographic processes, namely charging,
It is used for image exposure and development and, if necessary, image formation by transfer.

【０００４】更には、ダイレクト製版用のオフセット原
版として電子写真感光体を用いる方法が広く実用されて
いる。特に近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から
数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式
として重要となってきている。こうした状況の中で、電
子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結着
樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹
脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。Further, a method of using an electrophotographic photosensitive member as an offset master for direct plate making has been widely used. In particular, in recent years, direct electrophotographic lithographic printing has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print number of several hundreds to several thousands. Under these circumstances, the binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and excellent dispersibility of the photoconductive powder in the binder resin. The adhesion of the formed recording layer to the substrate is good, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and photography. It is necessary to have various electrostatic characteristics such as the necessity of maintaining these characteristics stably due to changes in humidity at the time, and excellent imaging properties.

【０００５】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。Further, research on a lithographic printing original plate using an electrophotographic photosensitive member has been enthusiastically performed, and a lithographic printing original plate for a photoconductive layer having both electrostatic characteristics as an electrophotographic photosensitive member and printing characteristics as a printing original plate has been achieved. Binder resin is required.

【０００６】無機光導電材料、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層において、結着樹脂の
化学構造によって、平滑性のみならず静電特性が大きく
影響を受けることが判ってきた。特に静電特性におい
て、暗中電荷保持率（Ｄ．Ｒ．Ｒ．）や光感度が大きく
左右される。In a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, it has been found that not only smoothness but also electrostatic characteristics are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Was. In particular, in the electrostatic characteristics, the charge retention in the dark (DRR) and the light sensitivity are greatly affected.

【０００７】これに対し、特開昭６３−２１７３５４
号、同６４−７０７６１号、特開平２−６７５６３号及
び同２−２４７６５６号等に記載の技術によれば、酸性
基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在する低分
子量の樹脂、重合体主鎖の片末端に酸性基を結合して成
る低分子量の樹脂あるいは酸性基を重合体主鎖の片末端
に結合して成る低分子量のグラフト型共重合体の樹脂、
酸性基をグラフト部に含有する低分子量のグラフト型共
重合体の樹脂等を結着樹脂として用いる事で平滑性及び
静電特性を良化できる様になった。これらは、該低分子
量の樹脂が、光導電体の分散を充分に行ない光導電体同
志の凝集を抑制する効果を有すること及び光導電体と分
光増感色素との吸着を疎外しないで該無機光導電体の化
学量論的な欠陥に充分に吸着するとともに光導電体の表
面をゆるやかに且つ充分に被覆していることによると推
定される。On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-217354 discloses
According to the techniques described in JP-A Nos. 64-70761, JP-A-2-67563 and JP-A-2-247656, a resin having a low molecular weight in which an acidic group-containing polymerization component is randomly present in a polymer main chain is used. A low molecular weight resin formed by bonding an acidic group to one end of the coalesced main chain or a low molecular weight graft copolymer resin formed by bonding an acidic group to one end of the polymer main chain;
By using a resin of a low molecular weight graft copolymer containing an acidic group in a graft portion as a binder resin, smoothness and electrostatic properties can be improved. These include that the low molecular weight resin has an effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing aggregation between the photoconductors, and the inorganic material without alienating the adsorption between the photoconductor and the spectral sensitizing dye. This is presumed to be due to the fact that the photoconductor is sufficiently adsorbed to the stoichiometric defect and that the surface of the photoconductor is covered slowly and sufficiently.

【０００８】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。Due to its mechanism of action, even if the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor fluctuates to some extent, it has a sufficient adsorption area, so that the inorganic photoconductor, the spectral sensitizing dye and the resin are relatively stable. It is inferred that the mutual interaction is maintained.

【０００９】そして、これらの低分子量の樹脂のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるため
に、中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬
化性基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術
等が特開昭６４−５６４号、同６３−２２０１４９号、
同６３−２２０１４８号、特開平１−２８０７６１号、
同１−１１６６４３号、同１−１６９４５５号、同１−
２１１７６６号、同２−３４８５９号、同２−５３０６
４号、同２−５６５５８号、特願平１−１６３７９６
号、同１−２１２９９４号、同１−２２９３７９号、同
１−１８９２４５号等に記載されている。In order to sufficiently enhance the mechanical strength of the photoconductive layer, it is not sufficient to use only these low-molecular-weight resins alone. Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 64-564, 63-220149, etc.
No. 63-220148, JP-A-1-280761,
1-16-1664, 1-169455, 1-
No. 211766, No. 2-34859, No. 2-5306
No. 4, 2-56558, Japanese Patent Application No. 1-163796
And Nos. 1-212994, 1-229379 and 1-189245.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の樹脂又は樹脂の組合せを用いても、環境が高温・高湿
から低温・低湿まで著しく変動した場合における安定し
た性能の維持においてはいまだ不充分であることが判っ
た。半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
では、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露
光時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。However, even if these resins or combinations of resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment fluctuates significantly from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. I found it to be. The scanning exposure method using a semiconductor laser beam has a longer exposure time and a limited exposure intensity than the conventional simultaneous exposure method using visible light, so the electrostatic characteristics, especially the dark charge retention characteristics, are limited. , For light sensitivity,
Higher performance is required.

【００１１】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ_1/2 とＥ_1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。In particular, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is employed in an electrophotographic lithographic printing original plate, when the conventional photosensitive member is actually tested, the above electrostatic characteristics are sufficiently improved. It is not satisfactory, especially the difference between E _1/2 and E _1/10 is large, the tone of the copied image is soft, and it is difficult to reduce the residual potential after exposure, and the fog of the copied image is reduced. It becomes noticeable,
Even when printing as an offset master, problems such as sticking marks of a printed original appear on a printed material.

【００１２】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。Further, in recent years, it has been desired to realize a technique for faithfully reproducing not only a copied image of an image composed of line drawings and halftone dots but also a high-definition image composed of continuous tones using a liquid developer. The above-mentioned known techniques have not been able to sufficiently satisfy these demands.

【００１３】従来公知の技術においては、低分子量の樹
脂と併用する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子
量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像（特に連続階調画像）の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。In the known technique, the medium to high molecular weight resin used in combination with the low molecular weight resin sometimes lowers the electrostatic properties of the low molecular weight resin which have been improved in performance. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer used in combination with these known resins has high reproducibility of a high-definition image (especially a continuous tone image) faithful copy image or low output. It has been clarified that a problem may occur with respect to the imaging performance by the scanning exposure method using laser light.

【００１４】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。The present invention is to improve the problems of the above-described known electrophotographic photosensitive members. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having a stable and good electrostatic property, always having a clear and high-quality image, even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. It is to provide.

【００１５】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photosensitive member having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

【００１６】本発明の更なる目的は、電子写真式平版印
刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及び光感
度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）に対し
て忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面一様な
地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、また耐
刷性の優れた平版印刷原版を提供することである。A further object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent electrostatic characteristics (especially dark charge retention and light sensitivity) and faithful to an original image (especially a high-resolution continuous tone image). It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor that reproduces an excellent copy image, does not generate spot-like background stains as well as uniform background stains on a printed matter, and has excellent printing durability.

【００１７】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³〜２×１０⁴の重量平均分子量を有し、下記一
般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を重合体成分として
３０重量％以上と、−ＰＯ₃Ｈ₂、−ＳＯ₃Ｈ、−ＣＯＯ
Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹〔Ｒ¹は炭化水素基又は−
ＯＲ²（Ｒ²は炭化水素基を表す）を表す〕及び環状酸無
水物基から選択される少なくとも１種の極性基を含有す
る繰り返し単位を重合体成分として０．５〜１５重量％
とを含有する樹脂。An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin is represented by the following: It has been found that this is achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by comprising at least one kind of resin [A] and at least one kind of resin [B] below. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 ³ to 2 × 10 ⁴ , containing 30% by weight or more of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO ₃ H ₂ ,- SO ₃ H, -COO
H, -P (= O) (OH) R ¹ [R ¹ is a hydrocarbon group or-
OR ² (R ² represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group .
That 0.5 to 15 weight percent of repeating units as the polymer component
And a resin containing

【００１８】[0018]

【化４】 Embedded image

【００１９】〔式（Ｉ）中、ａ¹、ａ²は各々水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ³は
炭化水素基を表す。〕 樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴〜１×１０⁶の重量平均分子量を有し、上記樹
脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位
を重合体成分として少なくとも含有し且つ上記樹脂
〔Ａ〕で示される特定の極性基を含有する繰り返し単位
を重合体成分として含有しないＡブロックと上記樹脂
〔Ａ〕で示される特定の極性基のうちから選択される少
なくとも１種の極性基を含有する少なくとも１つの重合
体成分を少なくとも含有するＢブロックとから構成され
るＡＢ型ブロック高分子鎖を少なくとも３個同一の有機
分子に結合してなるスター型共重合体からなる樹脂。[In the formula (I), a ¹ and a ² each represent a hydrogen atom,
Represents a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R ³ represents a hydrocarbon group. Resin [B] having a weight average molecular weight of 2 × 10 ⁴ to 1 × 10 ⁶ , containing at least the repeating unit represented by formula (I) in the resin [A] as a polymer component, and
A repeating unit containing a specific polar group represented by [A]
And a B block containing at least one polymer component containing at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the resin [A]. AB type block polymer chains composed of at least three identical organic
A resin consisting of a star-type copolymer bonded to molecules .

【００２０】即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式
（Ｉ）で示される重合体成分と上記特定の極性基含有の
重合体成分とを含有する低分子量ランダム共重合体（樹
脂〔Ａ〕）と、上記式（Ｉ）で示される重合体成分を含
有し且つ上記特定の極性基含有の重合体成分を含有しな
いＡブロックと上記特定の極性基含有重合体成分を含有
するＢブロックとのＡＢ型ブロック高分子鎖を同一の有
機分子に少なくとも３個結合してなるスター型共重合体
（樹脂〔Ｂ〕）とから少なくとも構成される。That is, the binder resin of the present invention is a low-molecular-weight random copolymer (resin [A]) containing the polymer component represented by the general formula (I) and the specific polar group-containing polymer component. ]) And the polymer component containing the specific polar group-containing polymer component containing the polymer component represented by the above formula (I).
There A block and the specific polar group contains at least three binding to become star copolymer AB type block polymer chain in the same organic <br/> machine component child of the B block containing a polymer component (Resin [B]).

【００２１】種々検討の結果、前述の如く、低分子量の
極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公知の
技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂により、
上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下し
てしまうことのあることが判った。そして、これらの中
〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、分光増
感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に適切に
相互作用させることも、予想以上に重要な原因であるこ
とが明らかになってきた。As a result of various studies, as described above, in the known technique of using a low molecular weight polar group-containing resin in combination with a medium to high molecular weight resin,
It has been found that the high-performance electrostatic properties of the low-molecular-weight resin may be reduced. It is also unexpectedly important that these medium to high molecular weight resins more appropriately interact with the photoconductor, the spectral sensitizing dye and the low molecular weight resin in the photoconductive layer. It has become clear that this is the cause.

【００２２】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔Ａ〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基非含有のブロックＡと極
性基含有のブロックＢとを有するＡＢ型ブロックで構成
される高分子鎖を少なくとも３個同一の有機分子に結合
するスター型共重合体を用いることにより、前記課題が
有効に解決されることが見出されたものである。As a result of repeated studies, as a medium to high molecular weight resin to be used in combination with the low molecular weight resin [A] containing a polar group, the polar group-free block A and the polar group-containing block according to the present invention are used. At least three polymer chains composed of AB-type blocks having B are bonded to the same organic molecule
It has been found that the above problem can be effectively solved by using a star-type copolymer.

【００２３】この事は、本発明の結着樹脂〔Ａ〕及び
〔Ｂ〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散さ
れ且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光
導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電
体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着して
トラップを補償していること等によるものと推定され
る。This is because, due to the synergistic effect of the binder resins [A] and [B] of the present invention, the photoconductive particles are present in a state of being sufficiently dispersed and not condensed, and the spectral sensitizing dye is further converted to a photoconductive dye. This is presumed to be due to the fact that it is sufficiently adsorbed on the surface of the body particles and that the binder resin sufficiently adsorbs extra active sites on the surface of the photoconductor to compensate for the trap.

【００２４】即ち、特定の極性基を含有した低分子量体
の樹脂〔Ａ〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を
均一に分散し、その高分子鎖が非常に短いことにより凝
集を抑制すること、又、分光増感色素の吸着疎外を起こ
さないこと等の重要な作用を有する。That is, the low molecular weight resin [A] containing a specific polar group is sufficiently adsorbed on the photoconductor particles to uniformly disperse the particles, and the polymer chain is very short, so that the polymer chains are aggregated. And has important effects such as not causing adsorption and alienation of the spectral sensitizing dye.

【００２５】又、特定の極性基含有のＢブロックと該極
性基非含有のＡブロックとのＡＢブロックで構成される
高分子鎖を含むスター型共重合体を用いることで、光導
電層の機械的強度が充分に保持された。これは、この樹
脂のブロックＢの部分が光導電体粒子と樹脂〔Ａ〕より
も弱い相互作用であること及びブロックＡの部分同志の
高分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考えられる。Also, by using a star-type copolymer containing a polymer chain composed of AB blocks of a specific polar group-containing B block and a non-polar group-containing A block, the mechanical properties of the photoconductive layer can be improved. The target strength was sufficiently maintained. This is considered to be due to the fact that the block B portion of the resin has weaker interaction with the photoconductor particles and the resin [A], and the entanglement effect between the polymer chains of the portions of the block A.

【００２６】更には、公知の併用された中〜高分子量の
樹脂に比べて静電特性がより良化する効果を有すること
は光導電体粒子と相互作用をもつブロックＢ部分が極性
を有することから分光増感色素の吸着疎外を抑制する働
きをしているものと考えられる。Furthermore, the effect that the electrostatic properties are further improved as compared with the commonly used medium to high molecular weight resin is that the block B portion interacting with the photoconductor particles has a polarity. Therefore, it is considered that the compound functions to suppress the adsorption and alienation of the spectral sensitizing dye.

【００２７】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。This effect was particularly remarkable with a polymethine dye or a phthalocyanine pigment which is particularly effective as a dye for spectral sensitization of near infrared to infrared light. On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, the electrophotographic photoreceptor exhibits excellent imaging performance and remarkably good water retention.

【００２８】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。That is, the photoreceptor of the present invention, on which a copied image is formed through an electrophotographic process, is desensitized by chemically treating a non-image portion with a conventionally known desensitizing solution to form a printing master. Shows excellent performance as a printing original plate when is printed by offset printing.

【００２９】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。これは、上記した酸
化亜鉛粒子が均一に分散されていること及び酸化亜鉛粒
子表面に存在する結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化
処理液との不感脂化反応が疎外されず迅速に且つ効果的
に進行することによるものと考えられる。When the photoreceptor of the present invention was desensitized, the non-image area was sufficiently hydrophilized and the water retention was improved, so that the number of printed sheets was dramatically improved. This is because the zinc oxide particles are uniformly dispersed and the presence state of the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is appropriate, and the desensitization reaction with the desensitizing treatment solution is quickly performed without alienation. It is considered that the process proceeds effectively.

【００３０】更には本発明において、低分子量の樹脂
〔Ａ〕として、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）
で示される、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分と酸性
基成分とを含有する樹脂〔Ａ〕（以降この低分子量体を
とくに樹脂〔ＡＡ〕と称する）であることが好ましい。Further, in the present invention, the low-molecular-weight resin [A] is represented by the following general formula (Ia) and general formula (Ib):
Contains a methacrylate component having a specific substituent and a methacrylate component having a specific substituent at the 2-position and / or a naphthalene ring having no specific substituent at the 2- and 6-positions, and an acidic group component. (Hereinafter, this low-molecular-weight product is particularly referred to as resin [AA]).

【００３１】[0031]

【化５】 Embedded image

【００３２】[0032]

【化６】 Embedded image

【００３３】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹ 及びＡ
² は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＲ⁴ 又は−
ＣＯＯＲ⁴ （Ｒ⁴ は炭素数１〜１０の炭化水素基を示
す）を表す。[In the formulas (Ia) and (Ib), A ¹ and A
² are each independently a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 10
Hydrocarbon group, chlorine atom, bromine atom, -COR ⁴ or-
COOR ⁴ (R ⁴ represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

【００３４】Ｂ¹ 及びＢ² はそれぞれ−ＣＯＯ−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連
結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔ＡＡ〕を用いると樹
脂〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特に
Ｖ₁₀、Ｄ．Ｒ．Ｒ、Ｅ_1/10）の向上が達成できる。B ¹ and B ² each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. When the specific resin [AA] is used, the electrophotographic properties (particularly, V ₁₀ , DRR, E _1/10 ) can be further improved as compared with the case of the resin [A].

【００３５】この事の理由は不明であるが、１つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。Although the reason for this is unknown, one reason is that the zinc oxide interface in the film is caused by the effect of a planar benzene or naphthalene ring having a substituent at the ortho position, which is an ester component of methacrylate. It is considered that the arrangement of the polymer molecular chains in the above is properly performed.

【００３６】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明す
る。樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０³ 〜２×１
０⁴ であり、樹脂〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−
３０℃〜１１０℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃で
ある。Hereinafter, the binder resin of the present invention will be described in detail. First, the resin [A] of the present invention will be described. The weight average molecular weight of the resin [A] is 1 × 10 ³ to 2 × 1.
0 is ^4, the glass transition point of the resin (A) is preferably -
30 ° C to 110 ° C, more preferably -20 ° C to 90 ° C.

【００３７】樹脂〔Ａ〕の分子量が１×１０³ より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が２×１０⁴ より大きくなると、特に近赤外
〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、高温・高
湿、低温・低湿の苛酷な条件下での暗減衰保持率及び光
感度の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得ら
れるいとう本発明の効果が薄れてしまう。If the molecular weight of the resin [A] is less than 1 × 10 ³ , the film-forming ability is reduced, and the film cannot maintain sufficient film strength.
On the other hand, if the molecular weight is greater than 2 × 10 ^4, the photosensitive member using near infrared to infrared spectral sensitizing dyes, especially, high temperature and high humidity, dark decay retention rate in severe conditions of low temperature and low humidity and The effect of the present invention is that the fluctuation of the light sensitivity is somewhat large and a stable copy image can be obtained.

【００３８】樹脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）の繰り返
し単位に相当する重合体成分の存在割合は３０重量％以
上、好ましくは５０〜９７重量％、極性基を含有する共
重合体成分の割合は０．５〜１５重量％、好ましくは１
〜１０重量％である。The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) in the resin [A] is at least 30% by weight, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the polar group-containing copolymer component. Is 0.5 to 15% by weight, preferably 1
-10% by weight.

【００３９】樹脂〔Ａ〕における極性基含有重合体成分
量が０．５重量％より少ないと、初期電位が低くて充分
な画像濃度を得ることができない。一方、該極性基含有
重合体成分量が１５重量％よりも多いと、いかに低分子
量体といえども分散性が低下し、更にオフセットマスタ
ーとして用いるときに地汚れが増大する。When the amount of the polar group-containing polymer component in the resin [A] is less than 0.5% by weight, a sufficient initial image potential cannot be obtained due to a low initial potential. On the other hand, the polar group-containing
If the amount of the polymer component is more than 15% by weight, the dispersibility of the polymer, even if it is a low molecular weight polymer, will be reduced, and background fouling will increase when used as an offset master.

【００４０】次に樹脂〔Ａ〕中に３０重量％以上含有さ
れる、前記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を更に
説明する。ａ¹ 及びａ² は、水素原子、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子）、シアノ基又は炭素数１
〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等）を表す。Next, the repeating unit represented by the above formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further described. a ¹ and a ² represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group or
To 4 alkyl groups (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group).

【００４１】Ｒ³ は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。R ³ represents a hydrocarbon group, specifically, an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. is there.

【００４２】更に、Ｒ³ は好ましくは炭素数１〜１８の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。置換基とし
ては樹脂〔Ａ〕における上記該極性基含有の重合体成分
に含有される前記極性基以外の置換基であればいずれで
もよく、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩
素原子、臭素原子等）、−ＯＲ⁵ 、−ＣＯＯＲ⁵ 、−Ｏ
ＣＯＲ⁵ （Ｒ⁵ は炭素数１〜２２のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基等である）等の置換基
が挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数１
〜１８の置換されてもよいアルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−
ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカ
ルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモ
プロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいア
ルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、
２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、３−メチル−２−
ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキセニル基、
２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基
等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８
の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル
基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺンチル
エチル基等）又は炭素数６〜１２の置換されてもよい芳
香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、
デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、ア
セチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェ
ニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）等があげら
れる。Further, R ³ preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. As the substituent, any substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component in the resin [A] may be used, and examples thereof include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom). ^{etc.), - OR 5, -COOR 5} , -O
COR ⁵ (R ⁵ represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl,
And a substituent such as a hexadecyl group and an octadecyl group. Preferred hydrocarbon groups include those having 1 carbon atom.
To 18 optionally substituted alkyl groups (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, heptyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl) , 2-
A bromoethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1) -A propenyl group,
2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-
Penthenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group,
2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc., and optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, Naphthylethyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), having 5 to 8 carbon atoms
Which may be substituted (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, phenyl group , Naphthyl group, tolyl group,
Xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group,
Octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group,
Decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, bromophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, butoxycarbonylphenyl, acetamidophenyl, propioamidophenyl, dodecyl Loylamidophenyl group, etc.).

【００４３】Ｒ³ の示す炭化水素基において、Ｒ³ が脂
肪族基の場合には好ましくは炭素数１〜５の炭化水素基
を式（Ｉ）で表わされる成分中の６０重量％以上含有す
ることが好ましい。[0043] In the hydrocarbon group represented by R ^3, preferably when R ³ is an aliphatic group containing more than 60 wt% in component represented a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms in formula (I) Is preferred.

【００４４】このような置換基Ｒ³ を有する成分である
一般式（Ｉ）の繰り返し単位において、より好ましくは
前記一般式（Ｉａ）及び／又は一般式（Ｉｂ）で示され
る繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。In the repeating unit of the general formula (I), which is a component having the substituent R ³ , a polymer of the repeating unit represented by the general formula (Ia) and / or the general formula (Ib) is more preferable. Ingredients.

【００４５】式（Ｉａ）において、好ましいＡ¹ 及びＡ
² として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラ
ルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＯＲ⁴ 及び−ＣＯＯ
Ｒ⁴ （好ましいＲ⁴ としては上記の炭素数１〜１０の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる）を挙げることができる。In the formula (Ia), preferred A ¹ and A
^{As 2} independently independently of each other a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group , chloromethyl benzyl groups) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COOR ^4, and -COO
R ⁴ (preferable R ⁴ includes those described above as preferred hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms).

【００４６】式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｂ¹ 及
びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ₂ ）_a −（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂
Ｏ）_b −（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ₂ ＣＨ
₂ Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基を
挙げることができる。In the formulas (Ia) and (Ib), B ¹ and B ² each represent a single bond connecting —COO— and a benzene ring or — (CH ₂ ) _a — (a represents an integer of 1 to 3) , −
CH ₂ OCO—, —CH ₂ CH ₂ OCO—, — (CH ₂
O ) _b- (b represents an integer of 1 or 2), -CH ₂ CH
It is a linking group having 1 to 4 linking atoms such as ₂ O-, and more preferably a single bond or a linking group having 1 to 2 linking atoms.

【００４７】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（Ｉ
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の（ａ−１）〜（ａ−２０）
において、ｃは１〜４の整数、ｄは０又は１〜３の整
数、ｅは１〜３の整数、Ｒ⁶ はいずれも−ＣｃＨ_2c+1又
は−（ＣＨ₂ ）_d −Ｃ₆ Ｈ₅ （ただし、ｃ、ｄは上記と
同じ）を表し、Ｄ¹ 及びＤ² は同じでも異なってもよ
く、水素原子、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉのいずれかを表
す。Formula (I) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. In addition, the following (a-1) to (a-20)
In, c is an integer of 1 to 4, d is 0 or an integer of 1 to 3, e is an integer of 1-3, R ⁶ are both -CCH _{2c + 1} or _{- (CH 2) d -C 6} H 5 (However, c and d are the same as described above), and D ¹ and D ² may be the same or different, and represent any of a hydrogen atom, —Cl, —Br, and —I.

【００４８】[0048]

【化７】 Embedded image

【００４９】[0049]

【化８】 Embedded image

【００５０】[0050]

【化９】 Embedded image

【００５１】[0051]

【化１０】 Embedded image

【００５２】[0052]

【化１１】 Embedded image

【００５３】次に低分子量の樹脂〔Ａ〕の極性基含有成
分について説明する。該極性基は、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 、−Ｓ
Ｏ₃ Ｈ、−ＣＯＯＨ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ −、環
状酸無水物含有基から少なくとも１種選ばれるものであ
ることが好ましい。Next, the polar group-containing component of the low molecular weight resin [A] will be described. Polar group, -PO ₃ H _2, -S
It is preferable that at least one selected from O ₃ H, —COOH, —P (＝ O) (OH) R ¹ —, and a group containing a cyclic acid anhydride is used.

【００５４】ここで、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ は、下
記化１２で表わされる基を示し、ここにおいて該Ｒ¹ は
炭化水素基又は−ＯＲ² 基（Ｒ² は炭化水素基を表す）
を表し、具体的にはＲ¹ は炭素数１〜６の置換されてい
てもよい炭化水素基（例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、２−クロロエチル基、２−ブロムエ
チル基、２−フロロエチル基、３−クロロプロピル基、
３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル基、ベン
ジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシメチル
基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基）等であ
り、Ｒ² はＲ¹ と同一の内容を表す。Here, -P (= O) (OH) R ¹ represents a group represented by the following formula 12, wherein R ¹ is a hydrocarbon group or an -OR ² group (R ² is a hydrocarbon group) Represents)
And specifically, R ¹ is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2 -Fluoroethyl group, 3-chloropropyl group,
3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group) and the like, and R ² represents the same content as R ^1. .

【００５５】[0055]

【化１２】 Embedded image

【００５６】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride. Examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride and aromatic dicarboxylic anhydride. Things.

【００５７】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−１，２−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物環、
２，３−ビシクロ〔２．２．２〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include:
Succinic anhydride, glutaconic anhydride, maleic anhydride, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride, cyclohexene-1,2- Dicarboxylic anhydride ring,
2,3-bicyclo [2.2.2] octadicarboxylic anhydride ring and the like. These rings are, for example, chlorine atom,
A halogen atom such as a bromine atom, or an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group, and a hexyl group may be substituted.

【００５８】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, and a thiophene-dicarboxylic anhydride ring. These rings are
For example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an alkyl group such as a butyl group,
Hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (for example, methoxy group,
Ethoxy group etc.) may be substituted.

【００５９】樹脂〔Ａ〕の極性基を含有する共重合成分
は、例えば一般式（Ｉ）〔一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）も
含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重
合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であればい
ずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・
ハンドブック〔基礎編〕」培風館（１９８６年刊）等に
記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び／又
はβ置換アクリル酸（例えばα−アセトキシ体、α−ア
セトキシメチル体、α−（２−アミノ）エチル体、α−
クロロ体、α−ブロモ体、α−フルオロ体、α−トリブ
チルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロ
モ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α，β−ジクロロ
体等）、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エス
テル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、２−アル
ケニルカルボン酸類（例えば２−ペンテン酸、２−メチ
ル−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸、４−メチル−２
−ヘキセン酸、４−エチル−２−オクテン酸等）、マレ
イン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体及び
これらのカルボン又はスルホン酸のエステル誘導体、ア
ミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物等が
挙げられる。The copolymer component containing a polar group of the resin [A] is, for example, copolymerized with a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I) (including the general formulas (Ia) and (Ib)). Any vinyl compound containing the polar group that can be polymerized may be used. For example, “Polymer Data ・
Handbook [Basic Edition], Baifukan (1986) and the like. Specifically, acrylic acid, alpha and / or β-substituted acrylic acids (e.g., alpha-acetoxy body, alpha-acetoxymethyl body, alpha-(2-amino) an ethyl body, alpha-
Chloro body, alpha-bromo compound, alpha-off Ruoro body, alpha-tributylsilyl body, alpha-cyano body, beta-chloro body, beta-bromo compound, alpha-chloro -β- methoxy compound, alpha, beta-dichloro body Methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2
-Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids And ester compounds of these carboxylic or sulfonic acids, and compounds containing the polar group in the substituents of the amide derivatives.

【００６０】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、ｂ¹ は−Ｈ又は−ＣＨ₃ を示し、ｂ²
は−Ｈ、−ＣＨ₃ 又は−ＣＨ ₂ ＣＯＯＣＨ₃ を示し、Ｒ
⁷ は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁸ は炭素数１
〜６のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、
ｆは１〜３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示し、
ｈは１〜１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示し、
ｊは２〜１０の整数を示す。Examples of the copolymer component containing a polar group are described below. Here, b ¹ represents -H or -C H _3, b ²
Is -H, indicates -C H ₃ or -CH ₂ COOCH _3, R
⁷ represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R ⁸ represents 1 alkyl group.
Represents an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group,
f represents an integer of 1 to 3, g represents an integer of 2 to 11,
h represents an integer of 1 to 11, i represents an integer of 2 to 4,
j represents an integer of 2 to 10.

【００６１】[0061]

【化１３】 Embedded image

【００６２】[0062]

【化１４】 Embedded image

【００６３】[0063]

【化１５】 Embedded image

【００６４】[0064]

【化１６】 Embedded image

【００６５】[0065]

【化１７】 Embedded image

【００６６】[0066]

【化１８】 Embedded image

【００６７】[0067]

【化１９】 Embedded image

【００６８】[0068]

【化２０】 Embedded image

【００６９】[0069]

【化２１】 Embedded image

【００７０】[0070]

【化２２】 Embedded image

【００７１】[0071]

【化２３】 Embedded image

【００７２】[0072]

【化２４】 Embedded image

【００７３】更に低分子量体の樹脂〔Ａ〕は、前記した
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）及び／又は（Ｉｂ）の単量体及
び前記極性基を含有する単量体と共に、これら以外の他
の単量体を共重合成分として含有してもよい。Further, the low-molecular-weight resin [A] may be used together with the above-mentioned monomers of the general formulas (I), (Ia) and / or (Ib) and the above-mentioned polar group-containing monomer. Other monomers may be contained as a copolymer component.

【００７４】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式（Ｉ）で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアリル酸エステル類（例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等）、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
（例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等）、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類（例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等）、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
（例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等）等が挙
げられる。Examples of such other copolymer components include α-olefins, in addition to methacrylates, acrylates, and crotonates having a substituent other than those described in the general formula (I). , Vinyl carboxylate or allyl esters (eg, carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (eg, Dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinyl) Naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.).

【００７５】樹脂〔Ａ〕は重量平均分子量が１×１０³
〜２×１０⁴ の低分量のランダム共重合体であるが、こ
れらの重合方法は、従来公知の方法において、重合条件
を選択することでラジカル重合、イオン重合等の方法で
容易に合成することができる。重合する単量体、重合溶
媒、反応設定温度等から、ラジカル重合反応を行なうこ
とが精製、装置、反応方法等の点から有利で好ましい。The resin [A] has a weight average molecular weight of 1 × 10 ^3.
These are random copolymers having a small amount of up to 2 × 10 ⁴ , and these polymerization methods can be easily synthesized by a conventionally known method such as radical polymerization or ionic polymerization by selecting polymerization conditions. Can be. From the viewpoint of purification, apparatus, reaction method and the like, it is advantageous and preferable to carry out a radical polymerization reaction from the monomer to be polymerized, the polymerization solvent, the reaction set temperature and the like.

【００７６】具体的には、重合開始剤として、通常知ら
れているアゾビス系開始剤、過酸化物等が挙げられる。
特に低分子量体を合成する特徴としては、該開始剤の使
用量の増量あるいは重合設定温度を高くするといった公
知の方法を適用すればよい。具体的には、開始剤使用量
としては全単量体に対して、０．１〜２０重量％の範囲
で、重合設定温度は３０℃〜２００℃の範囲で行なうこ
とができる。Specifically, examples of the polymerization initiator include generally known azobis-based initiators and peroxides.
In particular, as a feature of synthesizing a low molecular weight compound, a known method such as increasing the amount of the initiator used or increasing the set polymerization temperature may be applied. Specifically, the initiator can be used in an amount of 0.1 to 20% by weight based on all monomers, and the polymerization temperature can be set in a range of 30 ° C to 200 ° C.

【００７７】更には、連鎖移動剤を併用する方法も知ら
れている。例えばメルカプト化合物、ハロゲン化化合物
等を全単量体量に対して０．０１〜１０重量％の範囲で
用いることで所望の重量平均分子量に調整することがで
きる。Further, a method in which a chain transfer agent is used in combination is also known. For example, a desired weight average molecular weight can be adjusted by using a mercapto compound, a halogenated compound, or the like in a range of 0.01 to 10% by weight based on the total amount of monomers.

【００７８】次に本発明の樹脂〔Ｂ〕について説明す
る。樹脂〔Ｂ〕は、前記一般式（Ｉ）で示される重合体
成分を少なくとも含有するブロックＡと、樹脂〔Ａ〕に
おいて示される特定の極性基から選択される少なくとも
一種の極性基を含有する重合体成分を少なくとも含有す
るブロックＢとから構成されるＡＢ型ブロック高分子鎖
を同一の有機分子に少なくとも３個結合してなるスター
型共重合体である。Next, the resin [B] of the present invention will be described. The resin [B] includes a block A containing at least the polymer component represented by the general formula (I) and a resin containing at least one kind of polar group selected from the specific polar groups shown in the resin [A]. AB-type block polymer chain composed of a block B containing at least a coalescing component
The at least three formed by bonding a star copolymer in the same organic component child.

【００７９】ここにおいて、ブロックＡとブロックＢの
高分子鎖中における配列の順序はいずれでもよい。即
ち、該重合体を模式的に示す下記の如くになる。Here, the order of the arrangement of the blocks A and B in the polymer chain may be any. That is, the polymer is schematically shown below.

【００８０】[0080]

【化２５】 Embedded image

【００８１】[0081]

【化２６】 Embedded image

【００８２】〔ここで、Ｘは有機分子を表し、（Ａ）は
ブロックＡを、（Ｂ）はブロックＢを表し、（Ａ）−
（Ｂ）は高分子鎖を表す。〕また、かかるＡＢ型ブロッ
ク高分子鎖が、有機分子に結合する上限は多くても１５
個、通常１０個程度である。[Where X represents an organic molecule, (A) represents a block A, (B) represents a block B, and (A)-
(B) represents a polymer chain. ] Further, according AB type block polymer chains, even the upper limit much that bind to organic molecules 15
, Usually about 10.

【００８３】樹脂〔Ｂ〕における特定の極性基含有重合
体成分の含有量は、樹脂〔Ｂ〕中、好ましくは０．０５
〜１５重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％であ
る。Specific Polar Group-Containing Polymerization in Resin [B]
The content of the body component, the resin (B), preferably 0.05
-15 % by weight, more preferably 0.1-10 % by weight.

【００８４】結着樹脂〔Ｂ〕における極性基含有重合体
成分量が０．０５重量％より少ないと、初期電位が低く
て充分な画像濃度を得ることができず、該極性基含有重
合体成分量が１５重量％よりも多いと、分散性が低下
し、膜平滑度及び電子写真特特性の高温高湿が低下し、
更にオフセットマスターとして用いるときに地汚れが増
大するため、好ましくない。 Polymer Containing Polar Group in Binder Resin [B]
When component amount is less than 0.05 wt%, it is impossible to initial potential to obtain a sufficient image density is low, the polar group-containing heavy
When the combined component amount is more than 15% by weight, dispersibility decreases, film smoothness and high-temperature and high-humidity characteristics of electrophotographic characteristics decrease,
Further, when used as an offset master, background contamination increases, which is not preferable.

【００８５】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は２×１０⁴
〜１×１０⁶ 、好ましくは３×１０⁴ 〜５×１０⁵ であ
る。樹脂〔Ｂ〕の分子量が２×１０⁴ より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分
子量が１×１０⁶ より大きくなると本発明の樹脂〔Ｂ〕
の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特
性になってしまう。The weight average molecular weight of the resin [B] is 2 × 10 ⁴
１1 × 10 ⁶ , preferably 3 × 10 ⁴ -5 × 10 ⁵ . When the molecular weight of the resin [B] is less than 2 × 10 ⁴ , the film-forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is more than 1 × 10 ⁶ , the resin [B] of the present invention may be used.
Effect is reduced, and the electronic properties are almost the same as those of conventionally known resins.

【００８６】該樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、−１０℃
〜１００℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
０℃〜９０℃である。本発明のスター型共重合体（樹脂
〔Ｂ〕）の高分子鎖を構成する各ブロックは以下の特徴
を有する。The glass transition point of the resin [B] is -10 ° C.
It is preferably in the range of 100C to 100C, more preferably 0C to 90C. Each block constituting the polymer chain of the star copolymer (resin [B]) of the present invention has the following features.

【００８７】Ａブロック成分は、前記一般式（Ｉ）で示
される繰り返し単位で示される重合体成分を少なくとも
含有し、該式（Ｉ）で示される成分はＡブロック成分中
好ましくは３０〜１００重量％、より好ましくは５０〜
１００重量％含有される。また、ブロックＡにおいて
は、ブロックＢで含有される特定の極性基含有成分を含
有しないことを特徴とする。The A block component contains at least a polymer component represented by the repeating unit represented by the general formula (I), and the component represented by the formula (I) is preferably 30 to 100% by weight of the A block component. %, More preferably 50 to
100% by weight is contained. Block A is characterized in that it does not contain the specific polar group-containing component contained in Block B.

【００８８】一般式（Ｉ）の成分の具体的内容について
は、樹脂〔Ａ〕で説明したと同様のものに準じる。他に
含有され得る重合体成分としては、例えば下記一般式
（ＩＩ）で示される成分が挙げられる。The specific contents of the components of the general formula (I) are the same as those described for the resin [A]. Examples of other polymer components that may be contained include a component represented by the following general formula (II).

【００８９】[0089]

【化２７】 Embedded image

【００９０】〔式（ＩＩ）中、Ｘ¹ は−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_p −ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_p −
ＣＯＯ−（ｐは１〜３の整数を表す）、−Ｏ−、−ＳＯ
₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｑ² ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｑ
² ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又
は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す（ここでＱ² は水素原子又は炭化
水素基を表す）。[In the formula (II), X ¹ is -COO-, -O
_{CO -, - (CH 2)} p -OCO -, - (CH 2) p -
COO- (p represents an integer of 1 to 3), -O-, -SO
_{2 -, - CO -, -} CON (Q 2) -, - SO 2 N (Q
^{2) -, - CONHCOO -,} - CONHCONH- or -C ₆ H ₄ - are expressed (here Q ² is a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

【００９１】Ｑ¹ は炭化水素基を表す。ｍ¹ 及びｍ
² は、互いに同じでも異なってもよく、前記式（Ｉ）中
のａ¹、ａ² とそれぞれ同一の内容を表す。〕ここで、
Ｑ² は水素原子のほか、好ましい炭化水素基としては、
炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチ
ル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−
メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、
３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置換され
てもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロ
ペニル基、２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、３−メ
チル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキ
セニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセ
ニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数
５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺ
ンチルエチル基等）又は炭素数６〜１２の置換されても
よい芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボキシフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙
げられる。Q ¹ represents a hydrocarbon group. m ¹ and m
² may be the same or different, and represent the same contents as a ¹ and a ² in the formula (I). 〕here,
Q ² is a hydrogen atom, and a preferred hydrocarbon group is
An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2 -Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc., an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2- A pentenyl group, a 1-pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 2-hexenyl group, a 4-methyl-2-hexenyl group or the like, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a benzyl group, Phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon An alicyclic group which may be substituted with a number of 5 to 8 (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) Or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecylylamidophenyl group, etc.).

【００９２】Ｘ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等）等が挙げられる。When X ¹ represents —C ₆ H ₄ —, the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.) and alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.).

【００９３】Ｑ¹ は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数１〜２２の置換されてもよい
アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチ
ル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−
メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、
３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置換され
てもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロ
ペニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メ
チル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキ
セニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセ
ニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数
５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺ
ンチルエチル基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよ
い芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙
げられる。Q ¹ represents a hydrocarbon group. Preferred examples of the hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group and a heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc., an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-−２) An phenyl group, a 1-pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 2-hexenyl group, a 4-methyl-2-hexenyl group and the like, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group) Group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), carbon number 5 to 8 optionally substituted alicyclic groups (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group and the like) An optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, A propioamidophenyl group, a dodecylylamidophenyl group, etc.).

【００９４】更に好ましくは、一般式（ＩＩ）におい
て、Ｘ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＯＣＯ
−、−ＣＨ₂ ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ
₂ ＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す。More preferably, in the general formula (II), X ¹ is -COO-, -OCO-, -CH ₂ OCO
_{-, - CH 2 COO -,} - O -, - CONH -, - SO
₂ NH- or -C ₆ H ₄ - represents a.

【００９５】更には、式（ＩＩ）に示される重合体成分
とともに該Ａブロック中に含有され得る重合体成分とし
て、該式（ＩＩ）の重合体成分と共重合しうる他の繰り
返し単位に相当する単量体、例えばアクリロニトリル、
メタクリロニトリル、複素環ビニル類（例えばビニルピ
リジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニ
ルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、
ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら他の単量
体はＡブロックの全重合体成分１００重量部中２０重量
部を超えない範囲で用いられる。Further, as a polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component represented by the formula (II), it corresponds to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the formula (II). A monomer such as acrylonitrile,
Methacrylonitrile, heterocyclic vinyls (eg, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane,
And vinyl oxazine). These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer components of the A block.

【００９６】次にスター型共重合体〔Ｂ〕の高分子鎖を
構成するＢブロック成分について詳しく説明する。ブロ
ックＢを構成する特定の極性基を含有する重合成分の具
体例としては、前記した樹脂〔Ａ〕の特定の極性基を含
有する重合体成分と同様のものを挙げることができる。Next, the B block component constituting the polymer chain of the star copolymer [B] will be described in detail. Specific examples of the polymer component containing a specific polar group constituting the block B include the same as the polymer component containing a specific polar group of the resin [A] described above.

【００９７】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Ｂブロック中に２種以上含有されていてもよく、
その場合における該２種以上の極性基含有成分は該Ａブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。The polymer component containing a specific polar group as described above may be contained in the B block in two or more kinds.
In this case, the two or more polar group-containing components may be contained in the A block in any mode of random copolymerization or block copolymerization.

【００９８】また、上記極性基含有の重合体成分以外の
重合体成分をブロックＢ中に含有していてもよく、かか
る重合体成分としては好ましくは前記一般式（Ｉ）及び
（ＩＩ）の繰り返し単位に相当する重合体成分、更には
その他の成分として記載したものと同様のものが挙げら
れる。Further, a polymer component other than the above-mentioned polar group-containing polymer component may be contained in the block B. As such a polymer component, preferably, the above-mentioned general formulas (I) and (II) are repeated. The polymer component corresponding to the unit, and further, the same components as those described as the other components may be mentioned.

【００９９】本発明のスター型共重合体〔Ｂ〕は、従来
公知の極性基含有で且つ重合性二重結合基をもつ単量体
のスター型ポリマーの合成法を利用して合成することが
できる。例えばその一つとしてカルバニオンを開始剤と
する重合反応が挙げられる。具体的には、Ｍ．Ｍｏｒｔ
ｏｎ、Ｔ．Ｅ．Ｈｅｌｍｉｎｉａｋ ｅｔａｌ、Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．、５７、４７１（１９６２）、Ｂ．
ＧｏｒｄｏｎＩＩＩ、Ｍ．Ｂｌｕｍｅｎｔｈａｌ、Ｊ．
Ｅ．Ｌｏｆｔｕｓ、ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌ
ｌ．、１１、３４９（１９８４）、Ｒ．Ｂ．Ｂａｔｅ
ｓ、Ｗ．Ａ．Ｂｅａｖｅｒｓ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．、４４、３８００（１９７９）に記載の方法
に従って合成できる。The star type copolymer [B] of the present invention can be synthesized by using a conventionally known method for synthesizing a star type polymer of a monomer having a polar group and having a polymerizable double bond group. it can. For example, one of them is a polymerization reaction using a carbanion as an initiator. Specifically, M. Mort
on, T. E. FIG. Helminiak et al. P
olym. Sci. 57, 471 (1962);
Gordon III, M.A. Blumenthal, J.M.
E. FIG. Loftus, et al, Polym. Bull
l. , 11, 349 (1984); B. Bate
s, W.S. A. Beavers, et al. Org.
Chem. , 44, 3800 (1979).

【０１００】但し、本反応を用いる際には、本発明の
「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合
させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の特
定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
（脱保護反応）については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔、「反
応性高分子」（株）講談社刊（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．
Ｇｒｅｅｎｅ、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ
ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ｊｏ
ｈｎＷｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１９８１年）、Ｊ．
Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒ
ｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、（１９７３年）等の総
説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行なうこ
とができる。However, when using this reaction, the “specific polar group” of the present invention is used as a protected functional group, and after polymerization, the protective group is eliminated. The protection of the specific polar group of the present invention by a protective group and the elimination of the protective group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge. For example, various descriptions are given in the above cited references, and furthermore, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, "Reactive Polymers", Kodansha Co., Ltd. (1977); W.
Greene, “Protective Groups
in Organic Synthesis ", Jo
hnWiley & Sons (1981);
F. W. McOmie, "Protective Gr
ups in Organic Chemistr
y ", Plenum Press, (1973) and the like.

【０１０１】他の方法としては、本発明の特定の極性基
を保護しないままの単量体を用い、ジチオカルバメート
基を含有する化合物及び／又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、３
７，２４８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、
特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東
信行等、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐ
ａｎ、３６、（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉ
ｗａ、Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｍａｃｒｏ
ｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７（１
９８７）等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。[0102] Other methods, starting compounds containing a specific reference to monomers which remain protecting the polar group, a compound containing di-thiocarbamate <br/> group and / or a xanthate group of the present invention As an agent, it can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takatsu Otsu, polymer, 3
7 , 248 (1988), Shunichi Himori, Ryuichi Otsu, Pol
ym. Rep. Jap. 37 . 3508 (1988),
JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Nobuyuki Higashi, Polymer Preprints, Japan
an, 36 , (6), 1511 (1987); Ni
wa, N.M. Higashi, et al. Macro
mol. Sci. Chem. A24 (5), 567 (1
987) and the like.

【０１０２】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量部を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。As the binder resin provided for the photoconductive layer of the present invention, the above-mentioned known resin for an inorganic photoconductor can be used in combination in addition to the resin [A] and the resin [B] of the present invention.
However, the usage ratio of these other resins is 10
A range not exceeding 30 parts by weight of 0 parts by weight is preferable. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced.

【０１０３】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。Examples of other resins that can be used in combination are, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, and acrylate copolymer. , Vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【０１０４】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, “Polymer,” Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto,
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No. 8) 9th
Page, Koichi Nakamura, "Practical Technology of Binders for Insulating Materials", Chapter 10, C.I. H. C. Publishing (1985); D.
Tatt, S.M. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966); S. B
altazzi, R.A. G. FIG. Blanklotte et
al, Photo. Sci. Eng. 16 (No.
5), 354 (1972), Nguyen Chan K, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Society of Electrographic Photography 18 (No. 2),
28 (1980), JP-B-50-31011, JP-A-53-54027, JP-A-54-20735, and 57-
The resins disclosed in JP-A-202544 and JP-A-58-68046 are exemplified.

【０１０５】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is 1 to 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
It is preferably from 0 to 100 parts by weight, more preferably from 15 to 50 parts by weight.

【０１０６】本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割
合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜
０．８／０．９５〜０．２０であることが好ましく、よ
り好ましくは０．１０〜０．５０／０．９０〜０．５０
である。The ratio of the resin [A] to the resin [B] of the present invention is 0.05 to 0.05 in weight ratio of the resin [A] / the resin [B].
It is preferably 0.8 / 0.95 to 0.20, more preferably 0.10 to 0.50 / 0.90 to 0.50.
It is.

【０１０７】結着樹脂の総量が１０重量部より少なくな
ると、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００
重量部より多くなると、静電特性が低下し、実際の撮像
性においても複写画像の悪化を生じてしまう。[0107] When the total amount of the binder resin is <br/> Ru less than 10 parts by weight, the film strength of the photoconductive layer can not be maintained. Also 100
When the amount is more than the weight part, the electrostatic characteristics are deteriorated, and the copied image is deteriorated even in the actual imaging performance.

【０１０８】又、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使
用割合において樹脂〔Ａ〕の重量比が０．０５より小さ
くなると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方
０．８より大きくなると光導電層の膜強度が充分維持で
きなくなる場合（特に電子写真式平版印刷用原版とし
て）が生じる。In the use ratio of the resin [A] and the resin [B] of the present invention, the weight ratio of the resin [A] is smaller than 0.05.
When Ku becomes, it wanes the effect of electrostatic properties improved. On the other hand, if it is larger than 0.8, the film strength of the photoconductive layer cannot be sufficiently maintained (particularly as an electrophotographic lithographic printing original plate).

【０１０９】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。Examples of the inorganic photoconductive material used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, and lead sulfide.

【０１１０】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング１９７３（Ｎ
ｏ．８）第１２頁、Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒ
ｅｖｉｅｗ １５、４６９（１０５４）、清田航平等、
電気通信学会論文誌Ｊ６３ −Ｃ（Ｎｏ．２）、９７
（１９８０）、原崎勇次等、工業科学雑誌６６７８及び
１８８（１９６３）、谷忠昭、日本写真学会誌３５、２
０８（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系色素、
ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサ
ンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素（例
えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン
色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等）、フタロシ
アニン色素（金属を含有してもよい）等が挙げられる。As the spectral sensitizing dye used in the present invention,
Various dyes are used alone or in combination as necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C.I. J. Young et al., RCA R
view 15 , 469 (1054), Kohei Kiyota,
IEICE Transactions J63 - C (No. 2 ), 97
(1980), Yuji such as Yuji, industrial scientific journals 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Japan Society of Photographic Science and Technology 35, 2
08 (1972), etc.
Diphenylmethane dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, phthalein dye, polymethine dye (for example, oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye, rhodacyanine dye, styryl dye, etc.), phthalocyanine dye (which may contain metal), etc. Is mentioned.

【０１１１】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes and phthalein dyes are described in JP-B-51-45.
No. 2, JP-A-50-90334 and JP-A-50-11422
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
U.S. Pat. Nos. 3,052,540 and 4,054,45
0 and JP-A-57-16456.

【０１１２】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｍｅｒ「Ｔｈｅ ＣｙａｎｉｎｅＤ
ｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ」
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１０，５９
１号、同３，１２１，００８号、同３，１２５，４４７
号、同３，１２８，１７９号、同３，１３２，９４２
号、同３，６２２，３１７号、英国特許第１，２２６，
８９２号、同１，３０９，２７４号、同１，４０５，８
９８号、特公昭４８−７８１４号、同５５−１８８９２
号等に記載の色素が挙げられる。Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include those described in F.I. M. H am er "The CyanineD
yes and Related Compound ”
Can be used, more specifically, more specifically,
U.S. Pat. Nos. 3,047,384 and 3,110,59
No. 1, 3,121,008, 3,125,447
Nos. 3,128,179 and 3,132,942
No. 3,622,317, British Patent No. 1,226,
892, 1,309,274, 1,405,8
No. 98, Japanese Patent Publication No. 48-7814, and No. 55-18892
And the like.

【０１１３】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１
２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等、「細菌の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 7-840, No. 47-44180, Japanese Patent Publication No. 51-4
No. 1061, JP-A-49-5034 and JP-A-49-451
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141
No., 57-157254, 61-26044,
No. 61-27551, U.S. Pat. No. 3,619,154
No. 4,175,956, “Research D
isclosure ", 1982, 216, 117-
And those described on page 118 and the like. The photoreceptor of the present invention is excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye. Furthermore, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination, if necessary. For example,
Review mentioned above: Imaging 1973 (No. 8) No. 1
"Development and commercialization of bacterial photoconductive materials and photoreceptors", such as electron-accepting compounds (eg, halogen, benzoquinone, chloranil, acid anhydride organic carboxylic acid, etc.) and Hiroko Komon, etc. Chapters 4 to 6 include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like, which are referred to in the review articles of Japan Science Information Co., Ltd., Publishing Division (1986).

【０１１４】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μ、特に１０〜５０μが好適である。The amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.00.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 1
00μ, especially 10 to 50μ is preferred.

【０１１５】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは０．０１〜１μ、特に０．０５〜０．５
μが好適である。When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor in which the charge generation layer and the charge transport layer are stacked, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 0. 5
μ is preferred.

【０１１６】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。In some cases, an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photosensitive member, improving the durability, and improving the dark attenuation characteristics.
At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photosensitive member is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.

【０１１７】後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０
μ、特には、１０〜５０μに設定される。積層型感光体
の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オキ
サゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメタ
ン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては５〜４
０μ、特には１０〜３０μが好適である。In the latter case, the thickness of the insulating layer is 5 to 70
μ, especially 10 to 50 μ. Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. 5 to 4 as the thickness of the charge transport layer
0μ, especially 10 to 30μ is suitable.

【０１１８】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酢ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜
用いられる。Typical resins used for forming the insulating layer or the charge transport layer include polystyrene resins, polyester resins, cellulose resins, polyether resins, and the like.
Vinyl chloride resins, vinyl acetate resins, salts Bee vinegar bi copolymer resins, polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, melamine resins, thermoplastic resins and curable resin silicone resin used as appropriate .

【０１１９】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Support of the electrophotographic photosensitive layer is say generally is preferably electrically conductive, the conductive support, just as the conventional, for example, metal, paper, a low resistance material on the basis of the plastic sheet those conductive treatment by, for example, impregnating, those conductivity is imparted to the back surface of the base body (surface opposite to the surface on which the photosensitive layer), and further coated with at least one or more layers for the purpose of achieving anti-curl,
A substrate provided with a water-resistant adhesive layer on the surface of the support, a substrate provided with at least one or more pre-coat layers on the surface layer of the support as required, a base conductive plastic on which Al or the like is deposited on paper, Can be used.

【０１２０】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．
１）、Ｐ２〜１１（１９７５）、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏ
ｖｅｒ，Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ
−４（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等
に記載されているもの等を用いる。More specifically, examples of the conductive substrate or the conductive material include Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No.
1), P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Chemistry of Introductory Special Paper", Polymer Publishing Association (1975), M. F. Hoo
ver, J. et al. Macromol. Sci. Chem. A
-4 (6), pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.

【０１２１】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。The electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in applications utilizing all conventionally known electrophotographic processes. That is, the photoreceptor of the present invention can be used for any of the recording methods of the PPC method and the CPC method.
The developer can be used in any combination of a dry developer and a liquid developer.

【０１２２】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる（例えば、滝
沢九郎、「写真工業」３３、３４（１９７５年）、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告」７７、１７（１９
７７年）等に記載の方法）。In particular, since a high-definition original faithful copy image can be formed, the effect of the present invention is further enhanced when used in combination with a liquid developer. In addition, by combining with a color developer, not only black-and-white copy images,
It can also be applied to color copied images (for example, Kuro Takizawa, “Photo Industry” 33 , 34 (1975), Masayasu Anzai, “Technical Report of the Institute of Electronics and Communication Engineers” 77 , 17 (19)
77)).

【０１２３】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。Further, the present invention is also effective in a system utilizing other recent electrophotographic processes for other uses. For example, the photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as the photoconductor is used as an offset lithographic printing plate precursor, and is also non-polluting and has good whiteness and good photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide. The photoreceptor can be used as an underprint material or a color group used in an offset printing process.

【０１２４】[0124]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the content of the present invention is not limited to these examples.

【０１２５】〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 ベンジルメタクリレート９５ｇ、アクリル酸５ｇ及びト
ルエン２００ｇの混合溶液を窒素気流下９０℃の温度に
加温した後、Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．６．０ｇを加え４時間反
応させた。更にＡ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．２ｇを加え２時間反応
させた。得られた共重合体〔Ａ−１〕の重量平均分子量
（Ｍｗと略称する）は８５００であった。[Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A]: [A-1] A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of acrylic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 90 ° C. under a nitrogen stream. Later, A. I. B. N. 6.0 g was added and reacted for 4 hours. Further, A. I. B. N. 2 g was added and reacted for 2 hours. The weight average molecular weight (abbreviated as Mw) of the obtained copolymer [A-1] was 8,500.

【０１２６】[0126]

【化２８】 Embedded image

【０１２７】樹脂〔Ａ〕の合成例２〜２８：〔Ａ−２〕
〜〔Ａ−２８〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１の重合条件と同様に操作して下記
表−Ａの各樹脂〔Ａ−２〕〜〔Ａ−２８〕を合成した。Synthesis Examples 2-28 of Resin [A]: [A-2]
-[A-28] Resins [A-2] to [A-28] in Table-A below were synthesized in the same manner as in the polymerization conditions of Synthesis Example 1 of Resin [A].

【０１２８】各樹脂〔Ａ〕のＭｗは５．０×１０³ 〜
９．０×１０³ であった。The Mw of each resin [A] is from 5.0 × 10 ³ to
It was 9.0 × 10 ³ .

【０１２９】[0129]

【表１】 [Table 1]

【０１３０】[0130]

【表２】 [Table 2]

【０１３１】[0131]

【表３】 [Table 3]

【０１３２】[0132]

【表４】 [Table 4]

【０１３３】[0133]

【表５】 [Table 5]

【０１３４】[0134]

【表６】 [Table 6]

【０１３５】[0135]

【表７】 [Table 7]

【０１３６】樹脂〔Ａ〕の合成例２９：〔Ａ−２９〕 ２，６−ジクロロフェニルメタクリレート９５ｇ、アク
リル酸５ｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン２ｇ及びトルエ
ン２００ｇの混合溶液を窒素気流下８０℃の温度に加温
した後、Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．２ｇを加え４時間反応し、次
にＡ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．０．５ｇを加え２時間、更にＡ．
Ｉ．Ｂ．Ｎ．０．５ｇを加え３時間反応した。冷却後、
メタノール／水（９／１）の混合溶液２リットル中に再
沈し、沈殿物をデカンテーションで補集し、減圧乾燥し
た。得られたワックス状の共重合体の収量は７８ｇで、
Ｍｗは６．３×１０³ であった。 〔樹脂〔Ｂ〕の合成〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例：〔Ｂ−１〕 メチルメタクリレート７４ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ
−１〕１２．４ｇの混合物を、窒素気流下に温度５０℃
に加温した。この溶液に４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃ
ｍの距離からガラスフィルターを通して５時間光照射し
光重合した。Synthesis Example 29 of Resin [A]: [A-29] A mixed solution of 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, 2 g of n-dodecylmercaptan and 200 g of toluene was heated to 80 ° C. under a nitrogen stream. After warming, I. B. N. 2 g was added and reacted for 4 hours. I. B. N. Add 0.5 g for 2 hours, then add A.
I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 3 hours. After cooling,
The precipitate was reprecipitated in 2 liters of a mixed solution of methanol / water (9/1), and the precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained waxy copolymer was 78 g,
Mw was 6.3 × 10 ³ . [Synthesis of Resin [B]] Synthesis Example of Resin [B]: [B-1] 74 g of methyl methacrylate and an initiator [I
-1] 12.4 g of the mixture was heated at a temperature of 50 ° C under a nitrogen stream.
Was heated. This solution was added with a 400 W high-pressure mercury lamp at 10 c.
m for 5 hours through a glass filter from a distance of m for photopolymerization.

【０１３７】この重合物に、テトラヒドロフラン１００
ｇを加えて溶解し、更にメチルアクリレート２５ｇ及び
アクリル酸１．０ｇを加えた後、窒素気流下に再び温度
５０℃に加温した。The polymer was added to tetrahydrofuran 100
g was added and dissolved, 25 g of methyl acrylate and 1.0 g of acrylic acid were further added, and the mixture was again heated to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream.

【０１３８】[0138]

【化２９】 Embedded image

【０１３９】次に、上記と同様にして、光照射を１０時
間行なった後、得られた反応物をメタノール２リットル
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥して、収量７８ｇで重
量平均分子量（Ｍｗ：Ｍｗはポリスチレン換算によるＧ
ＰＣ法による値）６×１０⁴ の重合体を得た。Next, after the light irradiation was performed for 10 hours in the same manner as described above, the obtained reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a yield of 78 g and a weight of 78 g. Average molecular weight (Mw: Mw is G in terms of polystyrene)
A value of 6 × 10 ⁴ was obtained by a PC method.

【０１４０】[0140]

【化３０】 Embedded image

【０１４１】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕 樹脂〔Ｂ−１〕の合成例において、開始剤〔Ｉ−１〕１
２．４ｇの代わりに下記構造の開始剤〔Ｉ−２〕１６．
０ｇを用いた他は、合成例１と同様の条件で操作した。
得られた重合体の収量は７２ｇでＭｗは６×１０⁴ であ
った。Synthesis Example 2 of Resin [B]: [B-2] In the synthesis example of Resin [B-1], the initiator [I-1] 1
Instead of 2.4 g, an initiator [I-2] having the following structure:
The operation was carried out under the same conditions as in Synthesis Example 1 except that 0 g was used.
The yield of the obtained polymer was 72 g, and Mw was 6 × 10 ⁴ .

【０１４２】[0142]

【化３１】 Embedded image

【０１４３】[0143]

【化３２】 Embedded image

【０１４４】樹脂〔Ｂ〕の合成例３〜９：〔Ｂ−３〕〜
〔Ｂ−９〕 メチルメタクリレート６５ｇ及び下記表−Ｂの開始剤各
０．０１３モルの混合物を、樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同
様にして光重合反応を行なった。Synthesis Examples 3 to 9 of Resin [B]: [B-3] to
[B-9] A mixture of 65 g of methyl methacrylate and 0.013 mol of each of the initiators shown in Table B below was subjected to a photopolymerization reaction in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [B].

【０１４５】次にこれにテトラヒドロフラン１００ｇを
加えて溶解し、更に、メチルアクリレート３０ｇ、Ｎ−
ビニルピロリドン４ｇ及びメタクリル酸１ｇを加えた
後、樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様に、光重合及び再沈を
行なった。得られた重合体のＭｗは５×１０⁴ 〜８×１
０⁴ の範囲であった。Next, 100 g of tetrahydrofuran was added and dissolved, and 30 g of methyl acrylate and N-
After adding 4 g of vinylpyrrolidone and 1 g of methacrylic acid, photopolymerization and reprecipitation were performed in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [B] . Mw of the obtained polymer is 5 × 10 ⁴ to 8 × 1.
0 was ⁴ of range.

【０１４６】[0146]

【表８】 [Table 8]

【０１４７】[0147]

【表９】 [Table 9]

【０１４８】[0148]

【表１０】 [Table 10]

【０１４９】樹脂〔Ｂ〕の合成例１０〜１５：〔Ｂ−１
０〕〜〔Ｂ−１５〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、表
−Ｃに記載の重合成分に相当する各単量体を用いた他
は、合成例１と同様の条件で操作して各重合体を得た。
得られた重合体のＭｗは５×１０⁴ 〜６×１０⁴ の範囲
であった。Synthesis Examples 10 to 15 of Resin [B]: [B-1
0] to [B-15] In Synthesis Example 1 of resin [B], except that instead of methyl methacrylate, methyl acrylate and acrylic acid, monomers corresponding to the polymerization components described in Table-C were used. By operating under the same conditions as in Synthesis Example 1, each polymer was obtained.
The Mw of the obtained polymer was in the range of 5 × 10 ^{4 to} 6 × 10 ⁴ .

【０１５０】[0150]

【表１１】 [Table 11]

【０１５１】[0151]

【表１２】 [Table 12]

【０１５２】樹脂〔Ｂ〕の合成例１６〜２１：〔Ｂ−１
６〕〜〔Ｂ−２１〕 メチルアクリレート１６．５ｇ、アクリロニトリル２．
５ｇ、アクリル酸１．０ｇ、下記表−Ｄの開始剤を０．
００７２モル及びテトラヒドロフラン２０ｇの混合溶液
を、樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様にして、光照射を１５
時間行なった。次に、この反応物に、メチルメタクリレ
ート６０ｇ、メチルアクリレート２０ｇ及びテトラヒド
ロフラン８０ｇを加えた後樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様
にして重合反応及び再沈を行なった。得られた重合体の
Ｍｗは５×１０⁴ 〜８×１０⁴ の範囲であった。Synthetic Examples 16 to 21 of Resin [B]: [B-1
6] to [B-21] 16.5 g of methyl acrylate, acrylonitrile
5 g, 1.0 g of acrylic acid, 0.1 g of the initiator shown in Table D below.
0072 mol of a mixed solution of 0072 mol and 20 g of tetrahydrofuran was irradiated with light for 15 minutes in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [B].
Time went on. Next, 60 g of methyl methacrylate, 20 g of methyl acrylate and 80 g of tetrahydrofuran were added to the reaction product, and then the polymerization reaction and reprecipitation were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 of resin [B] . The Mw of the obtained polymer was in the range of 5 × 10 ⁴ to 8 × 10 ⁴ .

【０１５３】[0153]

【表１３】 [Table 13]

【０１５４】[0154]

【表１４】 [Table 14]

【０１５５】[0155]

【表１５】 [Table 15]

【０１５６】樹脂〔Ｂ〕の合成例２２〜２６：〔Ｂ−２
２〕〜〔Ｂ−２６〕 下記表−Ｅの重合体成分に相当する単量体及び前記開始
剤〔Ｉ−２〕１４ｇの混合物を、窒素気流下温度４０℃
に加温し、以下の操作を樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同様に
して、光照射し、５時間重合させた。Synthesis Examples 22 to 26 of Resin [B]: [B-2]
2] to [B-26] A mixture of a monomer corresponding to the polymer component in Table-E below and 14 g of the initiator [I-2] was heated at a temperature of 40 ° C under a nitrogen stream.
, And the mixture was irradiated with light and polymerized for 5 hours in the same manner as in Synthesis Example 1 of Resin [B] .

【０１５７】固形物を取り出し、テトラヒドロフラン１
００ｇに溶解した後、メチルアクリレート２５ｇ及びア
クリル酸１．５ｇを加え、更に窒素気流下温度５０℃に
加温し、上記と同様にして光照射して重合させた。得ら
れた反応物をメタノール１リットル中に再沈し、沈澱物
を捕集・乾燥した。各重合体の収量は６５〜７５ｇでＭ
ｗは５×１０⁴ 〜７×１０⁴ であった。The solid was taken out, and tetrahydrofuran 1
After dissolving in 00 g, 25 g of methyl acrylate and 1.5 g of acrylic acid were added, and the mixture was further heated to a temperature of 50 ° C. under a stream of nitrogen and irradiated with light in the same manner as described above to carry out polymerization. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of each polymer is 65-75 g and M
w was 5 × 10 ^{4 to} 7 × 10 ⁴ .

【０１５８】[0158]

【表１６】 [Table 16]

【０１５９】樹脂〔Ｂ〕の合成例２７〜３３：〔Ｂ−２
７〕〜〔Ｂ−３３〕 メチルメタクリレート５６ｇ、メチルアクリレート２４
ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ−１６〕１０ｇの混合物
を、窒素気流下温度４０℃に加温後、以下の操作を樹脂
〔Ｂ〕の合成例１と同様にして、光照射し４時間重合さ
せた。Synthesis Examples 27 to 33 of Resin [B]: [B-2]
7] to [B-33] methyl methacrylate 56 g, methyl acrylate 24
The g and initiator of the following structure [I-16] mixture of 10 g, was warmed nitrogen stream at a temperature 40 ° C., the resin the following operations
Light irradiation and polymerization were carried out for 4 hours in the same manner as in Synthesis Example 1 of [B] .

【０１６０】固形物を、テトラヒドロフラン１００ｇに
溶解した後、下記表−Ｆの重合成分に相当する各単量体
を加え、更に窒素気流下温度５０℃に加温し、上記と同
様にして光照射して重合させた。得られた反応物をメタ
ノール１リットル中に再沈し、沈澱物を捕集・乾燥し
た。各重合体の収量は６５〜７５ｇでＭｗは４×１０⁴
〜７×１０⁴ であった。After dissolving the solid in 100 g of tetrahydrofuran, each monomer corresponding to the polymerization component shown in Table F below was added, and the mixture was further heated to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream, and irradiated with light in the same manner as described above. And polymerized. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of each polymer was 65 to 75 g and the Mw was 4 × 10 ^4.
７7 × 10 ⁴ .

【０１６１】[0161]

【化３３】 Embedded image

【０１６２】[0162]

【表１７】 [Table 17]

【０１６３】[0163]

【表１８】 [Table 18]

【０１６４】実施例１並びに比較例１及び２ 樹脂〔Ａ−７〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
１〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のシアニン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、無
水フタル酸０．４５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を
ホモジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数６×１
０³ ｒｐｍで１０分間分散して、感光層形成物を調製
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が１８ｇ／ｍ
² となる様に、ワイヤーバーで塗布し、１１０℃で１０
秒間乾燥し、ついで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下
で２４時間放置することにより、電子写真感光材料を作
製した。Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 Resin [A-7] 6 g (as solid content), resin [B-
1] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0 g, a mixture of 0.018 g of the cyanine dye [I] having the following structure, 0.45 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at a rotation speed of 6 × 1.
0 ³ dispersed for 10 minutes at rpm, a photosensitive layer formation was prepared, which on conductive treated paper, dry coating weight of 18 g / m
Apply with a wire bar so that it becomes ^2.
After drying for 2 seconds, the mixture was allowed to stand in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material.

【０１６５】[0165]

【化３４】 Embedded image

【０１６６】比較例１： 実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−１〕３４ｇを用いた他は、実施例１
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that 34 g of the resin [R-1] having the following structure was used in place of 34 g of the resin [B-1].
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in the above.

【０１６７】[0167]

【化３５】 Embedded image

【０１６８】比較例２： 実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−２〕３４ｇとした他は、実施例１と
同様に操作して電子写真感光材料を作製した。Comparative Example 2: An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 34 g of the resin [R-2] having the following structure was used instead of 34 g of the resin [B-1]. Was prepared.

【０１６９】[0169]

【化３６】 Embedded image

【０１７０】これらの感光材料については、静電特性、
撮像性及び環境条件（２０℃、６５％ＲＨ）及び（３０
℃、８０％ＲＨ）とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Ｇに示す。These photosensitive materials have electrostatic characteristics,
Imaging properties and environmental conditions (20 ° C., 65% RH) and (30
(° C., 80% RH). The results are shown in Table-G.

【０１７１】[0171]

【表１９】 [Table 19]

【０１７２】表−Ｇに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注１）静電特性： 温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー（川口電機（株）製ペーパーアナライ
ザーＳＰ−４２８型）を用いて−６ｋＶで２０秒間コロ
ナ放電させた後、１０秒間放置し、この時の表面電位Ｖ
₁₀を測定した。次いでそのまま暗中で９０秒間静置させ
た後の電位Ｖ₁₀₀ を測定し、９０秒間暗減衰させた後の
電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔ＤＲＲ（％）〕を
（Ｖ₁₀₀ ／Ｖ₁₀）×１００（％）で求めた。Embodiments of the evaluation items shown in Table-G are as follows. Note 1) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C. and 65% RH, a corona discharge was applied to each photosensitive material at −6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (paper analyzer SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). Is left for 10 seconds, and the surface potential V at this time is
₁₀ was measured. Then measuring the potential V ₁₀₀ after allowed to stand for 90 seconds in as dark, retention of potential after being 90 seconds dark decay, i.e., dark decay retention rate [DRR (%)] (V ₁₀₀ / V ₁₀ ) × 100 (%).

【０１７３】又コロナ放電により光導電層表面を−４０
０Ｖに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）
光で照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０に減衰するま
での時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10（ｅｒｇ／ｃｍ
² ）を算出する。又、同様に表面電位（Ｖ₁₀）が１／１
００に減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ
_1/100 （ｅｒｇ／ｃｍ²）を算出する。測定時の環境条
件は、２０℃、６５％ＲＨ（Ｉ）と３０℃、８０％ＲＨ
（II）で行なった。 注２）撮像性： 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、各感
光材料を−６ｋＶで帯電し、光源として２．８ｍＷ出力
のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振
波長７８０ｎｍ）を用いて、感光材料表面上で６４ｅｒ
ｇ／ｃｍ² の照射量下、ピッチ２５μｍ及びスキャニン
グ速度３００ｍ／ｓｅｃのスピード露光後液体現像剤と
して、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フイルム（株）製）を用い
て現像し、イソパラフィンアイソパーＧ（エッソ化学
（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定着することで得ら
れた複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。Further, the surface of the photoconductive layer was changed to −40 by corona discharge.
After charging to 0 V, the surface of the photoconductive layer was gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm).
Irradiation with light was performed to determine the time required for the surface potential (V ₁₀ ) to decay to 1/10, and the exposure amount E _1/10 (erg / cm
² ) Calculate. Similarly, the surface potential (V ₁₀ ) is 1/1.
The time to decay to 00 is obtained, and the exposure amount E
Calculate _1/100 (erg / cm ² ). The environmental conditions at the time of measurement were 20 ° C, 65% RH (I) and 30 ° C, 80% RH.
Performed in (II). Note 2) Image-capturing properties: After each photosensitive material is left for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material is charged at -6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) is used as a light source. And 64er on the photosensitive material surface
g / cm ^2, an exposure dose of 25 μm, and a scanning speed of 300 m / sec. After exposure at a speed of 300 m / sec, development was performed using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer, and isoparaffin isopar G ( Esso). Chemistry
A copied image (fog, image quality) obtained by fixing after washing with a solvent rinse solution (manufactured by Co., Ltd.) was visually evaluated.

【０１７４】撮像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨ
（Ｉ）と３０℃８０％ＲＨ（II）で実施した。表−Ｇに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。一方、比較例１及び２は、光感度（Ｅ_1/10及びＥ
_1/100 ）の低下が生じ、実際の複写画像でも細線・文字
等のカスレや、リンス処理した後でも微かな地カブリが
除去されずに残存してしまった。Environmental conditions during imaging are 20 ° C. and 65% RH
(I) and 30% 80% RH (II). As shown in Table-G, the photosensitive material of the present invention had good electrostatic characteristics, and the actual copied image had no ground fog and the copied image quality was clear. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the light sensitivity (E _1/10 and E _1/10
1/100 ), and even in an actual copied image, blurring of fine lines and characters, and fine ground fog remained without being removed even after rinsing.

【０１７５】又、静電特性とは一致しないが、複写原稿
の連続階調部分の中間濃度でのムラの発生が生じてしま
った。本発明の感光体と比較例の感光体とではＥ_1/100
値が大きく異なる。Ｅ_1/100 値は、実際の撮像性におい
て、露光後、非画像部（既に露光された部位）にどれだ
けの電位が残っているかを示すものであり、この値が小
さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を示
す。In addition, although it does not match the electrostatic characteristics, unevenness occurs at an intermediate density in the continuous tone portion of the copy original. E _1/100 between the photoconductor of the present invention and the photoconductor of the comparative example.
The values are very different. The E _1/100 value indicates how much potential remains in the non-image area (exposed area) after exposure in the actual imaging performance. This indicates that background contamination of the image portion will not occur.

【０１７６】具体的には−１０Ｖ以下の残留電位
（Ｖ _R ) にすることが必要となり、即ち実際にはＶ_R を
−１０Ｖ以下とするために、どれだけ露光量が必要とな
るかということで、半導体レーザー光によるスキャンニ
ング露光方式では、小さい露光量でＶ_R を−１０Ｖ以下
にすることは、複写機の光学系の設計上（装置のコス
ト、光学系光路の精度等）非常に重要なことである。Specifically, a residual potential of -10 V or less
(V _R) that is required to, i.e. the fact V _R to less -10 V, that it how much exposure is needed, in a scanning exposure method according to the semiconductor laser beam is smaller to the V _R below -10V at an exposure amount (cost of the device, the accuracy of an optical system an optical path) optical system design of the copying machine it is very important.

【０１７７】以上の事より、本発明の樹脂を用いた場合
にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体が
得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式の
感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例２ 樹脂〔Ａ−８〕５ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３５ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素（II）０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。As described above, an electrophotographic photosensitive member satisfying electrostatic characteristics and image-capturing properties can be obtained only when the resin of the present invention is used, and is particularly advantageous to a photosensitive system of a semiconductor laser light scanning exposure system. It became clear. Example 2 Resin [A-8] 5 g (as solid content), Resin [B-
2] 35 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 20
0 g, 0.020 g of methine dye (II) having the following structure, N-
0.20 g of hydroxymaleimide and 30 of toluene
By operating 0 g of the mixture in the same manner as in Example 1, an electrophotographic photosensitive material was produced.

【０１７８】[0178]

【化３７】 Embedded image

【０１７９】この感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、
静電特性、撮像性及び環境条件を３０℃、８０％ＲＨと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。The film properties (surface smoothness) of this photosensitive material,
The electrostatic characteristics, the imaging properties, and the imaging properties when the environmental conditions were set to 30 ° C. and 80% RH were examined. Further, printability when used as an electrophotographic lithographic printing original plate was examined.

【０１８０】[0180]

【表２０】 [Table 20]

【０１８１】表−Ｈに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注３）表面層の平滑性： 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機（熊谷理工
（株）製）を用い、空気容量１ｃｃの条件にて、その平
滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定した。 注４）水との接触角： 各感光材料を不感脂化処理液ＥＰＬ−ＥＸ（富士写真フ
イルム（株）製）を蒸留水で２倍に稀釈した溶液を用い
て、エッチングプロセッサーに１回通して光導電層面を
不感脂化処理した後、これに蒸留水２μｌの水滴を乗
せ、形成された水との接触角をゴニオメーターで測定す
る。 注５）耐刷性： 前記注２）の撮像性と同条件にして、製版して、トナー
画像を形成し、上記注４）と同条件で不感脂化処理し、
これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
（桜井製作所（株）製オリバー５２型）にかけ、印刷物
の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じない
で印刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い程、耐刷性が
良好なことを表わす。）表−Ｈに示す様に、本発明の感
光材料は、光導電層の平滑性膜の機械的強度及び静電特
性が良好で、実際の複写画像も地カブリがなく複写画質
も鮮明であった。このことは光導電体と結着樹脂が充分
に吸着し、且つ、粒子表面を被覆していることによるも
のと推定される。同様の理由で、オフセットマスター原
版として用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化
処理が充分に進行し、非画像部の水との接触角が１０度
以下と小さく、充分に親水化されていることが判る。実
際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く
認められず、鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。Embodiments of the evaluation items shown in Table-H are as follows. Note 3) Smoothness of surface layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air volume of 1 cc. did. Note 4) Contact angle with water: Each photosensitive material is passed through an etching processor once using a solution obtained by diluting a desensitizing solution EPL-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with distilled water. After the surface of the photoconductive layer is desensitized, a drop of 2 μl of distilled water is placed on the surface and the contact angle with the formed water is measured with a goniometer. Note 5) Printing durability: Under the same conditions as in the above-mentioned Note 2), plate making is performed to form a toner image, and desensitizing treatment is performed under the same conditions as in Note 4) above.
Using the offset master as an offset master, an offset printing machine (Oliver 52, manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.) is used to indicate the number of sheets that can be printed without causing background stain on the non-image portion of the printed matter and the image quality of the image portion. As shown in Table-H, the photosensitive material of the present invention has good mechanical strength and electrostatic properties of the smooth film of the photoconductive layer, and shows that the photosensitive material of the present invention has a good printing durability. The copied image had no ground fog and the image quality was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master master, the desensitizing treatment with the desensitizing solution proceeds sufficiently, the contact angle with water of the non-image area is as small as 10 degrees or less, and the hydrophilicity is sufficiently increased. You can see that Even when the printed matter was actually printed and the background stain was observed, no background stain was observed at all, and 10,000 prints of clear image quality were obtained.

【０１８２】以上のことは、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂
〔Ｂ〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔Ｂ〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例３〜１８ 実施例２において、樹脂〔Ａ−８〕及び樹脂〔Ｂ−２〕
に代えて、下記表−Ｉの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂〔Ｂ〕
に代えた他は、実施例１と同様に操作して、各電子写真
感光体を作製した。The above indicates that the resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately interact with zinc oxide particles, and the desensitization reaction with the desensitizing solution easily and sufficiently proceeds. This indicates that a state is formed, and that the film strength is significantly improved by the action of the resin [B]. Examples 3 to 18 In Example 2, the resin [A-8] and the resin [B-2]
In place of each resin [A] and each resin [B] in Table I below.
Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 1 except that the above was replaced with

【０１８３】実施例２と同様にして静電特性を測定し
た。結果を表−Ｉに示す。The electrostatic characteristics were measured in the same manner as in Example 2. The results are shown in Table I.

【０１８４】[0184]

【表２１】 [Table 21]

【０１８５】又、これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もなく、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。Further, when the actual image-capturing properties of these photosensitive materials were examined, it was possible to obtain a clear copy image having good reproducibility of fine lines and characters, no generation of halftone unevenness and no background fog. Was.

【０１８６】又、オフセットマスター原版として用い
て、実施例２と同様にして印刷した所、いずれも少なく
とも１万枚以上印刷することができた。以上から、本発
明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性
及び印刷性の全ての点において良好なものであった。Further, when printing was performed in the same manner as in Example 2 using the offset master master, at least 10,000 sheets could be printed. From the above, each photosensitive material of the present invention was excellent in all aspects of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer.

【０１８７】さらに、樹脂〔ＡＡ〕を用いることにより
静電特性がさらに向上することが判った。 実施例１９〜２２ 実施例１において用いた、シアニン色素〔Ｉ〕の代わり
に下記表−Ｊの色素に代えた他は、実施例１と同様の条
件で電子写真感光材料を作製した。Further, it was found that the use of the resin [AA] further improved the electrostatic characteristics. Examples 19 to 22 Electrophotographic photosensitive materials were prepared under the same conditions as in Example 1 except that the cyanine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dye shown in Table J below.

【０１８８】[0188]

【表２２】 [Table 22]

【０１８９】[0189]

【表２３】 [Table 23]

【０１９０】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の（３０℃、８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例２３及び２４並びに比較例３ 樹脂〔Ａ−１〕（実施例２３）又は樹脂〔Ａ−７〕（実
施例２４）のいずれか６．５ｇ、樹脂〔Ｂ−８〕３３．
５ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、下記構
造のメチン色素〔ＶII〕０．０３ｇ、下記構造のメチン
色素〔VIII〕０．０３ｇ、ｐ−ヒドロキシ安息香酸０．
１８ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモジナイザー
中で回転数７×１０³ ｒ．ｐ．ｍ．で１０分間分散して
感光層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥
付着量が２０ｇ／ｍ² となる様にワイヤーバーで塗布
し、１１０℃で２０秒間乾燥した。次いで暗所で２０
℃、６５％ＲＨの条件下で２４時間放置することにより
各電子写真感光体を作製した。The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images can be obtained under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH).
A clear image without fog was given. Examples 23 and 24 and Comparative Example 3 6.5 g of either resin [A-1] (Example 23) or resin [A-7] (Example 24), resin [B-8]
5 g, zinc oxide 200 g, uranine 0.02 g, methine dye [VII] having the following structure 0.03 g, methine dye [VIII] having the following structure 0.03 g, p-hydroxybenzoic acid 0.1 g
A mixture of 18 g and 300 g of toluene was mixed in a homogenizer at a rotation speed of 7 × 10 ³ r. p. m. For 10 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g / m ^2, and dried at 110 ° C. for 20 seconds. Then 20 in the dark
Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left for 24 hours at 65 ° C. and 65% RH.

【０１９１】[0191]

【化３８】 Embedded image

【０１９２】[0192]

【化３９】 Embedded image

【０１９３】比較例３ 実施例２３において、樹脂〔Ｂ−８〕３３．５ｇの代わ
りに、下記構造の樹脂〔Ｒ−３〕３３．５ｇを用いた他
は、実施例２３と同様にして、感光材料を作製した。[0193] In Comparative Example 3 Example 23 in place of resin [B-8] 33.5 g, except for using the resin [R-3] 33.5 g of the following structure, in the same manner as in Example 23 Thus, a photosensitive material was prepared.

【０１９４】実施例１と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Ｋにまとめた。In the same manner as in Example 1, each characteristic of each photosensitive material was examined. The results are summarized in the following Table-K.

【０１９５】[0195]

【化４０】 Embedded image

【０１９６】[0196]

【表２４】 [Table 24]

【０１９７】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例１と同様の
操作で行なった。 注６）静電特性のＥ_1/10及びＥ_1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−４００Ｖに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度２．０ルックスの可視光で
照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０又は１／１００に
減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10又は
Ｅ_1/100 （ルックス・秒）を算出する。 注７）撮像性 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フイルム（株）
製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮
像時の環境条件は、２０℃６５％ＲＨ（Ｉ）と３０℃８
０％ＲＨ（II）で実施した。但し、複写用の原稿（即
ち、版下原稿）には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込
みを行なって作成したものを用いた。In the above measurement, the same operation as in Example 1 was performed, except that the following operations were performed for the electrostatic characteristics and the image pickup properties. Note 6) Method for measuring E _1/10 and E _1/100 of electrostatic characteristics After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is exposed to visible light having an illuminance of 2.0 lux. The time until the surface potential (V ₁₀ ) attenuates to 1/10 or 1/100 after irradiation is determined, and the exposure amount E _1/10 or E _1/100 (lux seconds) is calculated from this. Note 7) Image-capturing properties After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Manufactured), and a copy image (fog, image quality) obtained by making a plate using EPL-T as a toner was visually evaluated. Environmental conditions at the time of imaging are 20 ° C. 65% RH (I) and 30 ° C. 8
Performed at 0% RH (II). However, a copy original (that is, a copy original) was prepared by cutting and pasting another original.

【０１９８】各感光材料において、光導電層の平滑性及
び強度において、その差は認められなかった。しかし、
静電特性において、比較例３は、特に光感度Ｅ_1/100 の
値が大きく、これは高温、高湿になるとより一層助長さ
れ、劣化してしまった。本発明の感光材料の静電特性は
良好であり、更に、特定の置換基を有する樹脂〔ＡＡ〕
を用いた実施例２４は、非常に良好であり、特にＥ
_1/100 の値が小さくなった。In each photosensitive material, no difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer. But,
In Comparative Example 3, the value of the light sensitivity E _1/100 was particularly large in the electrostatic characteristics. This value was further promoted and deteriorated at high temperature and high humidity. The photosensitive material of the present invention has good electrostatic properties, and further has a resin [AA] having a specific substituent.
Is very good, especially with E
The value of _1/100 became smaller.

【０１９９】実際の撮像性を調べて見ると、比較例３
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠（即ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。Investigation of the actual imaging performance shows that Comparative Example 3
In addition, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut and pasted portion (that is, the trace of pasting) was recognized as background stain on the non-image portion. However, in each case of the present invention, clear images without background stains were obtained.

【０２００】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。
しかし、比較例３は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。Further, when these were subjected to desensitization processing as an offset printing original plate and then printed, 10,000 sheets of clear images having no background stain were obtained in any of the present invention.
However, in Comparative Example 3, the above-mentioned sticking marks were not removed even by the desensitizing treatment, and were generated from the printed material.

【０２０１】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例２５ 樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−２７〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
実施例２３と同様に以下操作して感光材料を作成した。As described above, only the photosensitive material of the present invention was able to give good characteristics. Example 25 5 g of resin [A-29] and 35 g of resin [B-27], 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.04 g of rose bengal, 0.03 g of bromophenol blue, 0.40 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene Mixture of
The following operation was carried out in the same manner as in Example 23 to prepare a photosensitive material.

【０２０２】本発明の感光材料を、実施例２３と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の
（３０℃、−８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、地
カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。When the photographic material of the present invention was operated in the same manner as in Example 23 to examine its respective performances, all were excellent in chargeability, dark charge holding ratio and photosensitivity. (30 ° C., -80% RH) gave a clear image without generation of background fog.

【０２０３】更に、これをオフセットマスターの原版と
して用いて印刷した所、１万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例２６〜３７ 実施例２５において、樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂
〔Ｂ−２７〕３５ｇの代わりに、下記表−Ｌの樹脂
〔Ａ〕６ｇ及び樹脂〔Ｂ〕３４ｇを用いた他は、実施例
２５と同様にして各感光材料を作製した。Further, when this was used as an offset master plate and printing was performed on 10,000 sheets, printed matter of clear image quality was obtained. Examples 26 to 37 In Example 25, instead of 5 g of resin [A-29] and 35 g of resin [B-27], except that 6 g of resin [A] and 34 g of resin [B] shown in Table-L below were used. Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 25.

【０２０４】[0204]

【表２５】 [Table 25]

【０２０５】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
（３０℃、８０％ＲＨ）の過酷な条件においても地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。The photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and actual copied images can generate ground fog even under severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH). And a clear image free of fine line skipping.

【０２０６】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。Further, when printing was performed as an offset master, a printed matter of clear image quality free of background stain was obtained even after printing 10,000 sheets.

【０２０７】[0207]

【発明の効果】本発明によれば、静電特性（とくに厳し
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics (especially under severe conditions), a clear and high-quality image, and further excellent mechanical strength. Can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

【０２０８】式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定の
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。The use of a repeating unit containing a specific methacrylate component represented by the formula (Ia) or (Ib) in the resin of the present invention further improves electrostatic characteristics.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/05 101 Continuation of front page (58) Field surveyed (Int.Cl. ⁷ , DB name) G03G 5/05 101

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有し
て成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³〜２×１０⁴の重量平均分子量を有し、下記一
般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を重合体成分として
３０重量％以上と、−ＰＯ₃Ｈ₂、−ＳＯ₃Ｈ、−ＣＯＯ
Ｈ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹〔Ｒ¹は炭化水素基又は−
ＯＲ²（Ｒ²は炭化水素基を表す）を表す〕及び環状酸無
水物基から選択される少なくとも１種の極性基を含有す
る繰り返し単位を重合体成分として０．５〜１５重量％
とを含有する樹脂。 【化１】 〔式（Ｉ）中、ａ¹、ａ²は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ³は炭化水素基
を表す。〕 樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴〜１×１０⁶の重量平均分子量を有し、上記樹
脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位
を重合体成分として少なくとも含有し且つ上記樹脂
〔Ａ〕で示される特定の極性基を含有する繰り返し単位
を重合体成分として含有しないＡブロックと上記樹脂
〔Ａ〕で示される特定の極性基のうちから選択される少
なくとも１種の極性基を含有する少なくとも１つの重合
体成分を少なくとも含有するＢブロックとから構成され
るＡＢ型ブロック高分子鎖を少なくとも３個同一の有機
分子に結合してなるスター型共重合体からなる樹脂。1. An electrophotographic photosensitive member having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin comprises at least one of the following resins [A] and An electrophotographic photoreceptor comprising at least one resin [B]. Resin [A] having a weight average molecular weight of 1 × 10 ³ to 2 × 10 ⁴ , containing 30% by weight or more of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO ₃ H ₂ ,- SO ₃ H, -COO
H, -P (= O) (OH) R ¹ [R ¹ is a hydrocarbon group or-
OR ² (R ² represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group .
0.5 to 15% by weight of a repeating unit as a polymer component
And a resin containing Embedded image [In the formula (I), a ¹ and a ² each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R ³ represents a hydrocarbon group. Resin [B] having a weight average molecular weight of 2 × 10 ⁴ to 1 × 10 ⁶ , containing at least the repeating unit represented by formula (I) in the resin [A] as a polymer component, and
A repeating unit containing a specific polar group represented by [A]
And a B block containing at least one polymer component containing at least one polar group selected from the specific polar groups represented by the resin [A]. AB type block polymer chains composed of at least three identical organic
A resin consisting of a star-type copolymer bonded to molecules . 【請求項２】 上記樹脂〔Ａ〕が、一般式（Ｉ）で示さ
れる共重合体成分として下記一般式（Ｉａ）及び下記一
般式（Ｉｂ）で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも１つを含有することを特徴と
する請求項１記載の電子写真感光体。 【化２】 【化３】 〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹及びＡ²は互いに独立
に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−ＣＯＲ⁴又は−ＣＯＯＲ⁴（Ｒ⁴は炭素
数１〜１０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ¹及びＢ²は
各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合又は連結
原子数１〜４個の連結基を表す。〕2. The resin [A] is a copolymer component represented by the general formula (I), which is selected from aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formulas (Ia) and (Ib). 2. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, comprising at least one. Embedded image Embedded image [In the formulas (Ia) and (Ib), A ¹ and A ² each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, —COR ⁴ or —COOR ⁴ (R ⁴ Represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and B ¹ and B ² each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects —COO— and a benzene ring. ]