JP3109548B2 - 電気メッキ装置 - Google Patents
電気メッキ装置Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/008—Current shielding devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
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- C25D17/12—Shape or form
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
性,メンテナンス性及び生産性に優れた,電気メッキ装
置に関する。
ッキ装置はアノード3と,カソード4と,両極間に配設
した迷走電流阻止用の遮蔽板9と,これらを内設するメ
ッキ浴槽2とからなる。また,電気メッキ装置は,カソ
ード4の下方において,被メッキ物8を把持し懸吊する
ためのクランプ6と,該被メッキ物8の下方に配設した
エアー吐出管5を有する。該エアー吐出管5は,メッキ
液7を常時攪拌し,循環させるためのものである。
れる迷走電流の流れを阻止するために設けられたもので
ある。一方,上記アノード3は,図11,図12に示す
ごとく,多数の貫通孔320を有するチタン製のケース
32と,その中に充填された銅製ボール,ニッケルチッ
プ33とよりなる。また,その周囲には,異物拡散防止
用のアノードバッグ31が配設されている。
ノード3より発生する異物を,被メッキ物8の表面に付
着させないために設けられたものである。なお,図9,
図10中の符号30は,アノード3に直流電流を送るた
めのターミナル部である。
下同じ)を形成するに当たって,アノード3とカソード
4の間に直流電流を通じると,メッキ液7中に電流線4
1を生ずる。この時,メッキ液7中に溶解したニッケ
ル,銅等の各種金属が被メッキ物8の表面に析出して,
電気メッキ膜が形成される。
には,次の問題点がある。即ち,上記アノードバッグ3
1は,布からなるため,循環するメッキ液7を通し難い
場合がある。そのため,アノード3の周囲のメッキ液7
は,循環が阻害され,メッキ液7中の特に陽イオン濃度
が変化し易い状態になる。その結果,被メッキ物8のメ
ッキ膜厚みは不均一になり,該メッキ膜の物性が低下す
る。
メッキ液7の循環が阻害されると,これに伴いアノード
3の表面に異物が付着し易くなる。そのため,アノード
3の形状が変化したり,アノード3から出た電流線41
が変化することになる。その結果,被メッキ物8への電
流線41の電気容量が不安定になり,均一なメッキ膜厚
みが得られないことになる。
付着していないかどうかを点検するに当たって,上記ア
ノードバッグ31をその度毎に,取り外す必要がある。
また,アノード3を新規なものと取り替えるに当たって
も,同様に上記アノードバッグ31を取り外さなければ
ならない。
テナンス性及び生産性が悪くなる。本発明は,かかる従
来の問題点に鑑みてなされたもので,メッキ膜厚みの均
一性,メンテナンス性及び生産性に優れた,電気メッキ
装置を提供しようとするものである。
ることにより溶解し,メッキ液中に金属を供給するアノ
ードと,カソードと,両極間に配設した迷走電流阻止用
の遮蔽板と,これらを内設するメッキ浴槽とよりなる電
気メッキ装置において,上記遮蔽板は,外周部分に上記
迷走電流を阻止するための電流阻止部を有し,また該電
流阻止部の内側にはメッキ電流を通過させると共に両極
間を隔離し,アノードから発生する異物をカソードから
隔離するためのスクリーン網状体からなる隔膜を配設し
てなることを特徴とする電気メッキ装置にある。
蔽板は外周部分に迷走電流を阻止するための電流阻止部
を有し,電流阻止部の内側にはメッキ電流を通過させる
と共に,両極間を隔離し,アノードより発生する異物を
カソードから隔離するための隔膜を配設したことであ
る。遮蔽板は,実施例に示すごとく,例えば枠状体より
なり,メッキ浴槽に着脱可能に配設することが好まし
い。これにより,遮蔽板の点検,取り替え,掃除等のメ
ンテナンス作業が容易となり,メンテナンス性及び生産
性が向上する。また,遮蔽板は,例えば繊維強化プラス
チック板(FRP),PVC板(塩化ビニル樹脂板)等
の非導電物質よりなる。
分において形成されたメッキ電流のシールド部である。
また,電流阻止部の内側には,メッキ電流を通過させる
隔膜を配設する開口部を有する。該開口部は,複数設け
ることもあり,その形状は特に問わない。隔膜として
は,例えばナイロン布,シルク布等からなるスクリーン
網状体を用いる。
外周部分に迷走電流を阻止するための電流阻止部を有す
る遮蔽板が配設してある。そのため,アノードとカソー
ドとの両極間には,迷走電流が流れない。それ故,被メ
ッキ物のメッキ膜厚みが均一になる。また,電流阻止部
の内側にはメッキ電流を通過させる隔膜が配設してあ
る。これにより,隔膜がアノードとカソードとの両極間
を隔離すると共に,被メッキ物に対するメッキ電流の制
御が容易になる。また,隔膜は,アノードが発生する異
物(上記従来技術の項参照)をカソードから隔離する機
能も有している。また,迷走電流は上記電流阻止部によ
り遮断され,隔膜のみを通過するため,メッキ電流の直
進性が向上する。
一になる。一方,カソードとの間に通電することにより
溶解しメッキ液中に金属を供給するアノードの周囲に
は,前記従来例のごとく,アノードバッグが配設されて
いない。そのため,アノード周囲のメッキ液の循環が阻
害されない。その結果,アノード周囲のメッキ液の濃度
が安定化し,被メッキ物のメッキ膜厚みが均一になる。
のメンテナンス作業が容易になるため,メンテナンス性
及び生産性が向上する。以上のごとく,本発明によれ
ば,メッキ膜厚みの均一性,メンテナンス性及び生産性
に優れた,電気メッキ装置を提供することができる。
図4を用いて説明する。本例の電気メッキ装置は,図1
〜図3に示すごとく,アノード3とカソード4との両極
間に配設した迷走電流阻止用の遮蔽板1と,これらを内
設するメッキ浴槽2とよりなる。
部分に上記迷走電流を阻止するための電流阻止部11を
有し,また電流阻止部11の内側にはメッキ電流を通過
させると共に,両極間を隔離するための隔膜12と,押
え枠13とを配設してなる。上記遮蔽板1は,繊維強化
プラスチック(FRP)製の枠状体よりなる。また,遮
蔽板1は,中央部に開口部110を有し,該開口部11
0の外周部分に電流阻止部11が形成してある。
ごとく,下方において,着脱可能な凹状係止部111を
有する。また,電流阻止部11は,上方後部に上片板1
14を有し,下方後部に下片板113を有する。また,
電流阻止部11は,図1,図4に示すごとく,隔膜12
及び押え枠13をボルト14及びナット15等の係止具
により取付けるための取付穴116を多数有する。
スクリーン網状体によりなる。また,隔膜12は,図1
に示すごとく,その外周部分に多数の取付穴120を有
する。上記押え枠13は,図1,図4に示すごとく,中
央部に開口部130を有し,上記遮蔽板1と同様に,F
RP製の枠状体よりなる。また,その外周部分に,多数
の取付穴131を有する。
とく,メッキ液7を入れるための直方体状のFRP製容
器よりなる。また,メッキ浴槽2は,中央上方部におい
て,カソード4を有する。メッキ浴槽2は,両サイド部
において,一対のアノード3,3を有する。また,下方
コーナー部において,複数のドレーン孔22を有する。
上記カソード4は,下方において,被メッキ物8を把持
し懸吊するためのクランプ6を有する。また,該被メッ
キ物8の下方においては,エアー吐出管5が複数本配設
してある。
は,図3に示すごとく,電流線41が矢印方向に流れ
る。また,上記アノード3には,直流電流を流すための
ターミナル部30が連結してある。一方,上記凹状係止
部111は,メッキ浴槽2の底面に突設した係止部21
に着脱可能に係合してある。その他は,前記従来例と同
様である。
気メッキ装置においては,図1,図2,図4に示すごと
く,外周部分に迷走電流を阻止するための電流阻止部1
1を有する遮蔽板1が配設してある。そのため,アノー
ド3とカソード4との両極間には,迷走電流が流れな
い。それ故,被メッキ物8のメッキ膜厚みが均一にな
る。
図4に示すごとく,メッキ電流を通過させる隔膜12が
配設してある。そのため,隔膜12がアノード3とカソ
ード4との両極間を隔離すると共に,被メッキ物8に対
するメッキ電流の制御が容易になる。また,図4に示す
ごとく,電流阻止部11は上片板114及び下片板11
3を有するため,メッキ電流75は隔膜12のみを通過
する。その結果,被メッキ物のメッキ膜厚みが均一にな
る。
のごとく,アノードバッグ31(図9参照)が配設され
ていない。そのため,アノード3の周囲のメッキ液7の
循環が阻害されることがない。その結果,アノード3の
周囲のメッキ液7の濃度等の諸条件が安定化し,被メッ
キ物8のメッキ膜厚みが均一になる。
等のメンテナンスが容易になるため,メンテナンス性お
よび生産性が向上する。また,上記遮蔽板1は,図1,
図2,図4に示すごとく,凹状係止部111により,メ
ッキ浴槽2に着脱可能に装着してある。そのため,遮蔽
板1の取り替えや掃除等のメンテナンス作業が容易にな
る。それ故,メンテナンス性及び生産性が向上する。
板1に代えて,上下に凹状突出部16を有する遮蔽板1
としたものである。その他は,実施例1と同様である。
上記凹状突出部16は,同図に示すごとく,垂直に並列
して立設した二重壁状の縦壁電流阻止部161と,これ
らを水平状に連結する横連結部162とよりなる。
て,対称的に配置してある。また,上記縦壁電流阻止部
161には,その外側部分に隔膜12が配設してある。
また,着脱用凹部1621が,その下方に形成してあ
る。それ故,メッキ電流75がアノード3よりカソード
4へ流れるに当たっては,迷走電流は上記二重壁からな
る縦壁電流阻止部161により完全に遮られることにな
る。そのため,メッキ電流は隔膜12のみを直進的に通
過し,迷走電流を生じない。その他,実施例1と同様の
効果が得られる。
おける開口部110を3個設けたものである。その他
は,実施例1と同様である。上記開口部110は,同図
に示すごとく,第1開口部1101と,第2開口部11
02と,第3開口部1103とよりなる。また,これら
は,3個が横並び状に並列している。なお,これらの開
口部には,実施例1と同様にして隔膜12(図示略)を
配設する。本例においても,実施例1と同様の効果が得
られる。
る遮蔽板1の開口部110に代えて,多孔状遮蔽板10
としたものである。その他は,実施例1と同様である。
上記多孔状遮蔽板10は,図7に示すごとく,中央部に
最も径の大きい孔103と,その周囲に中間的な大きさ
の孔104と,その外周部分に最も径の小さい孔105
とを有する。
05の外周部分に,広幅状の電流阻止部11を有する,
FRP板よりなる。また,図8に示すごとく,上記多孔
状遮蔽板10に隣接して隔膜12が配設してある。ま
た,これらの両面には,押え枠13,131が配設して
ある。
例1の開口部110に比して,開口面積が小さくる。そ
のため,隔膜12が多孔状遮蔽板10により支えられる
面積が増大することになる。その結果,隔膜12は,そ
の耐久性が,実施例1に比して,一層向上することにな
る。以上のごとく,本例によれば,実施例1に比して耐
久性に優れた隔膜12と遮蔽板とを有する,電気メッキ
装置を得ることができる。その他,実施例1と同様の効
果を得ることができる。
視図。
平面図。
Claims (1)
- 【請求項1】 カソードとの間に通電することにより溶
解し,メッキ液中に金属を供給するアノードと,カソー
ドと,両極間に配設した迷走電流阻止用の遮蔽板と,こ
れらを内設するメッキ浴槽とよりなる電気メッキ装置に
おいて, 上記遮蔽板は,外周部分に上記迷走電流を阻止するため
の電流阻止部を有し,また該電流阻止部の内側にはメッ
キ電流を通過させると共に両極間を隔離し,アノードか
ら発生する異物をカソードから隔離するためのスクリー
ン網状体からなる隔膜を配設してなることを特徴とする
電気メッキ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19914192A JP3109548B2 (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 電気メッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19914192A JP3109548B2 (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 電気メッキ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0617297A JPH0617297A (ja) | 1994-01-25 |
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Family
ID=16402833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19914192A Expired - Lifetime JP3109548B2 (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 電気メッキ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3109548B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
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JP4657510B2 (ja) * | 2001-07-11 | 2011-03-23 | 株式会社リコー | 電子写真感光体用基体の製造方法 |
KR20090049953A (ko) * | 2007-11-14 | 2009-05-19 | 삼성전기주식회사 | 도금장치 |
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JP5184308B2 (ja) * | 2007-12-04 | 2013-04-17 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
JP6891060B2 (ja) | 2017-07-11 | 2021-06-18 | 株式会社荏原製作所 | レギュレーションプレート、アノードホルダ、及び基板ホルダ |
JP7014553B2 (ja) | 2017-09-22 | 2022-02-01 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置 |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP19914192A patent/JP3109548B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0617297A (ja) | 1994-01-25 |
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Legal Events
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