JP3077394B2 - ヒートシール性艶消しフィルム - Google Patents
ヒートシール性艶消しフィルムInfo
- Publication number
- JP3077394B2 JP3077394B2 JP16549092A JP16549092A JP3077394B2 JP 3077394 B2 JP3077394 B2 JP 3077394B2 JP 16549092 A JP16549092 A JP 16549092A JP 16549092 A JP16549092 A JP 16549092A JP 3077394 B2 JP3077394 B2 JP 3077394B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- film
- parts
- density polyethylene
- heat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は二軸延伸ポリプロピレン
フィルムを基材とする、ヒートシール性積層フィルムで
あって、その積層が均一に粗面化され乱反射を起こしや
すく、透過光を極めて透過しやすい艶消しフィルムに関
する。
フィルムを基材とする、ヒートシール性積層フィルムで
あって、その積層が均一に粗面化され乱反射を起こしや
すく、透過光を極めて透過しやすい艶消しフィルムに関
する。
【０００２】
【従来の技術】二軸延伸ポリプロピレンフィルムは剛
性、強度、防湿性等に優れていることから種々の用途に
用いられている。一方、近来の用途の多用化により二軸
延伸ポリプロピレンフィルム本来の透明性や光沢を生か
したフィルムの他に艶消しフィルムの需要が増大してい
る。
性、強度、防湿性等に優れていることから種々の用途に
用いられている。一方、近来の用途の多用化により二軸
延伸ポリプロピレンフィルム本来の透明性や光沢を生か
したフィルムの他に艶消しフィルムの需要が増大してい
る。
【０００３】この艶消しフィルムは、印刷物の上にプリ
ントラミネートとして貼付することで、印刷のピカピカ
感やテカテカ感が減少してしっとりと落ちついた色調を
与える用途に用いられており、均一に粗面化された表面
を有し、しかも、印刷物を見やすくするために良好な光
の透過性を有することが要求される。さらに、カード類
のカバーフィルムとしての用途では、ヒートシール性を
有することが要求される。
ントラミネートとして貼付することで、印刷のピカピカ
感やテカテカ感が減少してしっとりと落ちついた色調を
与える用途に用いられており、均一に粗面化された表面
を有し、しかも、印刷物を見やすくするために良好な光
の透過性を有することが要求される。さらに、カード類
のカバーフィルムとしての用途では、ヒートシール性を
有することが要求される。
【０００４】ヒートシール性を有する艶消しフィルムの
製造方法としては、ヒートシール性のフィルムをサンド
ブラスト法やエンボス法によって表面を粗面化する方法
が知られている。また、特公昭58−47412 号公報には結
晶性ポリプロピレン重合体からなる二軸延伸フィルムの
少なくとも片面に、結晶性ポリプロピレンあるいは結晶
性プロピレン−α−オレフィン共重合体99〜30重量部と
高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレンもしくは低密
度ポリエチレン１〜70重量部の合計100 重量部に対して
有機過酸化物 0.001〜1.0 重量部を添加した組成物を用
いて、少なくとも一軸方向に延伸してなるフィルムを積
層する方法が提案されている。
製造方法としては、ヒートシール性のフィルムをサンド
ブラスト法やエンボス法によって表面を粗面化する方法
が知られている。また、特公昭58−47412 号公報には結
晶性ポリプロピレン重合体からなる二軸延伸フィルムの
少なくとも片面に、結晶性ポリプロピレンあるいは結晶
性プロピレン−α−オレフィン共重合体99〜30重量部と
高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレンもしくは低密
度ポリエチレン１〜70重量部の合計100 重量部に対して
有機過酸化物 0.001〜1.0 重量部を添加した組成物を用
いて、少なくとも一軸方向に延伸してなるフィルムを積
層する方法が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】これらの方法は、工程
が複雑になるためコストが高くなるとか、粗面化が不均
一になりやすいとか、艶消し性が不十分であるといった
欠点を有しており、これらの改善が必要とされているの
が現状である。さらに、上記特公昭58−47412 号公報に
開示のあるポリエチレンを含有する艶消しフィルムで
は、該フィルムを製造するときに押出機内で生じるポリ
エチレンの分解、架橋反応によるメヤニ（ダイスリップ
に付着したポリマー劣化物）の発生、あるいは、架橋物
によるフィルム外観の悪化やピンホール（フィルムに発
生するピンで突いたような微細な穴）の発生、樹脂の流
れムラによる製膜性の悪化などの問題点がある。
が複雑になるためコストが高くなるとか、粗面化が不均
一になりやすいとか、艶消し性が不十分であるといった
欠点を有しており、これらの改善が必要とされているの
が現状である。さらに、上記特公昭58−47412 号公報に
開示のあるポリエチレンを含有する艶消しフィルムで
は、該フィルムを製造するときに押出機内で生じるポリ
エチレンの分解、架橋反応によるメヤニ（ダイスリップ
に付着したポリマー劣化物）の発生、あるいは、架橋物
によるフィルム外観の悪化やピンホール（フィルムに発
生するピンで突いたような微細な穴）の発生、樹脂の流
れムラによる製膜性の悪化などの問題点がある。
【０００６】本発明の目的は、これらの問題点を解決
し、均一な粗面を有する艶消しフィルムを架橋物等の生
成による加工時のトラブルを生じることなく、粗面化の
程度を著しく改善したヒートシール性艶消しフィルムを
提供することにある。
し、均一な粗面を有する艶消しフィルムを架橋物等の生
成による加工時のトラブルを生じることなく、粗面化の
程度を著しく改善したヒートシール性艶消しフィルムを
提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ヒートシ
ール性を有する艶消しフィルムの製造方法について鋭意
検討した結果、特定のプロピレン共重合体、低密度ポリ
エチレン、高密度ポリエチレン、有機過酸化物、および
特定の添加物を、特定の配合割合で混合した組成物から
得られたポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に積
層することにより、かかる従来技術の欠点が改良される
ことを見出し本発明に到達した。
ール性を有する艶消しフィルムの製造方法について鋭意
検討した結果、特定のプロピレン共重合体、低密度ポリ
エチレン、高密度ポリエチレン、有機過酸化物、および
特定の添加物を、特定の配合割合で混合した組成物から
得られたポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に積
層することにより、かかる従来技術の欠点が改良される
ことを見出し本発明に到達した。
【０００８】本発明は下記の構成を有する。 （１）ヒートシール性艶消し二軸延伸ポリプロピレンフ
ィルムにおいて、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計を100
重量％として、 （Ａ）プロピレン含有率が85〜95モル％であるプロピレン共重合体を 45〜65重量％ （Ｂ）190 ℃におけるメルトフローレートが１ｇ／ 10min以下で、密度が0.91 〜0.93ｇ／cm3 である低密度ポリエチレンを ５〜20重量％ （Ｃ）190 ℃におけるメルトフローレートが0.01〜0.3g／10min、Ｚ−平均分 子量と重量平均分子量との比が７以上で、密度が0.94ｇ／cm3 以上である高密度 ポリエチレンを 25〜50重量％ （Ｄ）少なくとも１種の有機過酸化物を（Ａ）＋（Ｂ）
＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.001〜0.5 重量部 （Ｅ）少なくとも１種のフェノール系酸化防止剤を
（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.02〜0.
5 重量部 （Ｆ）脂肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
または一般式ＭxＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)Z・ａＨ2Ｏ ［ＭはＭｇ、ＣａまたはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ
4、ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは零または正数］で示される
化合物のうち少なくとも１種を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）
の100 重量部に対し 0.02〜0.5 重量部添加した混合物
が、ポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に積層さ
れていることを特徴とする、ヒートシール性艶消しフィ
ルム。
ィルムにおいて、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合計を100
重量％として、 （Ａ）プロピレン含有率が85〜95モル％であるプロピレン共重合体を 45〜65重量％ （Ｂ）190 ℃におけるメルトフローレートが１ｇ／ 10min以下で、密度が0.91 〜0.93ｇ／cm3 である低密度ポリエチレンを ５〜20重量％ （Ｃ）190 ℃におけるメルトフローレートが0.01〜0.3g／10min、Ｚ−平均分 子量と重量平均分子量との比が７以上で、密度が0.94ｇ／cm3 以上である高密度 ポリエチレンを 25〜50重量％ （Ｄ）少なくとも１種の有機過酸化物を（Ａ）＋（Ｂ）
＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.001〜0.5 重量部 （Ｅ）少なくとも１種のフェノール系酸化防止剤を
（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.02〜0.
5 重量部 （Ｆ）脂肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
または一般式ＭxＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)Z・ａＨ2Ｏ ［ＭはＭｇ、ＣａまたはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ
4、ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは零または正数］で示される
化合物のうち少なくとも１種を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）
の100 重量部に対し 0.02〜0.5 重量部添加した混合物
が、ポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に積層さ
れていることを特徴とする、ヒートシール性艶消しフィ
ルム。
【０００９】（２）（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の100 重量
部に対して、リン系酸化防止剤0.03〜0.5 重量部を前記
（１）の混合物にさらに添加した混合物が用いられてい
ることを特徴とする前記（１）記載のヒートシール性艶
消しフィルム。本発明において使用する（Ａ）成分であ
るプロピレン共重合体はプロピレン含有率が85〜95モル
％であるプロピレンと他のα−オレフィン、例えばエチ
レン、ブテン−１、３−メチルブテン、ヘキセン−１、
４−メチルペンテン−１、オクテン−１等より選ばれた
１種あるいは２種以上との共重合体である。特に好まし
くは、プロピレン含有率が90〜95重量％であるプロピレ
ン、エチレン、ブテン−１から成る三元共重合体であ
る。また、前記の組成を有するものであれば種々のプロ
ピレン共重合体を混合して使用してもよい。プロピレン
共重合体のプロピレン含有率が95モル％を超えると十分
な粗面化状態となりにくく、またヒートシール性も不十
分となる。プロピレン含有率が85モル％未満であると基
材との密着が不十分となり光線透過率が低下する。
部に対して、リン系酸化防止剤0.03〜0.5 重量部を前記
（１）の混合物にさらに添加した混合物が用いられてい
ることを特徴とする前記（１）記載のヒートシール性艶
消しフィルム。本発明において使用する（Ａ）成分であ
るプロピレン共重合体はプロピレン含有率が85〜95モル
％であるプロピレンと他のα−オレフィン、例えばエチ
レン、ブテン−１、３−メチルブテン、ヘキセン−１、
４−メチルペンテン−１、オクテン−１等より選ばれた
１種あるいは２種以上との共重合体である。特に好まし
くは、プロピレン含有率が90〜95重量％であるプロピレ
ン、エチレン、ブテン−１から成る三元共重合体であ
る。また、前記の組成を有するものであれば種々のプロ
ピレン共重合体を混合して使用してもよい。プロピレン
共重合体のプロピレン含有率が95モル％を超えると十分
な粗面化状態となりにくく、またヒートシール性も不十
分となる。プロピレン含有率が85モル％未満であると基
材との密着が不十分となり光線透過率が低下する。
【００１０】プロピレン共重合体の 230℃におけるメル
トフローレート〔ＭＦＲ(230℃）〕は、特に制限はない
が２〜10ｇ／10min が好ましい。本発明において使用す
る（Ｂ）成分である低密度ポリエチレンは密度が0.91〜
0.93ｇ／cm3 である。低密度ポリエチレンは高圧法ポリ
エチレンあるいはエチレンとプロピレン、ブテン−１、
ヘキセン−１、酢酸ビニル等との共重合体等から選ぶこ
とができるが、高圧法ポリエチレンが特に好ましい。
トフローレート〔ＭＦＲ(230℃）〕は、特に制限はない
が２〜10ｇ／10min が好ましい。本発明において使用す
る（Ｂ）成分である低密度ポリエチレンは密度が0.91〜
0.93ｇ／cm3 である。低密度ポリエチレンは高圧法ポリ
エチレンあるいはエチレンとプロピレン、ブテン−１、
ヘキセン−１、酢酸ビニル等との共重合体等から選ぶこ
とができるが、高圧法ポリエチレンが特に好ましい。
【００１１】該低密度ポリエチレンの190 ℃におけるメ
ルトフローレート〔ＭＦＲ(190℃）〕は１ｇ／10min 以
下であり、該ＭＦＲ(190℃）が１ｇ／min を超えると得
られるフィルムの粗面化が不十分となる。本発明におい
て使用する（Ｃ）成分である高密度ポリエチレンは密度
が0.94ｇ／cm3 以上のポリエチレンであり、エチレン単
独重合体あるいはエチレンと若干量のプロピレン、ブテ
ン−１、ヘキセン−１等との共重合体等から選ぶことが
できる。特に好ましくは、密度が0.95ｇ／cm3 以上のエ
チレン単独重合体である。
ルトフローレート〔ＭＦＲ(190℃）〕は１ｇ／10min 以
下であり、該ＭＦＲ(190℃）が１ｇ／min を超えると得
られるフィルムの粗面化が不十分となる。本発明におい
て使用する（Ｃ）成分である高密度ポリエチレンは密度
が0.94ｇ／cm3 以上のポリエチレンであり、エチレン単
独重合体あるいはエチレンと若干量のプロピレン、ブテ
ン−１、ヘキセン−１等との共重合体等から選ぶことが
できる。特に好ましくは、密度が0.95ｇ／cm3 以上のエ
チレン単独重合体である。
【００１２】高密度ポリエチレンのＭＦＲ(190℃）は0.
01〜0.3g／10min の範囲である。該ＭＦＲ(190℃）が0.
3g／10min を超えると得られるフィルムの粗面化が不十
分となり、0.01ｇ／min 未満であると未溶融物が発生し
やすくなり、得られるフィルム表面にポリマー凝集物が
発生する。更に、本発明で使用する（Ｃ）成分の高密度
ポリエチレンは高分子量部分を有する高密度ポリエチレ
ン、具体的にはＭｚ／Ｍｗが７以上の高密度ポリエチレ
ンを使用する。かかる高密度ポリエチレンを用いること
により得られる二軸延伸フィルムの粗面化が良好とな
る。
01〜0.3g／10min の範囲である。該ＭＦＲ(190℃）が0.
3g／10min を超えると得られるフィルムの粗面化が不十
分となり、0.01ｇ／min 未満であると未溶融物が発生し
やすくなり、得られるフィルム表面にポリマー凝集物が
発生する。更に、本発明で使用する（Ｃ）成分の高密度
ポリエチレンは高分子量部分を有する高密度ポリエチレ
ン、具体的にはＭｚ／Ｍｗが７以上の高密度ポリエチレ
ンを使用する。かかる高密度ポリエチレンを用いること
により得られる二軸延伸フィルムの粗面化が良好とな
る。
【００１３】本発明において使用する（Ａ）、（Ｂ）お
よび（Ｃ）の配合割合は、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合
計に対してそれぞれ45〜65重量％、５〜20重量％、25〜
50重量％である。（Ａ）のプロピレン共重合体の配合割
合が45重量％未満であると基材との密着が不十分とな
り、得られるフィルムの光線透過率が低下し、65重量％
より大きくなると得られるフィルムの粗面化が不十分と
なる。
よび（Ｃ）の配合割合は、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合
計に対してそれぞれ45〜65重量％、５〜20重量％、25〜
50重量％である。（Ａ）のプロピレン共重合体の配合割
合が45重量％未満であると基材との密着が不十分とな
り、得られるフィルムの光線透過率が低下し、65重量％
より大きくなると得られるフィルムの粗面化が不十分と
なる。
【００１４】（Ｂ）の低密度ポリエチレンの配合割合は
５〜20重量％である。５重量％未満であると得られるフ
ィルムの粗面化が不均一となり、20重量％より大きくな
ると粗面化が不十分となる。（Ｃ）の高密度ポリエチレ
ンの配合割合は25〜50重量％である。50重量％以上であ
ると未溶融物が発生しやすくなり得られるフィルム表面
にポリマー凝集物が発生し、さらに製膜性も悪化する。
25重量％未満になると得られるフィルムの粗面化が不十
分となる。
５〜20重量％である。５重量％未満であると得られるフ
ィルムの粗面化が不均一となり、20重量％より大きくな
ると粗面化が不十分となる。（Ｃ）の高密度ポリエチレ
ンの配合割合は25〜50重量％である。50重量％以上であ
ると未溶融物が発生しやすくなり得られるフィルム表面
にポリマー凝集物が発生し、さらに製膜性も悪化する。
25重量％未満になると得られるフィルムの粗面化が不十
分となる。
【００１５】本発明においては（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）
100 重量部に対して、（Ｄ）有機過酸化物が0.001 〜0.
5 重量部、好ましくは0.003 〜0.3 重量部添加される。
該配合量が0.001 重量部より少ないと有機過酸化物の添
加効果、すなわち得られるフィルムの粗面化が達成され
ない。0.5 重量部より多くなると添加効果はほぼ上限と
なり、製膜性は悪化する。
100 重量部に対して、（Ｄ）有機過酸化物が0.001 〜0.
5 重量部、好ましくは0.003 〜0.3 重量部添加される。
該配合量が0.001 重量部より少ないと有機過酸化物の添
加効果、すなわち得られるフィルムの粗面化が達成され
ない。0.5 重量部より多くなると添加効果はほぼ上限と
なり、製膜性は悪化する。
【００１６】使用される有機過酸化物としては、｛２，
５−ジメチル２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘ
キサン｝、｛１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソ
プロピル）ベンゼン｝、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
−ｔ−ブチルパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオ
キサイド、２，５−ジメチル２，５−ビス（ｔ−ブチル
パーオキシ）ヘキシン−３｝、ジキュミルパーオキサイ
ド等をあげることができる。
５−ジメチル２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘ
キサン｝、｛１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソ
プロピル）ベンゼン｝、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
−ｔ−ブチルパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオ
キサイド、２，５−ジメチル２，５−ビス（ｔ−ブチル
パーオキシ）ヘキシン−３｝、ジキュミルパーオキサイ
ド等をあげることができる。
【００１７】本発明においては、（Ａ）＋（Ｂ）＋
（Ｃ）100 重量部に対して（Ｅ）フェノール系酸化防止
剤が0.02〜0.5 重量部添加される。該フェノール系酸化
防止剤の添加量が0.02重量部未満であると押出機内にお
いてポリマーの分解、架橋反応が起こり、メヤニの発
生、ポリマー架橋物によるフィルム外観の悪化を生じ
る。添加量が0.5 重量部より多くなるとメヤニ、架橋物
の発生に変化はないが、粗面化が低下する。
（Ｃ）100 重量部に対して（Ｅ）フェノール系酸化防止
剤が0.02〜0.5 重量部添加される。該フェノール系酸化
防止剤の添加量が0.02重量部未満であると押出機内にお
いてポリマーの分解、架橋反応が起こり、メヤニの発
生、ポリマー架橋物によるフィルム外観の悪化を生じ
る。添加量が0.5 重量部より多くなるとメヤニ、架橋物
の発生に変化はないが、粗面化が低下する。
【００１８】フェノール系酸化防止剤としては、２, ６
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、テトラキス［メチ
レン（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒド
ロシンナメート）］メタン、１, ３, ５−トリメチル−
２, ４, ６−トリス（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３, ５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−イソシアヌレイ
ト、４, ４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、１, １, ３−トリス（２−メ
チル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノール）ブ
タン、オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’,
５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）プロピオネイト等を
あげることができる。メヤニ、架橋物の発生を防止する
ためには２, ６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、テ
トラキス［メチレン（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−ヒドロシンナネイト）］メタン、１, ３, ５
−トリメチル−２, ４, ６−トリス（３, ５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス
（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼン−
イソシアヌレイトが特に好ましい。上記フェノール系酸
化防止剤を、２種類以上使用してもよい。
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、テトラキス［メチ
レン（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒド
ロシンナメート）］メタン、１, ３, ５−トリメチル−
２, ４, ６−トリス（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３, ５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−イソシアヌレイ
ト、４, ４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）、１, １, ３−トリス（２−メ
チル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノール）ブ
タン、オクタデシル−β−（４’−ヒドロキシ−３’,
５’−ジ−ｔ−ブチルフェノール）プロピオネイト等を
あげることができる。メヤニ、架橋物の発生を防止する
ためには２, ６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、テ
トラキス［メチレン（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−ヒドロシンナネイト）］メタン、１, ３, ５
−トリメチル−２, ４, ６−トリス（３, ５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス
（３, ５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼン−
イソシアヌレイトが特に好ましい。上記フェノール系酸
化防止剤を、２種類以上使用してもよい。
【００１９】更に本発明の混合物には、リン系酸化防止
剤を添加するとメヤニ、架橋物の発生防止に効果があ
る。該リン系酸化防止剤としてはテトラキス（２, ４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）４, ４’−ビフェニレンジフ
ォスフォナイト、トリス（２,４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）フォスファイト、ビス（２, ４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト、
ジ（ステアリル）ペンタエリスリトールジフォスファイ
ト、トリス−（ジ−ノニルフェニル）−フォスファイト
等をあげることができる。テトラキス（２, ４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）４, ４’−ビフェニレンジフォスフ
ァイト、トリス（２, ４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フ
ォスファイト、ビス（２, ４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリスリトールジフォスファイトが特に好
ましい。
剤を添加するとメヤニ、架橋物の発生防止に効果があ
る。該リン系酸化防止剤としてはテトラキス（２, ４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）４, ４’−ビフェニレンジフ
ォスフォナイト、トリス（２,４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）フォスファイト、ビス（２, ４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）−ペンタエリスリトールジフォスファイト、
ジ（ステアリル）ペンタエリスリトールジフォスファイ
ト、トリス−（ジ−ノニルフェニル）−フォスファイト
等をあげることができる。テトラキス（２, ４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）４, ４’−ビフェニレンジフォスフ
ァイト、トリス（２, ４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フ
ォスファイト、ビス（２, ４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリスリトールジフォスファイトが特に好
ましい。
【００２０】リン系酸化防止剤の添加量は（Ａ）＋
（Ｂ）＋（Ｃ）100 重量部に対して0.03〜0.5 重量部の
範囲である。添加量が0.03重量部未満であるとメヤニ、
架橋物の発生防止に効果が少なく、0.5 重量部より多く
なるとメヤニ、架橋物の発生に変化はないが、得られる
フィルムの粗面化が低下する。更に、本発明においては
（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）100 重量部に対して、脂肪酸の
アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または一般式Ｍ
XＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏ［ＭはＭｇ、Ｃａ
またはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ4、ｘ、ｙ、ｚは
正数、ａは零または正数］で示される化合物のうち少な
くとも１種の化合物が0.02〜0.5 重量部添加される。脂
肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または一
般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏの添加量が
0.02重量部未満であるとメヤニ、架橋物の発生防止に効
果がないばかりではなく、押出機内における溶融ポリマ
ーの流動性が低下する。添加量が0.5 重量部より多くな
るとメヤニ、架橋物の発生に変化はないが、粗面化は低
下する。
（Ｂ）＋（Ｃ）100 重量部に対して0.03〜0.5 重量部の
範囲である。添加量が0.03重量部未満であるとメヤニ、
架橋物の発生防止に効果が少なく、0.5 重量部より多く
なるとメヤニ、架橋物の発生に変化はないが、得られる
フィルムの粗面化が低下する。更に、本発明においては
（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）100 重量部に対して、脂肪酸の
アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または一般式Ｍ
XＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏ［ＭはＭｇ、Ｃａ
またはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ4、ｘ、ｙ、ｚは
正数、ａは零または正数］で示される化合物のうち少な
くとも１種の化合物が0.02〜0.5 重量部添加される。脂
肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、または一
般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏの添加量が
0.02重量部未満であるとメヤニ、架橋物の発生防止に効
果がないばかりではなく、押出機内における溶融ポリマ
ーの流動性が低下する。添加量が0.5 重量部より多くな
るとメヤニ、架橋物の発生に変化はないが、粗面化は低
下する。
【００２１】脂肪酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土
類金属塩としては、カルシウムステアレート、ナトリウ
ムステアレート等をあげることができる。更に、メヤニ
の発生を防止するためには、一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)
2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏで示される化合物を添加する。
通常、Ｍｇ4.5Ａｌ2(ＯＨ)13ＣＯ3・3.5Ｈ2Ｏ［ハイド
ロタルサイト］が使用される。
類金属塩としては、カルシウムステアレート、ナトリウ
ムステアレート等をあげることができる。更に、メヤニ
の発生を防止するためには、一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)
2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏで示される化合物を添加する。
通常、Ｍｇ4.5Ａｌ2(ＯＨ)13ＣＯ3・3.5Ｈ2Ｏ［ハイド
ロタルサイト］が使用される。
【００２２】脂肪酸のアルカリ金属塩もしくは、アルカ
リ土類金属塩、または、一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z
(Ａ)z・ａＨ2Ｏで示される化合物は、２種および３種類
以上併用してもよい。
リ土類金属塩、または、一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z
(Ａ)z・ａＨ2Ｏで示される化合物は、２種および３種類
以上併用してもよい。
【００２３】本発明において使用される混合物には、上
記以外の添加物を必要に応じて加えることは自由であ
る。例えば、帯電防止剤、スリップ剤、ブロッキング防
止剤等の添加を挙げることができる。本発明において使
用する（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分、及び、添加剤はあ
らかじめ混合しペレット化して成形用としたものを使用
することが望ましい。
記以外の添加物を必要に応じて加えることは自由であ
る。例えば、帯電防止剤、スリップ剤、ブロッキング防
止剤等の添加を挙げることができる。本発明において使
用する（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）成分、及び、添加剤はあ
らかじめ混合しペレット化して成形用としたものを使用
することが望ましい。
【００２４】本発明において使用するポリプロピレンフ
ィルムはプロピレン単独重合体あるいはプロピレンと若
干量のエチレン、ブテン−１、ヘキセン−１等との共重
合体から成形されたフィルムである。ポリプロピレンフ
ィルムの成形時に各種添加剤を加えることは自由であ
る。公知の添加剤としては、各種安定剤、帯電防止剤、
スリップ剤、ブロッキング防止剤等が挙げられる。
ィルムはプロピレン単独重合体あるいはプロピレンと若
干量のエチレン、ブテン−１、ヘキセン−１等との共重
合体から成形されたフィルムである。ポリプロピレンフ
ィルムの成形時に各種添加剤を加えることは自由であ
る。公知の添加剤としては、各種安定剤、帯電防止剤、
スリップ剤、ブロッキング防止剤等が挙げられる。
【００２５】本発明のヒートシール性を有する艶消しフ
ィルムは、基材となるポリプロピレンフィルム用のポリ
プロピレンと（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成
る混合物とを別々の押出機より同時に押出してフィルム
状とし、ポリプロピレンフィルムの片面あるいは両面に
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物を用
いたフィルムを積層したのち二軸延伸してもよいし、ポ
リプロピレンを用いた未延伸フィルムの片面あるいは両
面に（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物
を用いたフィルムを積層した後、これを二軸延伸しても
よい。また、ポリプロピレンを用いた一軸延伸フィルム
の片面あるいは両面に（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加
剤から成る混合物を用いたフィルムを積層した後、これ
を前記一軸延伸フィルムの延伸方向と直角の方向に延伸
してもよい。
ィルムは、基材となるポリプロピレンフィルム用のポリ
プロピレンと（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成
る混合物とを別々の押出機より同時に押出してフィルム
状とし、ポリプロピレンフィルムの片面あるいは両面に
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物を用
いたフィルムを積層したのち二軸延伸してもよいし、ポ
リプロピレンを用いた未延伸フィルムの片面あるいは両
面に（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物
を用いたフィルムを積層した後、これを二軸延伸しても
よい。また、ポリプロピレンを用いた一軸延伸フィルム
の片面あるいは両面に（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加
剤から成る混合物を用いたフィルムを積層した後、これ
を前記一軸延伸フィルムの延伸方向と直角の方向に延伸
してもよい。
【００２６】延伸方法は通常のテンター法による逐次二
軸延伸装置により、通常の二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムを製造する延伸条件で行えばよい。本発明により得
られるヒートシール性を有する艶消しフィルムの全体厚
みにはなんら制限は存在しないが、通常10〜100 μm の
範囲、好ましくは15〜50μm の範囲である。基材となる
ポリプロピレンフィルムの厚みは、13〜45μm が好まし
い。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物
の積層厚みは、0.2 〜10μm が好ましく、特に好ましく
は0.5 〜10μm である。積層厚みが0.2 μm 未満になる
と十分なヒートシール強度が得られないばかりか、低温
ヒートシール性も付与できない。
軸延伸装置により、通常の二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムを製造する延伸条件で行えばよい。本発明により得
られるヒートシール性を有する艶消しフィルムの全体厚
みにはなんら制限は存在しないが、通常10〜100 μm の
範囲、好ましくは15〜50μm の範囲である。基材となる
ポリプロピレンフィルムの厚みは、13〜45μm が好まし
い。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び添加剤から成る混合物
の積層厚みは、0.2 〜10μm が好ましく、特に好ましく
は0.5 〜10μm である。積層厚みが0.2 μm 未満になる
と十分なヒートシール強度が得られないばかりか、低温
ヒートシール性も付与できない。
【００２７】なお、本発明において用いた測定方法は次
の通りである。 （１）プロピレン含有率13 Ｃ−ＮＭＲ法に従い測定する。日本電子（株）のＦＴ
−ＮＭＲスペクトロメーター（GX−270 ）を用いて下記
の条件で測定し、各ピーク面積より算出した。 観測巾：12000 Ｈz パルス角：35° パルス
間隔：4.5 秒 積算回数：10000 以上 測定温度：130 ℃ 溶媒：オルトジクロロベンゼンと重化臭化ベンゼンの混
合液。
の通りである。 （１）プロピレン含有率13 Ｃ−ＮＭＲ法に従い測定する。日本電子（株）のＦＴ
−ＮＭＲスペクトロメーター（GX−270 ）を用いて下記
の条件で測定し、各ピーク面積より算出した。 観測巾：12000 Ｈz パルス角：35° パルス
間隔：4.5 秒 積算回数：10000 以上 測定温度：130 ℃ 溶媒：オルトジクロロベンゼンと重化臭化ベンゼンの混
合液。
【００２８】（２）ＭＦＲ(190℃） ＪＩＳ Ｋ6760により測定した。 （３）ＭＦＲ(230℃） ＪＩＳ Ｋ6758により測定した。 （４）密度 ＪＩＳ Ｋ6760により測定した。
【００２９】（５）Ｍｚ／Ｍｗ ウォーターズ（Ｗaters)社のゲル・パーミエション・ク
ロマトグラフィー（150 Ｃ）を用いて、次項に示す条件
で測定した。 カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨ−ＨＴ 7.5mm ×600m
m 測定温度：135 ℃ 流速：1.0ml/min 溶媒：オルトジクロロベンゼン サンプル濃度：0.5m
g/ml。
ロマトグラフィー（150 Ｃ）を用いて、次項に示す条件
で測定した。 カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨ−ＨＴ 7.5mm ×600m
m 測定温度：135 ℃ 流速：1.0ml/min 溶媒：オルトジクロロベンゼン サンプル濃度：0.5m
g/ml。
【００３０】（６）粗面化の程度 ヘイズ：ＡＳＴＭ−Ｄ−1003により測定した。 光沢度：ＡＳＴＭ−Ｄ−523 （入射角、受光角60°）に
より測定した。 （７）光線透過率 ＡＳＴＭ−Ｄ−1003により測定した。
より測定した。 （７）光線透過率 ＡＳＴＭ−Ｄ−1003により測定した。
【００３１】（８）粗面化の均一性 フィルムの流れ方向の直角方向に５cm間隔で７点 表面
ヘイズを測定し、最大値−最小値の値で判定した。 （９）ヒートシール温度 テスター産業製のヒートシーラーを使用し、１Kg/cm2、
0.8 秒の条件でヒートシールを行い、シール強度の値が
200g/15mm に到達する温度とした。
ヘイズを測定し、最大値−最小値の値で判定した。 （９）ヒートシール温度 テスター産業製のヒートシーラーを使用し、１Kg/cm2、
0.8 秒の条件でヒートシールを行い、シール強度の値が
200g/15mm に到達する温度とした。
【００３２】（10）ポリマー凝集物の有無 目視により約0.5mm 径以上のポリマー異物数を測定し
た。 判定 〇：５個／0.1m2 以下 △：６〜10個／0.1m2 ×：11個／0.1m2 以上 未溶融物によるポリマー凝集物と、架橋物によるポリマ
ー凝集物との判別はホットステージにより行った。
た。 判定 〇：５個／0.1m2 以下 △：６〜10個／0.1m2 ×：11個／0.1m2 以上 未溶融物によるポリマー凝集物と、架橋物によるポリマ
ー凝集物との判別はホットステージにより行った。
【００３３】（11）メヤニの発生 押出機のノズル先端からメヤニが発生する時間で判断し
た。 判定 〇：５時間以上経過してもメヤニが発生しな
い △：２〜５時間で発生 ×：２時間以内で発生。
た。 判定 〇：５時間以上経過してもメヤニが発生しな
い △：２〜５時間で発生 ×：２時間以内で発生。
【００３４】（12）ピンホールの発生 目視によりフィルムに発生するピンホール数を測定し
た。 判定 〇：５／400cm2以下 △：６〜10個／400cm2 ×：11個／400cm2以上。
た。 判定 〇：５／400cm2以下 △：６〜10個／400cm2 ×：11個／400cm2以上。
【００３５】（13）製膜性 製膜時に発生する流れムラの頻度で判断した。 判定 〇：ほとんど流れムラなし △：時々流れムラ発生 ×：連続的に流れムラ発生。
【００３６】
【実施例】本発明を以下の実施例によってさらに詳しく
説明するが、これらの実施例は本発明を限定するもので
はない。 実施例１ ＭＦＲ(230℃）が1.5g／10min であるプロピレン単独重
合体を１台の押出機に供給した。つぎにＭＦＲ(230℃）
が5.0g／10min、プロピレン含有率92.5モル％、エチレ
ン含有率5.5 モル％、ブテン−１含有率2.0 モル％より
なるプロピレン共重合体（Ａ）、ＭＦＲ(190℃）が0.15
／10min、密度が0.925g／cm3 である低密度ポリエチレ
ン（Ｂ）、ＭＦＲ(190℃）が0.15／10min、Ｍｚ／Ｍｗ
が12、密度が0.956g／cm3 である高密度ポリエチレン
（Ｃ）を、下記の配合率で配合し、前記（Ａ）＋（Ｂ）
＋（Ｃ）100 重量部に対し、｛２, ５−ジメチル２, ５
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン｝を0.01重量
部、テトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシナメート）］メタンを0.1重
量部、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
４，４’−ビフェニレンジフォスフォナイトを0.1 重量
部、カルシウムステアレイトを0.1 重量部、ハイドロタ
ルサイトを0.1 重量部添加し、溶融混練後ペレット化し
た混合物をもう１台の押出機に供給した。押出機内で溶
融したそれぞれの樹脂を短管部で合流せしめて250 ℃で
溶融押出して２層構造のシート状とし、これを40℃の冷
却ドラムに巻つけて冷却固化せしめた。得られたシート
の厚み構成は結晶性ポリプロピレンの層が900 μm、プ
ロピレン共重合体、低密度ポリエチレン、高密度ポリエ
チレン及び添加剤よりなる混合物の層が100 μm になる
ように制御した。次いで、得られたシートを東洋精機製
二軸延伸機にセットし、158 ℃に加熱したのち、押出方
向に5.0 倍、押出方向の直角方向に8.0 倍延伸して、厚
さ25μm の二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表１に示した。
説明するが、これらの実施例は本発明を限定するもので
はない。 実施例１ ＭＦＲ(230℃）が1.5g／10min であるプロピレン単独重
合体を１台の押出機に供給した。つぎにＭＦＲ(230℃）
が5.0g／10min、プロピレン含有率92.5モル％、エチレ
ン含有率5.5 モル％、ブテン−１含有率2.0 モル％より
なるプロピレン共重合体（Ａ）、ＭＦＲ(190℃）が0.15
／10min、密度が0.925g／cm3 である低密度ポリエチレ
ン（Ｂ）、ＭＦＲ(190℃）が0.15／10min、Ｍｚ／Ｍｗ
が12、密度が0.956g／cm3 である高密度ポリエチレン
（Ｃ）を、下記の配合率で配合し、前記（Ａ）＋（Ｂ）
＋（Ｃ）100 重量部に対し、｛２, ５−ジメチル２, ５
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン｝を0.01重量
部、テトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシナメート）］メタンを0.1重
量部、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
４，４’−ビフェニレンジフォスフォナイトを0.1 重量
部、カルシウムステアレイトを0.1 重量部、ハイドロタ
ルサイトを0.1 重量部添加し、溶融混練後ペレット化し
た混合物をもう１台の押出機に供給した。押出機内で溶
融したそれぞれの樹脂を短管部で合流せしめて250 ℃で
溶融押出して２層構造のシート状とし、これを40℃の冷
却ドラムに巻つけて冷却固化せしめた。得られたシート
の厚み構成は結晶性ポリプロピレンの層が900 μm、プ
ロピレン共重合体、低密度ポリエチレン、高密度ポリエ
チレン及び添加剤よりなる混合物の層が100 μm になる
ように制御した。次いで、得られたシートを東洋精機製
二軸延伸機にセットし、158 ℃に加熱したのち、押出方
向に5.0 倍、押出方向の直角方向に8.0 倍延伸して、厚
さ25μm の二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表１に示した。
【００３７】実施例２〜３ 比較例１〜４ プロピレン共重合体（Ａ）、低密度ポリエチレン
（Ｂ）、高密度ポリエチレン（Ｃ）の配合率を表１に示
したように変えた以外は実施例１に準拠して二軸延伸フ
ィルムを得た。得られたフィルムの特性を表１、表２に
示した。
（Ｂ）、高密度ポリエチレン（Ｃ）の配合率を表１に示
したように変えた以外は実施例１に準拠して二軸延伸フ
ィルムを得た。得られたフィルムの特性を表１、表２に
示した。
【００３８】
【表１】
【００３９】Ｗa ：プロピレン共重合体（Ａ）の配合量 Ｗb ：低密度ポリエチレン（Ｂ）の配合量 Ｗc ：高密度ポリエチレン（Ｃ）の配合量
【００４０】
【表２】
【００４１】（１）：未溶融物によるポリマー凝集物 実施例４〜７ 比較例５〜６ 表３に示したプロピレン共重合体（Ａ）を用いた以外は
実施例１に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られた
フィルムの特性を表４に示した。
実施例１に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られた
フィルムの特性を表４に示した。
【００４２】
【表３】
【００４３】
【表４】 実施例８〜９ 比較例７ 実施例１で用いた低密度ポリエチレンに替えて表５に示
した低密度ポリエチレン（Ｂ）を用いた以外は実施例１
に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表５に示した。
した低密度ポリエチレン（Ｂ）を用いた以外は実施例１
に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表５に示した。
【００４４】
【表５】
【００４５】実施例10〜11 比較例８〜10 実施例１で用いた高密度ポリエチレンに替えて表６に示
した高密度ポリエチレン（Ｃ）を用いた以外は実施例１
に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表７に示した。
した高密度ポリエチレン（Ｃ）を用いた以外は実施例１
に準拠して二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルム
の特性を表７に示した。
【００４６】
【表６】
【００４７】
【表７】
【００４８】実施例12〜13 比較例11〜14 表８に示した添加剤を用いた以外は実施例１に準拠して
二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの特性を表
９に示した。
二軸延伸フィルムを得た。得られたフィルムの特性を表
９に示した。
【００４９】
【表８】 １：フェノール系酸化防止剤 ２：リン系酸化防止剤 ３：脂肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、ま
たは一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏ［Ｍ
はＭｇ、ＣａまたはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ4、
ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは零または正数］ ａ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール ｂ：テトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート）］メタン ｃ：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
４．４’−ビスフェニレンジフォスフォナイト ｄ：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォス
ファイト ｅ：カルシウムステアレイト ｆ：ハイドロタ
ルサイト
たは一般式ＭXＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)z・ａＨ2Ｏ［Ｍ
はＭｇ、ＣａまたはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ4、
ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは零または正数］ ａ：２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール ｂ：テトラキス［メチレン（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナメート）］メタン ｃ：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
４．４’−ビスフェニレンジフォスフォナイト ｄ：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォス
ファイト ｅ：カルシウムステアレイト ｆ：ハイドロタ
ルサイト
【００５０】
【表９】
【００５１】実施例14〜15 比較例15〜16 実施例１で用いた有機過酸化物の量を表10に示した量に
替えた以外は実施例１に準拠して二軸延伸フィルムを得
た。得られたフィルムの特性を表10、表11に示した。
替えた以外は実施例１に準拠して二軸延伸フィルムを得
た。得られたフィルムの特性を表10、表11に示した。
【００５２】
【表１０】
【００５３】
【表１１】
【００５４】
【発明の効果】本発明の艶消し二軸延伸フィルムは、複
雑な工程や特別な装置を使用しなくても容易に製造でき
るため、製造コストが安く、またフィルム加工時の製膜
性、およびピンホールなどの問題も発生しない。さら
に、得られたヒートシール性を有する艶消し二軸延伸ポ
リプロピレンフィルムは、均一で十分に粗面化された表
面状態を成し、透過光は極めて透過しやすく、ヒートシ
ール性が良好であるため、印刷物へのプリントラミネー
ト用やカード類のカバーフィルム用として好適に用いる
ことができる。
雑な工程や特別な装置を使用しなくても容易に製造でき
るため、製造コストが安く、またフィルム加工時の製膜
性、およびピンホールなどの問題も発生しない。さら
に、得られたヒートシール性を有する艶消し二軸延伸ポ
リプロピレンフィルムは、均一で十分に粗面化された表
面状態を成し、透過光は極めて透過しやすく、ヒートシ
ール性が良好であるため、印刷物へのプリントラミネー
ト用やカード類のカバーフィルム用として好適に用いる
ことができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 ヒートシール性艶消し二軸延伸ポリプロ
ピレンフィルムにおいて、（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の合
計を100 重量％として （Ａ）プロピレン含有率が85〜95モル％であるプロピレン共重合体 45〜65重量％ （Ｂ）190 ℃におけるメルトフローレートが１ｇ／10min 以下で、密度が0.91 〜 0.93ｇ／cm3 である低密度ポリエチレン ５〜20重量％ （Ｃ）190 ℃におけるメルトフローレートが0.01〜0.3g／10min、Ｚ−平均分 子量と重量平均分子量との比が７以上、かつ密度が0.94ｇ／cm3以上である高密 度ポリエチレン 25〜50重量％ （Ｄ）少なくとも１種の有機過酸化物を（Ａ）＋（Ｂ）
＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.001〜0.5 重量部 （Ｅ）少なくとも１種のフェノール系酸化防止剤を
（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の100 重量部に対し 0.02〜0.
5 重量部 （Ｆ）脂肪酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩ま
たは一般式ＭxＡｌy(ＯＨ)2x+3y-2z(Ａ)Z・ａＨ2Ｏ ［ＭはＭｇ、ＣａまたはＺｎ、ＡはＣＯ3 またはＨＰＯ
4、ｘ、ｙ、ｚは正数、ａは零または正数］で示される
化合物のうち少なくとも１種を（Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）
の100 重量部に対し 0.02〜0.5 重量部添加した混合物
が、ポリプロピレンフィルムの少なくとも片面に積層さ
れていることを特徴とする、ヒートシール性艶消しフィ
ルム。 - 【請求項２】 （Ａ）＋（Ｂ）＋（Ｃ）の100 重量部に
対し、リン系酸化防止剤0.03〜0.5重量部を請求項１に
記載の混合物にさらに添加した混合物が積層されている
ことを特徴とする請求項１記載のヒートシール性艶消し
フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16549092A JP3077394B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | ヒートシール性艶消しフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16549092A JP3077394B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | ヒートシール性艶消しフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05329992A JPH05329992A (ja) | 1993-12-14 |
| JP3077394B2 true JP3077394B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=15813393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16549092A Expired - Lifetime JP3077394B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | ヒートシール性艶消しフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3077394B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4536192B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2010-09-01 | 大日本印刷株式会社 | 化粧シート |
| JP4612931B2 (ja) * | 2000-05-12 | 2011-01-12 | 日本ポリプロ株式会社 | 押出しラミネート用ポリプロピレン樹脂組成物 |
| JP4597411B2 (ja) * | 2001-03-29 | 2010-12-15 | 三井化学株式会社 | シーラント用組成物およびその用途 |
| JP4013497B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2007-11-28 | 住友化学株式会社 | フィルム用ポリプロピレン系組成物およびそのフィルム |
| JP2004066513A (ja) * | 2002-08-02 | 2004-03-04 | Tootsuya:Kk | 生分解性艶消しフィルム材料、及びその製造方法 |
| JP5895590B2 (ja) * | 2011-04-28 | 2016-03-30 | 住友化学株式会社 | ポリプロピレン樹脂組成物およびそれからなるフィルム |
| CN102757599B (zh) | 2011-04-28 | 2015-11-04 | 住友化学株式会社 | 聚丙烯树脂组合物及由其形成的薄膜 |
| JP6450522B2 (ja) * | 2014-01-27 | 2019-01-09 | フタムラ化学株式会社 | つや消し調インモールドラベルフィルム |
| JP6642086B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2020-02-05 | 日本ポリプロ株式会社 | 粗面フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物及びフィルム |
| JP7185125B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2022-12-07 | キョーラク株式会社 | 成形体の製造方法 |
-
1992
- 1992-06-02 JP JP16549092A patent/JP3077394B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05329992A (ja) | 1993-12-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3824718B2 (ja) | シクロオレフィンポリマー含有ポリオレフィンフィルムとその製法およびその用途 | |
| JPS61248740A (ja) | ポリプロピレン多層フイルム | |
| HU220096B (hu) | Statisztikus propilén kopolimereket tartalmazó készítmények, eljárás ezek előállítására, valamint ilyeneket tartalmazó többrétegű hővel köthető lemezek | |
| US5922471A (en) | Metallizable polypropylene random copolymer compositions | |
| JP3077394B2 (ja) | ヒートシール性艶消しフィルム | |
| JPH07276584A (ja) | 積層フィルム | |
| US6669885B2 (en) | Process for manufacturing an extruded article and an extruded article | |
| JP2843187B2 (ja) | ヒートシール性艶消し二軸延伸ポリプロピレンフィルム | |
| JP3345896B2 (ja) | 積層フィルム | |
| US6280833B1 (en) | Biaxially oriented polypropylene film having more than one layer, its use, and process for its production | |
| JP3483651B2 (ja) | ポリオレフィン系積層フィルム | |
| JP2001071431A (ja) | 多層延伸ポリプロピレン系フィルム | |
| KR100936838B1 (ko) | 본질적으로 겔이 없는 랜덤 분지쇄형 폴리아미드를함유하는 다층 평판 필름의 제조 방법 | |
| JP4538123B2 (ja) | プロピレン重合体シート熱成形品 | |
| KR100201191B1 (ko) | 올레핀 중합체 조성물 및 올레핀 중합체 조성물을 포함하는 필름 및 금속화필름 | |
| USH1274H (en) | Polypropylene-polybutylene heat sealable laminated packaging film with improved optics | |
| JPH06927A (ja) | 積層フィルム | |
| JPH08217930A (ja) | オレフィン重合体組成物 | |
| JP2917165B2 (ja) | 金属蒸着プラスチックフィルム | |
| KR100370265B1 (ko) | 무광 적층필름 및 그의 제조방법 | |
| JP2843186B2 (ja) | ヒートシール性艶消しフィルム | |
| JP3139830B2 (ja) | プリントラミネート用フィルム | |
| JP2907935B2 (ja) | 金属蒸着プラスチツクフイルム | |
| JPH0647278B2 (ja) | 金属蒸着ポリエチレン系フイルム | |
| JPH06218892A (ja) | 積層フィルム |