JP3057274U - 疑似立体装飾体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本考案は、透明なガラス又はプラスチックの板
の片面にマスキングを施し、両面にイオンプレーティン
グ又はスパッタリング等の被膜を形成することで角度に
より立体的に見えることを特徴とする。 【解決手段】透明なガラス又はプラスチックの板１の片
面にマスキング２を施し、両面にイオンプレーティング
又はスパッタリング等の被膜３を形成することで角度に
より立体的に見えることを特徴としている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【考案の属する技術分野】

本考案は、平滑表面上に立体的な絵柄模様や文字を安価に表出する疑似立体装 飾体に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来、平滑表面上に立体的な絵柄模様や文字を表出する場合、表面にエンボス 加工を施し、或いはレーザー加工や切削加工によって彫刻を施す等の方法が一般 に行われている。又プラスチックの板を２層或いは３層構造として、下地層に絵 柄模様や文字を施しその上に透明な板を張り合わせるという方法が知られている 。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、エンボス加工や彫刻等を施す方法では、表面に凹凸が出来てい るため汚れやすく、外観的に問題となるばかりか衛生的にも好ましくない。又、 ２層、３層とする場合、張り合わせることから技術的に難しく高価な処理となっ てしまう。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

前記課題を解決するため本考案は以下の手段を採用する。

【０００５】 透明なガラス又はプラスチックの板の片面にマスキングを施し、両面にイオン プレーティング又はスパッタリング等の被膜を形成することで角度により立体的 に見えることを特徴とするものである。 イオンプレーティング又はスパッタリング等の被膜の厚さを０．０１〜２．０μ ｍに設定するのがよい。

【０００６】

【考案の実施形態】

以下図面に基づき本考案を詳細に説明する。 図１において透明なガラス又はプラスチックの板１に、任意の絵柄模様や文字 を描きマスキング２を施す。マスキング材は一般的なものでよく油性のマジック などでも可能である。次に図２の様に、イオンプレーティング又はスパッタリン グによって全体を覆うように被膜３を形成する。この被膜はＴｉ、ＴｉＮ、Ｔｉ ＣＮ、ＴｉＣ、ＴｉＯ２、ＴｉＡｌ、Ｃｒ、ＣｒＮ、ＣｒＣなど特に限定するも のではない。経済性を考慮したとき、被膜３の膜厚は使用に支障を来さない範囲 で薄い方が良いが、あまり薄すぎると光が透過しすぎてしまい立体的に見えなく なってしまうため０．０１〜２．０μｍとするのが望ましい。

【０００７】 その後、マスキング２及びその上に形成された被膜を溶剤などで同時にハクリ する。

【０００８】 例えば、透明なポリカーボネートの板に油性のマジックで任意の絵柄模様を描 き、スパッタリングによってＣｒの被膜を形成する。その後、アルコールによっ てマジック及びその上のＣｒ被膜を同時に除去する事で図３のような疑似立体被 膜を得た。図３において、光源Ｌからの光によって陰４が出来、この光源Ｌの方 向と視点Ｅの角度によって様々な形状の陰４が見え、その明暗によって立体的に 見える。なお図１〜３において被膜の厚さ等、便宜上誇張して示している。

【０００９】

【考案の効果】

本考案によれば、ガラスやプラスチックなどの平滑表面上に安価でしかも複雑 な工程や技術を必要とせず、立体的な絵柄模様や文字を表出することが可能とな る。又、表面硬度の高い被膜を形成すれば耐摩耗性が向上し、さらにメタリック な外観も得られることから機能面、装飾面での応用が期待される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る装飾体の製造工程を示す概略断面
図である。

【図２】本考案に係る装飾体の製造工程を示す概略断面
図である。

【図３】本考案に係る装飾体の構成を示す概略断面図で
ある。

【符号の説明】

１ ガラス又はプラスチックの板 ２ マスキング ３ イオンプレーティング又はスパッタリングによる被
膜 ４ 光源Ｌからの光による陰

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明なガラス又はプラスチックの板の片
   面にマスキングを施し、両面にイオンプレーティング又
   はスパッタリング等の被膜を形成することで角度により
   立体的に見えることを特徴とする疑似立体装飾体。
2. 【請求項２】 イオンプレーティング又はスパッタリン
   グ等の被膜の厚さを０．０１〜２．０μｍに設定したこ
   とを特徴とする請求項１記載の疑似立体装飾体。