JP3054482B2 - ビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレンおよびその製造方法 - Google Patents
ビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレンおよびその製造方法Info
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- JP3054482B2 JP3054482B2 JP4003875A JP387592A JP3054482B2 JP 3054482 B2 JP3054482 B2 JP 3054482B2 JP 4003875 A JP4003875 A JP 4003875A JP 387592 A JP387592 A JP 387592A JP 3054482 B2 JP3054482 B2 JP 3054482B2
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- aminobenzoyloxy
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なビス〔3(また
は4)−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンおよびそ
の製造方法に関するものである。このビス〔3(または
4)−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレン(以下BA
BONと略記する)はポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ビスマレイミドおよびエポキシ樹脂の原料
として利用され、さらに、他のマレイミド化合物やエポ
キシ化合物の硬化剤として利用できる。
は4)−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンおよびそ
の製造方法に関するものである。このビス〔3(または
4)−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレン(以下BA
BONと略記する)はポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ビスマレイミドおよびエポキシ樹脂の原料
として利用され、さらに、他のマレイミド化合物やエポ
キシ化合物の硬化剤として利用できる。
【0002】
【従来の技術】近年、耐熱樹脂材料は、熱的、機械的性
能のほか、複合材としての使用における可とう性や成形
加工性に代表される諸性能を満足させることが要求され
ている。このような材料として、ポリイミド樹脂が注目
されているが、ポリイミド樹脂は高性能である反面、成
形加工が難しいという欠点があった。例えば、最も典型
的な4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリ
ット酸無水物から成る芳香族ポリイミド(Du’pon
t社、商品名「Vespel」)は不溶、不融であるた
め、粉末焼結成形という特殊な方法を用いる。このた
め、この方法では複雑な形状の加工品が得られ難く、満
足な成形品を得るには成形品をさらに切削等により仕上
げ加工をしなければならないので、加工コストが高くな
るという大きな欠点がある。
能のほか、複合材としての使用における可とう性や成形
加工性に代表される諸性能を満足させることが要求され
ている。このような材料として、ポリイミド樹脂が注目
されているが、ポリイミド樹脂は高性能である反面、成
形加工が難しいという欠点があった。例えば、最も典型
的な4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリ
ット酸無水物から成る芳香族ポリイミド(Du’pon
t社、商品名「Vespel」)は不溶、不融であるた
め、粉末焼結成形という特殊な方法を用いる。このた
め、この方法では複雑な形状の加工品が得られ難く、満
足な成形品を得るには成形品をさらに切削等により仕上
げ加工をしなければならないので、加工コストが高くな
るという大きな欠点がある。
【0003】このような欠点を改良する目的で、原料の
ジアミン成分を種々改良する方法が試みられている。例
えば、モノマー単位における分子鎖の増加や折れ構造を
利用する方法、あるいは、ナフタレン骨格やエステル結
合を持つ一部のポリマーが液晶性を持つことから、この
ような性質を利用する方法等が挙げられる。しかし、現
在まで、可とう性や成形加工性等の要求性能を完全に満
足させるものは見出されていない。
ジアミン成分を種々改良する方法が試みられている。例
えば、モノマー単位における分子鎖の増加や折れ構造を
利用する方法、あるいは、ナフタレン骨格やエステル結
合を持つ一部のポリマーが液晶性を持つことから、この
ような性質を利用する方法等が挙げられる。しかし、現
在まで、可とう性や成形加工性等の要求性能を完全に満
足させるものは見出されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、可と
う性や成形加工性を充分満足させるような樹脂原料とし
ての新規なジアミン化合物を提供することである。
う性や成形加工性を充分満足させるような樹脂原料とし
ての新規なジアミン化合物を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち、本発明は式(I)(化4)で表さ
れるビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレン、
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち、本発明は式(I)(化4)で表さ
れるビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレン、
【0006】
【化4】 (式中、−NH2 基は3位または4位である)および式
(II)(化5)で表されるニトロベンゾイルハライド
(II)(化5)で表されるニトロベンゾイルハライド
【0007】
【化5】 (式中、Xはハロゲン原子を示し、−NO2 基は3位ま
たは4位である)とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式(III)(化6)で表されるビス(ニトロ
ベンゾイルオキシ)ナフタレン
たは4位である)とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式(III)(化6)で表されるビス(ニトロ
ベンゾイルオキシ)ナフタレン
【0008】
【化6】 (式中、−NO2 基は3位または4位である)を得、こ
れを還元することによるビス(アミノベンゾイルオキ
シ)ナフタレンの製造方法に関するものである。
れを還元することによるビス(アミノベンゾイルオキ
シ)ナフタレンの製造方法に関するものである。
【0009】本発明のビス(アミノベンゾイルオキシ)
ナフタレン(BABON)は、ナフタレン環に2個のベ
ンゼン環がそれぞれエステル結合によって連結されてお
り、そのカルボニル基に対して両端のアミノ基はそれぞ
れメタまたはパラ位に位置するビス〔3(または4)−
アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンであり、このジア
ミンから得られるポリイミド樹脂は、耐熱性、機械的特
性に優れ、かつ分子の折れ構造に由来する優れた成型加
工性を有する。このBABONは、式(II)で表される
3(または4)−ニトロベンゾイルハライドとジヒドロ
キシナフタレンとの縮合反応によりビス〔3(または
4)−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレンを得、これ
を還元して製造される。
ナフタレン(BABON)は、ナフタレン環に2個のベ
ンゼン環がそれぞれエステル結合によって連結されてお
り、そのカルボニル基に対して両端のアミノ基はそれぞ
れメタまたはパラ位に位置するビス〔3(または4)−
アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンであり、このジア
ミンから得られるポリイミド樹脂は、耐熱性、機械的特
性に優れ、かつ分子の折れ構造に由来する優れた成型加
工性を有する。このBABONは、式(II)で表される
3(または4)−ニトロベンゾイルハライドとジヒドロ
キシナフタレンとの縮合反応によりビス〔3(または
4)−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレンを得、これ
を還元して製造される。
【0010】本発明のBABONを製造する方法を具体
的に説明する。まず、第一段の反応で、ジヒドロキシナ
フタレンを3(または4)−ニトロベンゾイルハライド
と縮合してビス(ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン
を製造する。この工程では、原料のジヒドロキシナフタ
レンとして、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,6
−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフ
タレンおよび1,6−ジヒドロキシナフタレンが使用で
きる。また、もう一方の原料のニトロベンゾイルハライ
ドとしては、具体的には、3−ニトロベンゾイルフルオ
ライド、4−ニトロベンゾイルフルオライド、3−ニト
ロベンゾイルブロマイド、4−ニトロベンゾイルブロマ
イド、3−ニトロベンゾイルヨーダイド、4−ニトロベ
ンゾイルヨーダイド、3−ニトロベンゾイルクロリド、
4−ニトロベンゾイルクロリドなどが使用され、工業的
には、3−ニトロベンゾイルクロリドおよび4−ニトロ
ベンゾイルクロリドが好ましい。ニトロベンゾイルハラ
イドはジヒドロキシナフタレン1モルに対して、2.0
〜3.0モル好ましくは2.2〜2.5モルとなるよう
に用いる。
的に説明する。まず、第一段の反応で、ジヒドロキシナ
フタレンを3(または4)−ニトロベンゾイルハライド
と縮合してビス(ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン
を製造する。この工程では、原料のジヒドロキシナフタ
レンとして、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,6
−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフ
タレンおよび1,6−ジヒドロキシナフタレンが使用で
きる。また、もう一方の原料のニトロベンゾイルハライ
ドとしては、具体的には、3−ニトロベンゾイルフルオ
ライド、4−ニトロベンゾイルフルオライド、3−ニト
ロベンゾイルブロマイド、4−ニトロベンゾイルブロマ
イド、3−ニトロベンゾイルヨーダイド、4−ニトロベ
ンゾイルヨーダイド、3−ニトロベンゾイルクロリド、
4−ニトロベンゾイルクロリドなどが使用され、工業的
には、3−ニトロベンゾイルクロリドおよび4−ニトロ
ベンゾイルクロリドが好ましい。ニトロベンゾイルハラ
イドはジヒドロキシナフタレン1モルに対して、2.0
〜3.0モル好ましくは2.2〜2.5モルとなるよう
に用いる。
【0011】この第一段の反応においては、通常、脱ハ
ロゲン化水素剤を使用する。この脱ハロゲン化水素剤と
しては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、アンモニアあるいは通常の有機
アミン類等である。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カル
シウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、酸化カルシウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルピリジンおよびN−メチルモルホリンがあげられる。
これら脱ハロゲン化水素剤は、必要により2種以上を混
合しても良い。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、原料の
ジヒドロキシナフタレンに対し通常2〜7倍モル、好ま
しくは2〜3倍モル使用する。
ロゲン化水素剤を使用する。この脱ハロゲン化水素剤と
しては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、アンモニアあるいは通常の有機
アミン類等である。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カル
シウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、酸化カルシウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルピリジンおよびN−メチルモルホリンがあげられる。
これら脱ハロゲン化水素剤は、必要により2種以上を混
合しても良い。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、原料の
ジヒドロキシナフタレンに対し通常2〜7倍モル、好ま
しくは2〜3倍モル使用する。
【0012】この第一段の反応においては、通常、反応
溶媒を使用する。反応溶媒としては反応に不活性なもの
であれば特に限定されるものでなく、例えば、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、およびN,N−ジメチルホルムアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロトン性極
性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料のジヒドロ
キシナフタレンおよび3(または4)−ニトロベンゾイ
ルハライドを懸濁させるかあるいは完全に溶解するに足
る量で十分であり、特に限定されないが、通常、原料に
対して0.5〜10重量倍で十分である。
溶媒を使用する。反応溶媒としては反応に不活性なもの
であれば特に限定されるものでなく、例えば、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、およびN,N−ジメチルホルムアミド、1,3
−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロトン性極
性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料のジヒドロ
キシナフタレンおよび3(または4)−ニトロベンゾイ
ルハライドを懸濁させるかあるいは完全に溶解するに足
る量で十分であり、特に限定されないが、通常、原料に
対して0.5〜10重量倍で十分である。
【0013】反応温度は、特に限定されない。一般には
0〜100℃、好ましくは0〜50℃である。反応時間
は、1〜24時間である。反応終了後、結晶が析出して
いる場合は濾過し、それ以外の場合は反応液を濃縮する
か、またはそのまま水に排出して、析出した生成物を濾
過することにより粗ビス〔3(または)−ニトロベンゾ
イルオキシ〕ナフタレンとして得ることができる。この
粗生成物は、必要に応じて通常の方法で精製することも
できる。
0〜100℃、好ましくは0〜50℃である。反応時間
は、1〜24時間である。反応終了後、結晶が析出して
いる場合は濾過し、それ以外の場合は反応液を濃縮する
か、またはそのまま水に排出して、析出した生成物を濾
過することにより粗ビス〔3(または)−ニトロベンゾ
イルオキシ〕ナフタレンとして得ることができる。この
粗生成物は、必要に応じて通常の方法で精製することも
できる。
【0014】次に、第二段の反応、即ち、得られたビス
〔3(または4)−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレ
ンを還元してBABONを得る反応について説明する。
この反応では、通常、接触還元が好ましい。接触還元で
使用される還元触媒としては、一般に接触還元に用いら
れている金属触媒、例えば、ニッケル、パラジウム、白
金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅などを使用す
ることができる。工業的には、パラジウム触媒を使用す
るのが好ましい。これらの触媒は、金属の状態でも使用
することができるが、通常は、カーボン、硫酸バリウ
ム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に
担持させて用いたり、またニッケル、コバルト、銅など
はラネー触媒としても用いられる。触媒の使用量は特に
制限はないが、原料に対して0.01〜10重量%の範
囲であり、通常、金属の状態で使用する場合は、2〜8
重量%、担体に担持させた場合では、0.1〜5重量%
の範囲である。
〔3(または4)−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレ
ンを還元してBABONを得る反応について説明する。
この反応では、通常、接触還元が好ましい。接触還元で
使用される還元触媒としては、一般に接触還元に用いら
れている金属触媒、例えば、ニッケル、パラジウム、白
金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅などを使用す
ることができる。工業的には、パラジウム触媒を使用す
るのが好ましい。これらの触媒は、金属の状態でも使用
することができるが、通常は、カーボン、硫酸バリウ
ム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に
担持させて用いたり、またニッケル、コバルト、銅など
はラネー触媒としても用いられる。触媒の使用量は特に
制限はないが、原料に対して0.01〜10重量%の範
囲であり、通常、金属の状態で使用する場合は、2〜8
重量%、担体に担持させた場合では、0.1〜5重量%
の範囲である。
【0015】反応溶媒としては、反応に不活性なもので
あれば特に限定されるものでなく、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
グリコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、アニソール等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル類、およびN,N−ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロト
ン性極性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料を懸
濁させるかあるいは完全に溶解させるに足る量で十分で
あり、特に限定されないが、通常、原料に対して0.5
〜10重量倍で十分である。
あれば特に限定されるものでなく、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
グリコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、アニソール等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル類、およびN,N−ジメチルホルムアミド、
1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の非プロト
ン性極性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料を懸
濁させるかあるいは完全に溶解させるに足る量で十分で
あり、特に限定されないが、通常、原料に対して0.5
〜10重量倍で十分である。
【0016】反応温度は特に限定はないが、一般的に
は、20〜200℃の範囲、特に20〜100℃が好ま
しい。また反応圧力は、通常、常圧〜50atm程度で
ある。反応は通常、原料を溶媒に溶解、もしくは懸濁さ
せた状態で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水
素を導入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液
体クロマトグラフィーなどによっても決定できる。反応
終了後、触媒を濾過して除去する。その後、冷却する等
の方法で結晶を析出させ、濾過、洗浄、乾燥して目的物
を得る。この様にして得られた4,4’−ビス〔3(ま
たは4)−アミノベンゾイルオキシ〕ビフェニルは、必
要に応じて通常の方法で精製される。
は、20〜200℃の範囲、特に20〜100℃が好ま
しい。また反応圧力は、通常、常圧〜50atm程度で
ある。反応は通常、原料を溶媒に溶解、もしくは懸濁さ
せた状態で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水
素を導入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液
体クロマトグラフィーなどによっても決定できる。反応
終了後、触媒を濾過して除去する。その後、冷却する等
の方法で結晶を析出させ、濾過、洗浄、乾燥して目的物
を得る。この様にして得られた4,4’−ビス〔3(ま
たは4)−アミノベンゾイルオキシ〕ビフェニルは、必
要に応じて通常の方法で精製される。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 〔第一段の反応〕攪拌器、温度計および還流冷却器を備
えたガラス製反応容器に、2,7−ジヒドロキシナフタ
レン40.0g(0.25モル)、ピリジン41.5g
(0.53モル)およびN,N−ジメチルホルムアミド
500gを装入し、内温を25℃に保ち攪拌した。次い
で97.5g(0.53モル)の4−ニトロベンゾイル
クロリドを30分間で徐々に加えた。この間内温は25
〜40℃であった。さらに同温度で3時間攪拌を続け
た。反応終了後、水50gを加えたのちに内温を25℃
まで冷却し、析出した結晶を濾過した。これを洗浄、乾
燥して、粗2,7−ビス(4−ニトロベンゾイルオキ
シ)ナフタレン97.6gを得た。これを240gの
N,N−ジメチルホルムアミドで再結晶して、精2,7
−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン9
3.2g(収率81.3%)を得た。高速液体クロマト
グラフィーによる純度は、99.3%であった。融点は
235.5〜236.2℃であった。 〔第二段の反応〕次に、攪拌器、温度計および還流冷却
器を備えたガラス製密閉容器に、上記の2,7−ビス
(4−ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン64.2g
(0.14モル)、5%パラジウム/アルミナ触媒(エ
ヌ・イー・ケムキャット社)1.3gおよびN,N−ジ
メチルホルムアミド650gを装入し、15〜25℃の
温度において、攪拌しながら水素を導入すると約9時間
で18.5lの水素を吸収した。反応終了後、同温度で
反応溶液を濾過して触媒を除去した。次にこの溶液温度
を80℃まで昇温し、280gの水を加えて後、25℃
まで徐冷すると、結晶が析出した。これを濾過、洗浄、
乾燥して、粗2,7−ビス(4−アミノベンゾイルオキ
シ)ナフタレン47.1gを得た。700gの2−メト
キシエタノールで再結晶して、精製2,7−ビス(4−
アミノベンゾイルオキシ)ナフタレン42.1g(収率
75.5%)を得た。高速液体クロマトグラフィーによ
る純度は99.0%であった。融点は266.8〜26
7.2℃であった。 元素分析結果 C H N 計算値(%) 72.4 4.6 7.0 測定値(%) 73.0 4.4 7.1 MS 398(M+ ) 、 120 、 92 IRスペクトルを図1に示した。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 〔第一段の反応〕攪拌器、温度計および還流冷却器を備
えたガラス製反応容器に、2,7−ジヒドロキシナフタ
レン40.0g(0.25モル)、ピリジン41.5g
(0.53モル)およびN,N−ジメチルホルムアミド
500gを装入し、内温を25℃に保ち攪拌した。次い
で97.5g(0.53モル)の4−ニトロベンゾイル
クロリドを30分間で徐々に加えた。この間内温は25
〜40℃であった。さらに同温度で3時間攪拌を続け
た。反応終了後、水50gを加えたのちに内温を25℃
まで冷却し、析出した結晶を濾過した。これを洗浄、乾
燥して、粗2,7−ビス(4−ニトロベンゾイルオキ
シ)ナフタレン97.6gを得た。これを240gの
N,N−ジメチルホルムアミドで再結晶して、精2,7
−ビス(4−ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン9
3.2g(収率81.3%)を得た。高速液体クロマト
グラフィーによる純度は、99.3%であった。融点は
235.5〜236.2℃であった。 〔第二段の反応〕次に、攪拌器、温度計および還流冷却
器を備えたガラス製密閉容器に、上記の2,7−ビス
(4−ニトロベンゾイルオキシ)ナフタレン64.2g
(0.14モル)、5%パラジウム/アルミナ触媒(エ
ヌ・イー・ケムキャット社)1.3gおよびN,N−ジ
メチルホルムアミド650gを装入し、15〜25℃の
温度において、攪拌しながら水素を導入すると約9時間
で18.5lの水素を吸収した。反応終了後、同温度で
反応溶液を濾過して触媒を除去した。次にこの溶液温度
を80℃まで昇温し、280gの水を加えて後、25℃
まで徐冷すると、結晶が析出した。これを濾過、洗浄、
乾燥して、粗2,7−ビス(4−アミノベンゾイルオキ
シ)ナフタレン47.1gを得た。700gの2−メト
キシエタノールで再結晶して、精製2,7−ビス(4−
アミノベンゾイルオキシ)ナフタレン42.1g(収率
75.5%)を得た。高速液体クロマトグラフィーによ
る純度は99.0%であった。融点は266.8〜26
7.2℃であった。 元素分析結果 C H N 計算値(%) 72.4 4.6 7.0 測定値(%) 73.0 4.4 7.1 MS 398(M+ ) 、 120 、 92 IRスペクトルを図1に示した。
【0018】実施例2〜8 実施例1と同様にして表1(表1)に示す各種ジアミン
化合物を合成した。
化合物を合成した。
【0019】
【表1】
【0020】
【発明の効果】本発明によるビス〔3(または4)−ア
ミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンは新規な物質であ
り、これを原料として可とう性や成形性に優れた高耐熱
性のポリイミド樹脂を提供することができる。
ミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンは新規な物質であ
り、これを原料として可とう性や成形性に優れた高耐熱
性のポリイミド樹脂を提供することができる。
【図1】この図は、実施例1で得られたジアミン化合物
のKBr錠剤法のIRスペクトルである。
のKBr錠剤法のIRスペクトルである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 229/54 C07C 227/06 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (2)
- 【請求項1】 式(I)(化1)で表されるビス(アミ
ノベンゾイルオキシ)ナフタレン。 【化1】 (式中、−NH2 基は3位または4位である) - 【請求項2】 式(II)(化2)で表されるニトロベン
ゾイルハライド 【化2】 (式中、Xはハロゲン原子を示し、−NO2 基は3位ま
たは4位である)とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式(III)で表されるビス(ニトロベンゾイ
ルオキシ)ナフタレン 【化3】 (式中、−NO2 基は3位または4位である)を得、こ
れを還元することを特徴とする請求項1記載のビス(ア
ミノベンゾイルオキシ)ナフタレンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4003875A JP3054482B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレンおよびその製造方法 |
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JP4003875A JP3054482B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ビス(アミノベンゾイルオキシ)ナフタレンおよびその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH05194340A JPH05194340A (ja) | 1993-08-03 |
JP3054482B2 true JP3054482B2 (ja) | 2000-06-19 |
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WO2020232597A1 (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 广东生益科技股份有限公司 | 二胺化合物、其制备方法、热固性树脂组合物及其应用 |
CN111960960B (zh) * | 2019-05-20 | 2022-12-30 | 广东生益科技股份有限公司 | 二胺化合物、其制备方法、热固性树脂组合物及其应用 |
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1992
- 1992-01-13 JP JP4003875A patent/JP3054482B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH05194340A (ja) | 1993-08-03 |
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