JP3038176B2 - パターンマッチングによる検査装置 - Google Patents
パターンマッチングによる検査装置Info
- Publication number
- JP3038176B2 JP3038176B2 JP9334246A JP33424697A JP3038176B2 JP 3038176 B2 JP3038176 B2 JP 3038176B2 JP 9334246 A JP9334246 A JP 9334246A JP 33424697 A JP33424697 A JP 33424697A JP 3038176 B2 JP3038176 B2 JP 3038176B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- inspection
- pattern matching
- pixels
- result
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＩＣなどの被検査
物をパターンマッチング法により検査する検査装置に関
する。
物をパターンマッチング法により検査する検査装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、図７に示すようなＩＣの
表面に描かれた文字を検査する外観検査においては、パ
ターンマッチング法がよく用いられる。パターンマッチ
ング法は、良品のＩＣから採取した画像に基づいて登録
パターンを作成し、この登録パターンと被検査物のＩＣ
から作成した検査パターンとを比較して、両者の一致度
が所定値よりも高ければ被検査物のＩＣを良品とし、両
者の一致度が所定値よりも低ければ被検査物のＩＣを不
良品とする画像処理方法である。
表面に描かれた文字を検査する外観検査においては、パ
ターンマッチング法がよく用いられる。パターンマッチ
ング法は、良品のＩＣから採取した画像に基づいて登録
パターンを作成し、この登録パターンと被検査物のＩＣ
から作成した検査パターンとを比較して、両者の一致度
が所定値よりも高ければ被検査物のＩＣを良品とし、両
者の一致度が所定値よりも低ければ被検査物のＩＣを不
良品とする画像処理方法である。
【０００３】一般には、一つの被検査物のＩＣから採取
した画像に基づいて複数の検査パターンを作成し、これ
ら複数のパターンのうち登録パターンと検査パターンの
一致度が所定値を超えているものが一つでもあれば、そ
の被検査物のＩＣを良品としている。
した画像に基づいて複数の検査パターンを作成し、これ
ら複数のパターンのうち登録パターンと検査パターンの
一致度が所定値を超えているものが一つでもあれば、そ
の被検査物のＩＣを良品としている。
【０００４】また、両者の一致度は、種々の手法により
計算することができるが、そのうちの一つに正規化相関
などの正規化を用いる計算方法がある。この正規化を用
いる計算方法は、被検査物を照らす照明の明るさの変動
に大きな影響を受けないため、安定した結果を得るのに
適している。
計算することができるが、そのうちの一つに正規化相関
などの正規化を用いる計算方法がある。この正規化を用
いる計算方法は、被検査物を照らす照明の明るさの変動
に大きな影響を受けないため、安定した結果を得るのに
適している。
【０００５】しかし、正規化を用いる計算方法によりパ
ターンマッチングの一致度を求めた場合、例えば、被検
査物のＩＣの表面に描かれた文字がかすれているような
ときも、この文字のかすれにほとんど影響されずに一致
度が計算される。これでは、文字のかすれを不良とした
い場合に、この不良を検出することができなくなり、Ｉ
Ｃの外観検査に不都合となる。
ターンマッチングの一致度を求めた場合、例えば、被検
査物のＩＣの表面に描かれた文字がかすれているような
ときも、この文字のかすれにほとんど影響されずに一致
度が計算される。これでは、文字のかすれを不良とした
い場合に、この不良を検出することができなくなり、Ｉ
Ｃの外観検査に不都合となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は、
正規化を用いる計算方法によりパターンマッチングの一
致度を求めていたが、この方法は、被検査物を照らす照
明の明るさの変動、即ち、被検査物の画像の濃度に大き
な影響を受けないため、例えば、被検査物のＩＣの表面
に描かれた文字のかすれを考慮した結果が得られないと
いう欠点がある。
正規化を用いる計算方法によりパターンマッチングの一
致度を求めていたが、この方法は、被検査物を照らす照
明の明るさの変動、即ち、被検査物の画像の濃度に大き
な影響を受けないため、例えば、被検査物のＩＣの表面
に描かれた文字のかすれを考慮した結果が得られないと
いう欠点がある。
【０００７】本発明は、上記欠点を解決すべくなされた
もので、その目的は、被検査物の文字のかすれなどを考
慮した結果を得ることができる濃度情報を考慮したパタ
ーンマッチング法を提案することである。
もので、その目的は、被検査物の文字のかすれなどを考
慮した結果を得ることができる濃度情報を考慮したパタ
ーンマッチング法を提案することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の検査装置は、Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを
作成する手段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成する
手段と、前記登録パターンと前記検査パターンのパター
ンマッチングを以下の式
め、本発明の検査装置は、Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを
作成する手段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成する
手段と、前記登録パターンと前記検査パターンのパター
ンマッチングを以下の式
【０００９】
【数７】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを備
える。
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを備
える。
【００１０】本発明の検査装置は、Ｎ×Ｍ画素の登録パ
ターンを作成する手段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを
作成する手段と、前記登録パターンと前記検査パターン
のパターンマッチングを以下の式
ターンを作成する手段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを
作成する手段と、前記登録パターンと前記検査パターン
のパターンマッチングを以下の式
【００１１】
【数８】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを備
える。
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを備
える。
【００１２】本発明の記録媒体には、Ｎ×Ｍ画素の登録
パターンを作成するステップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パタ
ーンを作成するステップと、前記登録パターンと前記検
査パターンのパターンマッチングを以下の式
パターンを作成するステップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パタ
ーンを作成するステップと、前記登録パターンと前記検
査パターンのパターンマッチングを以下の式
【００１３】
【数９】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されている。
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されている。
【００１４】本発明の記録媒体には、Ｎ×Ｍ画素の登録
パターンを作成するステップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パタ
ーンを作成するステップと、前記登録パターンと前記検
査パターンのパターンマッチングを以下の式
パターンを作成するステップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パタ
ーンを作成するステップと、前記登録パターンと前記検
査パターンのパターンマッチングを以下の式
【００１５】
【数１０】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されている。本発明のパ
ターンマッチング方法は、Ｎ×Ｍ画素の登録パターンと
Ｎ×Ｍ画素の検査パターンのパターンマッチングを以下
の式
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されている。本発明のパ
ターンマッチング方法は、Ｎ×Ｍ画素の登録パターンと
Ｎ×Ｍ画素の検査パターンのパターンマッチングを以下
の式
【００１６】
【数１１】 に基づいて行う。本発明のパターンマッチング方法は、
Ｎ×Ｍ画素の登録パターンとＮ×Ｍ画素の検査パターン
のパターンマッチングを以下の式
Ｎ×Ｍ画素の登録パターンとＮ×Ｍ画素の検査パターン
のパターンマッチングを以下の式
【００１７】
【数１２】 に基づいて行う。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明のパターンマッチングによる検査装置について詳細に
説明する。図１は、本発明の検査装置の構成の概略を示
している。
明のパターンマッチングによる検査装置について詳細に
説明する。図１は、本発明の検査装置の構成の概略を示
している。
【００１９】カメラ１０は、被写体（良品のＩＣ又は被
検査物のＩＣ）１６の画像を採取し、この画像を画像処
理装置１１に与える。カメラ１０は、ビデオカメラ、デ
ジタルカメラなどから構成され、また、スキャナのよう
な画像取り込み装置を含む。
検査物のＩＣ）１６の画像を採取し、この画像を画像処
理装置１１に与える。カメラ１０は、ビデオカメラ、デ
ジタルカメラなどから構成され、また、スキャナのよう
な画像取り込み装置を含む。
【００２０】画像処理装置１１は、画像メモリ部１２、
処理部１３及び制御部１４を有している。良品のＩＣ又
は被検査物のＩＣの画像は、それぞれ画像メモリ部１２
に記憶される。処理部１２は、良品のＩＣの画像に基づ
いて登録パターンを作成し、被検査物のＩＣの画像に基
づいて検査パターンを作成する。また、処理部１２で
は、後述するパターンマッチング法に基づいて登録パタ
ーンと検査パターンのパターンマッチングを実行する。
制御部１４は、画像メモリ部１２における画像データの
入出力や、処理部１３における演算の制御を行う。
処理部１３及び制御部１４を有している。良品のＩＣ又
は被検査物のＩＣの画像は、それぞれ画像メモリ部１２
に記憶される。処理部１２は、良品のＩＣの画像に基づ
いて登録パターンを作成し、被検査物のＩＣの画像に基
づいて検査パターンを作成する。また、処理部１２で
は、後述するパターンマッチング法に基づいて登録パタ
ーンと検査パターンのパターンマッチングを実行する。
制御部１４は、画像メモリ部１２における画像データの
入出力や、処理部１３における演算の制御を行う。
【００２１】照明装置１５は、散乱光を照射し、被写体
１６を照らす役割を果たす。次に、図２を参照しつつ本
発明の検査装置の動作（パターンマッチング法）につい
て説明する。
１６を照らす役割を果たす。次に、図２を参照しつつ本
発明の検査装置の動作（パターンマッチング法）につい
て説明する。
【００２２】なお、本発明は、画像処理による種々の検
査に適用可能であるが、本例では、説明を分かりやすく
するため、ＩＣ（パッケージ）の表面に付された文字を
検査する場合について説明する。
査に適用可能であるが、本例では、説明を分かりやすく
するため、ＩＣ（パッケージ）の表面に付された文字を
検査する場合について説明する。
【００２３】まず、図３に示すように、良品のＩＣの画
像を取り込み、リファレンス画像２１Ａとして画像メモ
リに登録する。また、このリファレンス画像２１Ａのう
ちＩＣ（パッケージ）の表面部分のほぼ全体を含む領域
を登録パターン２２Ａとして登録する。登録パターン２
２Ａは、図４に示すように、Ｎ×Ｍ画素の大きさを有す
る（ステップＳＴ１〜ＳＴ２）。
像を取り込み、リファレンス画像２１Ａとして画像メモ
リに登録する。また、このリファレンス画像２１Ａのう
ちＩＣ（パッケージ）の表面部分のほぼ全体を含む領域
を登録パターン２２Ａとして登録する。登録パターン２
２Ａは、図４に示すように、Ｎ×Ｍ画素の大きさを有す
る（ステップＳＴ１〜ＳＴ２）。
【００２４】次に、図５に示すように、被検査物である
ＩＣの画像を取り込み、検査画像２１Ｂとして画像メモ
リに登録する。また、この検査画像２１ＢのうちＩＣ
（パッケージ）の表面部分のほぼ全体を含む領域を検査
パターン２２Ｂとして登録する。検査パターン２２Ｂ
は、図６に示すように、登録パターンと同じＮ×Ｍ画素
の大きさを有する（ステップＳＴ３〜ＳＴ４）。
ＩＣの画像を取り込み、検査画像２１Ｂとして画像メモ
リに登録する。また、この検査画像２１ＢのうちＩＣ
（パッケージ）の表面部分のほぼ全体を含む領域を検査
パターン２２Ｂとして登録する。検査パターン２２Ｂ
は、図６に示すように、登録パターンと同じＮ×Ｍ画素
の大きさを有する（ステップＳＴ３〜ＳＴ４）。
【００２５】次に、登録画像と検査画像についてパター
ンマッチングを行う（ステップＳＴ５）。本発明では、
登録画像及び検査画像の各画素の濃度情報を考慮しつ
つ、以下の二通りの手法によりパターンマッチングを実
行している。
ンマッチングを行う（ステップＳＴ５）。本発明では、
登録画像及び検査画像の各画素の濃度情報を考慮しつ
つ、以下の二通りの手法によりパターンマッチングを実
行している。
【００２６】第一の手法は、登録パターン（Ｎ×Ｍ画
素）の各画素の濃度をＲ（Ｉ，Ｊ）、検査パターン（Ｎ
×Ｍ画素）の各画素の濃度をＰ（Ｉ，Ｊ）と定義したと
き、以下の（１）式によりパターンマッチングの結果Ｐ
ＴＮを得るものである。
素）の各画素の濃度をＲ（Ｉ，Ｊ）、検査パターン（Ｎ
×Ｍ画素）の各画素の濃度をＰ（Ｉ，Ｊ）と定義したと
き、以下の（１）式によりパターンマッチングの結果Ｐ
ＴＮを得るものである。
【００２７】
【数１３】
【００２８】Ｉ ＝ ０，１， …，Ｎ−１ Ｊ ＝ ０，１， …，Ｍ−１ ここに、パラメータｓは、正の実数である。このパター
ンマッチングの結果ＰＴＮは、−１から１までの値とな
るため、通常の正規化によるパターンマッチングの結果
と同じように正規化されている（但し、各画素の濃度情
報を考慮している）。
ンマッチングの結果ＰＴＮは、−１から１までの値とな
るため、通常の正規化によるパターンマッチングの結果
と同じように正規化されている（但し、各画素の濃度情
報を考慮している）。
【００２９】第二の手法は、登録パターン（Ｎ×Ｍ画
素）の各画素の濃度をＲ（Ｉ，Ｊ）、平均濃度をＲａｖ
ｇ、検査パターン（Ｎ×Ｍ画素）の各画素の濃度をＰ
（Ｉ，Ｊ）、平均濃度をＰａｖｇと定義したとき、以下
の（２）式によりパターンマッチングの結果ＰＴＮを得
るものである。
素）の各画素の濃度をＲ（Ｉ，Ｊ）、平均濃度をＲａｖ
ｇ、検査パターン（Ｎ×Ｍ画素）の各画素の濃度をＰ
（Ｉ，Ｊ）、平均濃度をＰａｖｇと定義したとき、以下
の（２）式によりパターンマッチングの結果ＰＴＮを得
るものである。
【００３０】
【数１４】
【００３１】Ｉ ＝ ０，１， …，Ｎ−１ Ｊ ＝ ０，１， …，Ｍ−１ ここに、パラメータｓは、正の実数である。このパター
ンマッチングの結果ＰＴＮは、−１から１までの値とな
るため、通常の正規化によるパターンマッチングの結果
と同じように正規化されている（但し、各画素の濃度情
報を考慮している）。
ンマッチングの結果ＰＴＮは、−１から１までの値とな
るため、通常の正規化によるパターンマッチングの結果
と同じように正規化されている（但し、各画素の濃度情
報を考慮している）。
【００３２】よって、以上の二通りの手法のいずれか一
方により計算した結果ＰＴＮに基づいて、被検査物の良
否の判定を行うことができる（ステップＳＴ６）。な
お、パターンマッチングの結果ＰＴＮの範囲を、０から
１までの範囲としたい場合には、さらに、以下の（３）
式に示す計算を行えばよい。 ＰＴＮ´ ＝ （ＰＴＮ＋１）／２ …（３）
方により計算した結果ＰＴＮに基づいて、被検査物の良
否の判定を行うことができる（ステップＳＴ６）。な
お、パターンマッチングの結果ＰＴＮの範囲を、０から
１までの範囲としたい場合には、さらに、以下の（３）
式に示す計算を行えばよい。 ＰＴＮ´ ＝ （ＰＴＮ＋１）／２ …（３）
【００３３】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明のパター
ンマッチングによる検査装置によれば、濃度情報を考慮
したパターンマッチングを行っている。よって、ＩＣ
（パッケージ）の表面の文字の検査など、被検査物の濃
度ムラ（所定領域の濃度の均一性）を検査するのに非常
に適している。即ち、濃度情報を考慮したパターンマッ
チングでは、文字のかすれなどが存在する場合にパター
ンマッチングの結果が小さくなり、不良品と判断される
可能性が高くなる。
ンマッチングによる検査装置によれば、濃度情報を考慮
したパターンマッチングを行っている。よって、ＩＣ
（パッケージ）の表面の文字の検査など、被検査物の濃
度ムラ（所定領域の濃度の均一性）を検査するのに非常
に適している。即ち、濃度情報を考慮したパターンマッ
チングでは、文字のかすれなどが存在する場合にパター
ンマッチングの結果が小さくなり、不良品と判断される
可能性が高くなる。
【図１】本発明の検査装置の構成の概略を示す図。
【図２】図１の検査装置の動作を示す図。
【図３】リファレンス画像を示す図。
【図４】登録パターンを示す図。
【図５】検査画像を示す図。
【図６】検査パターンを示す図。
【図７】ＩＣの表面の文字の一例を示す図。
１０ ：カメラ、 １１ ：画像処理装置、 １２ ：画像メモリ部、 １３ ：処理部、 １４ ：制御部、 １５ ：照明装置、 １６ ：被写体、 ２１Ａ ：リファレンス画像、 ２２Ａ ：登録パターン、 ２１Ｂ ：検査画像、 ２２Ｂ ：検査パターン。
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを作成する手
段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成する手段と、前
記登録パターンと前記検査パターンのパターンマッチン
グを以下の式 【数１】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを具
備することを特徴とする検査装置。 - 【請求項２】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを作成する
手段と、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成する手段と、
前記登録パターンと前記検査パターンのパターンマッチ
ングを以下の式 【数２】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得る手段と、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮに
基づいて前記検査パターンの良否を判定する手段とを具
備することを特徴とする検査装置。 - 【請求項３】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを作成するス
テップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成するステッ
プと、前記登録パターンと前記検査パターンのパターン
マッチングを以下の式 【数３】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されたことを特徴とする
記録媒体。 - 【請求項４】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンを作成するス
テップと、Ｎ×Ｍ画素の検査パターンを作成するステッ
プと、前記登録パターンと前記検査パターンのパターン
マッチングを以下の式 【数４】 に基づいて行い、前記パターンマッチングの結果ＰＴＮ
を得るステップと、前記パターンマッチングの結果ＰＴ
Ｎに基づいて前記検査パターンの良否を判定するステッ
プとからなるプログラムが記録されたことを特徴とする
記録媒体。 - 【請求項５】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンとＮ×Ｍ画素
の検査パターンのパターンマッチングを以下の式 【数５】 に基づいて行うことを特徴とするパターンマッチング方
法。 - 【請求項６】 Ｎ×Ｍ画素の登録パターンとＮ×Ｍ画素
の検査パターンのパターンマッチングを以下の式 【数６】 に基づいて行うことを特徴とするパターンマッチング方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9334246A JP3038176B2 (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | パターンマッチングによる検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9334246A JP3038176B2 (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | パターンマッチングによる検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167639A JPH11167639A (ja) | 1999-06-22 |
| JP3038176B2 true JP3038176B2 (ja) | 2000-05-08 |
Family
ID=18275190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9334246A Expired - Lifetime JP3038176B2 (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | パターンマッチングによる検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3038176B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5881087B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2016-03-09 | 上野精機株式会社 | 半導体印字検査方法及びプログラム並びにその装置 |
| CN110533149B (zh) * | 2019-07-19 | 2021-08-06 | 麦斯克电子材料股份有限公司 | 一种硅片背面损伤层自动计数的方法 |
-
1997
- 1997-12-04 JP JP9334246A patent/JP3038176B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11167639A (ja) | 1999-06-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1583356B1 (en) | Image processing device and image processing program | |
| JP4160258B2 (ja) | 勾配ベースの局部輪郭線検出のための新しい知覚的しきい値決定 | |
| US7199824B2 (en) | Intelligent blemish control algorithm and apparatus | |
| JP2003256814A (ja) | 基板検査装置 | |
| JP2004239733A (ja) | 画面の欠陥検出方法及び装置 | |
| JP3366802B2 (ja) | ムラ検査方法および装置 | |
| JP3038176B2 (ja) | パターンマッチングによる検査装置 | |
| JPH0792104A (ja) | 被検査物の不良個所検査方法 | |
| JP3447572B2 (ja) | 部品の接続良否検査方法 | |
| JP3396960B2 (ja) | 塗膜劣化自動診断方法 | |
| JP2002175520A (ja) | 基板面の不良検出装置、不良検出方法、及び不良検出のためのプログラムを記録した記録媒体 | |
| JPH08254499A (ja) | 表示・外観検査装置 | |
| JP3374030B2 (ja) | Ｃｄ印刷面検査方法 | |
| JPH11281334A (ja) | 部品検査装置 | |
| JP4084257B2 (ja) | プリント基板検査装置 | |
| JP3941403B2 (ja) | 画像濃淡ムラ検出方法及びこの検査装置 | |
| JP2001235319A (ja) | シェーディング補正装置及びシェーディング補正方法及び表面検査装置 | |
| JP2004170329A (ja) | バンプ電極およびバンプ電極用ボール検査方法 | |
| JPH08159984A (ja) | パタンムラ検査装置 | |
| JP2004219072A (ja) | 画面のスジ欠陥検出方法及び装置 | |
| JP3254288B2 (ja) | スジ検査方法 | |
| JP4180127B2 (ja) | クリーム半田印刷検査装置およびクリーム半田印刷検査方法 | |
| JP4653340B2 (ja) | ３板式ｃｃｄカメラを用いた缶外観検査装置 | |
| KR100351129B1 (ko) | 주변 마스크를 이용한 인쇄불량 검사시스템 | |
| JP2003091728A (ja) | 画像濃淡ムラの検出方法 |