JP3034366B2 - カラーフィルター基板の製造方法 - Google Patents

カラーフィルター基板の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）をスイッチング素子としたアクティブマトリ
ックス型液晶表示装置に用いるカラーフィルター基板の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルター基板は例えばガラス基
板、ブラックマトリックス層、着色層、オーバーコート
層及び透明電極層より構成されるが、このうち透明電極
層はカラーフィルターの有効部分のみにスパッタリング
等の手段により形成し、外部より電圧を印加するための
給電端子を有するように任意の形状にパターニングされ
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、カラーフィ
ルターの有効部分外の露出しているオーバーコート層
は、製造工程中にきずや汚れを生じて、カラーフィルタ
ーの有効部分の汚染につながり、場合によっては、セル
を構成した後に液晶材料を汚染して表示性能を劣化させ
ることがあった。この発明は上記事情に鑑みなされたも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明は、基板上に着
色層、オーバーコート層及び透明電極層を順次積層して
カラーフィルター画素部及びその周辺の周辺部を形成し
た後、カラーフィルター画素部と前記周辺部との境界に
そって前記周辺部を切断除去するカラーフィルターの製
造方法であって、透明電極層はカラーフィルタ画素部及
び周辺部のそれぞれに配置されている。
【０００５】
【作用】この発明では、カラーフィルター画素部周辺の
周辺部上にも保護用の透明電極層を形成することによ
り、周辺部の汚れ等に起因して発生するカラーフィルタ
ー画素領域の汚染を防止することができる。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の詳細を図面を参照して説明
する。
【０００７】図１はこの発明の一実施例を示す図であ
り、図１（ａ）は図１（ｂ）のＡ−Ａ´断面に対応して
いる。図１（ａ），（ｂ）において製造工程に従って説
明すると、まず、例えばガラスからなる基板１上に、各
画素に対応して例えば顔料を分散させた樹脂ペーストか
らなる着色層２、及び例えばクロムからなるブラックマ
トリックス層３を形成する。次に、着色層２及びブラッ
クマトリックス層３上には、例えばポリイミドからなる
オーバーコート層４を形成する。続いて、オーバーコー
ト層４上には、例えばシート抵抗６０Ω／□、膜厚１５
００オングストロームのＩＴＯからなる透明電極層５を
マスクスパッターにて形成し、更に、透明電極層５はパ
ターニングしてカラーフィルター画素部と周辺の不要部
とで分離する。このとき、カラーフィルター画素部にお
ける透明電極層５には、四隅の部分に外部から電圧を印
加するための端子部分を設ける。続いて、透明電極層５
上には、例えばポリイミドからなる配向層６を形成した
後、布等を用いてラビングを施す。次に、図１（ｂ）の
点線部７に沿って切断し、カラーフィルター画素部から
周辺の不要部をカットすることにより、図１（ｃ）に示
すような所定のカラーフィルター基板が得られる。
【０００８】この実施例では、周辺の不要部にも透明電
極層５を残してオーバーコート層４を保護することによ
り、製造工程中、特にラビング時に周辺部のオーバーコ
ート層４が傷付き剥がれるのを防ぐことができる。この
結果、オーバーコート層４に起因して生じるカラーフィ
ルター画素部の汚染がなくなる。なお、周辺の不要部に
設けた透明電極層５はカラーフィルター画素部と分離さ
れているため、カラーフィルター画素部に汚染の影響を
与えることはない。
【０００９】
【発明の効果】この発明は、製造工程中に周辺の不要部
におけるオーバーコート層上を透明電極層で覆うことに
より、このオーバーコート層に起因したカラーフィルタ
ー画素領域の汚染を防止して、画質良好なアクティブマ
トリックス型液晶表示装置を得ることを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施例を示す図である。
【符号の説明】
１……基板 ２……着色層 ３……ブラックマトリックス層 ４……オーバーコート層 ５……透明電極層

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に着色層、オーバーコート層及び
    透明電極層を順次積層してカラーフィルター画素部及び
    その周辺の周辺部を形成した後、前記カラーフィルター
    画素部と前記周辺部との境界にそって前記周辺部を切断
    除去するカラーフィルターの製造方法であって、前記透
    明電極層は前記カラーフィルタ画素部及び前記周辺部の
    それぞれに配置されていることを特徴とするカラーフィ
    ルター基板の製造方法。
  2. 【請求項２】 前記透明電極層は前記境界を隔てて配置
    されることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ
    ー基板の製造方法。
  3. 【請求項３】 前記周辺部は前記基板上に前記オーバー
    コート層及び前記透明電極層が積層されて成ることを特
    徴とする請求項１記載のカラーフィルター基板の製造方
    法。
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