JP3030905B2 - Fixed point detector - Google Patents
Fixed point detectorInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学的に位置が検出さ
れるリニアエンコーダ、ロータリエンコーダ等への装備
に好適な定点検出装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fixed point detecting device suitable for installation in a linear encoder, a rotary encoder, etc., whose position is optically detected.
【０００２】[0002]
【従来の技術】この種の装置としては、リニアエンコー
ダ等に使用される原点位置検出装置が知られている。2. Description of the Related Art As this type of device, an origin position detecting device used for a linear encoder or the like is known.
【０００３】その装置では、透光部と遮光部とがランダ
ムな格子状に多数形成されたメインスケール（可動）
と、それに対応するパターンが形成されたインデックス
スケール（固定）とが備えられ、それら格子状のパター
ンの重なりが検出されることにより、原点位置が検出さ
れ、あるいは、メインスケールとインデックススケール
のそれぞれにスリットを１つ形成し、その重なりを検出
することにより、原点位置を検出する。In this device, a main scale (movable) in which a large number of light-transmitting portions and light-shielding portions are formed in a random lattice shape.
And an index scale (fixed) on which a corresponding pattern is formed, and by detecting the overlap of the lattice-like patterns, the origin position is detected, or the main scale and the index scale are respectively provided. An origin position is detected by forming one slit and detecting its overlap.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
検出方法では、メインスケールとインデックスとの間隔
を広く取れず、又検出感度を高くしようとすると光の回
折が生ずるため、原点検出信号がシャープな特性となら
ず、高感度の検出が困難である。However, in the conventional detection method, the distance between the main scale and the index cannot be widened, and when the detection sensitivity is increased, light diffraction occurs. It does not have the characteristics, and it is difficult to detect with high sensitivity.
【０００５】また、メインスケールとインデックススケ
ールとの間隔が変動した場合、光源からの光量が変動し
た場合、原点の検出位置が変化して、高精度の検出が行
なえない。In addition, when the distance between the main scale and the index scale fluctuates, and when the amount of light from the light source fluctuates, the detection position of the origin changes, and high-precision detection cannot be performed.
【０００６】本発明の目的は、スケールと検出ヘッドの
間隔が大きく取れ高感度の定点位置検出が行なえるとと
もに、光源の光量が変動した場合等においても高精度の
定点位置検出が行なえる定点検出装置を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a fixed-point position detection apparatus capable of detecting a fixed-point position with high sensitivity by taking a large distance between a scale and a detection head and performing a high-precision fixed-point position detection even when the light amount of a light source fluctuates. It is to provide a device.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明に係る定点検出装
置は、例えば図１に示すように、入射光の回折効率が測
定方向Ｘに沿って各々変化可能とされ、同一光源３Ａの
光を２つに分割させる一対の回折格子５Ａ，５Ｂと、前
記各々の回折格子５Ａ，５Ｂで回折された光が電気信号
に変換される光／電気変換器７Ａ，７Ｂと、変換された
前記電気信号のレベル値が一致したことを検出する検出
手段９と、を有するものである。According to the fixed point detecting device of the present invention, for example, as shown in FIG. 1, the diffraction efficiency of incident light can be changed along the measuring direction X, and the light of the same light source 3A can be changed. A pair of diffraction gratings 5A, 5B to be split into two, light / electric converters 7A, 7B for converting the light diffracted by the respective diffraction gratings 5A, 5B into electric signals, and the converted electric signals And a detecting means 9 for detecting that the level values of the two match.
【０００８】[0008]
【作用】本発明に係る定点検出装置では、測定方向に沿
って回折効率が変化する一対の回折格子から各々得られ
る回折光が、各々電気信号に変換され、それら電気信号
のレベル値が一致したときに、所望の定点が特定され
る。In the fixed point detecting device according to the present invention, the diffracted lights obtained from the pair of diffraction gratings whose diffraction efficiencies change along the measuring direction are respectively converted into electric signals, and the level values of the electric signals coincide with each other. Sometimes a desired fixed point is specified.
【０００９】[0009]
【実施例】以下、本発明に係る定点検出装置の好適な実
施例を図面に基いて説明する。図１には、本発明が適用
された定点検出装置１が示されており、装置１は光源系
３と、測定方向に沿って回折効率が変化する回折格子５
と、光／電気変換器（Ｏ／Ｉ変換器）７Ａ，７Ｂと、電
気処理回路９（検出手段）とを有している。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a fixed point detecting device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a fixed point detection apparatus 1 to which the present invention is applied. The apparatus 1 includes a light source system 3 and a diffraction grating 5 whose diffraction efficiency changes along a measurement direction.
And optical / electrical converters (O / I converters) 7A and 7B, and an electrical processing circuit 9 (detection means).
【００１０】光源系３では、半導体レーザ等の光源３Ａ
から出射されたレーザ光が、コリメータレンズ３Ｂ、集
光レンズ３Ｃを介して回折格子５に入射される。回折格
子５は、１対の回折格子５Ａ，５Ｂとされており、入射
されたレーザ光はそれら回折格子５Ａ，５Ｂにより分割
され、その回折光は、各々Ｏ／Ｉ変換器７Ａ，７Ｂに入
射される。The light source system 3 includes a light source 3A such as a semiconductor laser.
Is emitted to the diffraction grating 5 via the collimator lens 3B and the condenser lens 3C. The diffraction grating 5 is a pair of diffraction gratings 5A and 5B, and the incident laser light is split by the diffraction gratings 5A and 5B, and the diffracted light enters the O / I converters 7A and 7B, respectively. Is done.
【００１１】Ｏ／Ｉ変換器７Ａ，７Ｂでは、入射された
回折光が電気信号（電流Ｉ）に変換され、回路９のアン
プ９Ａ，９Ｂを介して差動増幅器９Ｃ、比較器９Ｄに入
力される。In the O / I converters 7A and 7B, the incident diffracted light is converted into an electric signal (current I) and inputted to the differential amplifier 9C and the comparator 9D via the amplifiers 9A and 9B of the circuit 9. You.
【００１２】この場合、光源系３でのレーザ光は、回折
格子５Ａ，５Ｂ上で適宜な大きさ、形状になるようにレ
ンズ３Ｂ，３Ｃで絞られ、格子面に対して垂直に入射さ
れる。In this case, the laser light from the light source system 3 is stopped down by the lenses 3B and 3C so as to have an appropriate size and shape on the diffraction gratings 5A and 5B, and is incident perpendicularly to the grating surface. .
【００１３】なお、光源系３等の構成としては、光源系
３のレーザ光が一度ミラー２によって反射されてからＯ
／Ｉ変換器５Ａ，５Ｂに入射されるものが挙げられ（図
２参照）、また、反射型の回折格子では、そのミラー２
が不要となる（図３参照）。The configuration of the light source system 3 and the like is as follows.
/ I converters 5A and 5B (see FIG. 2). In a reflection type diffraction grating, the mirror 2
Becomes unnecessary (see FIG. 3).
【００１４】一方、回折格子５Ａ，５Ｂは、図４から理
解されるように、その一部が互いに重なり合う（図中、
斜線で示されている）ように配置され、これによりレー
ザ光が両方の回折格子５Ａ，５Ｂに入射される。On the other hand, the diffraction gratings 5A and 5B partially overlap each other as understood from FIG.
(Shown by oblique lines), whereby the laser light is incident on both diffraction gratings 5A and 5B.
【００１５】この場合、レーザ光は回折格子５Ａ，５Ｂ
の格子面に対して垂直に入射される。In this case, the laser light is transmitted through the diffraction gratings 5A and 5B.
Incident perpendicularly to the lattice plane of.
【００１６】そして、両方の回折格子５Ａ，５Ｂの回折
効率が等しくなる位置Ｐを中心に、測定方向Ｘに沿って
回折効率が対称となるように設定されている（図５参
照）。The diffraction efficiencies of both diffraction gratings 5A and 5B are set to be symmetrical along the measurement direction X about a position P where the diffraction efficiencies are equal (see FIG. 5).
【００１７】従って、それら回折格子５Ａ，５Ｂからの
回折光をＯ／Ｉ変換して得られた電流Ｉがアンプ９Ａ，
９Ｂで電流電圧変換され差動増幅回路９Ｃに入力される
と、図６から理解されるように、極大値、極小値を有す
るＸ−Ｖ（電圧）曲線が得られ、そのＸ−Ｖ曲線のゼロ
クロス点Ｓが求める定点に対応する。なお、回折格子５
Ａ，５Ｂは、全て重ねても良く（図７参照）、また、図
８、図９から理解されるように、隣接させて配置する構
成も好適である。Therefore, the current I obtained by O / I conversion of the diffracted light from the diffraction gratings 5A and 5B is supplied to the amplifier 9A,
When the current-voltage conversion is performed at 9B and input to the differential amplifier circuit 9C, as can be understood from FIG. 6, an XV (voltage) curve having a maximum value and a minimum value is obtained. The zero cross point S corresponds to the fixed point to be obtained. The diffraction grating 5
A and 5B may all be overlapped (see FIG. 7), and a configuration in which they are arranged adjacent to each other is also preferable, as understood from FIGS.
【００１８】そして、回折格子５Ａ，５Ｂが隣接される
場合、図１０から理解されるように、Ｘ方向以外のＹ方
向（図中、斜線で示された部分）の影響が検出に出ない
ようにする（図１２中、実線で示された曲線）。When the diffraction gratings 5A and 5B are adjacent to each other, as will be understood from FIG. 10, the influence in the Y direction other than the X direction (the hatched portion in the figure) is not detected. (A curve shown by a solid line in FIG. 12).
【００１９】すなわち、図１２から理解されるように、
レーザ光の照射部分（図中、斜線で示された部分）が小
さいと、図１１中点線で示されたＸ−Ｉ曲線となり、位
置Ｐがずれてしまうので、レーザ光の照射部分をＹ方向
に大きくすることが必要である。That is, as understood from FIG.
If the portion irradiated with the laser beam (the portion shown by oblique lines in the drawing) is small, the XI curve shown by the dotted line in FIG. 11 is obtained, and the position P is shifted. It is necessary to increase it.
【００２０】以上説明したように、この実施例では、回
折格子５Ａ，５Ｂからの回折光をＯ／Ｉ変換して得られ
る電流Ｉが電気処理回路９で電圧変化に変換され、その
Ｘ−Ｖ曲線のゼロクロス点Ｓが原点位置と対応する点と
して検出される。As described above, in this embodiment, the current I obtained by O / I conversion of the diffracted light from the diffraction gratings 5A and 5B is converted into a voltage change by the electric processing circuit 9, and its XV The zero cross point S of the curve is detected as a point corresponding to the origin position.
【００２１】従って、検出点の検出信号が明確（シャー
プ）であるため、定点検出が高感度で行なえる。Therefore, since the detection signal of the detection point is clear (sharp), the fixed point can be detected with high sensitivity.
【００２２】また、レーザ光が格子面に対して垂直に入
射されるので、格子面が自身の面方向に沿って移動した
場合にも、検出点Ｓの変化が無く高精度の検出が行なえ
る。Further, since the laser beam is perpendicularly incident on the lattice plane, even when the lattice plane moves along its own plane direction, the detection point S does not change and high-precision detection can be performed. .
【００２３】この場合、格子面に対して斜め方向からレ
ーザ光が入射されると、図１３から理解されるように、
検出点Ｓが変化する。In this case, when the laser beam is incident obliquely to the lattice plane, as understood from FIG.
The detection point S changes.
【００２４】さらに、回折効率は点Ｐを中心として対称
に変化するので、光源３Ａの光量が変化した場合（図１
４）、光源３Ａの光波長が変化した場合（図１５）、お
よびレーザ光の焦点位置が変動した場合（図１６）にお
いても、検出点Ｓが変化せず、一方向のみの安定、かつ
高精度な検出が可能である。Further, since the diffraction efficiency changes symmetrically with respect to the point P, when the light amount of the light source 3A changes (FIG. 1).
4) Even when the light wavelength of the light source 3A changes (FIG. 15) and when the focal position of the laser light changes (FIG. 16), the detection point S does not change and is stable and high in only one direction. Accurate detection is possible.
【００２５】加えて、回折格子５Ａ，５Ｂとして、体積
型ホログラムを使用することにより、体積型ホログラム
が装備されたリニアエンコーダ用のスケールと同一の製
造プロセスで原点（定点）の作成が行なえるので、体積
型ホログラムを用いたリニアエンコーダに容易に原点パ
ターンを形成できるとともに、体積型の位相ホログラム
を用いることにより、より高い感度（Ｓ／Ｎ比）を得る
ことができる。In addition, by using a volume hologram as the diffraction gratings 5A and 5B, the origin (fixed point) can be created in the same manufacturing process as a scale for a linear encoder equipped with a volume hologram. In addition, an origin pattern can be easily formed on a linear encoder using a volume hologram, and higher sensitivity (S / N ratio) can be obtained by using a volume phase hologram.
【００２６】また、リニアエンコーダの原点を特定する
場合、スケールと検出ヘッドとの間隔が大きくとれるの
で、スケール装置の設計自由度が向上される。When the origin of the linear encoder is specified, the distance between the scale and the detection head can be increased, so that the degree of freedom in designing the scale device is improved.
【００２７】次に、上記実施例の定点検出装置１で回折
格子５Ａ，５Ｂが製作される原理について説明する。Next, the principle on which the diffraction gratings 5A and 5B are manufactured by the fixed point detecting device 1 of the above embodiment will be described.
【００２８】装置１では、可干渉性の光源３Ａと、一対
の回折格子５Ａ，５Ｂ，Ｏ／Ｉ変換器７Ａ，７Ｂ等が設
けられており、回折格子５Ａ，５Ｂは、測定方向Ｘに沿
って回折効率が変化する。The apparatus 1 includes a coherent light source 3A, a pair of diffraction gratings 5A and 5B, and O / I converters 7A and 7B. The diffraction gratings 5A and 5B are arranged along the measurement direction X. The diffraction efficiency changes.
【００２９】そこで、そのような回折格子の一例とし
て、透過型の体積型ホログラムが使用される場合につい
て説明する。Therefore, a case where a transmission type volume hologram is used as an example of such a diffraction grating will be described.
【００３０】Ｈ．Ｋｏｇｅｌｎｉｋ，Ｂｅｌｌｓｙｓ
ｔ．Ｔｅｃｈ．Ｊ．４８，２９０９（１９６９）に記載
されたＫｏｇｅｌｉｎｋの論文によると、この種のタイ
プのホログラムでは、回析効率ηが下式数１で与えられ
る。H. Kogelnik, Bellsys
t. Tech. J. 48, 2909 (1969), Kogellink's paper describes that for this type of hologram, the diffraction efficiency η is given by
【００３１】[0031]
【数１】η＝Ｓｉｎ2 ｛（υ2 ＋ξ2 ）1/2 ｝／（１＋
ξ2 ／υ2 ）Η = Sin 2 ｛(υ 2 + ξ 2 ) 1/2 ｝ / (1+
ξ 2 / υ 2 )
【００３２】ここで、υ、ξはパラメータとして用いら
れており、各々下式数２で与えられる。Here, υ and ξ are used as parameters, and are given by the following equations, respectively.
【数２】 υ＝πｎ1 ｄ／λ（ＣR ＣS ）1/2 ξ＝ΔθＫｄＳｉｎ（φ−θO ）／２ＣS ＝−ΔλＫ2 ｄ／８πｎＣS [Number 2] υ = πn 1 d / λ ( C R C S) 1/2 ξ = ΔθKdSin (φ-θ O) / 2C S = -ΔλK 2 d / 8πnC S
【００３３】ただし、 ＣR ＝Ｃｏｓθ ＣS ＝Ｃｏｓθ−（Ｋ／β）Ｃｏｓφ Ｋ＝２π／Λ β＝２πｎ／λWhere C R = Cos θ C S = Cos θ- (K / β) Cos φ K = 2π / Λ β = 2πn / λ
【００３４】ここで、Λ：格子ピッチ、λ：入射光の波
長、Δθ：ブラッグ条件を満足する入射角からのずれ、
Δλ：ブラッグ条件を満足する入射光の波長からのず
れ、θ O ：ブラッグ条件を満足する入射角、ｎ：回折格
子の屈折率、ｎ1 ：回折格子の屈折率の変化量である。Here, Λ: grating pitch, λ: wave of incident light
Length, Δθ: deviation from the incident angle that satisfies the Bragg condition,
Δλ: deviation from the wavelength of incident light that satisfies the Bragg condition
And θ O: Incident angle satisfying the Bragg condition, n: Diffraction pattern
The refractive index of the child, n1: The amount of change in the refractive index of the diffraction grating.
【００３５】従って上記数１、数２から、パラメータ
υ、またはξが変化されると、回折効率ηが変化される
ことがわかる。Therefore, it can be seen from the above equations 1 and 2 that when the parameter と or ξ is changed, the diffraction efficiency η is changed.
【００３６】そして、図１７において、ホログラムを露
光する際の露光パワーの変化、記録媒質αの厚みｄ、格
子面の傾きφ等が変化されると、パラメータυが変化さ
れる。In FIG. 17, when the change of the exposure power when exposing the hologram, the thickness d of the recording medium α, the inclination φ of the lattice plane, and the like are changed, the parameter υ is changed.
【００３７】一方、格子ピッチΛ、格子の傾き等が変化
されるとパラメータξが変化される。On the other hand, when the grating pitch Λ, the inclination of the grating, etc. are changed, the parameter ξ is changed.
【００３８】従って、入射光の波長及び入射角度が一定
であるとすると測定方向に沿って回折効率が変化する回
折格子は、その測定方向に沿って漸次パラメータυ、ξ
が変化するものであることが理解される。Therefore, if the wavelength and the incident angle of the incident light are constant, the diffraction grating whose diffraction efficiency changes along the measurement direction has the gradual parameters υ, ξ along the measurement direction.
Is understood to change.
【００３９】そこで、図１８から理解されるように、円
筒波面を有する光ビームＡと、平面波面を有する平行ビ
ームＢとが干渉されて、ホログラムとして記録される
と、Ｘ方向（測定方向）に沿って格子ピッチと格子の傾
きが変化する（格子ベクトルＫの方向が変化する）回折
格子が得られる（図１９参照）。Therefore, as can be understood from FIG. 18, when the light beam A having a cylindrical wavefront and the parallel beam B having a plane wavefront interfere with each other and are recorded as a hologram, they are moved in the X direction (measurement direction). A diffraction grating along which the grating pitch and the gradient of the grating change (the direction of the grating vector K changes) is obtained (see FIG. 19).
【００４０】従って、図２０から理解されるように、光
ビームが照射されると、回折効率は、格子ピッチ、格子
の傾きの変化によって変化されるので、図２０に示され
たように、Ｘ方向に沿って変化する電圧Ｖが得られる。Therefore, as can be understood from FIG. 20, when the light beam is irradiated, the diffraction efficiency is changed by the change of the grating pitch and the inclination of the grating. As shown in FIG. A voltage V that varies along the direction is obtained.
【００４１】なお、透過型のものに代えて、反射型の体
積型ホログラムを使用することも好適であり（図２２参
照）、この場合、平行ビームＢが記録面と反対の面側か
ら入射される。It is also preferable to use a reflection type volume hologram instead of the transmission type one (see FIG. 22). In this case, the parallel beam B is incident from the side opposite to the recording surface. You.
【００４２】また、干渉させる波面は、２つの円筒波面
であっても良い。The wavefront to be interfered may be two cylindrical wavefronts.
【００４３】[0043]
【発明の効果】以上の説明で理解されるように、本発明
に係る定点検出装置では、測定方向に沿って回折効率の
変化する一対の回折格子から各々得られる回折光が、各
々電気信号に変換され、それら電気信号のレベル値が一
致したときに、所望の定点が特定される。従って、定点
位置検出信号がシャープな特性を有するため、定点位置
検出が高感度で行なえる。また、光源からの光量、ある
いは光波長変動や、検出する方向以外の方向への変動に
よる定点位置変動が極めて少なく、高精度な位置検出が
可能である。As will be understood from the above description, in the fixed point detecting device according to the present invention, the diffracted light obtained from each of the pair of diffraction gratings whose diffraction efficiency changes along the measurement direction is converted into an electric signal. The conversion is performed, and when the level values of the electric signals match, a desired fixed point is specified. Therefore, the fixed point position detection signal has sharp characteristics, so that the fixed point position detection can be performed with high sensitivity. In addition, a fixed point position change due to a light amount or a light wavelength change from the light source or a change in a direction other than the detection direction is extremely small, and highly accurate position detection is possible.
【図１】本発明が好適とされた定点検出装置の全体概略
構成図である。FIG. 1 is an overall schematic configuration diagram of a fixed point detection device according to the present invention.
【図２】光源系の他の例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing another example of the light source system.
【図３】光源系の他の例を示す構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram showing another example of the light source system.
【図４】回折格子の配置例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory view showing an example of the arrangement of diffraction gratings.
【図５】Ｘ−Ｉ曲線を示す特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram showing an XI curve.
【図６】Ｘ−Ｖ曲線を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing an XV curve.
【図７】回折格子の配置例を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of the arrangement of diffraction gratings.
【図８】回折格子の配置例を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing an example of the arrangement of diffraction gratings.
【図９】回折格子の配置例を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of the arrangement of diffraction gratings.
【図１０】光照射範囲の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a light irradiation range.
【図１１】Ｘ−Ｉ曲線を示す特性図である。FIG. 11 is a characteristic diagram showing an XI curve.
【図１２】光照射範囲の説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a light irradiation range.
【図１３】定点が変動した様子を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a state where a fixed point has changed.
【図１４】光量が変化した場合のＸ−Ｉ曲線である。FIG. 14 is an XI curve when the amount of light changes.
【図１５】光波長が変化した場合のＸ−Ｉ曲線である。FIG. 15 is an XI curve when the light wavelength changes.
【図１６】焦点が変化した場合のＸ−Ｉ曲線である。FIG. 16 is an XI curve when the focus changes.
【図１７】パラメータの説明図である。FIG. 17 is an explanatory diagram of parameters.
【図１８】透過型の体積型ホログラムで光干渉を示す説
明図である。FIG. 18 is an explanatory diagram showing light interference in a transmission type volume hologram.
【図１９】回折効率変化の説明図である。FIG. 19 is an explanatory diagram of a change in diffraction efficiency.
【図２０】回折効率変化等の説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram of a change in diffraction efficiency and the like.
【図２１】Ｘ−Ｖ曲線を示す説明図である。FIG. 21 is an explanatory diagram showing an XV curve.
【図２２】反射型の体積型ホログラムでの光干渉を示す
説明図である。FIG. 22 is an explanatory view showing light interference in a reflection type volume hologram.
１ 定点検出装置 ３ 光源系 ３Ａ 光源 ５Ａ，５Ｂ 回折格子 ７Ａ，７Ｂ 光／電気変換器 ９ 電気処理回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Fixed point detection device 3 Light source system 3A Light source 5A, 5B Diffraction grating 7A, 7B Light / electricity converter 9 Electric processing circuit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−76427（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−261821（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−277926（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−280215（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01D 5/26 - 5/38 G01B 11/00 - 11/30 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-49-76427 (JP, A) JP-A-3-261821 (JP, A) JP-A-63-277926 (JP, A) JP-A-1- 280215 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G01D 5/26-5/38 G01B 11/00-11/30
Claims (1)
々変化可能とされ、同一光源の光を２つに分割させる一
対の回折格子と、前記各々の回折格子で回折された光が
電気信号に変換される光／電気変換器と、変換された前
記電気信号のレベル値が一致したことを検出する検出手
段と、を有することを特徴とする定点検出装置。The diffraction efficiency of incident light can be varied along the measurement direction. A pair of diffraction gratings for splitting light of the same light source into two, and the light diffracted by each of the diffraction gratings is electrically operated. A fixed-point detection device comprising: an optical / electrical converter that is converted into a signal; and detection means for detecting that the level values of the converted electric signal match.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3094366A JP3030905B2 (en) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | Fixed point detector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3094366A JP3030905B2 (en) | 1991-04-24 | 1991-04-24 | Fixed point detector |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04324316A JPH04324316A (en) | 1992-11-13 |
| JP3030905B2 true JP3030905B2 (en) | 2000-04-10 |
Family
ID=14108317
Family Applications (1)
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