JP3030662B2 - ガス添加装置及び方法 - Google Patents
ガス添加装置及び方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガス添加装置及び方法
に関し、詳しくはガス精製装置において特定成分を反応
除去するための反応ガスを添加する場合または混合ガス
を製造供給する場合等のように、添加ガス量を正確に制
御することが望ましい機器装置に用いるのに好適なガス
添加装置及び方法に関する。
に関し、詳しくはガス精製装置において特定成分を反応
除去するための反応ガスを添加する場合または混合ガス
を製造供給する場合等のように、添加ガス量を正確に制
御することが望ましい機器装置に用いるのに好適なガス
添加装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、連続的に供給されるガス（以
下、原料ガスと称する）に、他のガス（以下、添加ガス
と称する）を添加する場合には、原料ガスの流量を測定
しながら、該流量に応じた添加ガス量を添加するように
している。
下、原料ガスと称する）に、他のガス（以下、添加ガス
と称する）を添加する場合には、原料ガスの流量を測定
しながら、該流量に応じた添加ガス量を添加するように
している。
【０００３】また、原料ガス中の不純物成分を除去する
ガス精製装置では、原料ガス中の不純物成分の量を連続
的に測定し、該不純物成分と反応するガスを、理論量よ
り僅かに多く加えて不純物成分と反応させ、反応生成物
を除去することにより原料ガスの精製を行っている。
ガス精製装置では、原料ガス中の不純物成分の量を連続
的に測定し、該不純物成分と反応するガスを、理論量よ
り僅かに多く加えて不純物成分と反応させ、反応生成物
を除去することにより原料ガスの精製を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ガス添加方法は、原料ガス供給管から供給される原料ガ
スの量や不純物成分の量などの必要なデータを測定し、
該測定値に基づいて添加量を算出しているが、この添加
量の算出は、例えば不純物成分を理論的に反応除去でき
る添加量に、所定の余剰分を加えるかたちで行われてい
る。そして、この余剰分の算出は、演算式中で適当な係
数を用いて計算を行っているが、用いる係数は、固定あ
るいは半固定式であり、自動的に係数変更を行うもので
もバッチ式である。
ガス添加方法は、原料ガス供給管から供給される原料ガ
スの量や不純物成分の量などの必要なデータを測定し、
該測定値に基づいて添加量を算出しているが、この添加
量の算出は、例えば不純物成分を理論的に反応除去でき
る添加量に、所定の余剰分を加えるかたちで行われてい
る。そして、この余剰分の算出は、演算式中で適当な係
数を用いて計算を行っているが、用いる係数は、固定あ
るいは半固定式であり、自動的に係数変更を行うもので
もバッチ式である。
【０００５】このため、ガス添加の制御用に使用される
各種検出計器や操作機器に定常的に存在する誤差、及び
これら計器や機器の負荷変動，環境変化または経年劣化
等による特性の変化により、プロセスの大幅かつ高速度
な変動に適確な追従が困難となり、制御精度が低下する
ことがあった。従って、例えばガス精製装置では、不純
物除去の信頼性を増す目的で、上記余剰分を算出する演
算係数に高めの安全率を組み込むこととなり、添加ガス
の無駄を生じることになる。
各種検出計器や操作機器に定常的に存在する誤差、及び
これら計器や機器の負荷変動，環境変化または経年劣化
等による特性の変化により、プロセスの大幅かつ高速度
な変動に適確な追従が困難となり、制御精度が低下する
ことがあった。従って、例えばガス精製装置では、不純
物除去の信頼性を増す目的で、上記余剰分を算出する演
算係数に高めの安全率を組み込むこととなり、添加ガス
の無駄を生じることになる。
【０００６】そこで本発明は、演算制御における演算係
数を、プロセスの目標に対して連続かつ適確に追従させ
て変更し、プロセスの無駄を無くすことができるガス添
加装置及び方法を提供することを目的としている。
数を、プロセスの目標に対して連続かつ適確に追従させ
て変更し、プロセスの無駄を無くすことができるガス添
加装置及び方法を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明のガス添加装置は、第１の構成は、ガス供
給管から供給される原料ガスに他のガスを添加するガス
添加装置において、前記ガス供給管の原料ガス量を測定
する流量計と、流量計の測定値に対応する添加ガス量を
算出して該添加ガス量に所定の余剰添加ガス量を加えた
値を算出する演算器と、該演算器の出力値に基づいて添
加ガスを原料ガスに添加するガス添加手段と、該ガス添
加手段導出後のガス中の前記添加ガスの濃度を測定する
分析計とを有し、前記演算器は、該分析計で得られた添
加ガスの濃度に応じて前記余剰添加ガス量を算出する演
算部を備えていることを特徴としている。
ため、本発明のガス添加装置は、第１の構成は、ガス供
給管から供給される原料ガスに他のガスを添加するガス
添加装置において、前記ガス供給管の原料ガス量を測定
する流量計と、流量計の測定値に対応する添加ガス量を
算出して該添加ガス量に所定の余剰添加ガス量を加えた
値を算出する演算器と、該演算器の出力値に基づいて添
加ガスを原料ガスに添加するガス添加手段と、該ガス添
加手段導出後のガス中の前記添加ガスの濃度を測定する
分析計とを有し、前記演算器は、該分析計で得られた添
加ガスの濃度に応じて前記余剰添加ガス量を算出する演
算部を備えていることを特徴としている。
【０００８】また、第２の構成は、原料ガス中に含まれ
る特定成分の量に応じてガス添加量を制御するもので、
前記原料ガス中の特定成分の濃度を測定する第１分析計
と、添加後の混合ガス中の添加ガスまたは特定成分の濃
度を測定する第２分析計とを備え、該第２分析計の測定
値に応じて添加ガス量を制御するようにしている。
る特定成分の量に応じてガス添加量を制御するもので、
前記原料ガス中の特定成分の濃度を測定する第１分析計
と、添加後の混合ガス中の添加ガスまたは特定成分の濃
度を測定する第２分析計とを備え、該第２分析計の測定
値に応じて添加ガス量を制御するようにしている。
【０００９】さらに、第３の構成は、上記特定成分と反
応するガスを添加する場合であって、反応器導出後の添
加ガスまたは特定成分の濃度を測定する第２分析計を備
え、該第２分析計の測定値に応じて添加ガス量を制御す
るようにしている。
応するガスを添加する場合であって、反応器導出後の添
加ガスまたは特定成分の濃度を測定する第２分析計を備
え、該第２分析計の測定値に応じて添加ガス量を制御す
るようにしている。
【００１０】また、本発明のガス添加方法は、原料ガス
中の特定成分の量に応じてガスを添加する方法におい
て、前記原料ガス中の特定成分の量に対応する添加ガス
量に所定の余剰添加ガス量を加えた添加ガスを前記原料
ガスに添加するとともに、添加後のガス中の前記添加ガ
スの濃度を測定して、該濃度に応じて前記余剰添加ガス
量を算出することを特徴としている。
中の特定成分の量に応じてガスを添加する方法におい
て、前記原料ガス中の特定成分の量に対応する添加ガス
量に所定の余剰添加ガス量を加えた添加ガスを前記原料
ガスに添加するとともに、添加後のガス中の前記添加ガ
スの濃度を測定して、該濃度に応じて前記余剰添加ガス
量を算出することを特徴としている。
【００１１】
【作 用】上記構成によれば、添加ガスを添加した後の
原料ガス中の余剰添加ガスの量に応じて余剰添加ガス量
を算出する演算係数を補正するので、過剰添加分を低減
することができる。
原料ガス中の余剰添加ガスの量に応じて余剰添加ガス量
を算出する演算係数を補正するので、過剰添加分を低減
することができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を、図面に基づいて、さらに詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１３】まず、図１は本発明の基本的な制御系統の
一例を示すもので、反応器または混合器１に導入される
原料ガスの供給管２には、原料ガスの流量を測定する流
量計Ｆ１Ｔ及び組成を検出する分析計Ｑ１Ｔが設けられ
ており、原料ガスの流量信号 ｆ １ 及び組成信号ｑ １ が
演算器３に出力されている。演算器３では、この流量信
号ｆ １ 及び組成信号ｑ １ から、例えば下記の式(1)
により添加ガス量信号Ｓv を算出して添加ガスの流量調
節系４に出力する。
一例を示すもので、反応器または混合器１に導入される
原料ガスの供給管２には、原料ガスの流量を測定する流
量計Ｆ１Ｔ及び組成を検出する分析計Ｑ１Ｔが設けられ
ており、原料ガスの流量信号 ｆ １ 及び組成信号ｑ １ が
演算器３に出力されている。演算器３では、この流量信
号ｆ １ 及び組成信号ｑ １ から、例えば下記の式(1)
により添加ガス量信号Ｓv を算出して添加ガスの流量調
節系４に出力する。
【００１４】 Ｓv ＝Ｋ・ｑ1 ・ｆ1 （１＋α・β）・・・(1) （式中、Ｋ，α及びβは、添加ガス量を求めるための係
数である。） 即ち、式(1) においては、前半の［Ｋ・ｑ1 ・ｆ1 ］で
添加ガスの理論量が求められ、式後半の［α・β］で所
定の余剰添加量が求められる。
数である。） 即ち、式(1) においては、前半の［Ｋ・ｑ1 ・ｆ1 ］で
添加ガスの理論量が求められ、式後半の［α・β］で所
定の余剰添加量が求められる。
【００１５】添加ガスは、流量計Ｆ２Ｔ，流量調節器Ｆ
２Ｃ，流量調節弁４ａから構成される流量調節系４で、
上記添加ガス量信号Ｓv に基づいて流量調整され、前記
反応器または混合器１に導入される。
２Ｃ，流量調節弁４ａから構成される流量調節系４で、
上記添加ガス量信号Ｓv に基づいて流量調整され、前記
反応器または混合器１に導入される。
【００１６】反応器または混合器１から導出される精製
ガスあるいは混合ガスの導出管５には、精製ガスあるい
は混合ガスの組成を検出する分析計Ｑ２Ｔと、精製ガス
あるいは混合ガスの品質目標値が設定されている調節計
Ｑ２Ｃとが設けられており、調節計Ｑ２Ｃは、分析計Ｑ
２Ｔの測定値と品質目標値とからフィードバック制御演
算を行い、その出力を補正用信号Ｍv として前記演算器
３に出力する。
ガスあるいは混合ガスの導出管５には、精製ガスあるい
は混合ガスの組成を検出する分析計Ｑ２Ｔと、精製ガス
あるいは混合ガスの品質目標値が設定されている調節計
Ｑ２Ｃとが設けられており、調節計Ｑ２Ｃは、分析計Ｑ
２Ｔの測定値と品質目標値とからフィードバック制御演
算を行い、その出力を補正用信号Ｍv として前記演算器
３に出力する。
【００１７】この補正用信号Ｍv を受けた演算器３は、
例えば下記の式(2) により添加ガス量信号Ｓv の補正を
行う。
例えば下記の式(2) により添加ガス量信号Ｓv の補正を
行う。
【００１８】 Ｓv ＝Ｋ・ｑ1 ・ｆ1 ｛１＋α（β＋Ｍv ）｝・・・(2) 即ち、式後半の余剰添加量を求める係数部分［α（β＋
Ｍv ）］の係数βに補正用信号Ｍv を加算することによ
り、先に算出して流量調節器Ｆ２Ｃに出力した添加ガス
量信号Ｓv を補正し、新たな添加ガス量信号Ｓv を出力
する。
Ｍv ）］の係数βに補正用信号Ｍv を加算することによ
り、先に算出して流量調節器Ｆ２Ｃに出力した添加ガス
量信号Ｓv を補正し、新たな添加ガス量信号Ｓv を出力
する。
【００１９】さらに、添加ガス量信号Ｓv が変化したこ
とにより変化する導出管５内の組成を分析計Ｑ２Ｔで測
定し、調節計Ｑ２Ｃから出力される新たな補正用信号Ｍ
v を用いて連続的に新たな添加ガス量信号Ｓv を計算す
る。
とにより変化する導出管５内の組成を分析計Ｑ２Ｔで測
定し、調節計Ｑ２Ｃから出力される新たな補正用信号Ｍ
v を用いて連続的に新たな添加ガス量信号Ｓv を計算す
る。
【００２０】このように、原料ガスの流量，組成に基づ
いて設定された添加ガス量を、添加後の組成に従って補
正するようにしたので、余剰添加分を低減して添加ガス
の無駄を防止できる。
いて設定された添加ガス量を、添加後の組成に従って補
正するようにしたので、余剰添加分を低減して添加ガス
の無駄を防止できる。
【００２１】次に、本発明を、空気液化分離装置におけ
るアルゴン精製設備に適用した一実施例を図２に基づい
て説明する。
るアルゴン精製設備に適用した一実施例を図２に基づい
て説明する。
【００２２】アルゴン精製設備は、空気液化分離装置本
体部から得られる粗アルゴン中に数％含まれる酸素を除
去するものであって、粗アルゴンに水素を添加して酸素
と反応させ、生成した水分を除去するものである。尚、
前記図１と同一要素のものには同一符号を付して、その
詳細な説明は省略する。
体部から得られる粗アルゴン中に数％含まれる酸素を除
去するものであって、粗アルゴンに水素を添加して酸素
と反応させ、生成した水分を除去するものである。尚、
前記図１と同一要素のものには同一符号を付して、その
詳細な説明は省略する。
【００２３】原料ガスである粗アルゴンは、供給管２か
ら精製器１０に供給され、該粗アルゴンの流量が流量計
Ｆ１Ｔで測定されるとともに、粗アルゴン中の酸素含有
量が分析計Ｑ１Ｔで測定される。流量信号ｆ １ 及び酸
素含有量信号ｑ １ は、演算器３に送られ、演算器３
は、前記式(1) に基づいて設定された下記の式(3) によ
り水素添加量信号Ｓv を算出する。
ら精製器１０に供給され、該粗アルゴンの流量が流量計
Ｆ１Ｔで測定されるとともに、粗アルゴン中の酸素含有
量が分析計Ｑ１Ｔで測定される。流量信号ｆ １ 及び酸
素含有量信号ｑ １ は、演算器３に送られ、演算器３
は、前記式(1) に基づいて設定された下記の式(3) によ
り水素添加量信号Ｓv を算出する。
【００２４】 Ｓv ＝２・ｑ1 ・ｆ1 ｛１＋α（１＋ｘ）｝ ・・・(3) 上記式(3) において、［２］は酸素除去の反応が酸素１
モルに対して水素２モルで行われるための係数であり、
［２・ｑ1 ・ｆ1 ］で水素の理論量が算出される。
［１］は１％の余剰水素を加えるための設定値であり、
ｘは後述の補正値である。αは係数である。
モルに対して水素２モルで行われるための係数であり、
［２・ｑ1 ・ｆ1 ］で水素の理論量が算出される。
［１］は１％の余剰水素を加えるための設定値であり、
ｘは後述の補正値である。αは係数である。
【００２５】例えば、流量が３００Ｎｍ3 ／ｈ、酸素濃
度が５％とすると、［２・ｑ1 ・ｆ1 ］より理論水素量
が３０Ｎｍ3 ／ｈであり、補正値ｘが［０］の場合は、
［α（１＋ｘ）］から０．３Ｎｍ3 ／ｈが得られ、水素
添加量信号Ｓv として、３０．３Ｎｍ3 ／ｈが算出され
る（この場合のαは［（２・ｑ1 ・ｆ1 ）／１００］で
ある）。
度が５％とすると、［２・ｑ1 ・ｆ1 ］より理論水素量
が３０Ｎｍ3 ／ｈであり、補正値ｘが［０］の場合は、
［α（１＋ｘ）］から０．３Ｎｍ3 ／ｈが得られ、水素
添加量信号Ｓv として、３０．３Ｎｍ3 ／ｈが算出され
る（この場合のαは［（２・ｑ1 ・ｆ1 ）／１００］で
ある）。
【００２６】水素添加量信号Ｓv は、前記同様に流量調
節器Ｆ２Ｃに送られ、流量調節器Ｆ２Ｃが流量計Ｆ２Ｔ
の流量信号に従って水素流量調節弁４ａの開度を調節し
て設定された量の水素を精製器１０に導入する。
節器Ｆ２Ｃに送られ、流量調節器Ｆ２Ｃが流量計Ｆ２Ｔ
の流量信号に従って水素流量調節弁４ａの開度を調節し
て設定された量の水素を精製器１０に導入する。
【００２７】精製器１０は、粗アルゴンと水素を混合す
る混合器，酸素と水素を反応させる触媒筒等の反応器，
反応により生成した水分を吸着などにより除去する乾燥
器等により構成されており、該精製器１０からは、酸素
が除去され、余剰に添加された水素を含む精製アルゴン
が導出される。
る混合器，酸素と水素を反応させる触媒筒等の反応器，
反応により生成した水分を吸着などにより除去する乾燥
器等により構成されており、該精製器１０からは、酸素
が除去され、余剰に添加された水素を含む精製アルゴン
が導出される。
【００２８】精製アルゴンを導出する導出管５に設けら
れた分析計Ｑ２Ｔでは、上記精製アルゴン中に含まれる
水素濃度ｑＨが測定され、調節計Ｑ２Ｃに出力される。
調節計Ｑ２Ｃでは、設定された余剰水素量１％と水素濃
度ｑＨとのフィードバック制御演算が行われ、制御用出
力信号Ｍv が出力される。この制御用出力信号Ｍv は、
水素濃度ｑＨが低ければ小さな値が、水素濃度ｑＨが高
ければ大きな値が出力される。
れた分析計Ｑ２Ｔでは、上記精製アルゴン中に含まれる
水素濃度ｑＨが測定され、調節計Ｑ２Ｃに出力される。
調節計Ｑ２Ｃでは、設定された余剰水素量１％と水素濃
度ｑＨとのフィードバック制御演算が行われ、制御用出
力信号Ｍv が出力される。この制御用出力信号Ｍv は、
水素濃度ｑＨが低ければ小さな値が、水素濃度ｑＨが高
ければ大きな値が出力される。
【００２９】上記調節計Ｑ２Ｃからの出力信号Ｍv は、
副演算器３ａに送られ、該副演算器３ａで前記演算器３
の式(3) における補正値ｘに変換されて演算器３に導入
される。この補正値ｘは、出力信号Ｍv の目標値と現在
の出力信号Ｍv とを比較演算した結果、両者が一致した
ときに［０］を出力し、出力信号Ｍv が大きければマイ
ナスの値を、出力信号Ｍv が小さければプラスの値を出
力するよう予め設定しておく。例えば、水素添加量が多
く、前記精製アルゴン中の水素濃度ｑＨが１％より高い
場合は、出力信号Ｍv の大きな信号により補正値ｘが現
在より小さい値に設定され、その結果、式(3) からえら
れる水素添加量信号Ｓv が小さくなり、精製器１０への
水素の導入量が減量される。
副演算器３ａに送られ、該副演算器３ａで前記演算器３
の式(3) における補正値ｘに変換されて演算器３に導入
される。この補正値ｘは、出力信号Ｍv の目標値と現在
の出力信号Ｍv とを比較演算した結果、両者が一致した
ときに［０］を出力し、出力信号Ｍv が大きければマイ
ナスの値を、出力信号Ｍv が小さければプラスの値を出
力するよう予め設定しておく。例えば、水素添加量が多
く、前記精製アルゴン中の水素濃度ｑＨが１％より高い
場合は、出力信号Ｍv の大きな信号により補正値ｘが現
在より小さい値に設定され、その結果、式(3) からえら
れる水素添加量信号Ｓv が小さくなり、精製器１０への
水素の導入量が減量される。
【００３０】上記フィードバック操作は、設定値の１％
と水素濃度ｑＨとが合致し、調節計Ｑ２Ｃからの出力信
号Ｍv が出力信号Ｍv の目標値と一致するまで、即ち副
演算器３ａから出力される補正値ｘが［０］になるまで
行われ、水素濃度ｑＨを設定された１％にする。これに
より、水素の余剰添加量を連続的に一定に保つことがで
き、プロセスの安定運転や製品の品質信頼性の向上が図
れるとともに、前述の安全率を極めて低く設定すること
が可能となるので、水素の使用量も低減することができ
る。
と水素濃度ｑＨとが合致し、調節計Ｑ２Ｃからの出力信
号Ｍv が出力信号Ｍv の目標値と一致するまで、即ち副
演算器３ａから出力される補正値ｘが［０］になるまで
行われ、水素濃度ｑＨを設定された１％にする。これに
より、水素の余剰添加量を連続的に一定に保つことがで
き、プロセスの安定運転や製品の品質信頼性の向上が図
れるとともに、前述の安全率を極めて低く設定すること
が可能となるので、水素の使用量も低減することができ
る。
【００３１】尚、上記実施例では、粗アルゴンの精製設
備に本発明を適用した例で説明したが、一般的なガス精
製プロセスやガス混合プロセスにも同様に適用すること
が可能であり、各種検出計器や操作機器に定常的に存在
する誤差、及びこれら計器や機器の負荷変動，環境変化
または経年劣化等による特性の変化、さらにはプロセス
の大幅かつ高速度な変動にも適確に追従することができ
る。また、演算における係数には、他の条件、例えば温
度等の環境的条件による補正係数を加えることもでき、
各ガスの流量や組成の変動幅等を考慮して適宜最適な係
数を設定して演算処理させるようにすることができる。
備に本発明を適用した例で説明したが、一般的なガス精
製プロセスやガス混合プロセスにも同様に適用すること
が可能であり、各種検出計器や操作機器に定常的に存在
する誤差、及びこれら計器や機器の負荷変動，環境変化
または経年劣化等による特性の変化、さらにはプロセス
の大幅かつ高速度な変動にも適確に追従することができ
る。また、演算における係数には、他の条件、例えば温
度等の環境的条件による補正係数を加えることもでき、
各ガスの流量や組成の変動幅等を考慮して適宜最適な係
数を設定して演算処理させるようにすることができる。
【００３２】さらに、上記実施例では、添加ガス量を過
剰に加えた場合であるが、化学量論量よりも少量の添加
ガスを加える場合の制御も同様の制御方法で行うことが
可能である。
剰に加えた場合であるが、化学量論量よりも少量の添加
ガスを加える場合の制御も同様の制御方法で行うことが
可能である。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
常に最適なガス添加量を得ることができ、ガス精製装置
やガス混合装置等の精製純度または混合比の制御精度を
大幅に向上させることができ、余剰に添加するガスの節
減も図れる。
常に最適なガス添加量を得ることができ、ガス精製装置
やガス混合装置等の精製純度または混合比の制御精度を
大幅に向上させることができ、余剰に添加するガスの節
減も図れる。
【図１】 本発明の基本的な制御系統の一例を示す系統
図である。
図である。
【図２】 本発明を空気液化分離装置におけるアルゴン
精製設備に適用した一実施例を示す系統図である。
精製設備に適用した一実施例を示す系統図である。
１…反応器または混合器 ２…供給管 ３…演算器
３ａ…副演算器 ４…流量調節系 ４ａ…流量調節弁 ５…導出管
１０…精製器 Ｆ１Ｔ，Ｆ２Ｔ…流量計 Ｑ１Ｔ，Ｑ２Ｔ…分析計
Ｆ２Ｃ…流量調節器 Ｑ２Ｃ…調節計 Ｍv …補正用信号 Ｓv …添
加ガス量信号 ｆ１…流量信号 ｑ１ …組成信号
３ａ…副演算器 ４…流量調節系 ４ａ…流量調節弁 ５…導出管
１０…精製器 Ｆ１Ｔ，Ｆ２Ｔ…流量計 Ｑ１Ｔ，Ｑ２Ｔ…分析計
Ｆ２Ｃ…流量調節器 Ｑ２Ｃ…調節計 Ｍv …補正用信号 Ｓv …添
加ガス量信号 ｆ１…流量信号 ｑ１ …組成信号
Claims (4)
- 【請求項１】 ガス供給管から供給される原料ガスに他
のガスを添加するガス添加装置において、前記ガス供給
管の原料ガス量を測定する流量計と、流量計の測定値に
対応する添加ガス量を算出して該添加ガス量に所定の余
剰添加ガス量を加えた値を算出する演算器と、該演算器
の出力値に基づいて添加ガスを原料ガスに添加するガス
添加手段と、該ガス添加手段導出後のガス中の前記添加
ガスの濃度を測定する分析計とを有し、前記演算器は、
該分析計で得られた添加ガスの濃度に応じて前記余剰添
加ガス量を算出する演算部を備えていることを特徴とす
るガス添加装置。 - 【請求項２】 ガス供給管から供給される原料ガス中の
特定成分の量に応じて他のガスを添加するガス添加装置
において、前記ガス供給管の原料ガス量を測定する流量
計と、該原料ガス中の特定成分の濃度を測定する第１分
析計と、該流量計及び分析計の測定値から算出した特定
成分の量に対応する添加ガス量を算出して該添加ガス量
に所定の余剰添加ガス量を加えた値を算出する演算器
と、該演算器の出力値に基づいて添加ガスを原料ガスに
添加するガス添加手段と、該ガス添加手段導出後のガス
中の前記添加ガスの濃度を測定する第２分析計とを有
し、前記演算器は、該第２分析計で得られた添加ガスの
濃度に応じて前記余剰添加ガス量を算出する演算部を備
えていることを特徴とするガス添加装置。 - 【請求項３】 ガス供給管から供給される原料ガス中の
特定成分の量に応じて該特定成分と反応する反応ガスを
添加するガス添加装置において、前記ガス供給管の原料
ガス量を測定する流量計と、該原料ガス中の特定成分の
濃度を測定する第１分析計と、該流量計及び分析計の測
定値から算出した特定成分の量に対応する添加反応ガス
量を算出して該添加反応ガス量に所定の余剰添加反応ガ
ス量を加えた値を算出する演算器と、該演算器の出力値
に基づいて添加反応ガスを原料ガスに添加するガス添加
手段と、該ガス添加手段導出後のガス中の前記特定成分
と添加反応ガス添加とを反応させる反応器と、該反応器
導出後の添加反応ガスまたは前記特定成分の濃度を測定
する第２分析計とを有し、前記演算器は、該第２分析計
で得られた添加反応ガスの濃度に応じて前記余剰反応添
加ガス量を算出する演算部を備えていることを特徴とす
るガス添加装置。 - 【請求項４】 原料ガス中の特定成分の量に応じてガス
を添加する方法において、前記原料ガス中の特定成分の
量に対応する添加ガス量に所定の余剰添加ガス量を加え
た添加ガスを前記原料ガスに添加するとともに、添加後
のガス中の前記添加ガスまたは前記特定成分の濃度を測
定して、該濃度に応じて前記余剰添加ガス量を算出する
ことを特徴とするガス添加方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3067426A JP3030662B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | ガス添加装置及び方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3067426A JP3030662B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | ガス添加装置及び方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04303217A JPH04303217A (ja) | 1992-10-27 |
| JP3030662B2 true JP3030662B2 (ja) | 2000-04-10 |
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ID=13344578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP3067426A Expired - Fee Related JP3030662B2 (ja) | 1991-03-30 | 1991-03-30 | ガス添加装置及び方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3030662B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4557912B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2010-10-06 | 株式会社東芝 | プロセス制御システム |
| CN113110629B (zh) * | 2021-04-13 | 2022-05-17 | 中国农业大学 | 一种水产品微环境气体调控方法、***及装置 |
-
1991
- 1991-03-30 JP JP3067426A patent/JP3030662B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
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| JPH04303217A (ja) | 1992-10-27 |
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